JP2006061854A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006061854A JP2006061854A JP2004248297A JP2004248297A JP2006061854A JP 2006061854 A JP2006061854 A JP 2006061854A JP 2004248297 A JP2004248297 A JP 2004248297A JP 2004248297 A JP2004248297 A JP 2004248297A JP 2006061854 A JP2006061854 A JP 2006061854A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- unit
- detection
- substrate
- processing apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 177
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims abstract description 83
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 190
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 9
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 abstract description 28
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 9
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 3
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000012958 reprocessing Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0225—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work characterised by flow controlling means, e.g. valves, located proximate the outlet
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C13/00—Means for manipulating or holding work, e.g. for separate articles
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
Abstract
【解決手段】基板処理装置に検出センサ450を構成する投光部450aと受光部450bとを設ける。受光部450bを、投光部450aから照射されるレーザー光の直接光を受光する位置から(+Z)方向にずらし、対象物によって反射される反射光を受光する位置に配置する。基板処理装置は、受光部450bがレーザー光を受光した場合には、対象物が存在すると判定して、スリットノズルの移動機構を制御する。
【選択図】図7
Description
(1)スリットノズルが損傷する
(2)基板が割れる、あるいは基板に傷がつく
(3)異物を引きずりながら塗布することにより、塗布不良の原因となる
などの問題が発生する。
<1.1 構成の説明>
図1は、本発明の第1の実施の形態における基板処理装置1の正面図である。図2は、基板処理装置1における検出部45の周辺部の拡大図である。なお、図1および図2において、図示および説明の都合上、Z軸方向が鉛直方向を表し、XY平面が水平面を表すものとして定義するが、それらは位置関係を把握するために便宜上定義するものであって、以下に説明する各方向を限定するものではない。以下の図についても同様である。
基板処理装置1では、基板90に対してレジスト液を塗布する処理を行う前に、オペレータによって、検出センサー450,451および補助検出センサー452のZ軸方向の位置調整作業が行われる。この位置調整は、10μm以下の位置決め精度を持つマイクロゲージを用いて行う。
次に、基板処理装置1の動作について説明する。図9および図10は、基板処理装置1の塗布処理における動作を示す流れ図である。なお、以下に示す各部の動作制御は特に断らない限り制御部7により行われる。
第1の実施の形態では、検出部45を移動機構5に取り付けるように構成したが、検出部45の取り付け位置はこれに限られるものではなく、対象物を検出することができる位置であればどこに取り付けられていてもよい。
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
3 ステージ
30 保持面
41 スリットノズル
43,44 昇降機構
45 検出部
450,451 検出センサー
450a,451a 投光部
450b,451b 受光部
452 補助検出センサー
452a 投光部(補助投光部)
452b 受光部(補助受光部)
5 移動機構
50 リニアモータ
7 制御部
90 基板
DRL 直接光
E0 走査範囲
LFL 反射光
NG 異物
Claims (5)
- 基板に所定の処理液を塗布する基板処理装置であって、
基板を保持する保持手段と、
前記保持手段に保持された前記基板に対して所定の処理液を吐出する吐出手段と、
前記保持手段に保持された前記基板と前記吐出手段とを相対的に移動させ、前記基板に対する前記吐出手段による走査を実行させる移動手段と、
前記吐出手段の走査中に前記吐出手段と干渉する可能性のある対象物を検出する少なくとも1つの検出手段と、
前記検出手段による検出結果に基づいて、前記移動手段を制御する制御手段と、
を備え、
前記検出手段が、
レーザー光を照射する投光部と、
前記投光部により照射されたレーザー光のうちの直接光を受光する位置から外れた位置に配置され、前記投光部により照射されたレーザー光のうち前記対象物により反射されたレーザー光を検出光として受光する受光部と、
を備え、
前記検出手段は、前記受光部が前記検出光を受光した場合に、前記対象物を検出したとする検出結果を前記制御手段に伝達することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記受光部は、前記吐出手段の走査方向に対して略垂直方向にずれた位置に配置されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置であって、
前記投光部は、前記保持手段に保持された前記基板の表面に略平行方向に前記レーザー光を照射することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記吐出手段の走査中に前記吐出手段と干渉する可能性のある対象物を検出する補助検出手段をさらに備え、
前記補助検出手段が、
前記投光部または補助投光部と対向した位置に配置され、前記投光部または前記補助投光部から照射された前記レーザー光の直接光を受光する補助受光部と、
を備え、
前記補助検出手段は、前記補助受光部における前記直接光の受光量が所定の閾値以下になった場合に、前記対象物を検出したとする検出結果を前記制御手段に伝達し、
前記制御手段は、前記検出手段の検出結果および前記補助検出手段の検出結果に応じて前記移動手段を制御することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記少なくとも1つの検出手段を2以上備え、
一の検出手段の前記投光部と、他の検出手段の前記投光部とが、それぞれ前記保持手段に保持された前記基板の両側に分かれて配置されることを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004248297A JP4417205B2 (ja) | 2004-08-27 | 2004-08-27 | 基板処理装置 |
TW094121998A TWI295590B (en) | 2004-08-27 | 2005-06-29 | Substrate processing apparatus |
KR1020050065319A KR100676240B1 (ko) | 2004-08-27 | 2005-07-19 | 기판 처리 장치 |
CNB2005100874088A CN100404146C (zh) | 2004-08-27 | 2005-07-21 | 基板处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004248297A JP4417205B2 (ja) | 2004-08-27 | 2004-08-27 | 基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006061854A true JP2006061854A (ja) | 2006-03-09 |
JP4417205B2 JP4417205B2 (ja) | 2010-02-17 |
Family
ID=36092477
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004248297A Active JP4417205B2 (ja) | 2004-08-27 | 2004-08-27 | 基板処理装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4417205B2 (ja) |
KR (1) | KR100676240B1 (ja) |
CN (1) | CN100404146C (ja) |
TW (1) | TWI295590B (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007173531A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2007301495A (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Toppan Printing Co Ltd | スリットノズルによる塗膜形成時に付着した異物の検出方法及びガラス基板の板厚監視方法 |
JP2008142589A (ja) * | 2006-12-06 | 2008-06-26 | Tokyo Electron Ltd | 塗布方法及び塗布装置 |
JP2009028682A (ja) * | 2007-07-30 | 2009-02-12 | Ulvac Japan Ltd | 塗布装置 |
JP2010217086A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Anritsu Corp | 印刷はんだ検査方法、及び印刷はんだ検査装置 |
JP2014004524A (ja) * | 2012-06-25 | 2014-01-16 | Seiko Epson Corp | 印刷装置、及び印刷方法 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100643397B1 (ko) * | 2005-11-17 | 2006-11-10 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 감지장치 |
JP5122371B2 (ja) * | 2008-05-26 | 2013-01-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法、プログラムならびに記憶媒体 |
JP2010240550A (ja) * | 2009-04-03 | 2010-10-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP5108909B2 (ja) | 2010-03-12 | 2012-12-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 裏面異物検出方法及び裏面異物検出装置及び塗布装置 |
JP5679866B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2015-03-04 | 東レエンジニアリング株式会社 | 塗布装置および塗布方法 |
CN102680496B (zh) * | 2011-04-15 | 2016-04-20 | 京东方科技集团股份有限公司 | 异物检测装置及方法 |
JP5714616B2 (ja) * | 2013-01-21 | 2015-05-07 | 中外炉工業株式会社 | 塗工装置 |
TWI637432B (zh) | 2015-04-09 | 2018-10-01 | 東京威力科創股份有限公司 | Foreign matter removing device, foreign matter removing method, peeling device, foreign matter detecting method, and foreign matter detecting device |
JP6635888B2 (ja) * | 2016-07-14 | 2020-01-29 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理システム |
JP6787294B2 (ja) * | 2017-10-31 | 2020-11-18 | セイコーエプソン株式会社 | ロボットシステム、制御方法、及びロボット |
JP7028607B2 (ja) * | 2017-11-06 | 2022-03-02 | 株式会社ディスコ | 切削装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2740588B2 (ja) * | 1991-07-24 | 1998-04-15 | 日立テクノエンジニアリング株式会社 | 塗布描画装置 |
CN1164372C (zh) * | 1995-07-24 | 2004-09-01 | 松下电器产业株式会社 | 电子电路板用结合剂涂敷方法 |
JPH11300257A (ja) * | 1998-04-24 | 1999-11-02 | Toray Ind Inc | 凹凸基材への塗液の塗布装置およびプラズマディスプレイの製造装置 |
KR100855163B1 (ko) * | 2000-12-27 | 2008-08-29 | 도레이 가부시끼가이샤 | 구금 및 액체의 도포 장치 및 도포 방법 |
US7046353B2 (en) * | 2001-12-04 | 2006-05-16 | Kabushiki Kaisha Topcon | Surface inspection system |
JP4104924B2 (ja) * | 2002-07-08 | 2008-06-18 | 東レエンジニアリング株式会社 | 光学的測定方法およびその装置 |
-
2004
- 2004-08-27 JP JP2004248297A patent/JP4417205B2/ja active Active
-
2005
- 2005-06-29 TW TW094121998A patent/TWI295590B/zh active
- 2005-07-19 KR KR1020050065319A patent/KR100676240B1/ko active IP Right Grant
- 2005-07-21 CN CNB2005100874088A patent/CN100404146C/zh active Active
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007173531A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP4587950B2 (ja) * | 2005-12-22 | 2010-11-24 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP2007301495A (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Toppan Printing Co Ltd | スリットノズルによる塗膜形成時に付着した異物の検出方法及びガラス基板の板厚監視方法 |
JP2008142589A (ja) * | 2006-12-06 | 2008-06-26 | Tokyo Electron Ltd | 塗布方法及び塗布装置 |
JP4520975B2 (ja) * | 2006-12-06 | 2010-08-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布方法及び塗布装置 |
JP2009028682A (ja) * | 2007-07-30 | 2009-02-12 | Ulvac Japan Ltd | 塗布装置 |
JP2010217086A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Anritsu Corp | 印刷はんだ検査方法、及び印刷はんだ検査装置 |
JP2014004524A (ja) * | 2012-06-25 | 2014-01-16 | Seiko Epson Corp | 印刷装置、及び印刷方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20060053901A (ko) | 2006-05-22 |
CN1739865A (zh) | 2006-03-01 |
TWI295590B (en) | 2008-04-11 |
JP4417205B2 (ja) | 2010-02-17 |
KR100676240B1 (ko) | 2007-01-30 |
TW200607578A (en) | 2006-03-01 |
CN100404146C (zh) | 2008-07-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100676240B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
KR100658460B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP4562190B2 (ja) | 光学式異物検出装置およびこれを搭載した処理液塗布装置 | |
JP5679866B2 (ja) | 塗布装置および塗布方法 | |
JP4105613B2 (ja) | 基板処理装置 | |
US20080024773A1 (en) | Surface inspection apparatus and surface inspection method | |
JP5235566B2 (ja) | 露光装置およびデバイス製造方法 | |
TW200815939A (en) | Exposure equipment | |
KR101314017B1 (ko) | 광학식 이물질 검출 장치 및 이것을 탑재한 처리액 도포장치 | |
KR102076900B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 장치의 이상 검지 방법 | |
JP2007173387A (ja) | 基板処理装置 | |
JP4587950B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2003347190A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2009115711A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2011082230A (ja) | 基板塗布装置 | |
JP2015034813A (ja) | 塗布装置 | |
WO2016199237A1 (ja) | 検出方法 | |
KR100838431B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP2007286411A (ja) | プロキシミティ露光装置のギャップ制御装置及びギャップ制御方法 | |
JP2007173532A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2008142589A (ja) | 塗布方法及び塗布装置 | |
JP2001203254A (ja) | 基板搬送装置およびこれを備える露光装置 | |
JP5214369B2 (ja) | 塗布装置およびノズルガード | |
JP2010278044A (ja) | 基板搬送装置 | |
JP2007250851A (ja) | 基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061221 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090716 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090721 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090916 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090916 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091124 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091125 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4417205 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121204 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121204 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121204 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121204 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131204 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |