CN108897193A - 光阻涂布装置 - Google Patents
光阻涂布装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108897193A CN108897193A CN201810880683.2A CN201810880683A CN108897193A CN 108897193 A CN108897193 A CN 108897193A CN 201810880683 A CN201810880683 A CN 201810880683A CN 108897193 A CN108897193 A CN 108897193A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- sliding block
- side wall
- coating
- light blockage
- wiping board
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/168—Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
本发明提供一种光阻涂布装置,包括光阻涂布机构以及两个清理机构;所述光阻涂布机构包括光阻存储器以及设置于所述光阻存储器下端面上的涂布组件,该涂布组件呈三棱柱状,且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光阻存储器连接,该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽,该光阻涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽;所述清理机构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴,所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中,所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动,该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合,该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧。
Description
技术领域
本发明涉及材料涂布领域,具体涉及一种光阻涂布装置。
背景技术
光阻涂布装置在涂布光阻到面板上时在其上会残留一些光阻,影响下次涂布时的质量,可能产生不良产品
因此,现有技术存在缺陷,急需改进。
发明内容
本发明实施例的目的是提供一种光阻涂布装置,具有自动去除光阻残留的效果。
本发明提供了一种光阻涂布装置,包括光阻涂布机构以及两个清理机构;
所述光阻涂布机构包括光阻存储器以及设置于所述光阻存储器下端面上的涂布组件,该涂布组件呈三棱柱状,且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光阻存储器连接,该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽,该涂布槽从该第一侧壁面处延伸至与该第一侧壁面相对的侧棱处,且将该侧棱贯穿,该涂布槽的长度小于该涂布组件的长度;
该光阻涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽,该滑动槽沿着该涂布组件的长度方向延伸;
该两个清理机构分别设置于该两个第二侧壁面上且可沿着所述滑动槽滑动;所述清理机构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴,所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中,所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动,该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合,该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧。
在本发明所述的光阻涂布装置中,所述擦板的宽度为所述第二侧壁面宽度的一半。
在本发明所述的光阻涂布装置中,所述擦板可沿着所述第二侧壁面的宽度方向滑动地设置于该滑块上,且该擦板上设置有锁紧机构,使得锁紧时,该擦板相对该滑块固定,解锁时,该擦板可相对该滑块滑动。
在本发明所述的光阻涂布装置中,所述擦板的与所述第二侧壁面接触的一面设置有弹性层。
在本发明所述的光阻涂布装置中,所述擦板的宽度为所述第二侧壁面的宽度相同。
在本发明所述的光阻涂布装置中,所述侧面上开设有多个沿着宽度方向延伸的用于导引清洗液的导流槽。
在本发明所述的光阻涂布装置中,还包括控制芯片以及电池组件,该控制芯片以及电池组件均设置于所述滑块内,控制芯片以及电池组件分别与所述电机驱动机构连接。
本发明通过设置光阻涂布机构以及两个清理机构;所述光阻涂布机构包括光阻存储器以及设置于所述光阻存储器下端面上的涂布组件,该涂布组件呈三棱柱状,且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光阻存储器连接,该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽,该涂布槽从该第一侧壁面处延伸至与该第一侧壁面相对的侧棱处,且将该侧棱贯穿,该涂布槽的长度小于该涂布组件的长度;该光阻涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽,该滑动槽沿着该涂布组件的长度方向延伸;该两个清理机构分别设置于该两个第二侧壁面上且可沿着所述滑动槽滑动;所述清理机构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴,所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中,所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动,该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合,该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧,使得其可以实现涂布光阻的同时,可以自动对残留的光阻进行清理。
附图说明
图1是本发明实施例中的光阻涂布装置的一种结构示意图。
图2是本发明实施例中的光阻涂布装置的清理机构的一种结构示意图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施方式,所述实施方式的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的,仅用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
请参照图1,图1是本发明一实施例中的一种光阻涂布装置,包括光阻涂布机构10以及两个清理机构20;两个清理机构20设置于该光阻涂布机构10上。
该光阻涂布机构10包括光阻存储器11以及设置于所述光阻存储器11下端面上的涂布组件12,该涂布组件12呈三棱柱状,且该涂布组件的一个第一侧壁面121与该光阻存储器11的底壁连接,光阻存储器11的底壁设置有光阻排除口,该涂布组件12设置有沿着该第一侧壁面121的中垂面设置的涂布槽123,涂布槽123与该光阻排除口连通。该涂布槽123从该第一侧壁面121处延伸至与该第一侧壁121面相对的侧棱处,且将该侧棱贯穿,该涂布槽123的长度小于该涂布组件12的长度;该涂布槽123的槽宽可以根据需求设定。光阻存储器11大致呈箱体状,其内存储有光阻,在一些实施例中,为了保持光阻的流动性,其内还设置有加热器件,防止光阻冷凝固。
该涂布组件10的两个相互倾斜连接的第二侧壁面122上分别设置有滑动槽1221,该滑动槽1221沿着该涂布组件10的长度方向延伸。
该两个清理机构20分别设置于该两个第二侧壁面122上且可沿着所述滑动槽123滑动。每一清理机构包括滑块21、擦板22、风嘴23以及喷液嘴24,所述滑块21可滑动地设置于所述滑动槽1221中,所述滑块21中设置有电机驱动机构以驱动该滑块21沿着该滑动槽1221自动滑动,该擦板22设置于该滑块21上且其内侧面与该第二侧壁面122的局部贴合,该擦板22以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧。风嘴23与外部风机连通以用于风干,该喷液嘴24与外部的清洗液提供装置连通,以提供清洗液来溶解残留的光阻。
请参照图2,在本发明所述的光阻涂布装置中,所述擦板22的宽度为所述第二侧壁面122的宽度的一半。擦板22可沿着所述第二侧壁面122的宽度方向滑动地设置于该滑块21上,且该擦板22上设置有锁紧机构221,使得锁紧时,该擦板22相对该滑块21固定,解锁时,该擦板22可相对该滑块21滑动。
例如,滑块21沿着该第二侧壁面122的宽度方向开设有滑槽211,该该锁紧机构221可以为调节螺母,调节螺母安装于该擦板22上且其端部位于该滑槽中,解锁时,该调节螺母的端部位于该滑槽中且距离该滑槽211的底部预设距离,使得该擦板22可滑动,锁定时,该调节螺母的端部与该滑槽的底壁抵紧。
在另一些实施例中,该擦板22的宽度等于该第二侧壁面的宽度,该擦板22相对与该滑块固定。
在一些实施例中,擦板22的与所述第二侧壁面接触的一面设置有弹性层。
在一些实施例中,第二侧壁面上开设有多个沿着宽度方向延伸的用于导引清洗液的导流槽,且该多个导流槽的间隙相等。
在一些实施例中,光阻涂布装置还包括控制芯片以及电池组件,该控制芯片以及电池组件均设置于所述滑块21内,控制芯片以及电池组件分别与所述电机驱动机构连接,分别用于控制该滑块的电机驱动机构以及给该电机驱动机构供电。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施方式”、“某些实施方式”、“示意性实施方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合所述实施方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施方式或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施方式或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施方式或示例中以合适的方式结合。
综上所述,虽然本发明已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (7)
1.一种光阻涂布装置,其特征在于,包括光阻涂布机构以及两个清理机构;
所述光阻涂布机构包括光阻存储器以及设置于所述光阻存储器下端面上的涂布组件,该涂布组件呈三棱柱状,且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光阻存储器连接,该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽,该涂布槽从该第一侧壁面处延伸至与该第一侧壁面相对的侧棱处,且将该侧棱贯穿,该涂布槽的长度小于该涂布组件的长度;
该光阻涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽,该滑动槽沿着该涂布组件的长度方向延伸;
该两个清理机构分别设置于该两个第二侧壁面上且可沿着所述滑动槽滑动;所述清理机构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴,所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中,所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动,该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合,该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧。
2.根据权利要求1所述的光阻涂布装置,其特征在于,所述擦板的宽度为所述第二侧壁面宽度的一半。
3.根据权利要求2所述的光阻涂布装置,其特征在于,所述擦板可沿着所述第二侧壁面的宽度方向滑动地设置于该滑块上,且该擦板上设置有锁紧机构,使得锁紧时,该擦板相对该滑块固定,解锁时,该擦板可相对该滑块滑动。
4.根据权利要求1所述的光阻涂布装置,其特征在于,所述擦板的与所述第二侧壁面接触的一面设置有弹性层。
5.根据权利要求1所述的光阻涂布装置,其特征在于,所述擦板的宽度为所述第二侧壁面的宽度相同。
6.根据权利要求1所述的光阻涂布装置,其特征在于,所述侧面上开设有多个沿着宽度方向延伸的用于导引清洗液的导流槽。
7.根据权利要求1所述的光阻涂布装置,其特征在于,还包括控制芯片以及电池组件,该控制芯片以及电池组件均设置于所述滑块内,控制芯片以及电池组件分别与所述电机驱动机构连接。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810880683.2A CN108897193A (zh) | 2018-08-04 | 2018-08-04 | 光阻涂布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810880683.2A CN108897193A (zh) | 2018-08-04 | 2018-08-04 | 光阻涂布装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108897193A true CN108897193A (zh) | 2018-11-27 |
Family
ID=64353183
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810880683.2A Withdrawn CN108897193A (zh) | 2018-08-04 | 2018-08-04 | 光阻涂布装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN108897193A (zh) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11128809A (ja) * | 1997-10-30 | 1999-05-18 | Sony Corp | 溶剤塗布装置及びその使用方法 |
CN1949079A (zh) * | 2005-10-13 | 2007-04-18 | 东京毅力科创株式会社 | 涂敷装置以及涂敷方法 |
CN106681105A (zh) * | 2017-02-09 | 2017-05-17 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 光阻涂布装置检测机构及光阻涂布机 |
CN108672214A (zh) * | 2018-07-25 | 2018-10-19 | 朱浩东 | 光学胶涂布设备 |
-
2018
- 2018-08-04 CN CN201810880683.2A patent/CN108897193A/zh not_active Withdrawn
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11128809A (ja) * | 1997-10-30 | 1999-05-18 | Sony Corp | 溶剤塗布装置及びその使用方法 |
CN1949079A (zh) * | 2005-10-13 | 2007-04-18 | 东京毅力科创株式会社 | 涂敷装置以及涂敷方法 |
CN106681105A (zh) * | 2017-02-09 | 2017-05-17 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 光阻涂布装置检测机构及光阻涂布机 |
CN108672214A (zh) * | 2018-07-25 | 2018-10-19 | 朱浩东 | 光学胶涂布设备 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105451970B (zh) | 增材制造设备及方法 | |
JP6904583B2 (ja) | スリットコーター | |
CN101428272B (zh) | 喷出方法、连续膜形成方法以及取向膜形成方法 | |
CN103706513A (zh) | 用于将粘性材料层施加至基底上的作用元件、装置和方法 | |
CN108897193A (zh) | 光阻涂布装置 | |
TW201436883A (zh) | 塗布裝置 | |
CN108745789A (zh) | 光学胶涂布设备 | |
CN107961931B (zh) | 清洁装置 | |
CN108957957A (zh) | 光阻涂布装置 | |
CN108672214A (zh) | 光学胶涂布设备 | |
CN108873609A (zh) | 光阻涂布设备 | |
JP4876820B2 (ja) | 塗布方法および塗布装置並びにディスプレイ用部材の製造方法 | |
KR101357979B1 (ko) | 수지코팅막 성형장치의 코팅액 균일 분사노즐 | |
CN109013203A (zh) | 一种光学胶涂布装置 | |
CN208922056U (zh) | 一种光阻涂布装置 | |
CN104174547B (zh) | 狭缝喷嘴及使用该狭缝喷嘴的狭缝涂覆设备 | |
CN108873610A (zh) | 光阻涂布装置 | |
CN108654937A (zh) | 高品质光阻涂布设备 | |
CN108681208A (zh) | 一种光阻涂布装置 | |
JPH09276769A (ja) | 塗布装置 | |
CN109143787A (zh) | 一种光阻涂布装置 | |
CN108906472A (zh) | 光学胶涂布装置 | |
CN107899891B (zh) | 一种用于大面积光栅制造的涂布装置及方法 | |
CN108983561A (zh) | 涂布口金组件及涂布口金系统 | |
CN108816660A (zh) | 光学胶涂布装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WW01 | Invention patent application withdrawn after publication | ||
WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |
Application publication date: 20181127 |