CN108672214A - 光学胶涂布设备 - Google Patents

光学胶涂布设备 Download PDF

Info

Publication number
CN108672214A
CN108672214A CN201810825010.7A CN201810825010A CN108672214A CN 108672214 A CN108672214 A CN 108672214A CN 201810825010 A CN201810825010 A CN 201810825010A CN 108672214 A CN108672214 A CN 108672214A
Authority
CN
China
Prior art keywords
optical cement
coating
sliding block
side wall
wiping board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201810825010.7A
Other languages
English (en)
Inventor
朱浩东
Original Assignee
朱浩东
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 朱浩东 filed Critical 朱浩东
Priority to CN201810825010.7A priority Critical patent/CN108672214A/zh
Publication of CN108672214A publication Critical patent/CN108672214A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B15/00Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
    • B05B15/50Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B15/00Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
    • B05B15/50Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter
    • B05B15/55Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter using cleaning fluids
    • B05B15/555Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter using cleaning fluids discharged by cleaning nozzles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work

Abstract

本发明提供一种光学胶涂布设备,包括光学胶涂布机构以及两个光学胶残留清除结构;所述光学胶涂布机构包括光学胶存储器以及设置于所述光学胶存储器下端面上的涂布组件,该涂布组件呈三棱柱状,且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光学胶存储器连接,该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽,该光学胶涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽;所述光学胶残留清除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴,所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中,所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动,该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合,该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧。

Description

光学胶涂布设备
技术领域
[0001]本发明涉及材料涂布领域,具体涉及一种光学胶涂布设备。
背景技术
[0002]光学胶涂布设备在涂布光学胶到面板上时,会在该涂布组件上残留一些光学胶, 下次涂布时这些光学胶残留会与新的光学胶接触,影响涂布时的质量,可能产生不良产品。
[0003] 因此,现有技术存在缺陷,急需改进。
[0004]
发明内容
[0005]本发明实施例的目的是提供一种光学胶涂布设备,具有自动去除光学胶残留的效 果D
[0006]本发明提供了一种光学胶涂布设备,包括光学胶涂布机构以及两个光学胶残留清 除结构; 所述光学胶涂布机构包括光学胶存储器以及设置于所述光学胶存储器下端面上的涂 布组件,该涂布组件呈三棱柱状,且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光学胶存储器连接, 该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽,该涂布槽从该第一侧壁面处 延伸至与该第一侧壁面相对的侧棱处,且将该侧棱贯穿,该涂布槽的长度小于该涂布组件 的长度; 该光学胶涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽,该滑 动槽沿着该涂布组件的长度方向延伸; 该两个光学胶残留清除结构分别设置于该两个第二侧壁面上且可沿着所述滑动槽滑 动;所述光学胶残留清除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴,所述滑块可滑动地设置于 所述滑动槽中,所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动,该 擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合,该擦板以及风嘴分别设置于 该滑块上且位于该擦板两侧; 所述涂布槽的宽度可调。
[0007] 在本发明所述的光学胶涂布设备中,所述涂布槽的内侧壁面上设置有压电陶瓷 层; 所述光学胶涂布设备还包括一语音控制器以及驱动电路,该驱动电路与压电陶瓷层电 连接,该语音控制器设置于该光学胶存储器的侧壁面上并与该驱动电路电连接,该语音控 制器用于供用户输入涂布厚度,该语音控制器根据该涂布厚度控制该驱动电路调整该压电 陶瓷的厚度,进而调整该涂布槽的宽度。
[0008] 在本发明所述的光学胶涂布设备中,所述光学胶存储器内设置有温度传感器以及 加热组件,该温度传感器与该加热组件连接。
[0009] 在本发明所述的光学胶涂布设备中,所述涂布槽的两相对的内侧壁面分别设置有 一所述压电陶瓷层。
[0010]在本发明所述的光学胶涂布设备中,所述涂布槽的两相对的内侧壁面中一个侧壁 面设置有所述压电陶瓷层,另一侧壁面设置有一薄膜加热层。
[0011]在本发明所述的光学胶涂布设备中,所述擦板的宽度为所述第二侧壁面宽度的一 半。
[0012]在本发明所述的光学胶涂布设备中,所述擦板可沿着所述第二侧壁面的宽度方向 滑动地设置于该滑块上,且该擦板上设置有锁紧机构,使得锁紧时,该擦板相对该滑块固 定,解锁时,该擦板可相对该滑块滑动。
[0013]在本发明所述的光学胶涂布设备中,所述擦板的与所述第二侧壁面接触的一面设 置有弹性层。
[0014] 在本发明所述的光学胶涂布设备中,所述擦板的宽度为所述第二侧壁面的宽度相 同。
[0015] 在本发明所述的光学胶涂布设备中,所述侧面上开设有多个沿着宽度方向延伸的 用于导引清洗液的导流槽。
[0016] 在本发明所述的光学胶涂布设备中,还包括控制芯片以及电池组件,该控制芯片 以及电池组件均设置于所述滑块内,控制芯片以及电池组件分别与所述电机驱动机构连 接。
[0017] 本发明通过设置光学胶涂布机构以及两个光学胶残留清除结构;所述光学胶涂布 机构包括光学胶存储器以及设置于所述光学胶存储器下端面上的涂布组件,该涂布组件呈 三棱柱状,且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光学胶存储器连接,该涂布组件设置有沿 着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽,该涂布槽从该第一侧壁面处延伸至与该第一侧壁 面相对的侧棱处,且将该侧棱贯穿,该涂布槽的长度小于该涂布组件的长度;该光学胶涂布 机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽,该滑动槽沿着该涂布组 件的长度方向延伸;该两个光学胶残留清除结构分别设置于该两个第二侧壁面上且可沿着 所述滑动槽滑动;所述光学胶残留清除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴,所述滑块可 滑动地设置于所述滑动槽中,所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽 自动滑动,该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合,该擦板以及风 嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧,使得其可以实现涂布光学胶的同时,可以自动 对残留的光学胶进行清理。
附图说明
[0018] 图1是本发明实施例中的光学胶涂布设备的一种结构示意图。
[0019] 图2是本发明实施例中的光学胶涂布设备的光学胶残留清除结构的一种结构示意 图。
[0020] 图3是本发明实施例中的光学胶涂布设备的电路原理图。
具体实施方式
[0021] 下面详细描述本发明的实施方式,所述实施方式的示例在附图中示出,其中自始 至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参 考附图描述的实施方式是示例性的,仅用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。 [0022]在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、 “厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时 针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于 描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特 定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于 描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。 由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在 本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
[0023] 请参照图1,图1是本发明一实施例中的一种光学胶涂布设备,包括光学胶涂布机 构10、两个光学胶残留清除结构20、洗液罐30以及吹冷风机40;两个光学胶残留清除结构20 设置于该光学胶涂布机构10上。
[0024]该光学胶涂布机构10包括光学胶存储器11以及设置于所述光学胶存储器11下端 面上的涂布组件12,该涂布组件12呈三棱柱状,且该涂布组件的一个第一侧壁面121与该光 学胶存储器11连接,该涂布组件的一个第一侧壁面与该光学胶存储器11的底壁连接,光学 胶存储箱的底壁开设有光学胶出口,该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的 与该光学胶出口连通的涂布槽,该涂布组件12设置有沿着该第一侧壁面121的中垂面设置 的涂布槽123,该涂布槽123从该第一侧壁面121处延伸至与该第一侧壁121面相对的侧棱 处,且将该侧棱贯穿,该涂布槽123的长度小于该涂布组件12的长度;该涂布槽123的槽宽可 以根据需求设定。光学胶存储器11大致呈箱体状,其内存储有光学胶,在一些实施例中,为 了保持光学胶的流动性,其内还设置有加热器件,防止光学胶冷凝固。
[0025]该涂布槽123的内侧壁面上设置有压电陶瓷层;所述光学胶涂布设备还包括一语 音控制器以及驱动电路,该驱动电路与压电陶瓷层电连接,该语音控制器设置于该光学胶 存储器的侧壁面上并与该驱动电路电连接,该语音控制器用于供用户输入涂布厚度,该语 音控制器根据该涂布厚度控制该驱动电路调整该压电陶瓷的厚度,进而调整该涂布槽的宽 度。
[0026] 在一些实施例中,该光学胶存储器内设置有温度传感器以及加热组件,该温度传 感器与该加热组件连接。从而使得该光学胶存储器内的光学胶保持良好的流动性。
[0027] 在一些实施例中,所述涂布槽的两相对的内侧壁面分别设置有一所述压电陶瓷 层。
[0028] 在一些实施例中,所述涂布槽的两相对的内侧壁面中一个侧壁面设置有所述压电 陶瓷层,另一侧壁面设置有一薄膜加热层。
[0029] 该涂布组件10的两个相互倾斜连接的第二侧壁面I22上分别设置有滑动槽1221, 该滑动槽1221沿着该涂布组件10的长度方向延伸。
[0030] 该两个光学胶残留清除结构2〇分别设置于该两个第二侧壁面122上且可沿着所述 滑动槽123滑动。每一光学胶残留清除结构包括滑块21、擦板22、风嘴23以及喷液嘴24,所述 滑块21可滑动地设置于所述滑动槽1221中,所述滑块21中设置有电机驱动机构以驱动该滑 块21沿着该滑动槽1221自动滑动,该擦板22设置于该滑块21上且其内侧面与该第二侧壁面 122的局部贴合,该擦板22以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧。风嘴23与外部 冷风机连通以用于风干,该喷液嘴24与外部的清洗液提供装置连通,以提供清洗液来溶解 残留的光学胶。所述清洗液罐通过排液管与该喷液嘴连通,该吹冷风机通过排风管与该风 嘴连通,所述清洗液罐内包括用于溶解光学胶的化学溶液室以及清水室,该化学溶液室的 出口以及清水室的出口分别通过支管与该排液管连通,且该化学溶液室以及清水室的出口 处均分别设置有电磁阀,所述电磁阀与所述控制芯片通信连接。
[0031]请参照图2,在本发明所述的光学胶涂布设备中,所述擦板22的宽度为所述第二侧 壁面122的宽度的一半。擦板22可沿着所述第二侧壁面122的宽度方向滑动地设置于该滑块 21上,且该擦板22上设置有锁紧机构221,使得锁紧时,该擦板22相对该滑块21固定,解锁 时,该擦板22可相对该滑块21滑动。
[0032]例如,滑块21沿着该第二侧壁面122的宽度方向开设有滑槽211,该该锁紧机构221 可以为调节螺母,调节螺母安装于该擦板22上且其端部位于该滑槽中,解锁时,该调节螺母 的端部位于该滑槽中且距离该滑槽211的底部预设距离,使得该擦板22可滑动,锁定时,该 调节螺母的端部与该滑槽的底壁抵紧。
[0033] 在另一些实施例中,该擦板22的宽度等于该第二侧壁面的宽度,该擦板22相对与 该滑块固定。
[0034] 在一些实施例中,擦板22的与所述第二侧壁面接触的一面设置有弹性层。
[0035]在一些实施例中,第二侧壁面上开设有多个沿着宽度方向延伸的用于导引清洗液 的导流槽,且该多个导流槽的间隙相等。
[0036] 请参照图3,在一些实施例中,光学胶涂布设备还包括控制芯片50以及电池组件, 该控制芯片50以及电池组件均设置于所述滑块21内,控制芯片50以及电池组件分别与所述 电机驱动机构70连接,分别用于控制该滑块的电机驱动机构70以及给该电机驱动机构供 电。
[0037]工作时,当光学胶涂布完成后,该控制芯片控制该电机驱动机构7〇来使得滑块21 沿着该滑动槽来回滑动,并且控制该清洗液罐30的化学溶液室的电磁阀61打开以释放化学 溶液,通过喷液嘴24喷到该第二侧壁面上对光学胶残留进行溶解,然后通过该滑块21的来 回移动使得该擦板22可以擦除溶解后的光学胶残留,然后来回移动若干次之后,控制化学 溶液室的电磁阀61关闭,控制该清水室的电磁阀6 2打开,采用清水进行清洗,且该在擦除后 开启吹40冷风机进行风干。 '
[0038]在本说明书的描述中,参考术语“一个实施方式”、“某些实施方式,’、“示意性实施 方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合所述实施方式或示例描述的 具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施方式或示例中。在本说明书 中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施方式或示例。而且,描述的具体特 征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施方式或示例中以合适的方式结合。 [0039]综上所述,虽然本发明己以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限 制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润 饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (7)

1. 一种光学胶涂布设备,其特征在于,包括光学胶涂布机构、两个光学胶残留清除结 构、清洗液罐以及冷风机; 所述光学胶涂布机构包括光学胶存储器以及设置于所述光学胶存储器下端面上的涂 布组件,且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光学胶存储器连接,该涂布组件设置有沿着 该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽,该涂布槽从该第一侧壁面处延伸至与该第一侧壁面 相对的侧棱处,且将该侧棱贯穿,该涂布槽的长度小于该涂布组件的长度; 该光学胶涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽,该滑 动槽沿着该涂布组件的长度方向延伸; 该两个光学胶残留清除结构分别设置于该两个第二侧壁面上且可沿着所述滑动槽滑 动;所述光学胶残留清除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴,所述滑块可滑动地设置于 所述滑动槽中,所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动,该 擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合,该擦板以及风嘴分别设置于 该滑块上且位于该擦板两侧; 所述涂布槽的宽度可调; 所述清洗液罐通过排液管与该喷液嘴连通,该吹冷风机通过排风管与该风嘴连通; 所述涂布槽的内侧壁面上设置有压电陶瓷层; 所述光学胶涂布设备还包括一语音控制器以及驱动电路,该驱动电路与压电陶瓷层电 连接,该语音控制器设置于该光学胶存储器的侧壁面上并与该驱动电路电连接,该语音控 制器用于供用户输入涂布厚度,该语音控制器根据该涂布厚度控制该驱动电路调整该压电 陶瓷的厚度,进而调整该涂布槽的宽度。
2.根据权利要求1所述的光学胶涂布设备,其特征在于,所述涂布槽的两相对的内侧壁 面分别设置有一所述压电陶瓷层。
3.根据权利要求2所述的光学胶涂布设备,其特征在于,所述擦板的宽度为所述第二侧 壁面宽度的一半。
4.根据权利要求3所述的光学胶涂布设备,其特征在于,所述擦板可沿着所述第二侧壁 面的宽度方向滑动地设置于该滑块上,且该擦板上设置有锁紧机构,使得锁紧时,该擦板相 对该滑块固定,解锁时,该擦板可相对该滑块滑动。
5.根据权利要求1所述的光学胶涂布设备,其特征在于,所述擦板的与所述第二侧壁面 接触的一面设置有弹性层。
6. 根据权利要求1所述的光学胶涂布设备,其特征在于,所述擦板的宽度为所述第二侧 壁面的宽度相同。
7. 根据权利要求1所述的光学胶涂布设备,其特征在于,还包括控制芯片以及电池组 件,该控制芯片以及电池组件均设置于所述滑块内,控制芯片以及电池组件分别与所述电 机驱动机构连接。
CN201810825010.7A 2018-07-25 2018-07-25 光学胶涂布设备 Pending CN108672214A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810825010.7A CN108672214A (zh) 2018-07-25 2018-07-25 光学胶涂布设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810825010.7A CN108672214A (zh) 2018-07-25 2018-07-25 光学胶涂布设备

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN108672214A true CN108672214A (zh) 2018-10-19

Family

ID=63815803

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810825010.7A Pending CN108672214A (zh) 2018-07-25 2018-07-25 光学胶涂布设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108672214A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108816660A (zh) * 2018-08-04 2018-11-16 伍先春 光学胶涂布装置
CN108889536A (zh) * 2018-08-04 2018-11-27 伍先春 光学胶涂布装置
CN108897193A (zh) * 2018-08-04 2018-11-27 伍先春 光阻涂布装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101279315A (zh) * 2007-04-06 2008-10-08 中外炉工业株式会社 间歇涂布方法和间歇涂布装置
CN101342524A (zh) * 2007-07-10 2009-01-14 日东电工株式会社 金属型涂料机及其调整方法以及光学薄膜的制造方法
CN102161028A (zh) * 2010-02-17 2011-08-24 东京毅力科创株式会社 狭缝喷嘴清洗装置和涂覆装置
CN102527578A (zh) * 2012-01-11 2012-07-04 深圳市信宇人科技有限公司 新型狭缝式喷头及其喷涂机机头
CN102688830A (zh) * 2011-03-23 2012-09-26 东丽工程株式会社 涂布装置和涂布方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101279315A (zh) * 2007-04-06 2008-10-08 中外炉工业株式会社 间歇涂布方法和间歇涂布装置
CN101342524A (zh) * 2007-07-10 2009-01-14 日东电工株式会社 金属型涂料机及其调整方法以及光学薄膜的制造方法
CN102161028A (zh) * 2010-02-17 2011-08-24 东京毅力科创株式会社 狭缝喷嘴清洗装置和涂覆装置
CN102688830A (zh) * 2011-03-23 2012-09-26 东丽工程株式会社 涂布装置和涂布方法
CN102527578A (zh) * 2012-01-11 2012-07-04 深圳市信宇人科技有限公司 新型狭缝式喷头及其喷涂机机头

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108816660A (zh) * 2018-08-04 2018-11-16 伍先春 光学胶涂布装置
CN108889536A (zh) * 2018-08-04 2018-11-27 伍先春 光学胶涂布装置
CN108897193A (zh) * 2018-08-04 2018-11-27 伍先春 光阻涂布装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108672214A (zh) 光学胶涂布设备
CN103692668B (zh) 表面处理设备
KR100835745B1 (ko) 하향식 유리 박형화 방법
CN108745789A (zh) 光学胶涂布设备
US9508569B2 (en) Substrate liquid processing apparatus
CN102674702B (zh) 清扫部件、涂布器的清扫方法、清扫装置以及显示器用部件的制造方法
JP2012160735A (ja) 塗布方法及び塗布装置
JP2006165305A (ja) 処理装置及び処理液供給方法及び処理液供給プログラム
JP2007208140A (ja) 塗布方法及び塗布装置及び塗布処理プログラム
CN108906472A (zh) 光学胶涂布装置
CN109013203A (zh) 一种光学胶涂布装置
US20180141077A1 (en) Coating apparatus, method for recycling coating liquid by utilization of the same, and method for cleaning the same
CN108772236A (zh) 具有自清理功能的光学胶涂布装置
US8857334B2 (en) Cleaning apparatuses for printing plates and printing apparatuses including the same
CN105044990B (zh) 光配向设备与光配向方法
CN110426916A (zh) 一种光掩模板保护膜胶印去除的装置及方法
CN108873609A (zh) 光阻涂布设备
JP5641994B2 (ja) 塗布装置及び塗布方法
KR101347505B1 (ko) 슬릿 코터 장치 및 슬릿 코터 장치의 슬릿 노즐의 내부 세정 방법
US20130220382A1 (en) Substrate processing method
CN108681208A (zh) 一种光阻涂布装置
CN108873610A (zh) 光阻涂布装置
CN208922056U (zh) 一种光阻涂布装置
CN108654937A (zh) 高品质光阻涂布设备
KR102340513B1 (ko) 판유리용 비반사막 코팅장치

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20181019

WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication