CN106681105A - 光阻涂布装置检测机构及光阻涂布机 - Google Patents

光阻涂布装置检测机构及光阻涂布机 Download PDF

Info

Publication number
CN106681105A
CN106681105A CN201710071590.0A CN201710071590A CN106681105A CN 106681105 A CN106681105 A CN 106681105A CN 201710071590 A CN201710071590 A CN 201710071590A CN 106681105 A CN106681105 A CN 106681105A
Authority
CN
China
Prior art keywords
coating
platform
drive mechanism
light blockage
coating device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201710071590.0A
Other languages
English (en)
Inventor
张瑞军
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201710071590.0A priority Critical patent/CN106681105A/zh
Publication of CN106681105A publication Critical patent/CN106681105A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70605Workpiece metrology
    • G03F7/70616Monitoring the printed patterns
    • G03F7/7065Defects, e.g. optical inspection of patterned layer for defects

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

本发明提供了一种光阻涂布装置检测机构,包括支架,在支架上设有可转动的涂布平台,涂布平台通过中心轴连接在支架上,所述涂布平台的下方设有底盘,所述底盘上设有排水孔,在底盘上设有用于清洗涂布平台的清洗装置。本发明还提供了一种光阻涂布机,包括光阻涂布装置以及作业平台,还包括所述的光阻涂布装置检测机构,所述光阻涂布装置检测机构设于光阻涂布装置与作业平台之间。与现有技术相比,不仅能够缩短光阻涂布机的复机时间,提升设备产能,而且可重复使用,节省虚拟涂布基板,降低检测成本。

Description

光阻涂布装置检测机构及光阻涂布机
技术领域
本发明涉及一种液晶面板制造技术,特别是一种光阻涂布装置检测机构及光阻涂布机。
背景技术
目前,在TFT-LCD行业的光阻涂布制程,多采用狭缝型喷涂装置,对基板进行光阻涂布。由于光阻材料内的稀释剂为易挥发物质,导致涂布喷嘴的喷口内光阻暴露在空气中时,短时间(5分钟)内即有可能发生凝结,进而堵塞喷口。或者当进行光阻材料更换后,由于前一种光阻材料无法完全清洁干净,进而当新的光阻材料上机后,与前一种光阻材料进行反应,也会形成凝结物,进而堵塞喷口。目前,当喷口堵塞后,一般的处理方法为溶媒(Solvent)冲洗,同时用刮片进行喷口刮拭,处理完成后,需要进行虚拟(Dummy)涂布,通过确认涂布是否出现破膜,来确认喷口是否还有堵塞。该方法造成虚拟(Dummy)涂布基板大量浪费,且确认复机耗时较长(40分钟以上),影响设备产能。
发明内容
为克服现有技术的不足,本发明提供一种光阻涂布装置检测机构及光阻涂布机,从而减少复机时间,提升设备产能,且节省虚拟涂布基板的浪费。
本发明提供了一种光阻涂布装置检测机构,包括支架,在支架上设有可转动的涂布平台,涂布平台通过中心轴连接在支架上,所述涂布平台的下方设有底盘,所述底盘上设有排水孔,在底盘上设有用于清洗涂布平台的清洗装置。
进一步地,所述清洗装置包括清洗喷头、与清洗喷头经管道连接的双向阀,所述双向阀的另外两端分别连接第一储罐、第二储罐,所述清洗喷头与涂布平台的涂布检测面相对设置,第一储罐内装有氮气,第二储罐内装有溶媒。
进一步地,所述清洗喷头上设有可沿涂布平台的中心轴的轴向方向移动的第一传动机构。
进一步地,所述第一传动机构包括固定于底盘上位于涂布平台一端的第一驱动电机、设于第一驱动电机输出轴上的第一驱动轮、固定于底盘上位于涂布平台另一端的第一从动轮、套设在第一驱动轮与第一从动轮上的第一传动带,清洗喷头通过第一固定座固定于第一传动带上。
进一步地,所述度盘上设有与涂布平台平行设置的第一导轨,第一导轨靠近第一传动机构,在第一导轨上设有第一滑块,第一固定座与第一滑块连接。
进一步地,所述底盘上设有驱动清洗喷头以及第一传动机构移动的第二传动机构,所述第二传动机构用于调节清洗喷头与涂布平台的涂布检测面之间的间距。
进一步地,所述第二传动机构包括用于承载第一传动机构的驱动板、固定于底盘上位于涂布平台一端并且输出轴与涂布平台的中心轴平行的第二驱动电机、设于第二驱动电机输出轴上的第二驱动轮、固定于驱动板上与第二驱动轮位置相对的第二从动轮、套设在第二驱动轮与第二从动轮上的第二传动带,驱动板与第二传动带连接,第一传动机构以及第一导轨设于驱动板上。
进一步地,所述底盘与驱动板之间设有与涂布平台的中心轴垂直设置的第二导轨,第二导轨设置在与第二传动机构位置相对应处,在第二导轨上设有第二滑块,驱动板与第二滑块连接。
进一步地,所述涂布平台为截面为多边形的柱体结构。
本发明还提供了一种光阻涂布机,包括光阻涂布装置以及作业平台,还包括所述的光阻涂布装置检测机构,所述光阻涂布装置检测机构设于光阻涂布装置与作业平台之间。
本发明与现有技术相比,通过设置光阻涂布装置检测机构,当光阻材料或者长时间宕机后需要确认光阻涂布装置的喷口是否堵塞时,对光阻涂布装置检测机构的涂布平台的任意涂布检测面进行涂布后,通过对涂布检测面进行肉眼观测,判断是否存在涂布破膜现象,然后对该涂布检测面进行清洗、吹干后继续使用,不仅能够缩短光阻涂布机的复机时间,提升设备产能,而且可重复使用,节省虚拟涂布基板,降低检测成本。
附图说明
图1是本发明的立体结构示意图;
图2是本发明的结构示意图;
图3是本发明的第一传动机构的第一种实现方式的结构示意图;
图4是本发明的第一传动机构的第二种实现方式的结构示意图;
图5是本发明的第一传动机构的第三种实现方式的结构示意图;
图6是本发明的第二传动机构的第一种实现方式的结构示意图;
图7是本发明的第二传动机构的第二种实现方式的结构示意图;
图8是本发明的第二传动机构的第三种实现方式的结构示意图;
图9是本发明光阻涂布机的立体结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细说明。
如图1和图2所示,本发明的光阻涂布装置检测机构包括涂布平台1,涂布平台1为柱状结构,其截面形状为多边形;涂布平台1的中心上设有中心轴,在中心轴的两端设有支架4,涂布平台1可转动地设置在支架4之间,所述涂布平台1的下方设有底盘2,所述底盘2上设有排水孔3,排水孔3可接工厂的废液管路,从而排走清洗的废液;在底盘2上设有清洗装置,清洗装置用于清洗涂布平台1的涂布检测面,从而实现可重复使用;所述清洗装置包括清洗喷头5、与清洗喷头5经管道连接的双向阀6,双向阀6为电磁阀,所述双向阀6的另外两端分别连接第一储罐7、第二储罐8,第一储罐7中灌有氮气(N2),氮气用于在对涂布检测面进行清洗后通入氮气进行吹干清洁;第二储罐8中装有溶媒,用于讲涂布检测面上的光阻进行溶解清洗;所述清洗喷头5与涂布平台1的涂布检测面相对设置,清洗喷头5与涂布检测面的距离小于1cm,保证清洁度。
为了节约成本,清洗喷头5上设有可沿涂布平台1的中心轴的轴向方向移动的第一传动机构,通过驱动清洗喷头5实现对涂布平台1的涂布检测面进行清洗,而且也减少了清洗喷头5的设置数量。
如图3所示,为本发明第一传动机构的第一种实现方式,第一传动机构包括固定于底盘2上位于涂布平台1一端的第一驱动电机81、设于第一驱动电机81输出轴上的第一驱动轮82、固定于底盘2上位于涂布平台1另一端的第一从动轮83、套设在第一驱动轮82与第一从动轮83上的第一传动带84,第一驱动电机81以及第一从动轮83均通过固定座固定在底盘2上,清洗喷头5通过第一固定座87固定于第一传动带84上,第一驱动电机81的输出轴与中心轴垂直,当第一驱动电机81转动时,第一驱动轮82通过第一传动带84带动第一从动轮83转动,从而驱动固定于第一传动带84一侧上的清洗喷头5沿中心轴的轴向移动;在底盘2上设有与涂布平台1平行设置的第一导轨85,第一导轨85靠近第一传动机构,在第一导轨85上设有第一滑块86,第一固定座87与第一滑块86连接固定。
如图4所示,为本发明第一传动机构的第二种实现方式,第一传动机构除了采用带传动方式外,还可以采用齿条传动,具体为,在第一驱动电机81的输出轴上设置第一驱动齿轮12以及在底盘2上位于清洗喷头5的下方设置第一齿条13,第一齿条13与中心轴平行,第一齿条13通过固定座架设在涂布平台的两端上,第一驱动齿12与第一齿条13啮合,清洗喷头5通过第一固定座87固定在第一驱动电机81上,从而使第一驱动电机81能够带动清洗喷头5在第一齿条13上移动;在底盘2上设有与涂布平台1平行设置的第一导轨85,第一导轨85靠近第一传动机构,在第一导轨85上设有第一滑块86,第一固定座87与第一滑块86连接固定。
如图5所示,为本发明第一传动机构的第三种实现方式,第一传动机构还可以为丝杆传动,在第一驱动电机81的输出轴上通过联轴器联接有第一丝杆14,第一丝杆14的两端分别通过轴承座连接固定,第一丝杆14与中心轴平行,在第一丝杆14上设有具有内螺纹的第一驱动滑块15,清洗喷头15通过第一固定座87固定在第一驱动滑块15上,通过第一驱动电机81驱动第一丝杆14的转动,从而使第一驱动滑块15带动清洗喷头5在第一丝杆14上移动;在底盘2上设有与涂布平台1平行设置的第一导轨85,第一导轨85靠近第一传动机构,在第一导轨85上设有第一滑块86,第一驱动滑块15与第一滑块86连接。
如图1和图2所示,在底盘2上设有驱动清洗喷头5以及第一传动机构移动的第二传动机构,所述第二传动机构用于调节清洗喷头5与涂布平台1的涂布检测面之间的间距,从而在将涂布平台的已使用的涂布检测面旋转至另一干净的涂布检测面时涂布平台不会与清洗喷头5发生碰撞。
本发明中的第二传动机构设有两组,分别对称设置在涂布平台1的两端。
如图6所示,为本发明第二传动机构的第一种实现方式,第二传动机构包括用于承载第一传动机构的驱动板91、固定于底盘2上位于涂布平台1一端并且输出轴与涂布平台1的中心轴平行的第二驱动电机92、设于第二驱动电机92输出轴上的第二驱动轮93、固定于驱动板91上与第二驱动轮93位置相对的第二从动轮94、套设在第二驱动轮93与第二从动轮94上的第二传动带95,驱动板91与第二传动带95的上侧带体部分连接,第一传动机构以及第一导轨85设于驱动板91上,驱动板91为条形板状结构,与中心轴平行设置,第二传动机构设置在驱动板91与底盘2之间的一端上;在底盘2与驱动板91之间设有与涂布平台1的中心轴垂直设置的第二导轨96,第二导轨96设置在与第二传动机构位置相对应处,在第二导轨96上设有第二滑块97,驱动板91与第二滑块97连接。
当第二驱动电机92驱动第二驱动轮93,通过第二传动带95带动第二从动轮94移动,从而使第二传动带95驱动驱动板91移动,使设置在驱动板91上的清洗喷头5靠近喷涂平台的涂布检测面或远离喷涂平台,从而使喷涂平台有足够的空间进行旋转。
如图7所示,为本发明第二传动机构的第二种实现方式,第二传动机构除了采用带传动方式外,还可以采用齿条传动,具体为,在第二驱动电机92的输出轴上设置第二驱动齿轮16以及在底盘2上位于驱动板91下方的第二齿条17,第二齿条17与中心轴垂直,第二齿条17通过固定座架设在驱动板91下方的前后两侧上,第二驱动齿16与第二齿条17啮合,驱动板91固定在第二驱动电机92上,从而使第二驱动电机92能够带动驱动板91在第二齿条17上移动;在底盘2与驱动板91之间设有与涂布平台1的中心轴垂直设置的第二导轨96,第二导轨96设置在与第二传动机构位置相对应处,在第二导轨96上设有第二滑块97,驱动板91与第二滑块97连接。
如图8所示,为本发明第二传动机构的第三种实现方式,第二传动机构还可以为丝杆传动,在第二驱动电机92的输出轴上通过联轴器联接有第二丝杆18,第二丝杆18的两端分别通过轴承座连接固定,第二丝杆18与中心轴垂直,在第二丝杆18上设有具有内螺纹的第二驱动滑块19,驱动板91设置在第二驱动滑块19上,通过第二驱动电机92驱动第二丝杆18的转动,从而使第二驱动滑块18带动驱动板91在第二丝杆18上移动;在底盘2与驱动板91之间设有与涂布平台1的中心轴垂直设置的第二导轨96,第二导轨96设置在与第二传动机构位置相对应处,在第二导轨96上设有第二滑块97,驱动板91与第二滑块97连接。
本发明中,涂布平台1的轴向长度大于或等于光阻涂布机对应玻璃长度,涂布平台的涂布检测面的宽度为5-10cm;涂布平台1的截面形状为等边三角形或正方形。
作为本发明涂布平台1的一种实施方式,如图2所示,涂布平台1包括内层101以及包覆在内层101外的外层102,内层101采用PVC或PTFE等硬质材料制成,主要用于保持形状,外层102采用SiNx(氮化硅)、Mo(钼)或Al(铝)等与光阻涂布制程的基板表面状况相同,但是又不与溶媒(Solvent)发生反应的材料。
本发明的清洁方式如下,通过双向阀6将与第二储罐8连接的一侧管路连通,将溶媒(Solvent)通向清洗喷头5对涂布平台1的涂布检测面进行冲洗,在第一传动机构的带动下,对整块涂布检测面进行冲洗,废液经底盘2进行收集后由排液孔3排出,在清洗完后双向阀6将与第一储罐7连接的一侧管路连通,使氮气通向清洗喷头5对涂布平台1的涂布检测面进行吹干形式的清洁,完成整个清洁步骤。
如图9所示,本发明的光阻涂布机包括现有技术中的光阻涂布装置10以及作业平台11,光阻涂布装置10为狭缝喷涂装置,光阻涂布装置检测机构100设置在光阻涂布装置10与作业平台11之间,光阻涂布装置检测机构中的涂布平台1的涂布检测面与作业平台11上的待涂布光阻的基板玻璃的表面齐平,由于现有的光阻涂布装置10具有可使涂布喷嘴移动至作业平台11上的导轨,因此可通过移动涂布喷嘴至光阻涂布装置检测机构处实现对涂布喷嘴的检测。
所述第一驱动电机81、第二驱动电机92以及双向阀6可与光阻涂布机的控制器连接,从而对其输入电信号,进行控制,实现自动化。
本发明通过将确认光阻涂布装置的涂布喷嘴复机时间由原来的40分钟缩短至3分钟,不仅提升了设备产能,也节省了耗材(虚拟涂布基板)。
虽然已经参照特定实施例示出并描述了本发明,但是本领域的技术人员将理解:在不脱离由权利要求及其等同物限定的本发明的精神和范围的情况下,可在此进行形式和细节上的各种变化。

Claims (10)

1.一种光阻涂布装置检测机构,其特征在于:包括支架(4),在支架(4)上设有可转动的涂布平台(1),涂布平台(1)通过中心轴连接在支架(4)上,所述涂布平台(1)的下方设有底盘(2),所述底盘(2)上设有排水孔(3),在底盘(2)上设有用于清洗涂布平台的清洗装置。
2.根据权利要求1所述的光阻涂布装置检测机构,其特征在于:所述清洗装置包括清洗喷头(5)、与清洗喷头(5)经管道连接的双向阀(6),所述双向阀(6)的另外两端分别连接第一储罐(7)、第二储罐(8),所述清洗喷头(5)与涂布平台(1)的涂布检测面相对设置,第一储罐(7)内装有氮气,第二储罐(8)内装有溶媒。
3.根据权利要求2所述的光阻涂布装置检测机构,其特征在于:所述清洗喷头(5)上设有可沿涂布平台(1)的中心轴的轴向方向移动的第一传动机构。
4.根据权利要求3所述的光阻涂布装置检测机构,其特征在于:所述第一传动机构包括固定于底盘(2)上位于涂布平台(1)一端的第一驱动电机(81)、设于第一驱动电机(81)输出轴上的第一驱动轮(82)、固定于底盘(2)上位于涂布平台(1)另一端的第一从动轮(83)、套设在第一驱动轮(82)与第一从动轮(83)上的第一传动带(84),清洗喷头(5)通过第一固定座(87)固定于第一传动带(84)上。
5.根据权利要求4所述的光阻涂布装置检测机构,其特征在于:所述底盘(2)上设有与涂布平台(1)平行设置的第一导轨(85),第一导轨(85)靠近第一传动机构,在第一导轨(85)上设有第一滑块(86),第一固定座(87)与第一滑块(86)连接固定。
6.根据权利要求5所述的光阻涂布装置检测机构,其特征在于:所述底盘(2)上设有驱动清洗喷头(5)以及第一传动机构移动的第二传动机构,所述第二传动机构用于调节清洗喷头(5)与涂布平台(1)的涂布检测面之间的间距。
7.根据权利要求6所述的光阻涂布装置检测机构,其特征在于:所述第二传动机构包括用于承载第一传动机构的驱动板(91)、固定于底盘(2)上位于涂布平台(1)一端并且输出轴与涂布平台(1)的中心轴平行的第二驱动电机(92)、设于第二驱动电机(92)输出轴上的第二驱动轮(93)、固定于驱动板(91)上与第二驱动轮(93)位置相对的第二从动轮(94)、套设在第二驱动轮(93)与第二从动轮(94)上的第二传动带(95),驱动板(91)与第二传动带(95)连接,第一传动机构以及第一导轨(85)设于驱动板(91)上。
8.根据权利要求7所述的光阻涂布装置检测机构,其特征在于:所述底盘(2)与驱动板(91)之间设有与涂布平台(1)的中心轴垂直设置的第二导轨(96),第二导轨(96)设置在与第二传动机构位置相对应处,在第二导轨(96)上设有第二滑块(97),驱动板(91)与第二滑块(97)连接固定。
9.根据权利要求1所述的光阻涂布装置检测机构,其特征在于:所述涂布平台(1)为截面为多边形的柱体结构。
10.一种光阻涂布机,包括光阻涂布装置(10)以及作业平台(11),其特征在于:还包括如权利要求1-9任意一项所述的光阻涂布装置检测机构,所述光阻涂布装置检测机构设于光阻涂布装置(10)与作业平台(11)之间。
CN201710071590.0A 2017-02-09 2017-02-09 光阻涂布装置检测机构及光阻涂布机 Pending CN106681105A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710071590.0A CN106681105A (zh) 2017-02-09 2017-02-09 光阻涂布装置检测机构及光阻涂布机

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710071590.0A CN106681105A (zh) 2017-02-09 2017-02-09 光阻涂布装置检测机构及光阻涂布机

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN106681105A true CN106681105A (zh) 2017-05-17

Family

ID=58860445

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710071590.0A Pending CN106681105A (zh) 2017-02-09 2017-02-09 光阻涂布装置检测机构及光阻涂布机

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106681105A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108170004A (zh) * 2017-12-27 2018-06-15 深圳市华星光电技术有限公司 光阻实时检测装置、光阻实时检测方法及光阻涂布设备
CN108897193A (zh) * 2018-08-04 2018-11-27 伍先春 光阻涂布装置
CN108957957A (zh) * 2018-08-04 2018-12-07 伍先春 光阻涂布装置

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1577739A (zh) * 2003-07-23 2005-02-09 东京毅力科创株式会社 涂布方法和涂布装置
JP2005161249A (ja) * 2003-12-04 2005-06-23 Hirata Corp 流体塗布装置及び流体塗布制御方法
CN101003041A (zh) * 2006-01-19 2007-07-25 东京毅力科创株式会社 涂敷方法、涂敷装置以及涂敷处理程序
CN201959946U (zh) * 2010-12-24 2011-09-07 北京京东方光电科技有限公司 光刻胶喷嘴清洁装置
CN102650835A (zh) * 2011-02-24 2012-08-29 东京毅力科创株式会社 使用含有有机溶剂的显影液的显影处理方法和显影处理装置
CN103372525A (zh) * 2012-04-26 2013-10-30 东京毅力科创株式会社 液处理装置和液处理方法
CN104858104A (zh) * 2014-02-25 2015-08-26 东京应化工业株式会社 喷嘴以及涂敷装置
CN105242494A (zh) * 2015-11-02 2016-01-13 武汉华星光电技术有限公司 光阻涂布装置以及光刻设备
CN105261577A (zh) * 2014-07-11 2016-01-20 东京毅力科创株式会社 药液排出机构、液处理装置以及药液排出方法
CN105487334A (zh) * 2014-10-03 2016-04-13 佳能株式会社 压印装置、压印方法及物品制造方法

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1577739A (zh) * 2003-07-23 2005-02-09 东京毅力科创株式会社 涂布方法和涂布装置
JP2005161249A (ja) * 2003-12-04 2005-06-23 Hirata Corp 流体塗布装置及び流体塗布制御方法
CN101003041A (zh) * 2006-01-19 2007-07-25 东京毅力科创株式会社 涂敷方法、涂敷装置以及涂敷处理程序
CN201959946U (zh) * 2010-12-24 2011-09-07 北京京东方光电科技有限公司 光刻胶喷嘴清洁装置
CN102650835A (zh) * 2011-02-24 2012-08-29 东京毅力科创株式会社 使用含有有机溶剂的显影液的显影处理方法和显影处理装置
CN103372525A (zh) * 2012-04-26 2013-10-30 东京毅力科创株式会社 液处理装置和液处理方法
CN104858104A (zh) * 2014-02-25 2015-08-26 东京应化工业株式会社 喷嘴以及涂敷装置
CN105261577A (zh) * 2014-07-11 2016-01-20 东京毅力科创株式会社 药液排出机构、液处理装置以及药液排出方法
CN105487334A (zh) * 2014-10-03 2016-04-13 佳能株式会社 压印装置、压印方法及物品制造方法
CN105242494A (zh) * 2015-11-02 2016-01-13 武汉华星光电技术有限公司 光阻涂布装置以及光刻设备

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108170004A (zh) * 2017-12-27 2018-06-15 深圳市华星光电技术有限公司 光阻实时检测装置、光阻实时检测方法及光阻涂布设备
CN108897193A (zh) * 2018-08-04 2018-11-27 伍先春 光阻涂布装置
CN108957957A (zh) * 2018-08-04 2018-12-07 伍先春 光阻涂布装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106681105A (zh) 光阻涂布装置检测机构及光阻涂布机
CN101211757B (zh) 基板处理装置以及基板处理方法
CN103521479A (zh) 清洁装置及直线涂布机
CN201410484Y (zh) 滚刷清洗装置
US20080106571A1 (en) Wiping apparatus for print head
CN104624568B (zh) 一种清洗设备
CN103231303A (zh) 化学机械抛光设备
CN101211758A (zh) 基板处理装置
CN102674702A (zh) 清扫部件、涂布器的清扫方法、清扫装置以及显示器用部件的制造方法
KR102337305B1 (ko) 기판 세정 장치
CN103252705A (zh) 化学机械抛光设备
KR101226952B1 (ko) 기판 세정 장치 및 방법과, 이를 이용한 기판 세정 설비
CN102962229A (zh) 一种涂布喷嘴清洗装置
CN202828949U (zh) 一种传送组件、传送装置及应用此传送装置的设备
CN208495322U (zh) 一种应用于三角棱镜基板清洗的旋转式夹具
US7252099B2 (en) Wafer cleaning apparatus with multiple wash-heads
CN103962335B (zh) 一种清洁设备和转印系统
KR20140031722A (ko) 유리 기판 이송용 캐리어를 세척하는 장치 및 방법
CN201282132Y (zh) 晶圆清洗设备
CN215613584U (zh) 一种晶圆清洗台及晶圆清洗装置
KR101884983B1 (ko) 점성 용액 디스펜서용 노즐 세정 장치
CN111640692B (zh) 一种晶圆的清洗辅助装置及清洗装置
CN203707094U (zh) 一种晶圆边缘清洗装置
CN107015444A (zh) 显影工艺中的玻璃基板的水洗装置及方法
CN101135855B (zh) 狭缝式涂敷装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20170517