CN108906472A - 光学胶涂布装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种光学胶涂布装置，包括光学胶涂布机构以及两个光学胶残留清除结构；所述光学胶涂布机构包括光学胶存储箱以及设置于所述光学胶存储箱下端面上的涂布组件，该涂布组件呈三棱柱状，且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光学胶存储箱连接，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽，该光学胶涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽；所述光学胶残留清除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴，所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中，所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动，该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合，该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧。

Description

光学胶涂布装置
技术领域
本发明涉及材料涂布领域，具体涉及一种光学胶涂布装置。
背景技术
光学胶涂布装置在涂布光学胶到面板上时，会在该涂布组件上残留一些光学胶，下次涂布时这些光学胶残留会与新的光学胶接触，影响涂布时的质量，可能产生不良产品。
因此，现有技术存在缺陷，急需改进。
发明内容
本发明实施例的目的是提供一种光学胶涂布装置，具有自动去除光学胶残留的效果。
本发明提供了一种光学胶涂布装置，包括光学胶涂布机构、两个光学胶残留清除结构、清洗液罐以及吹风机；
所述光学胶涂布机构包括光学胶存储箱以及设置于所述光学胶存储箱下端面上的涂布组件，该涂布组件呈三棱柱状，且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光学胶存储箱的底壁连接，光学胶存储箱的底壁开设有光学胶出口，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的与该光学胶出口连通的涂布槽，该涂布槽从该第一侧壁面处延伸至与该第一侧壁面相对的侧棱处，且将该侧棱贯穿，该涂布槽的长度小于该涂布组件的长度；
该光学胶涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽，该滑动槽沿着该涂布组件的长度方向延伸；
该两个光学胶残留清除结构分别设置于该两个第二侧壁面上且可沿着所述滑动槽滑动；所述光学胶残留清除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴，所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中，所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动，该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合，该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧；
所述涂布槽的宽度可调；
还包括控制芯片以及电池组件，该控制芯片以及电池组件均设置于所述滑块内，控制芯片以及电池组件分别与所述电机驱动机构连接，该控制芯片用于在涂布完成后控制该电机驱动机构驱动该滑块移动以情理该两个第二侧壁面；
所述光学胶存储箱内设置有温度传感器以及加热组件，该温度传感器与该加热组件连接；
所述清洗液罐通过排液管与该喷液嘴连通，该吹风机通过排风管与该风嘴连通，所述清洗液罐内包括用于溶解光学胶的化学溶液室以及清水室，该化学溶液室的出口以及清水室的出口分别通过支管与该排液管连通，且该化学溶液室以及清水室的出口处均分别设置有电磁阀，所述电磁阀与所述控制芯片通信连接，所述光学胶存储箱还设置有自动搅拌机构，该自动搅拌机构用于进行搅拌。
在本发明所述的光学胶涂布装置中，所述涂布槽的两相对的内侧壁面上分别设置有第一薄膜加热层以及第二薄膜加热层。
在本发明所述的光学胶涂布装置中，所述光学胶存储箱内设置有温度传感器以及加热组件，该温度传感器与该加热组件连接。
在本发明所述的光学胶涂布装置中，所述涂布槽的两相对的内侧壁面分别设置有一所述压电陶瓷层。
在本发明所述的光学胶涂布装置中，所述涂布槽的两相对的内侧壁面中一个侧壁面设置有所述压电陶瓷层，另一侧壁面设置有一薄膜加热层。
在本发明所述的光学胶涂布装置中，所述擦板的宽度为所述第二侧壁面宽度的一半。
在本发明所述的光学胶涂布装置中，所述擦板可沿着所述第二侧壁面的宽度方向滑动地设置于该滑块上，且该擦板上设置有锁紧机构，使得锁紧时，该擦板相对该滑块固定，解锁时，该擦板可相对该滑块滑动。
在本发明所述的光学胶涂布装置中，所述擦板的与所述第二侧壁面接触的一面设置有弹性层。
在本发明所述的光学胶涂布装置中，所述擦板的宽度为所述第二侧壁面的宽度相同。
在本发明所述的光学胶涂布装置中，所述侧面上开设有多个沿着宽度方向延伸的用于导引清洗液的导流槽。
在本发明所述的光学胶涂布装置中，还包括控制芯片以及电池组件，该控制芯片以及电池组件均设置于所述滑块内，控制芯片以及电池组件分别与所述电机驱动机构连接。
本发明通过设置光学胶涂布机构以及两个光学胶残留清除结构；所述光学胶涂布机构包括光学胶存储箱以及设置于所述光学胶存储箱下端面上的涂布组件，该涂布组件呈三棱柱状，且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光学胶存储箱连接，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽，该涂布槽从该第一侧壁面处延伸至与该第一侧壁面相对的侧棱处，且将该侧棱贯穿，该涂布槽的长度小于该涂布组件的长度；该光学胶涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽，该滑动槽沿着该涂布组件的长度方向延伸；该两个光学胶残留清除结构分别设置于该两个第二侧壁面上且可沿着所述滑动槽滑动；所述光学胶残留清除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴，所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中，所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动，该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合，该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧，使得其可以实现涂布光学胶的同时，可以自动对残留的光学胶进行清理。
附图说明
图1是本发明实施例中的光学胶涂布装置的一种结构示意图。
图2是本发明实施例中的光学胶涂布装置的光学胶残留清除结构的一种结构示意图。
图3是本发明实施例中的光学胶涂布装置的电路原理图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
请参照图1，图1是本发明一实施例中的一种光学胶涂布装置，包括光学胶涂布机构10以及两个光学胶残留清除结构20、洗液罐30以及吹风机40；两个光学胶残留清除结构20设置于该光学胶涂布机构10上。
该光学胶涂布机构10包括光学胶存储箱11以及设置于所述光学胶存储箱11下端面上的涂布组件12，该涂布组件12呈三棱柱状，且该涂布组件的一个第一侧壁面121与该光学胶存储箱11连接，该涂布组件的一个第一侧壁面与该光学胶存储箱的底壁连接，光学胶存储箱的底壁开设有光学胶出口，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的与该光学胶出口连通的涂布槽。该涂布组件12设置有沿着该第一侧壁面121的中垂面设置的涂布槽123，该涂布槽123从该第一侧壁面121处延伸至与该第一侧壁121面相对的侧棱处，且将该侧棱贯穿，该涂布槽123的长度小于该涂布组件12的长度；该涂布槽123的槽宽可以根据需求设定。光学胶存储箱11大致呈箱体状，其内存储有光学胶，在一些实施例中，为了保持光学胶的流动性，其内还设置有加热器件，防止光学胶冷凝固。
在一些实施例中，该光学胶存储箱内设置有温度传感器以及加热组件，该温度传感器与该加热组件连接。从而使得该光学胶存储箱内的光学胶保持良好的流动性。光学胶存储箱还设置有自动搅拌机构，该自动搅拌机构用于进行搅拌。在本发明所述的光学胶涂布装置中，所述涂布槽的两相对的内侧壁面上分别设置有第一薄膜加热层以及第二薄膜加热层。
该涂布组件10的两个相互倾斜连接的第二侧壁面122上分别设置有滑动槽1221，该滑动槽1221沿着该涂布组件10的长度方向延伸。
该两个光学胶残留清除结构20分别设置于该两个第二侧壁面122上且可沿着所述滑动槽123滑动。每一光学胶残留清除结构包括滑块21、擦板22、风嘴23以及喷液嘴24，所述滑块21可滑动地设置于所述滑动槽1221中，所述滑块21中设置有电机驱动机构以驱动该滑块21沿着该滑动槽1221自动滑动，该擦板22设置于该滑块21上且其内侧面与该第二侧壁面122的局部贴合，该擦板22以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧。风嘴23与外部风机连通以用于风干，该喷液嘴24与外部的清洗液提供装置连通，以提供清洗液来溶解残留的光学胶。
清洗液罐通过排液管与该喷液嘴连通，该吹风机通过排风管与该风嘴连通，所述清洗液罐内包括用于溶解光学胶的化学溶液室以及清水室，该化学溶液室的出口以及清水室的出口分别通过支管与该排液管连通，且该化学溶液室以及清水室的出口处均分别设置有电磁阀61\62，该电磁阀61\62与该控制芯片通信连接。
请参照图2，在本发明所述的光学胶涂布装置中，所述擦板22的宽度为所述第二侧壁面122的宽度的一半。擦板22可沿着所述第二侧壁面122的宽度方向滑动地设置于该滑块21上，且该擦板22上设置有锁紧机构221，使得锁紧时，该擦板22相对该滑块21固定，解锁时，该擦板22可相对该滑块21滑动。
例如，滑块21沿着该第二侧壁面122的宽度方向开设有滑槽211，该该锁紧机构221可以为调节螺母，调节螺母安装于该擦板22上且其端部位于该滑槽中，解锁时，该调节螺母的端部位于该滑槽中且距离该滑槽211的底部预设距离，使得该擦板22可滑动，锁定时，该调节螺母的端部与该滑槽的底壁抵紧。
在另一些实施例中，该擦板22的宽度等于该第二侧壁面的宽度，该擦板22相对与该滑块固定。
在一些实施例中，擦板22的与所述第二侧壁面接触的一面设置有弹性层。
在一些实施例中，第二侧壁面上开设有多个沿着宽度方向延伸的用于导引清洗液的导流槽，且该多个导流槽的间隙相等。
请参照图3，在一些实施例中，光学胶涂布装置还包括控制芯片50以及电池组件，该控制芯片50以及电池组件均设置于所述滑块21内，控制芯片50以及电池组件分别与所述电机驱动机构70连接，分别用于控制该滑块的电机驱动机构70以及给该电机驱动机构供电。
工作时，当光学胶涂布完成后，该控制芯片控制该电机驱动机构70来使得滑块21沿着该滑动槽来回滑动，并且控制该清洗液罐30的化学溶液室的电磁阀61打开以释放化学溶液，通过喷液嘴24喷到该第二侧壁面上对光学胶残留进行溶解，然后通过该滑块21的来回移动使得该擦板22可以擦除溶解后的光学胶残留，然后来回移动若干次之后，控制化学溶液室的电磁阀61关闭，控制该清水室的电磁阀62打开，采用清水进行清洗，且该在擦除后开启吹40风机进行风干。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施方式”、“某些实施方式”、“示意性实施方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合所述实施方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施方式或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施方式或示例中以合适的方式结合。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (6)

1.一种光学胶涂布装置，其特征在于，包括光学胶涂布机构、两个光学胶残留清除结构、清洗液罐以及吹风机；
所述光学胶涂布机构包括光学胶存储箱以及设置于所述光学胶存储箱下端面上的涂布组件，且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光学胶存储箱的底壁连接，光学胶存储箱的底壁开设有光学胶出口，该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的与该光学胶出口连通的涂布槽，该涂布槽从该第一侧壁面处延伸至与该第一侧壁面相对的侧棱处，且将该侧棱贯穿，该涂布槽的长度小于该涂布组件的长度；
该光学胶涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽，该滑动槽沿着该涂布组件的长度方向延伸；
该两个光学胶残留清除结构分别设置于该两个第二侧壁面上且可沿着所述滑动槽滑动；所述光学胶残留清除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴，所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中，所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动，该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合，该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧；
所述涂布槽的宽度可调；
还包括控制芯片以及电池组件，该控制芯片以及电池组件均设置于所述滑块内，控制芯片以及电池组件分别与所述电机驱动机构连接，该控制芯片用于在涂布完成后控制该电机驱动机构驱动该滑块移动以情理该两个第二侧壁面；
所述光学胶存储箱内设置有温度传感器以及加热组件，该温度传感器与该加热组件连接；
所述清洗液罐通过排液管与该喷液嘴连通，该吹风机通过排风管与该风嘴连通，所述清洗液罐内包括用于溶解光学胶的化学溶液室以及清水室，该化学溶液室的出口以及清水室的出口分别通过支管与该排液管连通，且该化学溶液室以及清水室的出口处均分别设置有电磁阀，所述电磁阀与所述控制芯片通信连接；
所述光学胶存储箱还设置有自动搅拌机构，该自动搅拌机构用于进行搅拌。
2.根据权利要求1所述的光学胶涂布装置，其特征在于，所述涂布槽的两相对的内侧壁面上分别设置有第一薄膜加热层以及第二薄膜加热层。
3.根据权利要求2所述的光学胶涂布装置，其特征在于，所述擦板的宽度为所述第二侧壁面宽度的一半。
4.根据权利要求3所述的光学胶涂布装置，其特征在于，所述擦板可沿着所述第二侧壁面的宽度方向滑动地设置于该滑块上，且该擦板上设置有锁紧机构，使得锁紧时，该擦板相对该滑块固定，解锁时，该擦板可相对该滑块滑动。
5.根据权利要求1所述的光学胶涂布装置，其特征在于，所述擦板的与所述第二侧壁面接触的一面设置有弹性层。
6.根据权利要求1所述的光学胶涂布装置，其特征在于，所述擦板的宽度为所述第二侧壁面的宽度相同。
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