JP4830329B2 - スリットノズルの洗浄方法、及びスリットコータ - Google Patents

Description

本発明は、基板上に塗布液を塗布するスリットコータに関するものであり、特に、スリットノズルのノズル先端部の洗浄時間を短縮することのできるスリットノズルの洗浄方法に関する。

液晶表示装置やプラズマディスプレイパネルにおいて、カラー表示、反射率の低減、コントラストの改善、分光特性制御などの目的にカラーフィルタを用いることは有用な手段となっている。
この表示装置に用いるカラーフィルタは、多くの場合、画素として形成されて使用されるものである。表示装置用カラーフィルタの画素を形成する方法として、これまで実用されてきた方法には、印刷法、フォトリソグラフィー法などがあげられる。

例えば、顔料分散法は、このフォトリソグラフィー法の一方法であるが、この顔料分散法において使用するカラーフィルタ形成用のフォトレジストは、ガラス基板上に、例えば、スピンコータを用いて回転塗布され、この塗膜にフォトマスクを介してＵＶ露光、現像処理がおこなわれ表示装置用カラーフィルタの画素として形成される。

従来、液晶表示装置の製造プロセスにおいて、フォトレジストなどの塗布装置としては、ノズルからガラス基板の中央部に塗布液を滴下した後、ガラス基板を回転させ塗布液を延展させるスピンコータが多く用いられてきた。
このスピンコータは、膜厚の精度が高いのが長所であるが、ガラス基板が大型化するとモーターなどの機械的制約から装置化するのが困難であり、また、塗布液の９５％以上が無駄に浪費されるといった短所がある。

このため、例えば、５５０ｍｍ×６５０ｍｍ程度の大きさのガラス基板においては、スリット＆スピンコータ（或いは、コート＆スピンコータとも呼ばれる）が使用され始めた。これは、スリットノズルから塗布液をガラス基板に塗布した後、ガラス基板を回転させて膜厚の均一性を高める方法である。
この方法は、塗布液の利用率は３０〜４０％と大幅に改善されたものの、上記モーターなどの機械的制約は同様なので、装置を更に大型化するのは困難なことである。

これらのコータに代わって、精度の高いスリットコータの開発、実用が進んでいる。スリットコータは、ガラス基板を載置した定盤を、或いは塗布ヘッドを水平移動させながらスリットノズルから塗布液をガラス基板に塗布する方法であり、１ｍ×１．３ｍ、或いは１．５ｍ×１．８ｍ程度の大きさのガラス基板にも対応ができるようになった。

図１は、スリットコータの一例の概略を模式的に示す平面図である。また、図２は、図１に示すスリットコータの側面図である。
図１、及び図２に示すように、模式的に示すスリットコータ（１０）は、フレーム（１４）と吸引バキューム付き定盤（１５）からなるステージ（１１）、洗浄ユニット（２０）、プレ塗布ユニット（３０）、及びスリットノズル（１３）で構成されている。
スリットノズル（１３）はステージ（１１）右方、フレーム（１４）上方の第一待機位置（Ａ）に設けられ、基板上に塗布液を塗布する際には矢印で示すように、スリットノズル（１３）は左方に移動し、定盤上に載置・固定された基板（１２）上に塗布液を塗布するようになっている。

このようなスリットコータ（１０）の動作の一例は、先ず、第一ロボット（図示せず）が前工程から搬送された基板（１２）を白太矢印（１６）で示すように、吸引バキューム付き定盤（１５）上に載置する。基板（１２）は吸引バキュームによって定盤（１５）上に固定される
次に、ステージ（１１）右方、フレーム（１４）上方の第一待機位置（Ａ）のスリットノズル（１３）は、矢印で示すように、定盤（１５）上に固定された基板（１２）上を右方から左方へと移動しながら基板（１２）上に塗布液を塗布し、第二待機位置（Ｄ）に至る。

塗布液の塗布が終了すると第二ロボット（図示せず）は、白太矢印（１７）で示すように、基板（１２）を次工程へと搬出する。基板（１２）の搬出が終了するとスリットノズル（１３）は第一待機位置（Ａ）に戻る。
このようなスリットコータ（１０）を用いて、連続的に多数の基板上に塗布液の塗布をおこなう場合には、塗布後、上記スリットコータの第二待機位置（Ｄ）、又は第一待機位置（Ａ）にてスリットノズル（１３）のノズル先端部の洗浄をしてから次の塗布をおこなう。図１に示すスリットコータ（１０）は、第一待機位置（Ａ）にて洗浄が行われる。

ノズル先端部の洗浄は、ノズル先端部の外側に回り込み濃度の高くなった、固形化しつつある塗布液を除去し、ノズル先端部を清浄、且つ乾燥した状態に保つために行われる。ノズル先端部の外側への回り込みは、塗布液の表面張力により外側の両側に発生し、また、塗布中に、ノズル先端部の外側の、スリットノズルが塗布液を塗布する際の移動方向の逆方向側に回り込んで発生する。
仮に、ノズル先端部の洗浄を行わずに基板上への塗布を続けると、基板への塗布開始箇所で膜厚が厚くなったり、基板上には塗布方向にスジが発生したりして、膜厚を均一に塗布することはできない。

特に、前記顔料分散法において使用するカラーフィルタ形成用のフォトレジストは、例えば、高分子樹脂に顔料を分散剤を用いて分散させ、この分散液に重合性モノマー、光重合開始剤、増感剤、溶剤などを添加して調製されるものであるが、フォトレジスト中の微小な顔料粒子は凝集し易く、この顔料粒子が核となってフォトレジストに凝集体が生じ濃度は高くなり易いものである。
ノズル先端部近傍に塗布液が残留すると、凝集、固形化へとすすみ易く、塗布液を均一に塗布するうえでの支障が起きやすい。

上記のような不具合な現象を解消する技法として、例えば、特開２００２−３５５５９６号公報には、ノズル先端部の両外側を挟み込むようにスリットノズルの長手方向（図１に示すＹ−Ｙ’方向）に洗浄液を噴出する噴出ヘッドを多数個配列し、噴出ヘッドの噴出ノズルから洗浄液を一斉に噴出させ、ノズル先端部の両外側の塗布液を溶解、除去して洗浄する技法が開示されている。
この方法は、洗浄ヘッドとして噴出ヘッドを、スリットノズルの長手方向に多数個、固定して設け、噴出ヘッドを長手方向に移動させることなく、長手方向の洗浄を一斉に行うので、短時間で洗浄を行うことができる方法といえる。

一方、洗浄ヘッドとして１個の清掃部材を設け、スリットノズルの長手方向の片端から他端へと移動させながら洗浄を行う方法には、例えば、特開２００２−３６１１４９号公報に開示されているように、塗布液の吐出口面の隣接面に、液体を付着させた後に、清掃部材をスリットノズルの長手方向に擦り移動させながら吐出口面及びその隣接面に付着している塗布液を除去する技法がある。

また、同様に、例えば、特開２００２−１９２０４８号公報には、洗浄ヘッドとして、
ノズル先端部の断面形状に嵌合する形状の突条を備えた１個のクリーニングヘッドを設け、洗浄液を含浸したクリーンフィルムをノズル先端部に押し当てた状態でスリットノズルの長手方向に移動させながら付着している塗布液を除去する技法が開示されている。

上記、洗浄ヘッドをスリットノズルの長手方向に移動させる方法は、洗浄ヘッドの機構は比較的簡単なものとなるが、洗浄ヘッドをスリットノズルの長手方向に移動させて洗浄を行うので、相応の時間を要し、短時間での洗浄は困難である。図１及び図２に示すスリットコータ（１０）における洗浄ユニット（２０）は、上記、スリットノズルの長手方向に片端から他端へと移動させながら洗浄を行う構造であるので、ノズル先端部の洗浄には、相応の時間を要する。

図３は、図１に示すスリットコータ（１０）の、図１中左方からの側面図である。図１及び図３に示すように、洗浄ユニット（２０）は、スリットコーター（１０）の第一待機位置（Ａ）におけるスリットノズル（１３）の長手方向の図３中右側の片端側待機位置（Ｅ）に設けられている。
塗布が終了し第一待機位置（Ａ）に戻ったスリットノズル（１３）のノズル先端部を洗浄する際には、例えば、図３中矢印で示すように、洗浄ユニット（２０）は、片端側待機位置（Ｅ）から左方へ移動しながらノズル先端部の両外側を洗浄し、他端側待機位置（Ｆ）に至る。他端側待機位置（Ｆ）にて折り返して移動し、片端側待機位置（Ｅ）に戻り待機する。

また、図４は、図２に示す、図１中下方からのスリットコータ（１０）の側面図における、洗浄ユニット（２０）の一例のＸ−Ｚ面での断面図である。
図４に示すように、洗浄ユニット（２０）は、その上部の幅方向（図１に示すＹ−Ｙ’方向）がノズル先端部の形状に対応したＶ字状の凹部となっている。この凹部の図４中、左右両内壁面には洗浄液の噴出口とクリーンエアーの噴出口が設けられている。
両内壁面の下部には、ノズル先端部の外側に回り込んだ塗布液を洗浄する洗浄液の噴出口（５１Ａ、５１Ｂ）が設けられており、両内壁面の上部には、洗浄したノズル先端部の外側を乾燥するクリーンエアーの噴出口（５４Ａ、５４Ｂ）が設けられている。
また、Ｖ字状の凹部の底部には、塗布液、洗浄液、及びクリーンエアーの廃液を排出させる排出口（５６）が設けられている。

ノズル先端部の洗浄を行う際は、図４に示すように、スリットノズル（１３）のノズル先端部をＶ字状の凹部内に接近させる。先ず、溶剤供給口（５２Ａ、５２Ｂ）から加圧された溶剤が供給され、クリーンエアー供給口（５３Ａ、５３Ｂ）から加圧されたクリーンエアーが供給される。合流した通気管内で溶剤とクリーンエアーが混合し、混合した２流体が洗浄液となり、矢印で示すように、洗浄液の噴出口（５１Ａ、５１Ｂ）からノズル先端部の両外側に向けて噴出する。この噴出した洗浄液により、ノズル先端部の両外側に回り込み、濃度の高くなった固化しつつある塗布液を溶解、除去する。

次に、クリーンエアー供給口（５５Ａ、５５Ｂ）から加圧された乾燥クリーンエアーが供給され、点線矢印で示すように、クリーンエアーの噴出口（５４Ａ、５４Ｂ）からノズル先端部の外側に向けて噴出する。この噴出した乾燥クリーンエアーにより、ノズル先端部の外側を乾燥する。
上記洗浄液の噴出と乾燥クリーンエアーの噴出を行いながら、洗浄ユニット（２０）は、図３中左方から右方へ移動（洗浄ユニットの往路）し、ノズル先端部を清浄且つ乾燥した状態にする。

洗浄ユニット（２０）によって、ノズル先端部の両外側の洗浄が行われた後に、図１に示すプレ塗布ユニット（３０）にて、スリットノズルからの回転ロールへのプレ塗布が行
われる。このプレ塗布は、スリットノズル（１３）が基板への塗布液を塗布する直前に行われる。
このプレ塗布は、ノズル先端部内の塗布液の濃度を一定に保ち、基板への塗布液の塗布開始箇所での膜厚を安定させるために行われる。

スリットノズル（１３）は、前記第一待機位置（Ａ）での待機中に、ノズル先端部が長時間にわたり空気と接触していると、ノズル先端部内の塗布液の一部分の濃度が高くなり、仮に、このまま基板上への塗布を続けると、濃度の高い一部分の塗布液によって基板への塗布開始箇所で膜厚が厚くなったり、基板上には膜厚の異なる塗布方向のスジが生じたり、或いは塗布膜が塗布方向の一部で膜切れが生じたりして、膜厚を均一に塗布することができなくなる。

また、一方では、第一待機位置（Ａ）において、スリットノズルのノズル先端部を洗浄液により洗浄することによって、ノズル先端部内の塗布液の一部分の濃度は低くなる。仮に、プレ塗布をせずに基板上への塗布を行うと、基板への塗布液の塗布開始箇所での膜厚が薄くなってしまうことになる。
プレ塗布ユニット（３０）を用いることによって、ノズル先端部内の塗布液の濃度の不安定な塗布液を吐出させてしまい、基板上への塗布においては、塗布液の塗布開始箇所から安定した膜厚を得ることができるようにしている。

図５は、スリットノズルから回転ロールへのプレ塗布に用いるプレ塗布ユニット（３０）の一例の概略を示す断面図である。図５に示すように、この一例のプレ塗布ユニット（３０）は、洗浄液（６１）を貯える貯液槽（６２）と、上面が洗浄液から露出するとともに下面が洗浄液に浸漬している回転ロール（６３）と、回転ロールの表面に吐出された塗布液に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル（６４）と、回転ロールの表面を擦るように洗浄液内に配置された洗浄液内スキージ（６５）と、洗浄液内スキージで擦られた回転ロールの表面をさらに擦るように洗浄液外に配置された洗浄液外スキージ（６６）と、洗浄液外スキージで擦られた回転ロールの表面に窒素又はクリーンエアーを吹き付ける乾燥ノズルとを備えたものである。

プレ塗布ユニット（３０）を用いた、ノズル先端部内の塗布液を基板への塗布直前に吐出する動作は、回転する回転ロール（６３）上へ塗布液を付着させながら行う。
先ず、清浄且つ乾燥した状態の回転ロール（６３）の最上面（周面）に、スリットノズル（１３）のノズル先端部を接近させ塗布液を最上面（周面）に付着させるのであるが、例えば、回転ロール（６３）が回転することにより塗布液をノズル先端部から引き出すように、ノズル先端部を回転ロール（６３）の最上面（周面）に、例えば、１００μｍ程度に接近させて塗布液を付着させる。

次に、回転ロール（６３）の表面に付着した塗布液には、洗浄液内スキージ（６５）によるかきとりを容易にするために、洗浄液供給ノズル（６４）からから洗浄液を供給する。この洗浄液及び貯液槽（６２）に貯えた洗浄液（６１）によって濃度の低下した塗布液を、洗浄液内スキージ（６５）によってかきとる。
続いて、洗浄液を貯える貯液槽（６２）中で回転ロール（６３）の表面を洗浄し、貯液槽（６２）外で、洗浄液内スキージ（６５）によってかきとられた回転ロール（６３）の表面をさらに洗浄液外スキージ（６６）でかきとる。
続いて、乾燥ノズル（６７）から回転ロールの表面に窒素又はクリーンエアを吹き付けて、回転ロールの表面を乾燥する。

これにより、スリットノズル（１３）のノズル先端部内の塗布液は、清浄且つ乾燥した状態に保たれた回転ロール（６３）の表面に、常に、繰り返し、吐出し続けることができ
ることになる。
このプレ塗布ユニットによるプレ塗布によって、基板への塗布液の塗布開始箇所での膜厚は安定したものとなる。

すなわち、上記のように、スリットノズル（１３）に対して洗浄ユニット（２０）、プレ塗布ユニット（３０）を用いた処理を塗布直前に行うことによって、空気との接触によるノズル先端部内の塗布液の一部分の濃度の上昇や、洗浄液による塗布液の一部分の濃度の降下、或いはノズル先端部の外側への塗布液の回り込みなどは解消、或いは是正されたものとなり、基板への塗布は塗布開始箇所から基板全面にわたりスジ、膜切れなどが生じることなく、均一な膜厚の塗膜を形成することができることになる。

しかしながら、実際の製造工程においては、スリットノズルの長手方向に洗浄ユニットを移動させながらノズル先端部を洗浄する方法は、基板が大型化し、例えば、１．５ｍ×１．８ｍ程度となると、洗浄には幅方向の長さに相応した時間を費やすことになる。この洗浄時間を短縮し、基板が大型化した際の塗布能力を向上させたいといった強い要望がある。
特開２００２−３５５５９６号公報 特開２００２−３６１１４９号公報 特開２００２−１９２０４８号公報

本発明は、上記要望に鑑みてなされたものあり、フレームと吸引バキューム付き定盤からなるステージ、洗浄ユニット、プレ塗布ユニット、及びスリットノズルで構成されるスリットコータにおいて、第一待機位置にあるスリットノズルのノズル先端部を、洗浄ユニットがスリットノズルの長手方向へ移動しながら洗浄する際に、ノズル先端部の洗浄時間を短縮し、基板が大型化した際の塗布能力を向上させることのできるスリットノズルの洗浄方法を提供することを課題とするものである。
また、上記スリットノズルの洗浄方法を用いたスリットコータを提供することを課題とする。

本発明は、基板上に塗布液を塗布するスリットコータを構成するスリットノズルの洗浄方法において、洗浄ユニットをスリットノズルの長手方向へ移動させながら該スリットノズルのノズル先端部の洗浄を行う際に、スリットノズルの長手方向で洗浄を分担する複数の洗浄ユニットを用いることを特徴とするスリットノズルの洗浄方法である。

また、本発明は、上記発明によるスリットノズルの洗浄方法において、前記複数の洗浄ユニットは２基の洗浄ユニットであり、第１基の洗浄ユニットをスリットノズルの長手方向の中央部から片端部へ移動させながら、また第２基の洗浄ユニットをスリットノズルの長手方向の中央部から他端部へ移動させながらノズル先端部の洗浄を同時に行うことを特徴とするスリットノズルの洗浄方法である。

また、本発明は、上記発明によるスリットノズルの洗浄方法において、前記中央部での洗浄残りを防ぐために、第２基の洗浄ユニットを中央部から他端部へ移動させながら第２基の洗浄ユニットでノズル先端部の洗浄を行い、第１基の洗浄ユニットを、一旦第２基の洗浄ユニットに追従させて中央部から他端部側へ一定距離の空移動をさせてから片端部へ
移動させながら第１基の洗浄ユニットでノズル先端部の洗浄を行い、或いは、第１基の洗浄ユニットを中央部から片端部へ移動させながら第１基の洗浄ユニットでノズル先端部の洗浄を行い、第２基の洗浄ユニットを、一旦第１基の洗浄ユニットに追従させて中央部から片端部側へ一定距離の空移動をさせてから他端部へ移動させながら第２基の洗浄ユニットでノズル先端部の洗浄を行うことを特徴とするスリットノズルの洗浄方法である。

また、本発明は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のスリットノズルの洗浄方法を用いたことを特徴とするスリットコータである。

本発明は、洗浄ユニットをスリットノズルの長手方向へ移動させながらスリットノズルのノズル先端部の洗浄を行う際に、スリットノズルの長手方向で洗浄を分担する複数の洗浄ユニットを用いるので、ノズル先端部の洗浄時間を短縮し、基板が大型化した際の塗布能力を向上させることのできるスリットノズルの洗浄方法となる。
また、本発明は、第１基の洗浄ユニットを、一旦中央部から他端部側へ一定距離の空移動をさせてから片端部へ移動させながら、或いは第２基の洗浄ユニットを、一旦中央部から片端部側へ一定距離の空移動をさせてから他端部へ移動させながらノズル先端部の洗浄を行うスリットノズルの洗浄方法であるので、ノズル先端部の中央部での洗浄残りを防ぐことができる。

以下に本発明によるスリットノズルの洗浄方法を詳細に説明する。
図６は、本発明によるスリットノズルの洗浄方法において用いられるスリットコータの一例の概略を模式的に示す平面図である。また、図７は、図６に示すスリットコータの、図６中左方からの側面図である。
図６、及び図７に示すように、模式的に示すスリットコータは、フレーム（１４）と吸引バキューム付き定盤（１５）からなるステージ（１１）、プレ塗布ユニット（３０）、スリットノズル（１３）、第一洗浄ユニット（２０Ａ）、及び第二洗浄ユニット（２０Ｂ）で構成されている。

第一洗浄ユニット（２０Ａ）は、スリットコーターの第一待機位置（Ａ）におけるスリットノズル（１３）の長手方向の、図７中右側の片端側待機位置（Ｅ）に設けられている。また、第二洗浄ユニット（２０Ｂ）は、スリットコーターの第一待機位置（Ａ）におけるスリットノズル（１３）の長手方向の、図７中左側の他端側待機位置（Ｆ）に設けられている。

図６、及び図７に示すスリットコータは、洗浄ユニットをスリットノズルの長手方向へ移動させながらスリットノズルのノズル先端部の洗浄を行う際に、スリットノズルの長手方向を２基の洗浄ユニットで分担して、第一洗浄ユニット（２０Ａ）は、長手方向の中央部から片端部側（図７中右側の片端側待機位置（Ｅ）方向）の洗浄を行い、また第二洗浄ユニット（２０Ｂ）は、長手方向の中央部から他端部側（図７中左側の他端側待機位置（Ｆ）方向）の洗浄を行う例である。

図８（ａ）〜（ｄ）は、第一洗浄ユニット（２０Ａ）及び第二洗浄ユニット（２０Ｂ）がノズル先端部を洗浄する動作の一例を説明する側面図である。
図８（ａ）は、１枚目の基板への塗布が終了し、第一待機位置（Ａ）に戻ったスリットノズル（１３）のノズル先端部への洗浄が行われた段階の状態を示したものである。ノズル先端部の洗浄が終了すると、次に、スリットノズル（１３）は２枚目の基板への塗布にむけてプレ塗布ユニットへと移動する（図８（ｂ））。

次に、図８（ｂ）中、矢印で示すように、片端側待機位置（Ｅ）の第一洗浄ユニット（２０Ａ）、及び他端側待機位置（Ｆ）の第二洗浄ユニット（２０Ｂ）は、共にスリットノズルの中央部（Ｃ）へ移動する（図８（ｃ））。この移動は、洗浄を伴わない中央部への移動であり、中央部（Ｃ）がノズル先端部の洗浄開始位置となっている。
この第一洗浄ユニット（２０Ａ）及び第二洗浄ユニット（２０Ｂ）の中央部への移動は、スリットノズル（１３）が、プレ塗布ユニット（３０）でのプレ塗布、２枚目の基板への塗布液の塗布、第二待機位置（Ｄ）から第一待機位置（Ａ）への戻り、といった一連の動作を行っている間に行われる。

次に、スリットノズル（１３）が２枚目の基板への塗布を終了し、第一待機位置（Ａ）へ戻ると、図８（ｄ）に示すように、第一洗浄ユニット（２０Ａ）は、スリットノズルの中央部（Ｃ）から片端部側へと移動しながらノズル先端部の洗浄を行う。また同時に、第二洗浄ユニット（２０Ｂ）は、スリットノズルの中央部（Ｃ）から他端部側へと移動しながらノズル先端部の洗浄を行う。ノズル先端部の洗浄後は、各々片端側待機位置（Ｅ）、他端側待機位置（Ｆ）で、スリットノズル（１３）がプレ塗布ユニットへ移動するのを待つ。
第一洗浄ユニット（２０Ａ）及び第二洗浄ユニット（２０Ｂ）としては、例えば、前記図４に示す洗浄ユニットが用いられる。

本発明によるスリットノズルの洗浄方法は、複数の洗浄ユニット、例えば、２基の洗浄ユニットを用い第１基の洗浄ユニットをスリットノズルの長手方向の中央部から片端部へ移動させながら、また第２基の洗浄ユニットをスリットノズルの長手方向の中央部から他端部へ移動させながらノズル先端部の洗浄を同時に行うことを特徴としている。
例えば、スリットノズルの長手方向の両端部から、２基の洗浄ユニットを用いてノズル先端部の洗浄を行うと、中央部で洗浄が終了するので、中央部の終了した部分では洗浄の拭きよせ状態になり、ノズル先端部の中央部には拭きよせに起因した洗浄ムラが発生し易くなる。本発明は、このような洗浄ムラの発生を回避するために考案された洗浄方法である。

また、図９は、請求項３に係わる発明を説明する側面図である。図９は、図８（ｄ）に示すスリットノズルの側面の一部分を拡大したものであり、第一待機位置（Ａ）に戻ったスリットノズルのノズル先端部に対して、これから洗浄が行われる段階の状態を示している。
図９に示すように、第一洗浄ユニット（２０Ａ）と第二洗浄ユニット（２０Ｂ）は、スリットノズルの中央部（Ｃ）で隣接している。第一洗浄ユニット（２０Ａ）の洗浄液の噴出口（５０Ａ）は、中央部（Ｃ）から距離（ａ）離れた位置（Ｇ位置）で、スリットノズルのノズル先端部の外側に向けて配置されている。
同様に、中央部（Ｃ）で隣接している。第二洗浄ユニット（２０Ｂ）の洗浄液の噴出口（５０Ｂ）は、中央部（Ｃ）から距離（ｂ）離れた位置（Ｈ位置）で、スリットノズルのノズル先端部の外側に向けて配置されている。噴出口（５０Ａ）と噴出口（５０Ｂ）の間隔は、符号（Ｗ１）で示す距離である。

ノズル先端部の洗浄は、この状態で、第一洗浄ユニット（２０Ａ）の噴出口（５０Ａ）から洗浄液の噴出を開始し、矢印で示すように、第一洗浄ユニット（２０Ａ）がスリットノズルの中央部から片端部側へと移動しながらノズル先端部の洗浄を行う。
同様に、第二洗浄ユニット（２０Ｂ）の噴出口（５０Ｂ）から洗浄液の噴出を開始し、矢印で示すように、第二洗浄ユニット（２０Ｂ）がスリットノズルの中央部から片端部側へと移動しながらノズル先端部の洗浄を行う。

上記のようにして、ノズル先端部の洗浄を行うと、洗浄される領域は、斜線太矢印（Ｐ）で示すように、ノズル先端部のＧ位置から図９中右方の片端部までの領域と、斜線太矢印（Ｒ）で示すように、ノズル先端部のＨ位置から図９中左方の他端部までの領域となる。従って、Ｇ位置とＨ位置の間の、符号（Ｗ１）で示す距離を有する矩形（Ｑ）の領域は、洗浄されずに洗浄残りとなってしまう。

請求項３に係わる発明は、このような洗浄残りを防止するためになされたものである。図１０（ａ）〜（ｃ）は、請求項３に係わる発明における第一洗浄ユニット（２０Ａ）と第二洗浄ユニット（２０Ｂ）の動作を説明する側面図である。図１０（ａ）は、図８（ｄ）に示すスリットノズルの側面の一部分を拡大したものであり、第一待機位置（Ａ）に戻ったスリットノズルのノズル先端部に対して、これから洗浄が行われる段階の状態を示している。
図１０（ａ）に示すように、中央部（Ｃ）で隣接している第一洗浄ユニット（２０Ａ）と第二洗浄ユニット（２０Ｂ）の内、第一洗浄ユニット（２０Ａ）は、この位置で、噴出口（５０Ａ）から洗浄液の噴出を開始し、矢印（３１）で示すように、第一洗浄ユニット（２０Ａ）がスリットノズルの中央部から片端部側へと移動しながらノズル先端部の洗浄を開始する。

図１０（ｂ）に示すように、第一洗浄ユニット（２０Ａ）の噴出口（５０Ａ）がＩ位置に達すると、斜線太矢印（Ｐ１）で示す、ノズル先端部のＧ位置〜Ｉ位置間が洗浄される。更に、矢印（３２、３３）で示すように、第一洗浄ユニット（２０Ａ）が片端部側へと移動し続けると、斜線太矢印（Ｐ２）で示すように、ノズル先端部にはＩ位置から片端部までの洗浄が行われる（図１０（ｃ））。

この際の、噴出口（５０Ａ）から洗浄液の噴出させながらの第一洗浄ユニット（２０Ａ）の移動は、図９に示す第一洗浄ユニット（２０Ａ）の移動と同一であり、また洗浄が行われるノズル先端部の領域も同一である。
すなわち、この第一洗浄ユニット（２０Ａ）の移動による洗浄によって、ノズル先端部は第一洗浄ユニット（２０Ａ）の噴出口（５０Ａ）が配置されたＧ位置から片端部までの洗浄が行われる。

一方、図１０（ａ）に示すように、中央部（Ｃ）で隣接している第一洗浄ユニット（２０Ａ）と第二洗浄ユニット（２０Ｂ）の内、第二洗浄ユニット（２０Ｂ）は、矢印（３４）で示すように、第一洗浄ユニット（２０Ａ）の移動と連動し、第一洗浄ユニット（２０Ａ）の移動方向と同一の方向へ、すなわち、一旦中央部から片端部側への移動を行う。
図１０（ｂ）に示すように、この移動距離は、第二洗浄ユニット（２０Ｂ）の噴出口（５０Ｂ）が配置されたＨ位置からＧ位置までの符号（Ｗ１）で示す距離であり、前記図９に示す、符号（Ｗ１）の幅を有する矩形（Ｑ）の領域に相当する距離である。この移動においては、噴出口（５０Ｂ）からの洗浄液の噴出は行わない。すなわち、ノズル先端部の洗浄を行わない空移動である。

次に、噴出口（５０Ｂ）がＧ位置に達した第二洗浄ユニット（２０Ｂ）は、矢印（３５）で示すように、他端部側へと折り返した移動を行う。この移動においては、噴出口（５０Ｂ）から洗浄液の噴出をＧ位置で開始し、ノズル先端部の洗浄をＧ位置から行う。図１０（ｃ）に示すように、第二洗浄ユニット（２０Ｂ）は他端部側への移動をしながら、斜線太矢印（Ｒ１）で示す領域のノズル先端部の洗浄を行う。更に、矢印（３６）で示すように、第二洗浄ユニット（２０Ｂ）は他端部側への移動し続け片端部までの洗浄を行う。

図１０（ｃ）に示すように、ノズル先端部のＧ位置を境として、Ｇ位置から片端部側のノズル先端部は、第一洗浄ユニット（２０Ａ）の移動によって洗浄され、また、Ｇ位置から他端部側のノズル先端部は、第二洗浄ユニット（２０Ｂ）の移動によって洗浄される。すなわち、上記のような動作による洗浄を行うことによって、前記図９に矩形（Ｑ）で示すような、中央部における洗浄残りは解消される。

尚、ノズル先端部のＧ位置における洗浄の度合い、すなわち、第一洗浄ユニット（２０
Ａ）による洗浄と、第二洗浄ユニット（２０Ｂ）による洗浄の境での洗浄継ぎ部の洗浄の度合いを、より確かな洗浄状態にするためには、、第二洗浄ユニット（２０Ｂ）の移動の折り返し点をＧ位置から更に片端部側へ寄った、図１０（ｂ）に示すＫ位置にすることが好ましい。
上記のように、第二洗浄ユニット（２０Ｂ）の片端部側への空移動が終了し、他端部側への洗浄を伴った移動を開始する折り返し点を、更に片端部側へ寄った上記Ｋ位置にすることによって、洗浄継ぎ部における第一洗浄ユニット（２０Ａ）及び第二洗浄ユニット（２０Ｂ）による洗浄の拭き寄せ状態を払拭することができる。

スリットコータの一例の概略を模式的に示す平面図である。 図１に示すスリットコータの側面図である。 図１に示すスリットコータの図１中左方からの側面図である。 図２に示す洗浄ユニットの一例のＸ−Ｚ面での断面図である。 スリットノズルから回転ロールへのプレ塗布に用いるプレ塗布ユニットの一例の概略を示す断面図である。 本発明によるスリットノズルの洗浄方法において用いられるスリットコータの一例の概略を模式的に示す平面図である。 図６に示すスリットコータの図６中左方からの側面図である。 （ａ）〜（ｄ）は、第一洗浄ユニット及び第二洗浄ユニットがノズル先端部を洗浄する動作の一例を説明する側面図である。 請求項３に係わる発明を説明する側面図である。 （ａ）〜（ｃ）は、請求項３に係わる発明における第一洗浄ユニットと第二洗浄ユニットの動作を説明する側面図である。

符号の説明

１０・・・スリットコータ
１１・・・ステージ
１２・・・基板
１３・・スリットノズル
１４・・・フレーム
１５・・・吸引バキューム付き定盤
２０・・・洗浄ユニット
２０Ａ・・・第一洗浄ユニット
２０Ｂ・・・第二洗浄ユニット
３０・・・プレ塗布ユニット
５０Ａ・・・第一洗浄ユニットの噴出口
５０Ｂ・・・第二洗浄ユニットの噴出口
５１Ａ、５１Ｂ・・・洗浄液の噴出口
５２Ａ、５２Ｂ・・・溶剤供給口
５３Ａ、５３Ｂ、５５Ａ、５５Ｂ・・・クリーンエアー供給口
５４Ａ、５４Ｂ・・・クリーンエアーの噴出口
５６・・・排出口
６１・・・洗浄液
６２・・・貯液槽
６３・・・回転ロール
６４・・・洗浄液供給ノズル
６５・・・洗浄液内スキージ
６６・・・洗浄液外スキージ
６７・・・乾燥ノズル
Ａ・・・第一待機位置
Ｃ・・・スリットノズルの長手方向の中央部
Ｄ・・・第二待機位置
Ｅ・・・片端側待機位置
Ｆ・・・他端側待機位置
Ｑ・・・洗浄されない矩形の領域
Ｗ１・・・Ｇ位置とＨ位置の間隔

Claims (4)

1. 基板上に塗布液を塗布するスリットコータを構成するスリットノズルの洗浄方法において、洗浄ユニットをスリットノズルの長手方向へ移動させながら該スリットノズルのノズル先端部の洗浄を行う際に、スリットノズルの長手方向で洗浄を分担する複数の洗浄ユニットを用いることを特徴とするスリットノズルの洗浄方法。
2. 前記複数の洗浄ユニットは２基の洗浄ユニットであり、第１基の洗浄ユニットをスリットノズルの長手方向の中央部から片端部へ移動させながら、また第２基の洗浄ユニットをスリットノズルの長手方向の中央部から他端部へ移動させながらノズル先端部の洗浄を同時に行うことを特徴とする請求項１記載のスリットノズルの洗浄方法。
3. 前記中央部での洗浄残りを防ぐために、第２基の洗浄ユニットを中央部から他端部へ移動させながら第２基の洗浄ユニットでノズル先端部の洗浄を行い、第１基の洗浄ユニットを、一旦第２基の洗浄ユニットに追従させて中央部から他端部側へ一定距離の空移動をさせてから片端部へ移動させながら第１基の洗浄ユニットでノズル先端部の洗浄を行い、或いは、第１基の洗浄ユニットを中央部から片端部へ移動させながら第１基の洗浄ユニットでノズル先端部の洗浄を行い、第２基の洗浄ユニットを、一旦第１基の洗浄ユニットに追従させて中央部から片端部側へ一定距離の空移動をさせてから他端部へ移動させながら第２基の洗浄ユニットでノズル先端部の洗浄を行うことを特徴とする請求項２記載のスリットノズルの洗浄方法。
4. 請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のスリットノズルの洗浄方法を用いたことを特徴とするスリットコータ。

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