JPH10113597A - ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、およびかかるノズル洗浄装置を有する薬液塗布装置 - Google Patents

ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、およびかかるノズル洗浄装置を有する薬液塗布装置

Info

Publication number
JPH10113597A
JPH10113597A JP27268096A JP27268096A JPH10113597A JP H10113597 A JPH10113597 A JP H10113597A JP 27268096 A JP27268096 A JP 27268096A JP 27268096 A JP27268096 A JP 27268096A JP H10113597 A JPH10113597 A JP H10113597A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nozzle
cleaning
chemical
chemical solution
supply nozzle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP27268096A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3895408B2 (ja
Inventor
Koichi Nagai
孝一 永井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP27268096A priority Critical patent/JP3895408B2/ja
Publication of JPH10113597A publication Critical patent/JPH10113597A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3895408B2 publication Critical patent/JP3895408B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 薬液を供給するノズルに析出した乾燥薬液等
固形物を、ノズル洗浄装置を用いて効率よく落とし、薬
液塗布装置において薬液塗布基板に、塗布ムラ、塗膜の
膜厚不均一を無くすることを課題とする。 【解決手段】 ノズル洗浄装置において、洗浄用ノズル
9を設け、これを薬液塗布装置が有する薬液供給ノズル
13にノズル13の吐出口から挿入する。そして、洗浄
用ノズル9から溶剤を吐出させ、薬液供給ノズル13に
付着した固体化した乾燥薬液を溶解させ、薬液供給ノズ
ル13を洗浄する。そして、かかるノズル洗浄装置を有
することにより、塗布ムラ、塗膜の膜厚不均一の無い薬
液塗布装置を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置等の製
造に用いられる薬液塗布装置に備えられたノズル洗浄装
置、ノズル洗浄方法、およびかかるノズル洗浄装置を有
する薬液塗布装置に関する。
【0002】半導体装置等の製造において、ウエハー等
の基板にレジスト等の薬液の塗布を行う場合、塗布ムラ
を無くし、塗膜が均一になるように塗布をすることが求
められる。そのため、塗膜の均一性の高いスピンコータ
が、薬液塗布装置として広く用いられている。
【0003】この薬液塗布装置において、薬液を滴下す
る薬液供給ノズルは常に綺麗に保つ必要があり、薬液供
給ノズルの先端部に薬液が付着したままある程度時間が
経過すると、ノズル先端部に残留した薬液が凝固してし
まい、付着する。そして、薬液供給ノズルの先端部に固
体化した薬液が残っている場合、滴下された薬液が、真
下に滴下されず、塗布ムラ、塗膜の膜厚不均一といった
問題が生じてしまう。
【0004】
【従来の技術】図9、図10を用いて、従来の技術を説
明する。なお、図9(A)は従来の薬液塗布装置の平面
図を、図9(B)はドレイン槽とノズルアームの拡大斜
視図を示す。また、図10は、従来の薬液塗布装置のス
ピンコータ部分の縦断面図を示す。
【0005】薬液を供給するノズル30は、回動可能な
ノズルアーム35に取り付けられており、この回動可能
なノズルアーム35はノズル30を、薬液を塗布する基
板34上の位置と、ドレイン槽31上の位置との間で、
移動するようにしてある。薬液を供給するノズル30
は、はじめにドレイン槽31上に設けられた対応する穴
32にノズル30の先端を差し込む形で位置している。
【0006】そして、ノズル30は、ノズルアーム35
を動かすことにより、このドレイン槽31上の初期の位
置から、チャック33に吸着された基板34上に移動す
る。次に、薬液をノズル30から基板34の中心に向か
って真下に一定量滴下することによって、基板34上に
薬液を供給する。その後、スピンモータ36によって、
基板34を回転させ、不要な薬液を飛散させ、塗布ムラ
無く、塗膜が均一になるように薬液を塗布する。飛散さ
れた不要な薬液はレジストカップ37に捕捉され、回収
される。そして、ノズル30は薬液滴下後、初めに位置
していたドレイン槽31上に戻る。
【0007】以上の動作を各基板毎に繰り返して行く
が、基板への塗布を連続して行わず、ある程度の時間薬
液を供給しなかった場合、ノズル30の先端部分に残留
しているレジスト等の薬液は、長時間外気に接すること
になる。その結果、薬液の一部が乾燥し、ノズル30の
先端部で凝固し、吐出口付近に付着してしまう。
【0008】薬液を供給するノズル30先端部に固体化
した乾燥薬液が残っている場合、レジスト等の薬液が、
ノズル30の真下に滴下されないので、塗布ムラ、塗膜
の膜厚の不均一といった問題を生じる。また、吐出口付
近に付着した固体化した乾燥薬液が、何らかの理由によ
り剥離し、薬液に混入し、そのまま滴下されてしまうこ
とがある。その場合同様に、塗布ムラ、塗膜の膜厚の不
均一といった問題を生じる。
【0009】このような問題は、例えば薬液がレジスト
で、基板34がウエハであり、そのレジストが塗布され
たウエハを半導体製造に用いる場合に、その後の製造工
程において、パターン寸法の変化等を引起し、製品の歩
留り低下や品質低下に結びつく。
【0010】このような問題に対し、従来は以下の方法
でその解決が試みられていた。一つはダミーディスペン
スを行う方法である。ダミーディスペンスとは、ある一
定時間薬液の滴下を行わない場合、ドレイン槽31上の
初期の位置に置かれた薬液供給ノズル30において、薬
液が凝固する時間より短い時間間隔で薬液を吐出させる
という技術である。この方法により、確かに上記問題は
改善が見られるが、十分とはいえず、長時間の薬液塗布
装置の使用により、やはり吐出口付近に固形物が析出
し、付着してしまう。
【0011】また、その程度を軽微なものとするには、
ダミーディスペンスを行なう間隔を短くし、回数を多く
することが必要であるが、薬液を無駄に使用することに
なり、半導体装置製造におけるコスト上昇の要因となっ
てしまう。また、サックバック法も行われている。図1
1にはサックバックを行った後の薬液供給ノズル39の
縦断面を示している。図11に示すように、サックバッ
ク法とは、薬液38を供給後、薬液供給ノズル39の内
部を減圧し、吐出口40にあるサックバック前の薬液面
41をノズル39の内側方向に引き上げ、薬液面42を
ノズル39の中に形成する技術である。この方法によっ
て、確かに吐出口付近の外壁に付着する固形物は減少す
るが、内壁に付着する固形物43の析出は抑止できな
い。
【0012】この方法は、上記ダミーディスペンスを行
う方法と併用されて用いられる場合が多いが、2つの方
法を併用して用いても、その効果は不十分である。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来の薬
液塗布装置は、塗膜の均一性が高いという点で優れてい
るが、その薬液供給ノズルにおいて生じる問題から、そ
の特性が十分に発揮できない場合がある。つまり、薬液
塗布装置の有する薬液供給ノズルにおいて起きる薬液の
乾燥と固体化、吐出口への固体化した薬液の付着を、必
要に応じて、簡便に取り除くことを可能とするという課
題を有している。
【0014】このような課題に対し、前記ノズルに付着
した固体化した薬液を、ダミーディスペンス法のように
固体化していない同じ薬液で押し出すなどして物理的に
取り除くのではなく、固体化した薬液を良く溶解する溶
剤を洗浄液とし、薬液供給ノズルの先端部分を洗浄する
方法が考えられる。つまり、具体的には薬液供給ノズル
の外部に、溶剤を供給するノズル等の手段を設け、これ
を洗浄用ノズルとし、前記洗浄用ノズルから、固体化し
た乾燥薬液を良く溶解する溶剤を、前記薬液供給ノズル
に向かってスプレーする方法が考えられる。
【0015】図12はこの溶剤をスプレーする方法の概
略を表す図であるが、通常は図12中の矢印が表すスプ
レー方向44から薬液供給ノズル先端部45に、溶剤を
スプレーし洗浄する。その結果、確かに薬液供給ノズル
の先端部45において、溶剤が到達し触れることが可能
な部位に付着した固体化した乾燥薬液は効果的に取り除
かれる。しかし、図13に洗浄後のノズル先端の断面図
を示すように、固体化した乾燥薬液のうち、薬液供給ノ
ズル46の内壁に付着した乾燥薬液47を十分に取り除
くことができない。
【0016】次に、図14に示すように、薬液を良く溶
解する溶剤を用い、そのスプレー方向48を、薬液供給
ノズル49の吐出口50の下側から吐出口50に向かう
方向48とすることも考えられたが、結果は、前記溶剤
の吐出口50内部への到達が十分でなかった。従って、
図13に示すように、固体化した乾燥薬液47が、洗浄
後も付着していた内壁にそのまま残り、洗浄効果は十分
とはならなかった。
【0017】そこで、本発明の目的は、薬液を滴下する
薬液供給ノズルを常に綺麗に保つノズル洗浄装置、ノズ
ル洗浄方法、およびかかるノズル洗浄装置を有し、薬液
を滴下する薬液供給ノズルが常に綺麗に保たれた薬液塗
布装置を提供することである。
【0018】本発明の他の目的は、洗浄用ノズルを前記
被洗浄ノズル内に吐出口から挿入した状態で、前記洗浄
用ノズルに洗浄液を供給し、前記被洗浄ノズルを洗浄し
て、薬液を供給するノズルの先端に付着した、固体化し
た乾燥薬液を、効率よく十分に落とすノズル洗浄装置、
ノズル洗浄方法、およびかかるノズル洗浄装置を有する
ことにより、塗布ムラ、塗膜の膜厚不均一の無い薬液塗
布装置を提供することである。
【0019】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明によ
れば、被洗浄ノズルに洗浄液を供給して、前記被洗浄ノ
ズルを洗浄するノズル洗浄装置において、先端部に前記
洗浄液の供給口が形成されると共に、前記被洗浄ノズル
の吐出口内に挿入可能な形状とされた洗浄用ノズルと、
前記洗浄用ノズルを前記被洗浄ノズル内に吐出口から挿
入した状態で、前記洗浄用ノズルに洗浄液を供給する機
構とを有することを特徴とするノズル洗浄装置が提供さ
れる。
【0020】請求項2記載の発明によれば、前記洗浄用
ノズルは、前記供給口の外径が最も細く、前記供給口か
ら離れるに従って漸次外径が太くなる形状を有すること
を特徴とする請求項1記載のノズル洗浄装置が提供され
る。請求項3記載の発明によれば、前記洗浄用ノズルの
先端部の最も太い部位の外径(D11)が、前記被洗浄
ノズルの先端部の内径(D9)より大きい(D11>D
9)ことを特徴とする請求項2記載のノズル洗浄装置が
提供される。
【0021】請求項4記載の発明によれば、前記洗浄用
ノズルの先端部が、排出口と前記被洗浄ノズルの差し込
み口とを有したカバーで覆われていることを特徴とする
請求項1乃至3のいずれか1項記載のノズル洗浄装置が
提供される。請求項5記載の発明によれば、被洗浄ノズ
ルに洗浄液を供給して、前記被洗浄ノズルを洗浄するノ
ズル洗浄方法において、洗浄用ノズルを前記被洗浄ノズ
ル内に吐出口から挿入した状態で、前記洗浄用ノズルに
洗浄液を供給することを特徴とするノズル洗浄方法が提
供される。
【0022】請求項6記載の発明によれば、薬液を塗布
する基板を回転させるスピンコータ部と、前記スピンコ
ータ部の周辺に備えられた、廃薬液を回収するドレイン
槽と、前記基板に薬液を滴下する薬液供給ノズルを先端
に備え、前記基板上と前記ドレイン槽上に、前記薬液供
給ノズルが設置できるように回動可能なノズルアーム
と、前記薬液供給ノズルに洗浄液を供給して、前記薬液
供給ノズルを洗浄するノズル洗浄装置とを備える薬液塗
布装置において、前記ノズル洗浄装置が、洗浄用ノズル
を備え、前記洗浄用ノズルを前記薬液供給ノズル内に吐
出口から挿入した状態で、前記洗浄用ノズルに洗浄液を
供給する機構を有することを特徴とする薬液塗布装置が
提供される。
【0023】請求項7記載の発明によれば、前記薬液供
給ノズルの先端が高い撥水性、撥油性を有する材料から
なることを特徴とする請求項6記載の薬液塗布装置が提
供される。本発明によれば、薬液塗布装置におけるノズ
ル洗浄装置において、薬液塗布装置の有する薬液供給ノ
ズルの吐出口に付着した固体化した乾燥薬液を、溶剤に
より溶解して取り除く際に、前記溶剤を、従来の技術に
比べ、前記固体化した乾燥薬液に対し直接に、そして強
く作用させるようにすることができる。つまり、前記溶
剤が前記固体化した薬液に十分到達し、溶解等の作用を
十分に行うことができる。
【0024】請求項1および5記載の発明によれば、ノ
ズル洗浄装置において、洗浄用ノズルを設け、この洗浄
用ノズルを、薬液塗布装置が有する薬液供給ノズルを洗
浄する際に、前記薬液供給ノズルに挿入した状態にす
る。この時、挿入するべき挿入口を前記薬液供給ノズル
に別個に設けることなく、前記薬液供給ノズルの吐出口
から前記洗浄用ノズルを挿入する。したがって、簡便に
洗浄用ノズルを、薬液塗布装置が有する薬液供給ノズル
に挿入した状態にすることができる。
【0025】そして、この挿入された前記洗浄用ノズル
に洗浄液となる溶剤を供給し、前記洗浄用ノズルから前
記溶剤を吐出させることによって、前記薬液供給ノズル
に付着した固体化した乾燥薬液を、前記溶剤に溶解さ
せ、前記薬液供給ノズルの薬液を滴下する吐出口から排
出することにより取り除く。
【0026】このとき、前記薬液供給ノズルは、従来技
術では外側から洗浄されるのに対し、前記薬液供給ノズ
ルの内部から、固体化した乾燥薬液をよく溶かす溶剤に
よって、洗浄されることになる。したがって、前記ノズ
ル内部に付着した固体化した乾燥薬液は、従来技術と比
べ、はるかに効率よく取り除かれることになる。
【0027】請求項2記載の発明によれば、ノズル洗浄
装置において、洗浄用ノズルは、その先端部の最先端が
最も細くなっている。従って、洗浄用ノズルの薬液供給
ノズルへの挿入は、確実なものとでき、薬液塗布装置が
有する薬液供給ノズルの洗浄が容易となる。
【0028】請求項3記載の発明によれば、ノズル洗浄
装置において、洗浄用ノズルの先端部の最も太い部位の
外径が、薬液塗布装置が有する薬液供給ノズルの内径よ
り大きい。したがって、洗浄用ノズルを、薬液塗布装置
が有する薬液供給ノズルに、薬液供給ノズルの吐出口か
ら挿入する場合、前記内径と前記洗浄用ノズルの先端部
における同一外径を有する部位まで、洗浄用ノズルの先
端部は挿入できることになる。従って、最も深く前記洗
浄用ノズルを前記薬液供給ノズルに挿入した場合、洗浄
用ノズルと薬液供給ノズルの吐出口内壁の間には隙間は
殆ど無い。
【0029】そして、前記洗浄用ノズルを薬液供給ノズ
ルから若干引き抜く方向でそれぞれの位置を設定する
と、前記洗浄用ノズルと前記薬液供給ノズルの吐出口内
壁の間に隙間が形成される。そして、溶剤を前記洗浄用
ノズルに供給した場合、前記隙間から溶剤は流れ出る。
【0030】この時、前記洗浄用ノズルと前記薬液供給
ノズルの吐出口内壁の間の隙間は非常に狭くなる。従っ
て、溶剤を前記洗浄用ノズルに供給した場合、前記薬液
供給ノズルの吐出口の内壁付近を前記溶媒が通る際、前
記溶剤の流速はとても速くなる。
【0031】また、薬液供給ノズルの吐出口の内壁付近
は、固体化した乾燥薬液の付着物が最も多い部分であ
る。よって、最も洗浄を必要とする部分を溶剤が勢い良
く流れ、その結果、勢い良く洗浄できることになる。従
って、薬液塗布装置が有する薬液供給ノズルの効率良い
洗浄が可能となる。
【0032】請求項4記載の発明によれば、薬液塗布装
置が有する薬液供給ノズルを、洗浄用ノズルで洗浄する
際、必然的に排出される、薬液、固体化した乾燥薬液の
溶液、溶剤等を効率よく回収できる。また、薬液塗布装
置が有する薬液供給ノズルを洗浄する際、薬液、固体化
した乾燥薬液の溶液、溶剤等が飛びはねるなどした場
合、設置されたカバーによって、飛びはねを抑え、前記
薬液供給ノズルや他の機器部分に付着することを防止で
きる。薬液供給ノズルに付着物がある場合、薬液塗布工
程で前記付着物が剥離し、塗布する薬液に混入するなど
して、塗布ムラの原因となる場合がある。従って、薬液
塗布工程での塗布ムラを防止できる。
【0033】請求項6記載の発明によれば、薬液塗布装
置が有するノズル洗浄装置部に備えられたノズル洗浄装
置において、洗浄用ノズルを設け、この洗浄用ノズル
を、薬液供給ノズルを洗浄する際に、前記薬液供給ノズ
ルに前記薬液供給ノズルの吐出口から挿入した状態にす
る。
【0034】そして、この挿入された前記洗浄用ノズル
に洗浄液となる溶剤を供給し、前記洗浄用ノズルから前
記溶剤を吐出させることによって、前記薬液供給ノズル
に付着した固体化した乾燥薬液を、前記溶剤に溶解さ
せ、前記薬液供給ノズルの薬液を滴下する吐出口から排
出することにより取り除く。
【0035】このとき、前記薬液供給ノズルは、従来技
術では外側から洗浄されるのに対し、前記薬液供給ノズ
ルの内部から、固体化した乾燥薬液をよく溶かす溶剤に
よって、洗浄されることになる。したがって、前記ノズ
ル内部に付着した固体化した乾燥薬液は、従来技術と比
べ、はるかに効率よく取り除かれることになる。
【0036】こうした、薬液を滴下する薬液供給ノズル
を常に綺麗に保つノズル洗浄装置を有することにより、
薬液を滴下する薬液供給ノズルが常に綺麗に保たれた薬
液塗布装置を提供することができる。従って、薬液供給
ノズルの吐出口付近に付着した固体化した乾燥薬液が、
何らかの理由により剥離し、薬液に混入し、そのまま滴
下されてしまうことは防止され、塗布ムラ、塗膜の膜厚
不均一の無い薬液塗布装置を提供することができる。
【0037】請求項7記載の発明によれば、薬液塗布装
置の薬液供給ノズルの先端が高い撥水性、撥油性を有す
る材料、例えばフッ化樹脂から作られている。従って、
前記薬液供給ノズルの先端は高い撥水性、撥油性を有し
ている。薬液供給ノズルを洗浄する場合、このノズルの
吐出口から洗浄ノズルを挿入し、溶剤を供給して洗浄
し、前記洗浄ノズルを引き抜いた直後、前記薬液供給ノ
ズルの先端に、溶剤が少し残る。しかし、一般に溶剤は
粘度が低く、溶剤は前記ノズルの先端にそのまま残るこ
とができず、前記薬液供給ノズルの先端からその後自然
と流れ出てしまう。
【0038】しかし、薬液は一般に高い粘度を有してお
り、高い撥水性、撥油性を有する薬液供給ノズルの先端
では、その高い撥水性、撥油性のため流れが阻害され、
せき止められたようになり、自然と前記ノズルの吐出口
から流れ出ることはない。よって、洗浄後の薬液供給ノ
ズル内の薬液面は、供給された溶剤が到達することによ
り洗浄時に形成された溶剤と薬液の界面の位置となり、
結果的に前記ノズルの吐出口から数mm程度内部に引き
込まれた形で位置することになる。
【0039】したがって、従来技術のサックバック法を
適用したのと同様の効果が現れ、薬液供給ノズルの吐出
口付近の外壁に付着する固形物を減らすことができ、洗
浄の容易な薬液供給ノズルを提供できる。薬液供給ノズ
ルの先端を高い撥水性、撥油性を有する材料とする本発
明は、本発明のノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法の効果
をさらに高いものとし、その結果、塗布ムラ、塗膜の膜
厚不均一の無い薬液塗布装置を提供することができる。
【0040】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図を用い
て説明する。
【0041】
【実施例1】図1は本発明によるノズル洗浄装置の一実
施例の構成を示す斜視図である。溶剤が供給される洗浄
用ノズル1の先端に、先端部2を囲むようにしてカバー
3が設けられている。このカバー3には洗浄時の薬液、
固体化された乾燥薬液の溶液、溶剤等の廃液を排出する
排出口4と薬液塗布装置の薬液供給ノズル5の差し込み
口6が設けられている。差し込み口6の口径(D1)は
薬液供給ノズル5の外径(D2)である2.5mmより
大きく(D1>D2)なるように設定されている。ま
た、排出口4には、廃液をカバー3の外に導く廃液管7
が設けられている。
【0042】図2は前記カバー3内部にある洗浄用ノズ
ルの先端部2と薬液供給ノズル5の先端を示す図であ
る。先端部2は円柱状の管からなっており、薬液供給ノ
ズル5に先端部2を挿入して、洗浄用ノズル1を使用す
る必要から、先端部2の外径(D3)は薬液供給ノズル
5の内径(D4)より小さい(D3<D4)という関係
を有している。
【0043】本実施例においては、薬液塗布装置の薬液
供給ノズル5の内径(D4)が1.8mmであることか
ら、外径(D3)は1.5mmに設定されており、内径
(D5)は1mmに設定されている。図3は洗浄用ノズ
ル1が薬液供給ノズル5に挿入され、薬液供給ノズルが
洗浄される様子を示している。洗浄用ノズル1の先端部
2を5mmから10mm薬液塗布装置の薬液供給するノ
ズル5に挿入し、溶剤を供給する。供給された溶剤は、
先端部より、薬液供給ノズル5の内部に入り、図3中の
矢印に示される溶剤の流れ8を形成し、先端部と薬液供
給ノズル5の隙間を流れ、薬液供給ノズル5を洗浄す
る。
【0044】このノズル洗浄装置を用いて洗浄すること
により、従来取り除くことが困難であった、薬液供給ノ
ズル5の吐出口付近の内壁についた乾燥レジスト液を容
易に取り除くことができ、薬液供給ノズル5の洗浄を非
常に効率良く行うことができた。
【0045】また、設けられたカバー3の効果により、
薬液供給ノズル5先端で生じるレジスト液の飛びはねに
より、この装置の他の部位に飛びはねが付着することは
無かった。
【0046】
【実施例2】図4は本発明によるノズル洗浄装置の他の
実施例の構成を示す斜視図である。溶剤が供給される洗
浄用ノズル9の先端に、先端部10を囲むようにしてカ
バー11が設けられている。このカバー11には洗浄時
の薬液、固体化された乾燥薬液の溶液、溶剤等の廃液を
排出する排出口12と薬液塗布装置の薬液供給ノズル1
3の差し込み口14が設けられている。差し込み口14
の口径(D6)は薬液供給ノズル13の外径(D7)で
ある2.5mmより大きく(D6>D7)なるように設
定されている。また、排出口12には、廃液をカバーの
外に導く廃液管15が設けられている。
【0047】図5はカバー11内部にある洗浄用ノズル
9の先端部10を示す図である。洗浄用ノズル9の先端
部10の供給口16付近は円柱状の管からなっており、
薬液供給ノズル13に洗浄用ノズル9の先端部10を挿
入して洗浄用ノズル9を使用する必要から、洗浄用ノズ
ル9の先端部10の供給口16の外径(D8)は薬液供
給ノズル13の内径(D9)より小さい(D8<D9)
という特徴を有している。
【0048】本実施例においては、薬液塗布装置の薬液
供給ノズル13の内径(D9)が1.8mmであり、洗
浄用ノズル9の先端部10の吐出口16の外径(D8)
は1.5mmに設定されている。また、洗浄用ノズル9
の先端部10は,供給口16から7mmの長さで外径
(D8)1.5mm,内径(D10)1mmの円柱状の
管構造が続いた後、徐々にその外径が太くなり、洗浄ノ
ズルを形成する管の太さである外径(D11)5mmに
なるまで太くなる管構造18からなっている。この時、
管構造18の最も太い部位の外径(D11)は、薬液供
給ノズル13の内径(D9)より大きい(D11>D
9)という関係を有している。
【0049】本実施例においては、管構造18中、徐々
に太くなる部分が13mmの長さを有しており、前記外
径(D11)は、洗浄ノズル9を形成する管の太さであ
る外径5mmに設定されている。図6は洗浄用ノズル9
が薬液供給ノズル13に挿入され、薬液供給ノズル13
が洗浄される様子を示している。洗浄用ノズル9は、先
端部10と薬液供給ノズル13の吐出口内壁との間に隙
間ができるように、5mmから10mmの長さで薬液供
給ノズル13に挿入され、その状態において、洗浄用ノ
ズル9に溶剤が供給される。
【0050】供給された溶剤は、先端部10より、薬液
供給ノズル13の内部に入り、図6中の矢印に示される
溶剤の流れ8を形成し、洗浄用ノズル9の先端部10と
薬液供給ノズル13の隙間を流れ、その結果、薬液供給
ノズル13を洗浄する。この時、先端部10と、薬液供
給ノズル13の吐出口内壁との間の隙間は、先端部10
の最も太い部位の外径(D11)が、薬液供給ノズル1
3の内径(D9)より大きい(D11>D9)ため、非
常に狭くなっている。従って、溶剤を洗浄用ノズル9に
供給した場合、前記溶剤は、薬液供給ノズル13の先端
の吐出口の内壁付近を通る際、とても速く流れることに
なる。
【0051】このノズル洗浄装置を用いて洗浄すること
により、従来取り除くことが困難であった、薬液供給ノ
ズル13の吐出口付近の内壁についた乾燥レジスト液を
容易に取り除くことができ、薬液供給ノズル13の洗浄
を非常に効率良く行うことができた。
【0052】そして、本実施例のノズル洗浄装置は、洗
浄用ノズル9の先端部10が,図5に示すように、供給
口16の外径(D8)より徐々にその外径が太くなり、
洗浄ノズル9を形成する管の太さである外径(D11)
5mmになるまで太くなる管構造18を有し、この管構
造18の最も太い部位の外径(D11)は、薬液供給ノ
ズル13の内径(D9)より大きい(D11>D9)と
いう特徴を有している。
【0053】従って、実施例1に記載された実施例よ
り、洗浄用の溶剤を、薬液供給ノズル13の先端の吐出
口の内壁付近を通る際、勢い良く流すことが容易にでき
る。よって、薬液供給ノズルの洗浄効果は実施例1に記
載された実施例の洗浄効果より高かった。
【0054】また、設けられたカバー11の効果によ
り、薬液供給ノズル13先端で生じるレジスト液の飛び
はねにより、この装置の他の部位に飛びはねが付着する
ことは無かった。
【0055】
【実施例3】図7、図8は本発明による薬液塗布装置の
実施例の概略構成を示す図であり、図7は実施例3の平
面図を、図8は実施例3におけるノズル洗浄装置部の拡
大斜視図である。塗布処理を行うレジストカップ17周
辺にノズルアーム19、ドレイン槽20、および実施例
2のノズル洗浄装置3機からなる洗浄装置部分21が設
けられている。ノズルアーム19の先端部分にはテフロ
ンからなるフッ化樹脂製の先端を有する薬液供給ノズル
13が3機設けられている。この薬液供給ノズル13は
上下に動かすことができる。ノズルアーム19は薬液供
給ノズル13が設けられた側と反対の端を支点として可
動であり、図7に示すように、ドレイン槽20上、ウエ
ハ22の中心の真上、または洗浄装置部21上に薬液供
給ノズル13が置かれるように、3個所の位置をとるこ
とができる。
【0056】まず、ノズルアーム19はウエハ22の中
心の真上に薬液供給ノズル13が位置するように置かれ
ている。そして、薬液供給ノズル13からウエハ22上
にレジストを滴下後、図10の従来装置同様、ウエハ2
2をウエハ下に設けられたスピンモータにより回転さ
せ、塗布処理を行う。この時ウエハ22上の余分なレジ
ストは、ウエハ22から飛散し、レジストカップ17に
集められる。
【0057】塗布処理後、ノズル洗浄装置部21上に薬
液供給ノズル13が置かれるようにノズルアーム19を
移動する。そして、薬液供給ノズル13を、ノズル洗浄
装置24の洗浄用ノズル23の先端部25が5mmから
10mm挿入されるように下降させる。図8は、実施例
2のノズル洗浄装置24を3機結合してなる本実施例の
洗浄装置部21において、洗浄用ノズル23が薬液供給
ノズル13に挿入されたときの様子を示している。ノズ
ル洗浄装置24の洗浄用ノズル23の先端部25が薬液
供給ノズル13に挿入された状態で、洗浄用ノズル23
に溶剤が供給される。供給された溶剤は、洗浄用ノズル
23の吐出口26を出て、薬液供給ノズル13内部に入
り込む。そこで、薬液供給ノズル13の内壁を洗浄し、
固体化したレジストが付着していればそれを溶解し、取
り除く。さらに洗浄用ノズル23と薬液供給ノズル13
の隙間から、薬液供給ノズル13の外に流れ出る際に、
薬液供給ノズル13の吐出口27付近の外壁を洗浄し
て、薬液供給ノズル13の外に流れ出ていく。その洗浄
に用いられた溶剤は、ノズル洗浄装置24に設けられた
カバー28の底にたまり、カバー28の底に設けられた
排出口29を通って、ノズル洗浄装置24の外に排出さ
れる。
【0058】薬液供給ノズル13が洗浄された後、薬液
供給ノズル13を上昇させ、ノズルアーム19をドレイ
ン槽20上に移動させ、薬液供給ノズル13を再び下降
させ、ドレイン槽20中に収納する。必要な場合、この
位置で、ダミーディスペンスを行う。
【0059】この薬液塗布装置を使用することにより、
薬液供給ノズル13で薬液の乾燥、固体化が起こること
を抑止し、また、薬液の乾燥、固体化によって、析出し
た固形物を、効率よく十分に落とすことができる。従っ
て、滴下され、ウエハ22上に供給されるレジストへの
固体化したレジストの混入や、固体化したレジストの影
響で、薬液供給ノズル13の真下にレジストの滴下がで
きないという問題が起きず、ウエハ22へのレジスト塗
布が塗布ムラ、塗膜の膜厚不均一の無しに行うことがで
きた。
【0060】
【発明の効果】請求項1および5記載の発明によれば、
ノズル洗浄装置において、薬液塗布装置が有する薬液供
給ノズルに付着した固体化した乾燥薬液を、前記薬液供
給ノズルの吐出口から挿入した洗浄用ノズルより溶剤を
吐出させることによって、前記薬液供給ノズルに付着し
た固形化された乾燥薬液を前記溶剤に溶解させ、前記吐
出口から排出することにより効率よく取り除くことがで
きる。
【0061】請求項2記載の発明によれば、ノズル洗浄
装置において、洗浄用のノズルの薬液供給ノズルへの挿
入は確実なものとでき、薬液塗布装置が有する薬液供給
ノズルの洗浄が容易となる。請求項3記載の発明によれ
ば、ノズル洗浄装置において、薬液塗布装置が有する薬
液供給ノズルの最も洗浄を必要とする吐出口の内壁付近
部分を、挿入された洗浄用ノズルから供給された溶剤に
より、最も勢い良く洗浄できることになる。従って、薬
液塗布装置が有する薬液供給ノズルの効率良い洗浄が可
能となる。
【0062】請求項4記載の発明によれば、薬液塗布装
置が有する薬液供給ノズルを、洗浄用ノズルで洗浄する
際に排出される、薬液、固体化された乾燥薬液の溶液、
溶剤等を効率よく回収できる。また、洗浄する際に生じ
る飛びはねを抑え、前記薬液供給ノズルに薬液、固体化
された乾燥薬液の溶液、溶剤等が付着することを防止で
きる。
【0063】請求項6記載の発明によれば、塗布ムラ、
塗膜の膜厚不均一の無い薬液塗布装置を提供することが
できる。請求項7記載の発明によれば、塗布ムラ、塗膜
の膜厚不均一の無い薬液塗布装置を提供することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1の斜視図である。
【図2】実施例1の洗浄用ノズルの先端部と薬液供給ノ
ズルの拡大斜視図である。
【図3】洗浄用ノズルが薬液供給ノズルに挿入されたと
きの実施例1の斜視図である。
【図4】実施例2の斜視図である。
【図5】実施例2の洗浄用ノズルの先端部と薬液供給ノ
ズルの拡大斜視図である。
【図6】洗浄用ノズルが薬液供給ノズルに挿入されたと
きの実施例2の斜視図である。
【図7】実施例3の平面図である。
【図8】実施例3におけるノズル洗浄装置部の拡大斜視
図である。
【図9】従来の薬液塗布装置の平面図及びドレイン槽と
ノズルアームの拡大斜視図である。
【図10】スピンコータ部分の縦断面図である。
【図11】サックバック後の薬液供給ノズルの縦断面図
である。
【図12】溶剤をスプレーする方法の概略を表す図であ
る。
【図13】洗浄後の薬液供給ノズルの縦断面図である。
【図14】吐出口に向かう方向にスプレーする方法の概
略を表す図である。
【符号の説明】
1,9 洗浄用ノズル 2,10 先端部 3,11 カバー 4,12 排出口 5,13 薬液供給ノズル 6,14 差し込み口 7,15 廃液管 8 溶剤の流れ 16,26 供給口 17 レジストカップ 18 管構造部 19 ノズルアーム 20 ドレイン槽 21 ノズル洗浄装置部 22 ウエハ 23 洗浄用ノズル 24 ノズル洗浄装置 25 先端部 26 吐出口 27 薬液供給ノズル吐出口 28 カバー 29 排出口 D1 差し込み口6の口径 D2 薬液供給ノズル5の外径 D3 先端部2の外径 D4 薬液供給ノズル5の内径 D5 先端部2の内径 D6 差し込み口14の口径 D7 薬液供給ノズル13の外径 D8 供給口16の外径 D9 薬液供給ノズル13の内径 D10 管の内径 D11 管の外径

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被洗浄ノズルに洗浄液を供給して、前記
    被洗浄ノズルを洗浄するノズル洗浄装置において、 先端部に前記洗浄液の供給口が形成されると共に、前記
    被洗浄ノズルの吐出口内に挿入可能な形状とされた洗浄
    用ノズルと、 前記洗浄用ノズルを前記被洗浄ノズル内に吐出口から挿
    入した状態で、前記洗浄用ノズルに洗浄液を供給する機
    構とを有することを特徴とするノズル洗浄装置。
  2. 【請求項2】 前記洗浄用ノズルは、前記供給口の外径
    が最も細く、前記供給口から離れるに従って漸次外径が
    太くなる形状を有することを特徴とする請求項1記載の
    ノズル洗浄装置。
  3. 【請求項3】 前記洗浄用ノズルの先端部の最も太い部
    位の外径(D11)が、前記被洗浄ノズルの先端部の内
    径(D9)より大きい(D11>D9)ことを特徴とす
    る請求項2記載のノズル洗浄装置。
  4. 【請求項4】 前記洗浄用ノズルの先端部が、排出口と
    前記被洗浄ノズルの差し込み口とを有したカバーで覆わ
    れていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1
    項記載のノズル洗浄装置。
  5. 【請求項5】 被洗浄ノズルに洗浄液を供給して、前記
    被洗浄ノズルを洗浄するノズル洗浄方法において、 洗浄用ノズルを前記被洗浄ノズル内に吐出口から挿入し
    た状態で、 前記洗浄用ノズルに洗浄液を供給することを特徴とする
    ノズル洗浄方法。
  6. 【請求項6】 薬液を塗布する基板を回転させるスピン
    コータ部と、 前記スピンコータ部の周辺に備えられた、廃薬液を回収
    するドレイン槽と、 前記基板に薬液を滴下する薬液供給ノズルを先端に備
    え、前記基板上と前記ドレイン槽上に、前記薬液供給ノ
    ズルが設置できるように回動可能なノズルアームと、 前記薬液供給ノズルに洗浄液を供給して、前記薬液供給
    ノズルを洗浄するノズル洗浄装置とを備える薬液塗布装
    置において、 前記ノズル洗浄装置が、洗浄用ノズルを備え、前記洗浄
    用ノズルを前記薬液供給ノズル内に吐出口から挿入した
    状態で、前記洗浄用ノズルに洗浄液を供給する機構を有
    することを特徴とする薬液塗布装置。
  7. 【請求項7】 前記薬液供給ノズルの先端が高い撥水
    性、撥油性を有する材料からなることを特徴とする請求
    項6記載の薬液塗布装置。
JP27268096A 1996-10-15 1996-10-15 ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、およびかかるノズル洗浄装置を有する薬液塗布装置 Expired - Lifetime JP3895408B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27268096A JP3895408B2 (ja) 1996-10-15 1996-10-15 ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、およびかかるノズル洗浄装置を有する薬液塗布装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27268096A JP3895408B2 (ja) 1996-10-15 1996-10-15 ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、およびかかるノズル洗浄装置を有する薬液塗布装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10113597A true JPH10113597A (ja) 1998-05-06
JP3895408B2 JP3895408B2 (ja) 2007-03-22

Family

ID=17517304

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27268096A Expired - Lifetime JP3895408B2 (ja) 1996-10-15 1996-10-15 ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、およびかかるノズル洗浄装置を有する薬液塗布装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3895408B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006205012A (ja) * 2005-01-26 2006-08-10 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置
US8216390B2 (en) 2008-09-04 2012-07-10 Tokyo Electron Limited Cleaning and drying-preventing method, and cleaning and drying-preventing apparatus
JP2020151663A (ja) * 2019-03-20 2020-09-24 日本発條株式会社 ノズル洗浄装置
JP2020181950A (ja) * 2019-04-26 2020-11-05 東京エレクトロン株式会社 液処理装置、及び液処理方法
WO2024048910A1 (ko) * 2022-08-31 2024-03-07 씨제이제일제당 (주) 양념 분사 장치

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006205012A (ja) * 2005-01-26 2006-08-10 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置
US8216390B2 (en) 2008-09-04 2012-07-10 Tokyo Electron Limited Cleaning and drying-preventing method, and cleaning and drying-preventing apparatus
US8512478B2 (en) 2008-09-04 2013-08-20 Tokyo Electron Limited Cleaning and drying-preventing method, and cleaning and drying-preventing apparatus
JP2020151663A (ja) * 2019-03-20 2020-09-24 日本発條株式会社 ノズル洗浄装置
JP2020181950A (ja) * 2019-04-26 2020-11-05 東京エレクトロン株式会社 液処理装置、及び液処理方法
WO2024048910A1 (ko) * 2022-08-31 2024-03-07 씨제이제일제당 (주) 양념 분사 장치

Also Published As

Publication number Publication date
JP3895408B2 (ja) 2007-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4708726B2 (ja) 洗浄ユニット、これを有するコーティング装置及び方法
KR101075276B1 (ko) 슬릿 노즐 앞쪽 끝의 조정장치 및 조정방법
US8091504B2 (en) Method and apparatus for cleaning spin coater
KR100249309B1 (ko) 반도체 제조용 포토 레지스트 코팅 장치
JP2006187763A (ja) スリットコーター及びこれを利用した液晶表示装置の製造方法
JP2006263535A (ja) スリットコータ
JPH0780385A (ja) 塗布ヘッド洗浄装置及び塗布ヘッドの洗浄方法
JP2004121980A (ja) 予備吐出装置および方法
JPH10113597A (ja) ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、およびかかるノズル洗浄装置を有する薬液塗布装置
TWI478775B (zh) 預塗處理方法及預塗處理裝置
JP3511106B2 (ja) スリットノズルの洗浄装置
KR200456618Y1 (ko) 슬릿 코터용 예비토출장치
JP4830329B2 (ja) スリットノズルの洗浄方法、及びスリットコータ
JP2002143749A (ja) 回転塗布装置
JP3511230B2 (ja) 塗布ノズルの乾燥防止装置および乾燥防止方法
KR20110044141A (ko) 프라이밍 처리 방법 및 프라이밍 처리 장치
JPH10308338A (ja) 塗布ノズルの洗浄装置及び洗浄方法
JP2507966B2 (ja) 塗布装置
KR100672928B1 (ko) 포토레지스터 코팅 설비
JP3597612B2 (ja) 基板への塗布液塗布装置
JP2003077810A (ja) フォトレジスト塗布方法及びヘッド洗浄機構並びに塗布装置
JP2004050054A (ja) 基板処理装置の洗浄方法および基板処理装置
JP4569357B2 (ja) 予備吐出装置
JP2002355596A (ja) 洗浄装置付大型塗布装置
JP2008186983A (ja) 現像装置および現像ノズルの洗浄方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050811

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060307

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060508

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060725

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060921

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061212

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061214

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091222

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091222

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101222

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111222

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111222

Year of fee payment: 5

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111222

Year of fee payment: 5

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111222

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121222

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121222

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131222

Year of fee payment: 7

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

EXPY Cancellation because of completion of term