JP2006187763A - スリットコーター及びこれを利用した液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

スリットコーター及びこれを利用した液晶表示装置の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】予備吐出部の回転ローラに付いた塗布液と洗浄液とを塗布液分離部により分離することにより、洗浄液の使用量を最小化すると共に回転ローラの洗浄効果を高めることができる予備吐出部を備えたスリットコーター及びこれを利用した液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】予備吐出部を備えたスリットコーターは、被処理物が載置されるテーブルと、被処理物の表面に塗布液を塗布するスリットノズルと、スリットノズルを利用して塗布液の予備吐出を行う予備吐出部と、予備吐出された塗布液を洗浄液と分離して排出する塗布液分離部とを含む。
【選択図】図3

Description

本発明は、スリットコーター(slit coater)に関し、特に、フラットパネルディスプレイ用基板や半導体ウェハなどの被処理物の表面に感光液、現像液、カラーフィルタなどの塗布液を均一に塗布するスリットコーターにおいて、塗布工程を開始する前の予備吐出段階で洗浄液を効率的に再利用できる予備吐出部を備えたスリットコーター及びこれを利用した液晶表示装置の製造方法に関する。
フラットパネルディスプレイ又は半導体素子の製造工程には、薄膜蒸着工程、薄膜の選択領域を露出させるフォトリソグラフィ工程、及び前記選択領域の薄膜を除去するエッチング工程が複数回含まれ、特に、前記フォトリソグラフィ工程は、基板又はウェハ上にフォトレジストのような感光性物質の感光膜を形成するコーティング工程と、所定のパターンが形成されたマスクを使用して薄膜をパターニングする露光及び現像工程とからなる。
一般に、基板又はウェハ上に感光膜を形成する前記コーティング工程には、スプレーコーティング方法、ロールコーティング方法、及びスピンコーティング方法などが用いられる。
前記スプレーコーティング方法及びロールコーティング方法は、コーティング膜の均一性と膜厚調整の面で高精度パターン形成用としては適していないため、高精度パターン形成用としては、スピンコーティング方法が用いられる。
以下、前述のスピンコーティング方法に使用されるスピンコーターについて図6を参照して説明する。
図6は一般のスピンコーターの構造を示す断面図である。
図6に示すように、スピンコーターは、回転軸6に連結されているスピンチャック(spin chuck)5と、スピンチャック5の外部を覆う開閉可能なカバー7と、スピンチャック5の上部に位置してカバー7の開放時にカバー7の内部に移動するノズル4とから構成される。
スピンチャック5には、感光膜がコーティングされる被処理物10が載置され、カバー7の下部には、下部に落下するフォトレジストのような感光液を外部に排出させるためのドレーンバルブ(図示せず)が設置される。
このように構成されたスピンコーターは、所定の被処理物10にコーティング膜を形成するために、まず、ノズル4が下降してスピンチャック5に載置されている被処理物10の表面に感光液を噴射する。
被処理物10に感光液が噴射されると、カバー7が密閉されると共にモータMが回転して、該モータMに連結されている回転軸6を回転させることにより、被処理物10が載置されているスピンチャック5を所定回数回転させる。
スピンチャック5が回転すると、被処理物10の上面に噴射されている感光液が遠心力により外側に広がることによって、被処理物10の上面全体に感光液が塗布される。
このように被処理物10の上面全体に感光液が塗布されると、これを凝固させた後、フォトマスクなどを使用して露光、現像することにより、被処理物10の表面に所定のパターンを形成する。
しかしながら、このようなスピンコーターを利用したスピンコーティング方法は、ウェハのようにサイズの小さい被処理物に感光膜をコーティングするのには適しているが、フラットパネルディスプレイ用基板(例えば、液晶表示パネル用ガラス基板)のようにサイズが大きくて重量の重い被処理物に感光膜をコーティングするのには適していない。
これは、感光膜がコーティングされる基板が大きく重いほど、基板の高速回転が難しく、高速回転時に基板の破損及びエネルギーの消費が大きいためである。
また、前述のスピンコーティング方法は、コーティングに使用される感光液の全量に対して廃棄量が非常に多いため、感光液の浪費が非常に激しいという問題があった。即ち、高速回転時、基板の表面に塗布された感光液がスピンチャック5の外側に相当量飛散してしまうため、実質的に、感光のために使用される感光液より浪費される感光液の方がはるかに多いだけでなく、前記飛散する感光液が後の薄膜形成工程で異物として作用しやすく、環境汚染源になることもある。
本発明は、このような従来技術の問題を解決するためになされたもので、大面積の基板に感光液、現像液、カラーフィルタなどの塗布液を均一に塗布できる予備吐出部を備えたスリットコーター及びこれを利用した液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明の他の目的は、予備吐出段階で洗浄液の使用量を最小化すると共に回転ローラの洗浄効果を高めることができる予備吐出部を備えたスリットコーター及びこれを利用した液晶表示装置の製造方法を提供することにある。
上記の目的を達成するために、本発明によるスリットコーターは、被処理物が載置されるテーブルと、前記被処理物の表面に塗布液を塗布するスリットノズルと、前記スリットノズルを利用して塗布液の予備吐出を行う予備吐出部と、前記予備吐出された塗布液を洗浄液と分離して排出する塗布液分離部とを含むことを特徴とする。
本発明による液晶表示装置の製造方法は、液晶表示装置の基板が載置されるテーブルを提供する段階と、前記液晶表示装置の基板の表面に塗布液を塗布するスリットノズルを提供する段階と、洗浄液が満たされた洗浄槽、前記洗浄槽に配置されて前記スリットノズルから予備吐出された塗布液を受ける回転ローラ、及び前記回転ローラの一側面、他側面、下面に洗浄液を噴射する第1、第2、第3洗浄液噴射ノズルが備えられた予備吐出部を提供する段階と、所定の端部が前記回転ローラの表面に密着するように設置されて前記回転ローラの表面に予備吐出された塗布液を洗浄液と分離して排出する塗布液分離部を提供する段階と、前記予備吐出部に洗浄液を供給する洗浄液供給部を提供する段階と、前記液晶表示装置の基板に塗布液を塗布する段階とを含むことを特徴とする。
また、本発明による液晶表示装置の製造方法は、(a)スリットノズルを備えたスリットコーターのテーブルに基板をローディングする段階と、(b)前記スリットノズルを予備吐出部に移動させて塗布液の予備吐出を行う段階と、(c)前記予備吐出された塗布液を洗浄液と分離して排出する段階と、(d)前記スリットノズルを前記基板に移動させる段階と、(e)前記スリットノズルを利用して前記基板に塗布液を塗布する段階とを含むことを特徴とする。
本発明による予備吐出部を備えたスリットコーター及びこれを利用した液晶表示装置の製造方法は、感光液分離部を設置して感光液と洗浄液とが混合しないようにして洗浄液の汚染を最小化することにより、洗浄液の再利用時の洗浄効果を向上させ、洗浄液の再利用回数も増加させるという効果がある。
また、予め設定した基準によって洗浄液を回収及び再利用することにより、洗浄液の浪費を防ぎ、洗浄液の再利用回数を増加させることにより、洗浄液の使用量を最小化するという効果がある。
以下、添付の図面を参照して、本発明による予備吐出部を備えたスリットコーター及びこれを利用した液晶表示装置の製造方法の好ましい実施の形態を説明する。
一般に、半導体製造分野、フラットパネルディスプレイ製造分野において、特定の機能を行う薄膜(例えば、絶縁膜、金属薄膜、半導体薄膜など)を所望の形状にパターニングするためには、前述したように、フォトリソグラフィ工程が必要であり、前記フォトリソグラフィ工程には、光と化学反応するフォトレジストのような感光液が使用される。
また、薄膜が形成された基板に感光膜を非常に均一な厚さで形成しなければ工程中に不良が発生する。例えば、感光膜が定められた厚さより厚く形成されると、薄膜の所望の部分がエッチングされず、感光膜が定められた厚さより薄く形成されると、薄膜が所望のエッチング量より多くエッチングされるという問題が発生する。
特に、フラットパネルディスプレイの基板、その中でも液晶表示パネルが大面積化して基板のサイズが増加する傾向において、均一な感光液の塗布が非常に重視されてきている。
このような問題を解決するために、既存のスピンチャックのようなスピナー(spinner)を使用せず、所定の感光液をスリットノズルで噴射するノズル方式が提案された。このようなノズル方式の塗布装置は、スピナーを使用しないためスピンレスコーター(spinless coater)とも呼ばれ、スリットから感光液を噴射するためスリットコーターとも呼ばれる。前記スリットコーターは、幅より長さの方が長いスリット状のノズルで感光液を供給して、基板の表面に面状に感光液を塗布するため、大型の液晶表示パネルに感光液を塗布するのに適している。
図1A及び図1Bは、スリットコーターの基本的な概念及び前記スリットコーターによる感光液の塗布を示す斜視図である。
図1A及び図1Bに示すように、スリットコーターは、幅が狭くて長さが長いスリット状のスリットノズル22を備え、スリットノズル22を利用して感光液30を供給することにより、基板100の表面に面状に感光液30を塗布する。
即ち、前記スリットコーターは、スリットノズル22を利用して所定量の感光液30を基板100などに塗布する装置であって、基板100の一側から他側に一定の速度で移動しながら、微細なスリットノズル22を利用して所定量の感光液30を塗布することにより、基板100の表面に均一な感光膜を形成する。
また、前記スリットコーターは、所望の基板100の表面のみに感光液30を塗布することができるため、前述したスピンコーターに比べて、塗布液の浪費を防ぐことができるという利点があり、幅の広い面状に塗布液を塗布することができるため、大型の基板や四角形の基板に適している。
図中、符号40は基板100が載置されるテーブルを示し、矢印はスリットノズル22の移動方向を示し、前記矢印方向にスリットノズル22が移動しながら感光液30を噴射して塗布する。
一方、本発明によるスリットコーターは、ガラス基板の被処理物に塗布液を塗布する前又は塗布した後に予備吐出を行うための予備吐出部を備えることにより、吐出条件を常に一定に維持して最高の吐出条件を得ることができるが、これを図面を参照して説明する。
図2は、本発明による予備吐出部を備えたスリットコーターを概略的に示す正面図である。
図2に示すように、本発明によるスリットコーターは、基板100が載置されるテーブル140と、基板100に塗布液(例えば、フォトレジストのような感光液)を塗布するスリットノズル部120と、スリットノズル部120の両端に設置されて該スリットノズル部120を一定の速度で移動させる駆動部150とを備える。
駆動部150は、スリットノズル部120の両端に設置され、スリットノズル部120を上下方向に移動させる1対のZ軸駆動装置151と、スリットノズル部120を基板100の前後方向に一定の速度で移動させて基板100の表面に感光液を均一に噴射するための1対のY軸駆動装置152とを含む。
ここで、Y軸駆動装置152は、モータ(図示せず)と、移動レール、ガイドレールのような移動手段(図示せず)とから構成することができ、前記モータとしては、非接触式のリニアモータを使用することができる。
テーブル140の上部には、被処理物である基板100が載置され、テーブル140の内部には、基板100をテーブル140から持ち上げるための複数のピン141が設置される。各ピン141は、テーブル140の下部に位置するプレート142により支持され、モータのような駆動手段(図示せず)により上下方向に移動するプレート142の移動によって、基板100をテーブル140に載置したり、テーブル140から持ち上げたりする役割を果たす。
スリットノズル部120は、基板100の上部に位置して基板100の幅に対応する長さを有するスリットノズル122と、スリットノズル122が装着されるヘッド121とから構成される。
図には詳しく示していないが、スリットノズル122は、ノズル本体と、流入口と、吐出口とから構成され、前記ノズル本体はその内部に感光物質を収納するための収納空間を有し、流入口は前記ノズル本体に形成され、吐出口は前記ノズル本体の基板100と対向する面に形成される。また、前記吐出口は、幅より長さの方が長いスリット状を有する。
また、スリットノズル122は、Y軸駆動装置152により、基板100の一側から他側に移動しながら感光液を噴射して、基板100の表面に均一に感光液が塗布されるようにする。これとは異なり、スリットノズル122を固定させた状態で基板100を摺動させて同様の感光液塗布工程を施すこともできる。
さらに、スリットノズル部120のヘッド121の上端には、スリットノズル122内部の気泡を除去するための気泡排出口(図示せず)が形成されている。
このように構成された本発明によるスリットコーターを利用して、連続的に複数の基板100の表面に塗布液を供給した場合、塗布工程と塗布工程の間の待機時間に空気と接触することによって、スリットノズル122内の一部の塗布液の濃度が上昇する。従って、その状態で次の基板100に塗布工程を施すと、高濃度化した塗布液により、塗布された塗布膜に縦線が生じたりひびが入ったりするなど、塗布不良が発生する。
これにより、本発明によるスリットコーターは、予備吐出を行うための予備吐出部160をさらに備えて、塗布工程を開始する前又は塗布工程を終了した後にスリットノズル122内の高濃度化した塗布液を吐出して廃棄することにより、前述したような塗布不良の問題を防止することができるが、これを図面を参照して説明する。図には予備吐出部160がテーブル140の前端に設置された場合を示しているが、本発明はこれに限定されるものでなく、予備吐出部160をテーブル140の後端又は側面に設置することもできる。
図3は、本発明による予備吐出部を概略的に示す断面図で、図2の予備吐出部を側面から見た断面図である。
図3に示すように、本発明による予備吐出部160は、洗浄液が満たされた洗浄槽168と、洗浄槽168に水平に配置され、その下部が洗浄槽168内の洗浄液に浸漬し、その上部がスリットノズル122に近接するように露出する円筒状の回転ローラ165と、回転ローラ165の表面に向けて洗浄液を噴射する洗浄液噴射ノズル166A〜166Cとからなる。
回転ローラ165は、洗浄槽168の両側壁に、回転ローラ165の両端が回転自在に設置される。このとき、図には示していないが、回転ローラ165の軸の一端にはプーリ(pulley)が装着され、前記プーリとモータの回転軸とがベルトで結合されて、前記モータの駆動力が前記ベルトを介して回転ローラ165に伝達される。
また、回転ローラ165は、ステンレススチール、アルミニウム、チタニウムなどの金属で形成することができる。
前述したように、予備吐出部160の洗浄槽168内には、高揮発性の有機溶媒などの洗浄液が満たされ、その中に回転ローラ165の下部が浸漬している。
また、予備吐出部160の両側壁には、洗浄液を回転ローラ165の表面に向けて噴射する第1、第2洗浄液噴射ノズル166A、166Bが設置され、回転ローラ165下部の洗浄槽168内には、第3洗浄液噴射ノズル166Cが設置されている。
一方、予備吐出部160に所定の感光液を予備吐出するスリットノズル122は、図4を参照すると、第1ノズル本体123Aと、第2ノズル本体123Bと、流入口125と、吐出口126とを含む。
このように、スリットノズル122は、ノズル本体123Aとノズル本体123Bとが結合された構造を有し、第1ノズル本体123Aと第2ノズル本体123Bとの間には、ポンプ手段により加圧される感光液を均一に噴射するために所定量の感光液を一時貯蔵する収納空間124が形成されている。
また、流入口125は、第2ノズル本体123Bの上部に形成されて、収納空間124に感光液を供給し、吐出口126は、基板100と対向する面に幅より長さの方が長いスリット状に形成されて、基板100の表面に感光液を面状に塗布する。
また、第1ノズル本体123Aと第2ノズル本体123B間のギャップは、ステンレススチール材の非常に薄いシム127により定められて維持される。
このように構成された本発明による予備吐出部160は、塗布工程を開始する前又は塗布工程を終了した後に、スリットノズル122の吐出口126を回転ローラ165の表面に近接させて高濃度化した感光液130’を吐出させることにより、スリットノズル122内には所定濃度の感光液を残留させて、前述したような吐出不良を防止することができる。
即ち、吐出条件を常に同様に維持して最高の吐出条件にするために、基板100に感光液を吐出する前又は感光液を吐出した後に、回転ローラ165と所定の間隔を維持した状態で、スリットノズル122の吐出口126から高濃度化した感光液130’を吐出させる。
回転ローラ165の表面に吐出された感光液130’は、洗浄槽168の左側上部に位置する第1洗浄液噴射ノズル166Aから噴射される洗浄液により希釈された後、感光液分離部170を介して感光液排出口(第1排出口)に排出される。ここで、感光液分離部170は、吐出された感光液130’を洗浄液と混合しないように分離して排出するためのもので、回転ローラ165の表面に密着して設置される。
図には感光液分離部170が洗浄槽168の左側に設置された場合を示しているが、本発明はこれに限定されるものでなく、回転ローラ165の回転方向が反時計方向であると、図示のように洗浄槽168の左側に設置し、回転ローラ165の回転方向が時計方向であると、洗浄槽168の右側に設置することができる。
また、予備吐出部160の洗浄槽168には常に所定量の洗浄液が溜まっているが、これは、回転ローラ165の一部を洗浄液に浸すことにより、感光液分離部170により除去されず一部残っている感光液130’を洗浄するためである。
また、洗浄槽168の下部に設置された第3洗浄液噴射ノズル166C、及び予備吐出部160の右側面に設置された第2洗浄液噴射ノズル166Bは、前記一部残っている感光液130’を希釈して除去する役割を果たし、第2洗浄液噴射ノズル166Bの上下に設置された第1感光液除去部167A及び第2感光液除去部167Bは、前記一部残っている感光液130’と最後に噴射された洗浄液を除去する役割を果たす。
図には第1感光液除去部167Aが洗浄槽168の右側壁に設置されている場合を示しているが、本発明はこれに限定されるものでなく、第1感光液除去部167Aを第2感光液除去部167Bと同様に予備吐出部160の右側壁に設置することもできる。第1感光液除去部167Aが設置された洗浄槽168と予備吐出部160の側壁の間には、洗浄槽168内の余分の洗浄液を排出させるためのオーバーフロー口(第2排出口)が設置されている。
一方、第1洗浄液噴射ノズル166A及び第2洗浄液噴射ノズル166Bは、予備吐出部160の側壁にネジ部材(図示せず)で設置することができ、洗浄槽168の底面に設置される第3洗浄液噴射ノズル166Cとして、バブリングノズルを使用することもできる。
前記バブリングノズルの洗浄方法としては、例えば、噴水のように所定量の洗浄液を噴出させて回転ローラ165に付着した感光液130’を洗い流す方法や、気体を含む泡状の洗浄液で感光液130’を洗い流す方法などがある。
このように、本発明による予備吐出部160は、回転ローラ165に密着するように感光液分離部170を設置して、回転ローラ165の表面に吐出された高濃度化した感光液130’を分離して排出することにより、高濃度化した感光液130’と洗浄液とが混合しないようにするので、洗浄液が感光液130’により汚染されることを防止することができる。その結果、洗浄液の再利用時、回転ローラ165の洗浄効果を向上させることができ、洗浄液の再利用回数も増加するという利点がある。
図5は、本発明による予備吐出部を含む配管システムを概略的に示す図で、洗浄液を効率的に使用するための配管システムを示している。
図5に示すように、本発明による予備吐出部を含む配管システムは、新しい洗浄液を貯蔵する第1貯蔵タンク190Aと、洗浄に使用されて回収及び排出が必要な洗浄液を貯蔵する第2貯蔵タンク190Bと、第1及び第2貯蔵タンク190A、190Bと予備吐出部160の間で洗浄液を移送するための複数のポンプ195A〜195Cと、各種制御装置である複数のセンサ197A、197B及びバルブ180A〜180Gとから構成され、使用者の選択により洗浄液の再利用が可能である。
第1貯蔵タンク190Aに貯蔵されている新しい洗浄液は、供給ポンプ195Aの動作により予備吐出部160の第2洗浄液噴射ノズル166Bに供給され、供給ポンプ195Aと第2洗浄液噴射ノズル166Bの間には、不純物を濾過するための第1濾過器196A及び第1バルブ180Aが設置されている。
また、第1貯蔵タンク190Aには、洗浄液の残量を測定するための第1レベルセンサ197Aが設置され、第1レベルセンサ197Aが洗浄液の不足を感知してその信号を制御装置(図示せず)に送り、前記制御装置が第7バルブ180Gに信号を送ることにより、洗浄液供給部から新しい洗浄液を供給される。
このように、前記洗浄液供給部から第1貯蔵タンク190Aに満たされた新しい洗浄液は、第2洗浄液噴射ノズル166Bに供給され、回転ローラ165の洗浄時、回転ローラ165の最終洗浄液の噴射のみに使用される。
また、第2洗浄液噴射ノズル166Bから噴射された洗浄液の一部は、オーバーフロー口(第2排出口)に流入して、排出ポンプ195Bを介して第2貯蔵タンク190Bに貯蔵され、洗浄槽168内の使用された洗浄液も、排出ポンプ195Bを介して第2貯蔵タンク190Bに貯蔵される。
また、排出ポンプ195Bを介して第2貯蔵タンク190Bに貯蔵された洗浄液は、移送ポンプ195Cにより、回転ローラ165の下部を洗浄する第3洗浄液噴射ノズル166Cに供給されるか、又は第1洗浄液噴射ノズル166Aに供給されて、感光液の希釈に再利用される。
第1洗浄液噴射ノズル166Aから噴射されて高濃度化した感光液の希釈に使用された洗浄液は、希釈後に直ちに感光液排出口(第1排出口)に排出される。
また、移送ポンプ195Cと第3洗浄液噴射ノズル166Cの間には、排出ポンプ195Bから供給された洗浄液を濾過するための第2濾過器196B及び第3バルブ180Cが設置され、洗浄槽168と排出ポンプ195Bの間には、第4バルブ180Dが設置され、前記オーバーフロー口(第2排出口)と排出ポンプ195Bの間には、第5バルブ180Eが設置される。
また、第2濾過器196Bと第1洗浄液噴射ノズル166Aの間には、第2バルブ180B及び第6バルブ180Fが設置され、使用者の選択によって、洗浄液を再利用せず、第6バルブ180Fを介して洗浄液排出口(第3排出口)に排出することもできる。
このように、本発明による予備吐出部は、洗浄液を用途によって使い分けて洗浄することにより、洗浄効率を向上させることができ、特に、最終洗浄時には常に新しい洗浄液のみを使用するため、洗浄効果を最大化することができる。
また、前記回転ローラの下部に使用される洗浄液も、感光液が濾過された状態であるため、洗浄液をより清潔な状態に維持することができる。
スリットコーターの基本的な概念の説明図である。 スリットコーターによる感光液の塗布状態を示す斜視図である。 本発明による予備吐出部を備えたスリットコーターを概略的に示す正面図である。 図2の予備吐出部を概略的に示す断面図である。 図3のスリットノズルの構造を概略的に示す断面図である。 本発明による予備吐出部を含む配管システムを概略的に示す図である。 一般のスピンコーターの構造を示す断面図である。
符号の説明
122 スリットノズル
160 予備吐出部
165 回転ローラ
166A〜166C 洗浄液噴射ノズル
167A、167B 感光液除去部
168 洗浄槽
170 感光液分離部
180A〜180G バルブ
190A、190B 洗浄液貯蔵タンク
195A〜195C ポンプ
196A、196B 濾過器

Claims (32)

  1. 被処理物が載置されるテーブルと、
    前記被処理物の表面に塗布液を塗布するスリットノズルと、
    前記スリットノズルを通じて塗布液の予備吐出を行う予備吐出部と、
    前記予備吐出された塗布液を洗浄液と分離して排出する塗布液分離部と
    を含むことを特徴とするスリットコーター。
  2. 前記洗浄液が満たされた洗浄槽と、
    使用された洗浄液を前記洗浄槽から分離して保管する貯蔵タンクと、
    前記使用された洗浄液を前記予備吐出部の洗浄液噴射ノズルに供給する移送ポンプと
    をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のスリットコーター。
  3. 前記塗布液は、フォトレジストの感光液、現像液、又はカラーフィルタに用いられる溶剤を含むことを特徴とする請求項1に記載のスリットコーター。
  4. 前記スリットノズルは、幅より長さの方が長いスリット状の吐出口を含むことを特徴とする請求項1に記載のスリットコーター。
  5. 前記予備吐出部は、前記テーブルの前端又は後端に設置されることを特徴とする請求項1に記載のスリットコーター。
  6. 前記予備吐出部は、
    前記洗浄液が満たされた洗浄槽と、
    前記洗浄槽に配置されて前記スリットノズルから予備吐出された塗布液を受ける回転ローラと、
    前記回転ローラに前記洗浄液を噴射する少なくとも1つの洗浄液噴射ノズルと
    を含むことを特徴とする請求項1に記載のスリットコーター。
  7. 前記回転ローラは、前記洗浄槽に水平に配置され、下部が前記洗浄槽の洗浄液に浸漬し、上部が前記スリットノズルに近接するように露出することを特徴とする請求項6に記載のスリットコーター。
  8. 前記少なくとも1つの洗浄液噴射ノズルは、
    前記予備吐出部の側壁に設置され、前記スリットノズルから前記回転ローラの表面に予備吐出された塗布液を希釈する第1洗浄液噴射ノズルを含むことを特徴とする請求項6に記載のスリットコーター。
  9. 前記塗布液分離部は、所定の端部が前記回転ローラの表面に密着するように設置され、前記回転ローラの表面に予備吐出された塗布液を洗浄液と分離して排出することを特徴とする請求項6に記載のスリットコーター。
  10. 前記少なくとも1つの洗浄液噴射ノズルは、
    前記洗浄槽内に設置され、前記塗布液分離部により前記予備吐出された塗布液が分離された後に前記回転ローラの表面に残っている塗布液を希釈する第2洗浄液噴射ノズルをさらに含むことを特徴とする請求項6に記載のスリットコーター。
  11. 前記少なくとも1つの洗浄液噴射ノズルは、
    前記第2洗浄液噴射ノズルにより塗布液が希釈された後の前記回転ローラの表面に残っている塗布液を希釈する第3洗浄液噴射ノズルをさらに含むことを特徴とする請求項10に記載のスリットコーター。
  12. 液晶表示装置の基板が載置されるテーブルを提供する段階と、
    前記液晶表示装置の基板の表面に塗布液を塗布するスリットノズルを提供する段階と、
    洗浄液が満たされた洗浄槽、前記洗浄槽に配置されて前記スリットノズルから予備吐出された塗布液を受ける回転ローラ、及び前記回転ローラの一側面、他側面、下面に洗浄液を噴射する第1、第2、第3洗浄液噴射ノズルが備えられた予備吐出部を提供する段階と、
    所定の端部が前記回転ローラの表面に密着するように設置されて前記回転ローラの表面に予備吐出された塗布液を洗浄液と分離して排出する塗布液分離部を提供する段階と、
    前記予備吐出部に洗浄液を供給する洗浄液供給部を提供する段階と、
    前記液晶表示装置の基板に塗布液を塗布する段階と
    を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  13. 前記洗浄液供給部から洗浄液が供給されて貯蔵する貯蔵タンクを提供する段階と、
    前記洗浄液を前記第2洗浄液噴射ノズルに供給する供給ポンプを提供する段階と
    をさらに含むことを特徴とする請求項12に記載の液晶表示装置の製造方法。
  14. 前記供給ポンプと前記第2洗浄液噴射ノズルとを接続するラインを提供する段階と、
    前記ラインに設置されて前記洗浄液の不純物を除去する濾過器を提供する段階と
    をさらに含むことを特徴とする請求項13に記載の液晶表示装置の製造方法。
  15. 前記洗浄槽から使用された洗浄液を回収して貯蔵する貯蔵タンクを提供する段階と、
    前記回収された洗浄液を前記第1洗浄液噴射ノズル及び前記第3洗浄液噴射ノズルに供給する移送ポンプを提供する段階と
    をさらに含むことを特徴とする請求項12に記載の液晶表示装置の製造方法。
  16. 前記移送ポンプと前記第3洗浄液噴射ノズルとを接続するラインを提供する段階と、
    前記ラインに設置されて前記洗浄液の不純物を除去する濾過器を提供する段階と
    をさらに含むことを特徴とする請求項15に記載の液晶表示装置の製造方法。
  17. 前記使用された洗浄液を排出して破棄する洗浄液排出口を提供する段階をさらに含むことを特徴とする請求項15に記載の液晶表示装置の製造方法。
  18. 前記塗布液分離部は、前記回転ローラが反時計方向に回転する場合、前記予備吐出部の左側下部に設置されることを特徴とする請求項12に記載の液晶表示装置の製造方法。
  19. 前記塗布液分離部は、前記回転ローラが時計方向に回転する場合、前記予備吐出部の右側下部に設置されることを特徴とする請求項12に記載の液晶表示装置の製造方法。
  20. 前記洗浄槽と前記予備吐出部の側壁との間に設置されて前記洗浄槽内の余分の洗浄液を排出させるオーバーフロー口を提供する段階をさらに含むことを特徴とする請求項13に記載の液晶表示装置の製造方法。
  21. 前記洗浄液は、高揮発性の有機溶媒を含むことを特徴とする請求項12に記載の液晶表示装置の製造方法。
  22. (a)スリットノズルを備えたスリットコーターのテーブルに基板をローディングする段階と、
    (b)前記スリットノズルを予備吐出部に移動させて塗布液の予備吐出を行う段階と、
    (c)前記予備吐出された塗布液を洗浄液と分離して排出する段階と、
    (d)前記スリットノズルを前記基板に移動させる段階と、
    (e)前記スリットノズルを利用して前記基板に塗布液を塗布する段階と
    を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  23. 前記段階(b)及び(c)を行った後に、前記段階(a)、(d)及び(e)を行うことを特徴とする請求項22に記載の液晶表示装置の製造方法。
  24. 前記予備吐出部は、回転ローラを備え、前記スリットノズルから前記回転ローラの表面に塗布液を予備吐出することを特徴とする請求項22に記載の液晶表示装置の製造方法。
  25. 前記予備吐出部は、第1洗浄液噴射ノズルを備え、前記回転ローラの表面に予備吐出された塗布液を希釈することを特徴とする請求項24に記載の液晶表示装置の製造方法。
  26. 前記予備吐出部は、塗布液分離部を備え、前記回転ローラ表面の塗布液を洗浄液と分離して塗布液排出口に排出することを特徴とする請求項25に記載の液晶表示装置の製造方法。
  27. 前記予備吐出部は、洗浄液が満たされた洗浄槽を備え、前記塗布液分離部により前記予備吐出された塗布液が分離された後に前記回転ローラの表面に残っている塗布液を希釈することを特徴とする請求項26に記載の液晶表示装置の製造方法。
  28. 前記予備吐出部は、第2洗浄液噴射ノズルを備え、前記塗布液分離部により前記予備吐出された塗布液が分離された後に前記回転ローラの表面に残っている塗布液を希釈することを特徴とする請求項26に記載の液晶表示装置の製造方法。
  29. 前記予備吐出部は、第3洗浄液噴射ノズルを備え、前記第2洗浄液噴射ノズルにより塗布液が希釈された後の前記回転ローラの表面に残っている塗布液を希釈することを特徴とする請求項28に記載の液晶表示装置の製造方法。
  30. 前記スリットノズルを前記基板上部の所定位置に移動させる駆動部を提供する段階をさらに含むことを特徴とする請求項22に記載の液晶表示装置の製造方法。
  31. 洗浄槽から使用された洗浄液を回収して貯蔵する貯蔵タンクを提供する段階と、
    前記使用された洗浄液を第1洗浄液噴射ノズル及び第2洗浄液噴射ノズルに供給する移送ポンプを提供する段階と
    をさらに含むことを特徴とする請求項22に記載の液晶表示装置の製造方法。
  32. 前記移送ポンプと前記第2洗浄液噴射ノズルとを接続するラインを提供する段階と、
    前記ラインに設置されて前記使用された洗浄液から不純物を除去する濾過器を提供する段階と
    をさらに含むことを特徴とする請求項31に記載の液晶表示装置の製造方法。
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