JP3511230B2 - 塗布ノズルの乾燥防止装置および乾燥防止方法 - Google Patents
塗布ノズルの乾燥防止装置および乾燥防止方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体ウェーハやガ
ラス基板等の表面に、レジスト液、現像液、リンス液、
洗浄液等の各種処理液を滴下する塗布ノズルの乾燥防止
装置および乾燥防止方法に関する。
ラス基板等の表面に、レジスト液、現像液、リンス液、
洗浄液等の各種処理液を滴下する塗布ノズルの乾燥防止
装置および乾燥防止方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】基板表面に処理液を均一に塗布するに
は、塗布ノズルから基板表面に処理液を滴下した後、基
板を回転させ遠心力で処理液を拡散するようにしてい
る。そして、処理液を滴下した後、塗布ノズルは待機位
置まで後退して次の塗布に備える。
は、塗布ノズルから基板表面に処理液を滴下した後、基
板を回転させ遠心力で処理液を拡散するようにしてい
る。そして、処理液を滴下した後、塗布ノズルは待機位
置まで後退して次の塗布に備える。
【０００３】しかしながら、処理液を滴下した後、塗布
ノズルのノズル穴周辺には処理液が付着しているので、
そのまま待機していると、図４（ａ）に示すように、付
着した処理液が乾燥固着し、これがパーティクルとなっ
て基板表面を汚染する虞れがある。
ノズルのノズル穴周辺には処理液が付着しているので、
そのまま待機していると、図４（ａ）に示すように、付
着した処理液が乾燥固着し、これがパーティクルとなっ
て基板表面を汚染する虞れがある。
【０００４】斯かる問題を解消する先行技術として、特
開平５−１６６７１４号公報、特開平５−１６６７１５
号公報及び特開平９−１２２５５３号公報が知られてい
る。このうち、特開平５−１６６７１４号公報及び特開
平９−１２２５５３号公報は、いずれも待機位置におい
て案内部材或いは除去部材をノズル穴の部分に接触さ
せ、案内部材或いは除去部材を介して付着している処理
液を取り除くようにし、特開平５−１６６７１５号公報
は洗浄液を満たした液体受部にノズルを浸漬するように
している。
開平５−１６６７１４号公報、特開平５−１６６７１５
号公報及び特開平９−１２２５５３号公報が知られてい
る。このうち、特開平５−１６６７１４号公報及び特開
平９−１２２５５３号公報は、いずれも待機位置におい
て案内部材或いは除去部材をノズル穴の部分に接触さ
せ、案内部材或いは除去部材を介して付着している処理
液を取り除くようにし、特開平５−１６６７１５号公報
は洗浄液を満たした液体受部にノズルを浸漬するように
している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ある程度時
間が経過した後に再度処理液を供給（ディスペンス）す
る場合には、ノズル穴近傍に溜まっている処理液の濃度
が高くなっていたり、異物が混入している虞れもあるの
で、通常プリディスペンスと称される操作で、ノズル穴
内に溜まっている処理液を廃棄し、この後、ノズル穴か
ら処理液を基板に向けて吐出し、基板とノズル穴との間
が処理液で連続した所謂膜張り状態にする。
間が経過した後に再度処理液を供給（ディスペンス）す
る場合には、ノズル穴近傍に溜まっている処理液の濃度
が高くなっていたり、異物が混入している虞れもあるの
で、通常プリディスペンスと称される操作で、ノズル穴
内に溜まっている処理液を廃棄し、この後、ノズル穴か
ら処理液を基板に向けて吐出し、基板とノズル穴との間
が処理液で連続した所謂膜張り状態にする。
【０００６】しかしながら、このプリディスペンスによ
って、図４（ｂ）に示すように、処理液がノズル穴以外
の部分まで廻り込む。この廻り込んだ処理液について
は、特開平５−１６６７１４号公報及び特開平９−１２
２５５３号公報に開示される案内部材或いは除去部材で
は完全に取り除くことができず、パーティクル発生の原
因になっている。
って、図４（ｂ）に示すように、処理液がノズル穴以外
の部分まで廻り込む。この廻り込んだ処理液について
は、特開平５−１６６７１４号公報及び特開平９−１２
２５５３号公報に開示される案内部材或いは除去部材で
は完全に取り除くことができず、パーティクル発生の原
因になっている。
【０００７】一方、特開平５−１６６７１５号公報に開
示されるように、液体受部に塗布ノズルを浸漬する構造
にした場合には、プリディスペンスによって、廻り込ん
だ処理液も除去することができる。しかしながら、特開
平５−１６６７１５号公報に開示される装置は、液体受
部には洗浄液をタンクから供給して溢流させながらノズ
ル先端を洗浄するようにしているため、大量の洗浄液が
必要となり、特に塗布ノズルとして長尺なスリットノズ
ルに対して液体受部を適用する場合には、当該液体受部
もスリットノズルに合せて長くしなければならず、その
結果、液体受部内に処理液の固化物等が溜まりやすく、
却ってノズル先端に固化物を付着することも考えられ
る。
示されるように、液体受部に塗布ノズルを浸漬する構造
にした場合には、プリディスペンスによって、廻り込ん
だ処理液も除去することができる。しかしながら、特開
平５−１６６７１５号公報に開示される装置は、液体受
部には洗浄液をタンクから供給して溢流させながらノズ
ル先端を洗浄するようにしているため、大量の洗浄液が
必要となり、特に塗布ノズルとして長尺なスリットノズ
ルに対して液体受部を適用する場合には、当該液体受部
もスリットノズルに合せて長くしなければならず、その
結果、液体受部内に処理液の固化物等が溜まりやすく、
却ってノズル先端に固化物を付着することも考えられ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明に係る塗布ノズルの乾燥防止装置は、仕切壁によっ
て前記塗布ノズルの先端が浸漬可能な内側の液体貯留部
とこの液体貯留部から溢出した液体を受ける外側の受け
部とが区切られ、前記液体貯留部には乾燥防止用の液体
を循環させるための循環経路につながっている液体供給
口と液体排出口とが開口し、かつ前記受け部にも前記循
環経路につながる液体排出口が開口した構成とした。斯
かる構成とすることで、液体貯留部内の乾燥防止用の液
体の濃度を一定にでき、且つ再利用できるので無駄がな
い。
発明に係る塗布ノズルの乾燥防止装置は、仕切壁によっ
て前記塗布ノズルの先端が浸漬可能な内側の液体貯留部
とこの液体貯留部から溢出した液体を受ける外側の受け
部とが区切られ、前記液体貯留部には乾燥防止用の液体
を循環させるための循環経路につながっている液体供給
口と液体排出口とが開口し、かつ前記受け部にも前記循
環経路につながる液体排出口が開口した構成とした。斯
かる構成とすることで、液体貯留部内の乾燥防止用の液
体の濃度を一定にでき、且つ再利用できるので無駄がな
い。
【０００９】また、塗布ノズルを基板表面に処理液を所
定幅で滴下するスリットノズルとした場合には、液体貯
留部の底面を一端から他端に向かって徐々に深くなるよ
うに傾斜させ、最も深くなった他端近傍に液体排出口を
開口せしめることが好ましい。 このような構成とする
ことで、液体貯留部の底面に異物が溜まることがない。
更に、液体貯留部内の処理液を全部交換する時も、処理
液が残留することがない。
定幅で滴下するスリットノズルとした場合には、液体貯
留部の底面を一端から他端に向かって徐々に深くなるよ
うに傾斜させ、最も深くなった他端近傍に液体排出口を
開口せしめることが好ましい。 このような構成とする
ことで、液体貯留部の底面に異物が溜まることがない。
更に、液体貯留部内の処理液を全部交換する時も、処理
液が残留することがない。
【００１０】
【００１１】上記の乾燥防止装置を用いた乾燥防止方法
は、液体貯留部に貯留する液体を塗布ノズルから滴下す
る塗布液と同一組成とする。このようにすることで、直
ちに塗布操作に移行できる。
は、液体貯留部に貯留する液体を塗布ノズルから滴下す
る塗布液と同一組成とする。このようにすることで、直
ちに塗布操作に移行できる。
【００１２】また、上記の乾燥防止装置を用いて、プリ
ディスペンスを行う場合には、塗布ノズルの先端を液体
貯留部に浸漬した状態で行う。このようにすれば、プリ
ディスペンスによってノズル穴周縁に処理液が廻り込む
のを防止できる。
ディスペンスを行う場合には、塗布ノズルの先端を液体
貯留部に浸漬した状態で行う。このようにすれば、プリ
ディスペンスによってノズル穴周縁に処理液が廻り込む
のを防止できる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。ここで、図１は本発明に係る
塗布ノズルの乾燥防止装置を組込んだ塗布装置の全体
図、図２は同乾燥防止装置の正面から見た拡大断面図、
図３は図２のＡーＡ線断面図に液体を受ける受け部を付
設した図である。
図面に基づいて説明する。ここで、図１は本発明に係る
塗布ノズルの乾燥防止装置を組込んだ塗布装置の全体
図、図２は同乾燥防止装置の正面から見た拡大断面図、
図３は図２のＡーＡ線断面図に液体を受ける受け部を付
設した図である。
【００１４】塗布装置はカップ１内に下方からスピンナ
ー軸２が挿入され、このスピンナー軸２の上端にチャッ
ク３が設けられ、このチャック３にて半導体ウェーハや
ガラス基板等の基板Ｗを吸着する。
ー軸２が挿入され、このスピンナー軸２の上端にチャッ
ク３が設けられ、このチャック３にて半導体ウェーハや
ガラス基板等の基板Ｗを吸着する。
【００１５】基板Ｗの上方には基板Ｗと平行に往復動す
るスリットノズル４が配置され、このスリットノズル４
の移動限近傍の待機位置に、ノズルの乾燥防止装置５が
設けられている。
るスリットノズル４が配置され、このスリットノズル４
の移動限近傍の待機位置に、ノズルの乾燥防止装置５が
設けられている。
【００１６】尚、塗布装置としてはアウターカップ内に
インナーカップを配置し、インナーカップをスピンナー
と一体的に回転せしめる回転カップ式の塗布装置であっ
てもよい。
インナーカップを配置し、インナーカップをスピンナー
と一体的に回転せしめる回転カップ式の塗布装置であっ
てもよい。
【００１７】乾燥防止装置５内には仕切壁６が設けら
れ、この仕切壁６によって内側の液体貯留部７と外側の
受け部８とが区切られ、液体貯留部７の底面は一端から
他端に向かって傾斜し、最も高い一端近傍の底面に液体
の供給口９が開口し、最も低い他端近傍の底面に液体の
排出口１０が開口し、更に受け部８の底面にも液体の排
出口１１が形成されている。
れ、この仕切壁６によって内側の液体貯留部７と外側の
受け部８とが区切られ、液体貯留部７の底面は一端から
他端に向かって傾斜し、最も高い一端近傍の底面に液体
の供給口９が開口し、最も低い他端近傍の底面に液体の
排出口１０が開口し、更に受け部８の底面にも液体の排
出口１１が形成されている。
【００１８】前記液体の供給口９、液体の排出口１０，
１１は循環経路の一部をなし、排出口１０，１１から取
り出された液体はフィルタを通して異物が除去されると
ともに、濃度等を調整された後、ポンプを介して再び供
給口９から液体貯留部７に送り込まれる。送り込まれた
液体は液体貯留部７から受け部８に溢出することで、液
体貯留部７内の液面を一定に保つことができる。
１１は循環経路の一部をなし、排出口１０，１１から取
り出された液体はフィルタを通して異物が除去されると
ともに、濃度等を調整された後、ポンプを介して再び供
給口９から液体貯留部７に送り込まれる。送り込まれた
液体は液体貯留部７から受け部８に溢出することで、液
体貯留部７内の液面を一定に保つことができる。
【００１９】以上において、基板Ｗ上に処理液を供給し
たスリットノズル４は乾燥防止装置５の上方まで移動
し、次いで液体貯留部７に先端部が浸漬するまで下降す
る。そして、次の基板Ｗに処理液を供給する場合には液
体貯留部７から上昇し、基板Ｗの一端において膜張りし
た後、基板と平行に移動して、所定幅で処理液を基板Ｗ
表面に供給する。
たスリットノズル４は乾燥防止装置５の上方まで移動
し、次いで液体貯留部７に先端部が浸漬するまで下降す
る。そして、次の基板Ｗに処理液を供給する場合には液
体貯留部７から上昇し、基板Ｗの一端において膜張りし
た後、基板と平行に移動して、所定幅で処理液を基板Ｗ
表面に供給する。
【００２０】尚、膜張りする前にはプリディスペンスを
行うが、数回に１回の割合で液体貯留部７に先端部が浸
漬している状態で処理液のプリディスペンスを行うこと
により、液戻り現象（ノズル穴から上方の位置まで処理
液がノズル表面を伝って戻る現象）を防ぐことができ
る。
行うが、数回に１回の割合で液体貯留部７に先端部が浸
漬している状態で処理液のプリディスペンスを行うこと
により、液戻り現象（ノズル穴から上方の位置まで処理
液がノズル表面を伝って戻る現象）を防ぐことができ
る。
【００２１】
【発明の効果】以上に説明したように本発明に係る塗布
ノズルの乾燥防止装置は、塗布ノズルの先端が浸漬可能
な液体貯留部を設け、この液体貯留部に乾燥防止用の液
体を循環させるための液体供給口と液体排出口とを開口
せしめたので、液体貯留部内の乾燥防止用の液体の濃度
を一定にでき、且つ乾燥防止用の液体を再利用できる。
ノズルの乾燥防止装置は、塗布ノズルの先端が浸漬可能
な液体貯留部を設け、この液体貯留部に乾燥防止用の液
体を循環させるための液体供給口と液体排出口とを開口
せしめたので、液体貯留部内の乾燥防止用の液体の濃度
を一定にでき、且つ乾燥防止用の液体を再利用できる。
【００２２】また、塗布ノズルを基板表面に処理液を所
定幅で滴下するスリットノズルとした場合には、液体貯
留部の底面を一端から他端に向かって徐々に深くなるよ
うに傾斜させ、最も深くなった他端近傍に液体排出口を
開口せしめることで、液体貯留部の底面に異物が溜まる
ことがない。
定幅で滴下するスリットノズルとした場合には、液体貯
留部の底面を一端から他端に向かって徐々に深くなるよ
うに傾斜させ、最も深くなった他端近傍に液体排出口を
開口せしめることで、液体貯留部の底面に異物が溜まる
ことがない。
【００２３】また、前記液体貯留部の外側に、液体貯留
部から溢出した液体を受ける受け部を設け、この受け部
にも循環経路につながる液体排出口を開口せしめること
で、乾燥防止用の液体を無駄にすることがない。受け部
もまた液体貯留部と同じように底面を一端から他端に向
かって徐々に深くなるように傾斜させれば、溢出した液
体は無駄なく液体排出口へ流れる。
部から溢出した液体を受ける受け部を設け、この受け部
にも循環経路につながる液体排出口を開口せしめること
で、乾燥防止用の液体を無駄にすることがない。受け部
もまた液体貯留部と同じように底面を一端から他端に向
かって徐々に深くなるように傾斜させれば、溢出した液
体は無駄なく液体排出口へ流れる。
【００２４】また、本発明に係る乾燥防止方法によれ
ば、液体貯留部に貯留する液体を塗布ノズルから滴下す
る処理液と同一組成としたので、直ちに塗布操作に移行
でき、また、処理液のプリディスペンスを行う場合に
は、塗布ノズルの先端を液体貯留部に浸漬した状態で行
うようにすれば、プリディスペンスによってノズル穴周
縁に処理液が廻り込むのを防止できる。
ば、液体貯留部に貯留する液体を塗布ノズルから滴下す
る処理液と同一組成としたので、直ちに塗布操作に移行
でき、また、処理液のプリディスペンスを行う場合に
は、塗布ノズルの先端を液体貯留部に浸漬した状態で行
うようにすれば、プリディスペンスによってノズル穴周
縁に処理液が廻り込むのを防止できる。
【図１】本発明に係る塗布ノズルの乾燥防止装置を組込
んだ塗布装置の全体図
んだ塗布装置の全体図
【図２】同乾燥防止装置の正面から見た拡大断面図
【図３】図２のＡーＡ線断面図に液体を受ける受け部を
付設した図
付設した図
【図４】（ａ）及び（ｂ）は従来の問題点を説明した図
１…カップ、２…スピンナー軸、３…チャック、４…ス
リットノズル、５…乾燥防止装置、６…仕切壁、７…液
体貯留部、８…受け部、９…液体の供給口、１０，１１
…液体排出口、Ｗ…基板。
リットノズル、５…乾燥防止装置、６…仕切壁、７…液
体貯留部、８…受け部、９…液体の供給口、１０，１１
…液体排出口、Ｗ…基板。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｆ２６Ｂ 13/24
// Ｆ２６Ｂ 13/24 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｃ
５６９Ｃ
(72)発明者 佐合 宏仁
神奈川県川崎市中原区中丸子150番地
東京応化工業株式会社内
(56)参考文献 特開 平４−200768（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−166715（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−339657（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−91209（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B05C 5/00
B05B 15/02
B05C 11/08
B05D 1/26
B05D 3/00
H01L 21/027
F26B 13/24
Claims (4)
- 【請求項１】 基板表面に処理液を滴下する塗布ノズル
の不使用時の乾燥を防止するため待機位置に配置される
塗布ノズルの乾燥防止装置において、この装置は、仕切
壁によって前記塗布ノズルの先端が浸漬可能な内側の液
体貯留部とこの液体貯留部から溢出した液体を受ける外
側の受け部とが区切られ、前記液体貯留部には乾燥防止
用の液体を循環させるための循環経路につながっている
液体供給口と液体排出口とが開口し、かつ前記受け部に
も循環経路につながる液体排出口が開口していることを
特徴とする塗布ノズルの乾燥防止装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の塗布ノズルの乾燥防止
装置において、前記塗布ノズルは基板表面に処理液を所
定幅で滴下するスリットノズルであり、また前記液体貯
留部の底面は一端から他端に向かって徐々に深くなるよ
うに傾斜し、最も深くなった他端近傍に液体排出口が開
口していることを特徴とする塗布ノズルの乾燥防止装
置。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２に記載の塗布ノズ
ルの乾燥防止装置を用いた乾燥防止方法において、液体
貯留部に貯留する液体を塗布ノズルから滴下する処理液
と同一組成としたことを特徴とする塗布ノズルの乾燥防
止方法。 - 【請求項４】 請求項１又は請求項２に記載の塗布ノズ
ルの乾燥防止装置を用いた乾燥防止方法において、塗布
ノズルの先端を液体貯留部に浸漬した状態で処理液のプ
リディスペンスを行うことを特徴とする塗布ノズルの乾
燥防止方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31153398A JP3511230B2 (ja) | 1998-11-02 | 1998-11-02 | 塗布ノズルの乾燥防止装置および乾燥防止方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31153398A JP3511230B2 (ja) | 1998-11-02 | 1998-11-02 | 塗布ノズルの乾燥防止装置および乾燥防止方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000135463A JP2000135463A (ja) | 2000-05-16 |
| JP3511230B2 true JP3511230B2 (ja) | 2004-03-29 |
Family
ID=18018393
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31153398A Expired - Fee Related JP3511230B2 (ja) | 1998-11-02 | 1998-11-02 | 塗布ノズルの乾燥防止装置および乾燥防止方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3511230B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100780718B1 (ko) | 2004-12-28 | 2007-12-26 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 도포액 공급장치를 구비한 슬릿코터 |
| KR100700180B1 (ko) | 2004-12-31 | 2007-03-27 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 예비토출부를 구비한 슬릿코터 및 이를 이용한 코팅방법 |
| KR100700181B1 (ko) | 2004-12-31 | 2007-03-27 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 노즐대기부를 구비한 슬릿코터 및 이를 이용한 코팅방법 |
| KR100675643B1 (ko) | 2004-12-31 | 2007-02-02 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 슬릿코터 |
| JP5009718B2 (ja) * | 2007-08-23 | 2012-08-22 | 東京応化工業株式会社 | スリットノズル待機ユニット |
| KR102186069B1 (ko) * | 2018-05-11 | 2020-12-07 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
| CN111992447A (zh) * | 2020-09-04 | 2020-11-27 | 广西玉柴机器股份有限公司 | 涂胶口防干装置 |
-
1998
- 1998-11-02 JP JP31153398A patent/JP3511230B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000135463A (ja) | 2000-05-16 |
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