KR100675643B1 - 슬릿코터 - Google Patents

슬릿코터 Download PDF

Info

Publication number
KR100675643B1
KR100675643B1 KR1020040118441A KR20040118441A KR100675643B1 KR 100675643 B1 KR100675643 B1 KR 100675643B1 KR 1020040118441 A KR1020040118441 A KR 1020040118441A KR 20040118441 A KR20040118441 A KR 20040118441A KR 100675643 B1 KR100675643 B1 KR 100675643B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
slit
nozzle
slit nozzle
slit coater
coupling
Prior art date
Application number
KR1020040118441A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20060078478A (ko
Inventor
박정권
이준규
임태현
권성
Original Assignee
엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지.필립스 엘시디 주식회사 filed Critical 엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority to KR1020040118441A priority Critical patent/KR100675643B1/ko
Priority to US11/211,215 priority patent/US7416758B2/en
Publication of KR20060078478A publication Critical patent/KR20060078478A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100675643B1 publication Critical patent/KR100675643B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B15/00Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
    • B05B15/60Arrangements for mounting, supporting or holding spraying apparatus
    • B05B15/62Arrangements for supporting spraying apparatus, e.g. suction cups
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B15/00Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
    • B05B15/60Arrangements for mounting, supporting or holding spraying apparatus
    • B05B15/65Mounting arrangements for fluid connection of the spraying apparatus or its outlets to flow conduits

Abstract

본 발명의 슬릿코터(slit coater)는 슬릿노즐부 양 축에 탄성력을 가진 완충부재를 설치함으로써 상기 양 축의 높낮이 편차를 보상하여 편차로 인한 과도한 응력(應力) 파괴 및 항복을 방지하며, 셋-업(setup) 시간을 단축하기 하기 위한 것으로, 피처리물이 안착되는 테이블; 상기 테이블의 상부에 형성되어, 상기 피처리물 표면에 도포액을 도포하는 슬릿노즐부; 상기 슬릿노즐부를 이동하기 위한 구동부; 및 상기 슬릿노즐부의 양 축에 설치되며, 탄성력을 가진 완충부재를 포함한다.

Description

슬릿코터{SLIT COATER}
도 1은 일반적인 스핀코터의 구조를 나타내는 단면도.
도 2a 및 도 2b는 슬릿코터의 기본적인 개념 및 상기 슬릿코터에 의해 감광물질이 도포되는 것을 나타내는 사시도.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 완충부재를 구비한 슬릿코터를 개략적으로 나타내는 정면도.
도 4a 내지 도 4c는 도 3에 도시된 완충부재를 확대하여 나타내는 예시도.
도 5는 도 3에 도시된 노즐을 확대하여 나타내는 단면도.
도 6a 내지 도 6c는 벤트 위치에 따라 다양한 내부형상을 가진 노즐의 내면을 나타내는 단면도.
** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 **
100 : 유리기판 200 : 슬릿노즐부
210 : 헤드 220 : 노즐
400 : 테이블 500 : 완충부재
510 : 제 1 결합부 520 : 제 2 결합부
530 : 완충부
본 발명은 슬릿코터에 관한 것으로, 보다 상세하게는 평판표시장치(Flat Panel Display; FPD)의 기판이나 반도체 웨이퍼 등의 피처리물 표면에 레지스트액이나 현상액, 컬러필터 등의 도포액을 균일하게 도포하는 슬릿코터에 관한 것이다.
평판표시장치 또는 반도체 소자의 제조공정에는 박막 증착공정과 상기 박막 중 선택된 영역을 노출시키는 포토리소그래피공정 및 상기 선택된 영역의 박막을 제거하는 식각공정이 다수회 포함되어 있으며, 특히 상기 포토리소그래피공정은 기판 또는 웨이퍼 상에 감광성 물질의 포토레지스트막을 형성하는 코팅공정과 소정의 패턴이 형성된 마스크를 사용하여 이를 패터닝하는 노광 및 현상공정으로 이루어져 있다.
일반적으로 기판 또는 웨이퍼 상에 포토레지스트막을 형성하는 상기 코팅공정에는 스프레이(spray) 코팅방법, 롤 코팅방법 또는 스핀(spin) 코팅방법 등이 사용된다.
상기 스프레이 코팅방법과 롤 코팅방법의 경우는 코팅막의 균일성과 막 두께 조정에서 고정밀도용으로는 적합하지 않아 고정밀 패턴 형성용으로는 스핀 코팅방법이 사용된다.
이하, 상기의 스핀 코팅방법에 사용되는 스핀코터(spin coater)를 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 1은 일반적인 스핀코터의 구조를 나타내는 단면도이다.
도면에 도시된 바와 같이, 스핀코터는 회전축(6)에 연결되어 있는 스핀척(spin chuck)(5)과 상기 스핀척(5)을 외부에서 감싸고 있을 뿐만 아니라 개폐(開閉)가 가능한 커버(7) 및 상기 스핀척(5)의 상부에 위치하여 커버(7) 개방(開放)시 상기 커버(7)의 내부로 이동하는 노즐(4)로 구성된다.
상기 스핀척(5)에는 포토레지스트가 도포되는 피처리물(10)이 안착되고, 상기 커버(7)의 하부에는 하부로 낙하되는 포토레지스트를 외부로 배출시키는 드레인 밸브(미도시)가 설치된다.
이와 같이 구성되는 스핀코터는 소정 피처리물(10)에 코팅막을 형성하기 위해, 먼저 노즐(4)이 하강하여 스핀척(5)에 안착되어 있는 피처리물(10) 표면에 포토레지스트를 분사하게 된다.
피처리물(10)에 포토레지스트가 분사되면, 커버(7)가 밀폐됨과 아울러 모터(M)가 회전하게 되고 이와 연결되어 있는 회전축(6)이 회전하여 피처리물(10)이 안착되어 있는 스핀척(5)을 소정 회전수로 회전시키게 된다.
스핀척(5)이 회전하면 피처리물(10)의 상면에 분사되어 있는 포토레지스트가 원심력에 의해 외측으로 퍼지게 됨으로써 피처리물(10) 전면에 포토레지스트가 도포되게 된다.
이와 같이 피처리물(10) 전면에 포토레지스트가 도포되면 이를 응고시킨 후 포토 마스크 등을 사용하여 노광, 현상함으로써 피처리물(10) 표면에 소정의 패턴을 형성하게 된다.
그러나, 상기 스핀코터를 이용한 스핀 코팅방법은 웨이퍼와 같이 크기가 작은 피처리물에 감광물질을 코팅하는데 적합하며, 피처리물의 크기가 크고 중량이 무거운 평판표시장치용 기판(예를 들면, 액정표시패널용 유리기판)에 감광물질을 코팅하는데는 적합하지 않다.
이는 감광물질이 코팅될 기판이 크고 중량이 무거울수록 기판을 고속으로 회전시키기 매우 어려우며, 고속 회전시 기판의 파손 및 에너지 소모가 매우 큰 문제점을 갖기 때문이다.
또한, 상기 스핀 코팅방법은 코팅에 사용되는 포토레지스트의 양에 비해 버려지는 포토레지스트의 양이 너무 많아 포토레지스트의 낭비가 심하다는 문제점이 있다. 즉, 기판 표면에 도포된 포토레지스트는 고속 회전시 상당량이 스핀척 밖으로 비산(飛散)되어 버려지게 된다. 실질적으로 감광을 위해 사용되는 포토레지스트보다 낭비되는 포토레지스트의 양이 훨씬 많을 뿐만 아니라, 상기 비산되는 포토레지스트 파편은 이후 박막 형성공정에서 이물로 작용되기가 쉽고, 환경 오염원이 되기도 한다.
본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위한 것으로, 대면적의 기판에 레지스트액이나 현상액, 컬러필터 등의 도포액을 균일하게 도포할 수 있는 슬릿코터를 제공하는데 목적이 있다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 슬릿노즐부 양 축에 탄성력을 가진 완충부재를 설치함으로써 상기 양 축의 높낮이 편차를 보상하는 동시에 셋-업 시간을 단축한 슬릿코터를 제공하는데 있다.
본 발명의 다른 목적 및 특징들은 후술되는 발명의 구성 및 특허청구범위에서 설명될 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 슬릿코터는 피처리물이 안착되는 테이블; 상기 테이블의 상부에 형성되어, 상기 피처리물 표면에 도포액을 도포하는 슬릿노즐부; 상기 슬릿노즐부를 이동하기 위한 구동부; 및 상기 슬릿노즐부의 양 축에 설치되며, 탄성력을 가진 완충부재를 포함한다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 슬릿코터의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.
일반적으로 반도체 제조분야, 평판표시장치 제조분야에서는 특정 기능을 수행하는 박막, 예를 들면 산화 박막, 금속 박막, 반도체 박막 등을 원하는 형상으로 패터닝하기 위해서는 전술한 바와 같이 포토리소그래피공정이 필요하며, 상기 포토리소그래피공정에는 광과 화학 반응하는 포토레지스트와 같은 감광물질이 사용된다.
이때, 상기 감광물질은 박막이 형성된 기판에 매우 균일한 두께로 형성되어야 공정 중에 불량이 발생하지 않게 된다. 예를 들어, 감광물질이 지정된 두께보다 두껍게 형성될 경우 박막 중 원하는 부분이 식각되지 않게 되며, 상기 감광물질이 지정된 두께보다 얇게 형성될 경우 박막이 원하는 식각량보다 더 많이 식각되는 문제점이 발생하게 된다.
특히, 이와 같은 균일한 감광물질의 도포는 평판표시장치용 기판, 그 중에서 도 액정표시패널이 대면적화 되어감에 따라 기판의 사이즈가 증가하는 현 추세에 있어서 매우 중요한 요인의 하나이다.
상기 문제를 해결하고자 기존의 스핀척과 같은 스피너(spinner)를 사용하지 않고 소정의 감광물질을 슬릿노즐을 사용하여 분사하는 노즐방식이 제안되었다. 상기 노즐방식을 스피너를 이용하지 않기 때문에 스핀리스 코터(spinless coater) 또는 슬릿을 통해 감광물질이 분사되므로 슬릿코터(slit coater)라 부른다. 상기 슬릿코터는 폭보다 길이가 긴 슬릿 형상의 노즐을 통하여 감광물질을 공급하여 기판 표면에 면 형태로 감광물질을 도포함으로써, 대형의 액정표시패널에 감광물질을 도포하는데 적합하다.
도 2a 및 도 2b는 슬릿코터의 기본적인 개념 및 상기 슬릿코터에 의해 감광물질이 도포되는 것을 나타내는 예시도이다.
도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 슬릿코터는 폭이 좁고 길이가 긴 슬릿노즐(220)을 구비하여, 상기 슬릿노즐(220)을 통해 기판(100) 표면에 면 형태로 포토레지스트(300)를 도포하게 된다.
즉, 상기 슬릿코터는 소정량의 포토레지스트(300)를 바(bar)형의 긴 슬릿노즐(220)을 통해 기판(100) 등에 도포하는 장치로, 기판(100)의 일측에서 다른 일측으로 일정한 속도로 이동하면서 미세한 슬릿노즐(220)을 통해 일정량의 포토레지스트(300)를 도포함으로써 상기 기판(100) 표면에 균일한 포토레지스트막을 형성할 수 있게 된다.
또한, 상기 슬릿코터는 원하는 기판(100) 표면에만 포토레지스트(300)를 도 포할 수 있어 전술한 스핀코터에 비해 도포액을 보다 낭비 없이 사용할 수 있는 장점이 있으며, 폭이 긴 면 형태로 도포액의 도포가 가능하여 대형의 기판이나 사각형의 기판에 적합하다.
참고로, 미설명부호 400은 기판(100)이 안착되는 테이블을 나타내며, 화살표는 슬릿노즐(220)이 이동하는 방향으로 상기 화살표 방향으로 포토레지스트(300)가 분사, 도포되게 된다.
이와 같은 본 발명의 슬릿코터는 슬릿노즐부의 양 축에 탄성력을 가진 완충부재를 설치함으로써 Z축, 즉 수직방향으로의 이동이 원활하여, 강건한 구조 설계에 따른 고정된 자세코팅, 양 축의 높낮이 편차로 인한 과도한 응력 파괴 및 항복 및 긴 셋-업 시간의 단점을 해결할 수 있는데, 이를 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 완충부재를 구비한 슬릿코터를 개략적으로 나타내는 정면도이다.
도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예의 슬릿코터는 기판(100)이 안착되는 테이블(400), 상기 기판(100)에 도포액, 예를 들면 포토레지스트와 같은 감광물질을 도포하는 슬릿노즐부(200) 및 상기 슬릿노즐부(200)의 양단에 설치되어 상기 슬릿노즐부(200)를 일정한 속도로 이동시키는 구동부(600)를 구비한다. 또한, 상기 슬릿코터는 기판(100)에 코팅되는 감광물질을 공급하는 공급부(미도시)와 상기 공급부로부터 슬릿노즐부(200)에 감광물질을 공급하면서 일정한 압력을 가하여 감광물질이 분사되게 하는 펌핑(pumping)수단(미도시)을 포함한다.
이때, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 공급부는 감광물질을 저장하는 저 장탱크와 여기에 저장된 감광물질을 슬릿노즐부(200)로 공급하는 공급배관 및 유량 조절장치로 구성된다.
상기 저장탱크는 슬릿노즐부(200)에 공급되는 포토레지스트와 같은 감광액이나 현상액, 컬러필터 등의 도포액이 저장되며 상기 구동부(600)에 부착되어 있을 수 있다. 또한, 상기 펌핑수단은 일정한 압력을 슬릿노즐부(200)에 가하고 그 압력에 의해 슬릿노즐부(200)에 저장된 감광물질이 분사되게 한다.
또한, 상기 펌핑수단은 저장탱크에 설치되어 있을 수 있으며, 저장탱크의 내부를 가압(加壓)하여 상기 저장탱크에 저장된 도포액을 슬릿노즐부(200)로 공급하는 역할을 한다.
상기 구동부(600)는 슬릿노즐부(200)의 양단에 설치되어 상기 슬릿노즐부(200)를 수직방향(Z축 방향)으로 이동시키는 한 쌍의 Z축 구동장치(610)와 상기 슬릿노즐부(200)를 전, 후 방향(Y축 방향)으로 일정한 속도로 이동시켜 기판(100) 표면에 감광물질을 균일하게 분사하도록 하는 한 쌍의 Y축 구동장치(620)를 포함한다.
이때, 상기 Y축 구동장치(620)는 모터(미도시)와 이동레일, 가이드 레일과 같은 이동수단(미도시)으로 구성될 수 있으며, 상기 모터로 비접촉 타입의 리니어(linear) 모터를 사용할 수 있다.
상기 테이블(400) 상부에는 유리기판과 같은 피처리물(100)이 안착되며, 상기 기판(100)을 테이블(400)로부터 들어올리기 위한 핀(미도시)이 테이블 표면에 다수개 설치되어 있다.
이때, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 테이블(400)의 일측에는 예비 토출(吐出)장치가 설치되어 코팅을 처음 시작하는 경우나 매회 코팅이 완료된 다음에 슬릿노즐부(200)로부터 예비 토출을 실시함으로써, 도포액이 슬릿노즐부(200)의 전면에서 균일하게 분포되도록 할 수 있다.
상기 슬릿노즐부(200)는 기판(100) 상부에서 이를 가로지르며 상기 기판(100)의 폭에 대응되는 길이를 가지는 슬릿 형태의 노즐(220)과 상기 노즐(220)이 장착되는 헤드(210)로 구성된다.
이때, 도면에는 자세히 도시하지 않았지만, 상기 노즐(220)은 노즐몸체, 유입구 및 토출구로 구성되며, 상기 노즐몸체 내부에 감광물질을 저장하기 위한 수납 공간을 갖고, 유입구는 노즐몸체에 형성되며 토출구는 노즐몸체 중 기판(100)과 마주보는 면에 형성된다. 이때, 상기 토출구는 폭보다 길이가 긴 슬릿 형상을 갖는다.
또한, 상기 노즐(220)은 상기 Y축 구동장치(620)를 통해 상기 기판(100) 일측으로부터 타측 방향으로 이동하면서 감광물질을 분사함으로써 기판(100) 표면에 감광물질을 균일하게 도포하게 된다. 이와 달리 노즐(220)을 고정시킨 상태로 기판(100)을 슬라이딩시켜 동일한 감광물질 도포공정을 진행할 수도 있다.
이때, 본 실시예의 슬릿코터는 도시된 바와 같이 상기 슬릿노즐부(200) 양 축에 탄성력을 가진 완충부재(500)를 구비함으로써 상기 노즐(220) 양단의 수직방향으로의 높낮이 편차를 자유롭게 조정할 수 있게 된다.
삭제
즉, 상기 슬릿노즐부(200)의 구동 중, 특히 구동하기 시작하는 순간에 발생할 수 있는 충격으로 상기 노즐(220)의 양단이 수직방향으로 과도한 높낮이 편차가 발생하게 되는 경우, 본 실시예의 완충부재(500)를 통해 상기 충격을 흡수하는 동시에 상기 높낮이 편차를 보상하도록 함으로써 상기 높낮이 편차로 인한 과도한 응력(應力) 파괴 및 항복을 미연에 방지할 수 있게 된다. 그 결과 피처리물인 유리기판과 고가의 슬릿코터 장비를 적절하게 보호할 수 있게 된다.
또한, 상기 완충부재(500)는 노즐(220)이 장착된 헤드(225)를 다양한 각도로 기울일 수 있게 함으로 다양한 각도로 코팅이 가능하게 하며, 벤트(vent) 위치에 따른 다양한 내부형상을 갖는 노즐(220)들을 장착할 수 있게 하는 이점을 제공한다. 또한, 공정 중에 헤드(225) 양 축이 서로 다른 Z-위치를 가지도록 제어하면서 코팅할 수도 있기 때문에 다양한 자세에서 코팅이 가능하다. 즉, 본 실시예의 슬릿코터는 상기 슬릿노즐부(200)의 양 축에 완충부재(500)의 구비로 상기 한 쌍의 Z축 구동장치(610)를 서로 독립적으로 제어할 수 있게 되어, 상기 슬릿노즐부(200)의 헤드(225)를 다양한 각도로 기울이거나 상기 헤드(225) 양 축이 서로 다른 Z-위치를 가지도록 할 수 있어 다양한 자세의 코팅이 가능하다.
이때, 본 실시예의 완충부재(500)를 구비한 슬릿코터는 상기 슬릿노즐부(200)의 상, 하 이동시 한쪽 대비 0~60도 정도의 높낮이 편차의 조정이 가능하다.
이와 같은 특징을 가진 본 실시예의 완충부재(500)는 탄성력을 가진 S자 형태로 형성될 수 있으며, 상기 슬릿노즐부(200)의 하중에 따라 그 두께 및 길이의 변화가 가능하다.
도 4a 내지 도 4c는 도 3에 도시된 완충부재를 확대하여 나타내는 예시도로써, 상기 완충부재의 형상을 예를 들어 나타내는 사시도 및 단면도이다.
이때, 도면에는 두 번 굴곡(屈曲)되어 역 S자 형태를 가진 완충부재를 예를 들어 나타내고 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며 탄성력을 가지도록 구성하기만 하면 굴곡의 횟수 및 그 형태에 관계없이 적용될 수 있다.
도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예의 완충부재(500)는 소정의 폭(w)을 가진 역 S자 형태를 가지며, 슬릿노즐부(200)의 헤드(210) 일측과 결합되는 제 1 결합부(510), 구동부(600)의 소정영역과 결합되는 제 2 결합부(520) 및 상기 제 1 결합부(510)와 제 2 결합부(520) 사이에 형성되어 완충작용을 하는 완충부(530)로 이루어진다.
이때, 상기 제 1 결합부(510)에는 상기 슬릿노즐부(200)의 헤드(2105)와 결합하기 위한 나사구멍과 같은 제 1 체결부(540A)를 구비되며, 상기 제 2 결합부(520)의 측면에는 상기 구동부(600)와 결합하기 위한 제 2 체결부(540B)를 구비할 수 있다.
상기 완충부(530)는 라운드 형태로 상기 제 1 결합부(510)에서 한번 굴곡되고 제 2 결합부(520)쪽으로 다시 한번 굴곡되어 역 S자 또는 S자 형태를 가지나, 전술한 바와 같이 본 발명은 상기 완충부(530)의 굴곡되는 횟수와 굴곡되는 각도에 관계없이 적용된다.
이때, 상기 제 1 결합부(510)는 제 1 두께(d1)를 가지고 상기 제 2 결합부 (520)는 제 2 두께(d2)를 가지며, 상기 완충부(530)는 제 3 두께(d3)를 가지는데, 도면에는 상기 제 1 결합부(510), 제 2 결합부(520) 및 완충부(530)가 서로 다른 두께(d1~d3)를 가지도록 형성한 경우를 예를 들어 나타내고 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며 상기 제 1 결합부(510), 제 2 결합부(520) 및 완충부(530)가 동일한 두께(d1~d3)를 가지도록 형성할 수도 있다.
이때, 상기 슬릿노즐부(200)의 하중을 효과적으로 지지하기 위해 상기 제 2 결합부(520)의 제 2 두께(d2)를 상기 제 1 결합부(510)의 제 1 두께(d1)보다 두껍게 가져갈 수 있다.
또한, 전술한 바와 같이 상기 완충부재(500)의 폭(w)과 두께(d1~d3) 및 길이는 상기 슬릿노즐부(200)의 하중, 원하는 높낮이 편차 및 진동한계에 따라 다양하게 조절할 수 있다.
이와 같이 본 실시예의 슬릿코터는 슬릿노즐부(200)의 양 축에 완충부재(500)를 구비함으로써 노즐(220)이 장착된 헤드(210)를 다양한 각도로 기울일 수 있으므로 다양한 각도로 코팅이 가능하게 하며, 공정 중에 헤드(210) 양 축이 서로 다른 Z-위치를 가지도록 제어하면서 코팅할 수도 있기 때문에 다양한 자세의 코팅이 가능하다.
또한, 본 실시예의 완충부재(500)를 통해 Z축, 즉 수직방향으로의 이동이 원활하여, 강건한 구조 설계에 따른 양 축의 높낮이 편차로 인한 과도한 응력 파괴 및 항복을 미연에 방지할 수 있게 된다.
또한, 상기 완충부재(500)의 구비로 슬릿노즐부(200)를 처음 장착하여 슬릿코터를 셋-업(set up)하는 경우나, 고장이나 교체 등의 이유로 상기 슬릿노즐부(200)를 분리한 다음 다시 장착하는 경우에 하중 집중을 완충할 수 있기 때문에 슬릿노즐(220) 양측의 수직위치를 정확히 맞추지 않은 상태(기존에는 슬릿노즐의 수직위치를 정확히 맞추지 않으면, 상기 슬릿노즐의 한쪽으로 하중이 집중되어 슬릿노즐부나 슬릿노즐부가 장착되는 헤드가 파괴되므로, 상기 슬릿노즐 양측의 수직위치를 정확히 맞추어야 함)에서 조립할 수 있고, 나중에 상기 슬릿노즐(220) 양측의 수직위치를 맞출 수 있기 때문에 셋-업 시간이 단축되게 되는 이점이 있다.
또한, 전술한 바와 같이 본 실시예의 슬릿코터는 헤드(210) 양 축이 서로 다른 Z-위치를 가지도록 제어할 수 있어 벤트 위치에 따른 다양한 내부형상을 갖는 노즐(220)들을 장착할 수 있게 되는데, 이를 도면을 참조하여 자세히 설명한다.
도 5는 도 3에 도시된 노즐을 확대하여 나타내는 단면도이다.
도면에 도시된 바와 같이, 노즐(220)은 크게 제 1 노즐몸체(221), 제 2 노즐몸체(222)와 유입구(225) 및 토출구(226)로 이루어져 있다.
이와 같이 노즐(220)은 두 부분의 노즐몸체(221, 222)가 결합된 구조를 가지며, 상기 제 1 노즐몸체와 제 2 노즐몸체 사이에는 펌핑수단에 의해 가압(加壓)되는 감광물질을 균일하게 분사시키기 위해 소정량이 일시 저장되는 수납공간(223)이 형성되어 있다.
이때, 상기 유입구(225)는 상기 제 2 노즐몸체(222)의 상부에 형성되어 상기 수납공간(223)에 감광물질을 공급하게 되며, 상기 토출구(226)는 폭보다 길이가 긴 슬릿 형상으로 기판(100)과 마주보는 면에 형성되어 상기 기판(100) 표면에 면 형 태의 감광물질을 도포하게 된다.
그리고, 상기 제 1 노즐몸체(221)와 제 2 노즐몸체(222)사이의 갭은 스테인리스 스틸재질의 매우 얇은 쐐기(shim)(224)에 의해 결정되고 유지되게 된다.
도 6a 내지 도 6c는 다양한 내부형상을 가진 노즐의 내면을 나타내는 단면도로써, 벤트 위치에 따라 다양한 내부형상을 가진 제 2 노즐몸체의 내면을 나타내고 있다.
이때, 도 6a는 벤트(227A)가 제 2 노즐몸체(222A)의 중앙에 형성된 경우를 나타내고 도 6b는 벤트(227B)가 제 2 노즐몸체(222B)의 중앙과 그 좌우에 형성된 경우를 나타내며, 도 6c는 벤트(227C)가 제 2 노즐몸체(222C)의 한쪽에 치우쳐 형성된 경우를 나타내고 있다.
도면에 도시된 바와 같이, 제 2 노즐몸체(222A~222C)는 유입구(미도시)와 수납공간(223A~223C) 및 토출구(226A~226C)로 이루어져 있다. 이때, 상기 제 2 노즐몸체(222A~222C)의 상부에는 다양한 위치를 가진 벤트(227A~227C)가 형성되어 있으며, 상기 벤트(227A~227C)는 상기 수납공간(223A~223C)에 감광물질을 처음 채우는 경우와 같이 수납공간(223A~223C) 내부에 에어가 발생할 때 상기 에어를 배출하기 위해 형성한다.
이와 같이 벤트(227A~227C)는 다양한 위치에 형성되게 되는데, 상기 도 6c와 같이 벤트(227C)가 제 2 노즐몸체(222C)의 일측에 치우쳐 형성되는 경우에는 상기 벤트(227C)를 이용하여 에어를 배출하기 위해서는 상기 노즐(220)을 소정각도로 기울여야 한다. 이때, 전술한 바와 같이 본 발명의 완충부재는 헤드의 양 축을 서로 다른 Z-위치를 가지도록 제어할 수 있어 벤트 위치에 따른 다양한 내부형상을 갖는 노즐들을 자유롭게 장착하여 사용할 수 있는 장점이 있다.
상기한 설명에 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나 이것은 발명의 범위를 한정하는 것이라기보다 바람직한 실시예의 예시로서 해석되어야 한다. 따라서 발명은 설명된 실시예에 의하여 정할 것이 아니고 특허청구범위와 특허청구범위에 균등한 것에 의하여 정하여져야 한다.
상술한 바와 같이 본 발명에 의한 슬릿코터는 슬릿노즐부 양 축에 탄성력을 가진 완충부재를 형성하여 상기 양 축의 높낮이 편차를 보상함으로써 편차로 인한 과도한 응력 파괴 및 항복을 방지할 수 있게 된다. 그 결과 슬릿코터의 유지비용을 감소시키며 유리기판의 손실을 방지하는 효과를 제공한다.
또한, 본 발명은 부품 교체를 용이하게 하며 셋-업 시간을 단축시켜 이에 따른 공정시간을 단축시키는 효과를 제공한다.

Claims (14)

  1. 피처리물이 안착되는 테이블;
    상기 테이블의 상부에 형성되어, 상기 피처리물 표면에 도포액을 도포하는 슬릿노즐부;
    상기 슬릿노즐부를 이동하기 위한 구동부; 및
    상기 슬릿노즐부의 양 축에 설치되며, 탄성력을 가진 완충부재를 포함하는 슬릿코터.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 피처리물은 유리기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿코터.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 도포액은 포토레지스트와 같은 감광액, 현상액 또는 컬러필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿코터.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 슬릿노즐부는 폭이 길이보다 긴 슬릿 형태의 노즐과 상기 노즐이 장착되는 헤드로 구성되는 것을 특징으로 하는 슬릿코터.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 구동부는 상기 슬릿노즐부를 피처리물의 일측에서 타측으로 이동시키는 적어도 하나의 Y축 구동장치와 상기 슬릿노즐부를 수직방향(Z 축 방향)으로 이동시키는 적어도 하나의 Z축 구동장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿코터.
  6. 제 4 항에 있어서, 상기 완충부재는 상기 헤드의 일측과 결합하는 제 1 결합부, 상기 구동부와 결합하는 제 2 결합부 및 상기 제 1 결합부와 제 2 결합부 사이에 구성되는 완충부로 이루어진 것을 특징으로 하는 슬릿코터.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 완충부는 상기 제 1 결합부와 제 2 결합부 사이에 절곡되는 라운드 형태를 가지는 것을 특징으로 하는 슬릿코터.
  8. 제 6 항에 있어서, 상기 완충부는 상기 제 1 결합부에서 한번 절곡되고 상기 제 2 결합부 쪽으로 다시 한번 절곡되어 S자 또는 역 S자 형태를 가지는 것을 특징으로 하는 슬릿코터.
  9. 제 6 항에 있어서, 상기 슬릿노즐부의 하중, 원하는 높낮이 편차 및 진동한계에 따라 상기 제 1 결합부, 제 2 결합부 및 완충부의 폭, 두께 및 길이가 정해지는 것을 특징으로 하는 슬릿코터.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 제 2 결합부는 제 1 결합부보다 그 두께가 두꺼운 것을 특징으로 하는 슬릿코터.
  11. 제 1 항에 있어서, 상기 완충부재는 상기 슬릿노즐부의 양 축에 위치해 Z축 방향으로의 독립적인 위치 조정이 가능한 것을 특징으로 하는 슬릿코터.
  12. 제 11 항에 있어서, 상기 슬릿노즐부는 Z축 방향으로 독립적인 위치 조정시 한쪽 대비 0~60도의 편차가 가능한 것을 특징으로 하는 슬릿코터.
  13. 제 12 항에 있어서, 상기 슬릿노즐부는 상기 슬릿노즐부 양 축에 완충부재를 구비하여 상기 높낮이 편차에도 구동이 가능한 것을 특징으로 하는 슬릿코터.
  14. 제 4 항에 있어서, 상기 노즐 상부에 형성되어 에어를 배출하는 벤트를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿코터.
KR1020040118441A 2004-12-31 2004-12-31 슬릿코터 KR100675643B1 (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040118441A KR100675643B1 (ko) 2004-12-31 2004-12-31 슬릿코터
US11/211,215 US7416758B2 (en) 2004-12-31 2005-08-19 Slit coater

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040118441A KR100675643B1 (ko) 2004-12-31 2004-12-31 슬릿코터

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060078478A KR20060078478A (ko) 2006-07-05
KR100675643B1 true KR100675643B1 (ko) 2007-02-02

Family

ID=36640751

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040118441A KR100675643B1 (ko) 2004-12-31 2004-12-31 슬릿코터

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7416758B2 (ko)
KR (1) KR100675643B1 (ko)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101243087B1 (ko) * 2006-09-14 2013-03-13 주식회사 케이씨텍 슬릿 코터
US8282994B2 (en) * 2010-01-21 2012-10-09 Empire Technology Development Llc Can coatings
WO2012039708A1 (en) 2010-09-22 2012-03-29 Empire Technology Development Llc Can with bisphenol a capture system
US20140322449A1 (en) * 2013-04-25 2014-10-30 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Photoresist Coating Device and Coating Method Thereof
KR102158033B1 (ko) * 2013-08-13 2020-09-21 주식회사 탑 엔지니어링 슬릿노즐을 이용하는 도포층 형성방법 및 도포장치

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0731168U (ja) * 1993-05-31 1995-06-13 平田機工株式会社 流体塗布装置

Family Cites Families (68)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4661368A (en) * 1985-09-18 1987-04-28 Universal Instruments Corporation Surface locating and dispensed dosage sensing method and apparatus
JPS6432680U (ko) 1987-08-21 1989-03-01
JP2659731B2 (ja) 1987-12-21 1997-09-30 東レ株式会社 連続して走行する板状体の表面に塗料を塗布する方法
US5167837A (en) 1989-03-28 1992-12-01 Fas-Technologies, Inc. Filtering and dispensing system with independently activated pumps in series
EP0565151A3 (en) * 1992-04-09 1993-11-24 Ibm Manufacture of multi-layer ceramic interconnect structures
JP2813511B2 (ja) 1992-06-10 1998-10-22 大日本スクリーン製造株式会社 ロールコータによる基板表面への塗液塗布方法
JPH0780385A (ja) 1993-09-10 1995-03-28 Hirata Corp 塗布ヘッド洗浄装置及び塗布ヘッドの洗浄方法
JP3597214B2 (ja) 1993-12-21 2004-12-02 大日本スクリーン製造株式会社 塗布装置および塗布方法
JP3445343B2 (ja) 1993-12-28 2003-09-08 Tdk株式会社 塗布方法および塗布装置
JPH07185434A (ja) 1993-12-28 1995-07-25 Kao Corp 塗布装置
JPH07284715A (ja) 1994-04-15 1995-10-31 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 処理液塗布装置及び処理液塗布方法
JPH07326564A (ja) 1994-06-02 1995-12-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置
US5688324A (en) 1994-07-15 1997-11-18 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Apparatus for coating substrate
JP3267822B2 (ja) 1994-12-02 2002-03-25 大日本スクリーン製造株式会社 基板への塗布液塗布装置
JPH08150359A (ja) 1994-11-29 1996-06-11 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 処理液塗布装置
JPH08173875A (ja) 1994-12-22 1996-07-09 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置および塗布方法
JP3791018B2 (ja) 1994-12-26 2006-06-28 東レ株式会社 スリットダイコータ口金およびそれを用いた塗膜の製造方法
WO1996020045A1 (fr) 1994-12-28 1996-07-04 Toray Industries, Inc. Procede de depot d'une revetement et appareil associe
JPH09131561A (ja) 1995-11-09 1997-05-20 Toray Ind Inc 塗布装置および塗布方法並びにカラーフィルタの製造装置および製造方法
JP3563851B2 (ja) 1995-12-05 2004-09-08 大日本スクリーン製造株式会社 基板搬送装置
JPH09164357A (ja) 1995-12-18 1997-06-24 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 液体塗布装置
JP3757992B2 (ja) 1996-01-18 2006-03-22 東レ株式会社 塗布装置および塗布方法並びにカラーフィルタの製造方法および製造装置
JPH09201558A (ja) * 1996-01-29 1997-08-05 Techno Kapura:Kk 塗布装置
JP3731616B2 (ja) 1996-01-30 2006-01-05 東レ株式会社 塗布装置および塗布方法並びにカラーフィルタの製造装置および製造方法
JP3462657B2 (ja) 1996-02-29 2003-11-05 大日本スクリーン製造株式会社 薄膜形成装置および薄膜形成方法
JP3381216B2 (ja) 1996-04-09 2003-02-24 東京応化工業株式会社 塗布ノズルの洗浄装置
JP3629334B2 (ja) 1996-04-09 2005-03-16 大日本スクリーン製造株式会社 塗布装置
JP3386655B2 (ja) 1996-04-24 2003-03-17 大日本スクリーン製造株式会社 塗布装置
JP3278714B2 (ja) * 1996-08-30 2002-04-30 東京エレクトロン株式会社 塗布膜形成装置
JP3245813B2 (ja) 1996-11-27 2002-01-15 東京エレクトロン株式会社 塗布膜形成装置
JP3645686B2 (ja) 1997-05-01 2005-05-11 東京応化工業株式会社 塗布ノズルの洗浄装置及び洗浄方法
JP3711189B2 (ja) 1997-05-23 2005-10-26 大日本スクリーン製造株式会社 基板搬送装置
DE59811823D1 (de) * 1997-09-05 2004-09-23 Esec Trading Sa Halbleiter-Montageeinrichtung zum Auftragen von Klebstoff auf einem Substrat
JP3437446B2 (ja) 1997-09-16 2003-08-18 東京応化工業株式会社 薬液処理装置
KR20010024841A (ko) 1998-01-09 2001-03-26 파스타 리미티드 압출 헤드의 클리닝 및 프라이밍 시스템 및 그 방법
JP2002500099A (ja) 1998-01-09 2002-01-08 エフエイスター、リミティド 可動ヘッド、塗装装置、および方法
JP3945551B2 (ja) 1998-01-19 2007-07-18 東京応化工業株式会社 塗布用ノズル
JP3511230B2 (ja) 1998-11-02 2004-03-29 東京応化工業株式会社 塗布ノズルの乾燥防止装置および乾燥防止方法
US6548115B1 (en) 1998-11-30 2003-04-15 Fastar, Ltd. System and method for providing coating of substrates
JP3808649B2 (ja) 1998-12-10 2006-08-16 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
US6319323B1 (en) 1999-01-08 2001-11-20 Fastar, Ltd. System and method for adjusting a working distance to correspond with the work surface
US6475282B1 (en) 1999-01-08 2002-11-05 Fastar, Ltd. Intelligent control system for extrusion head dispensement
KR100519983B1 (ko) 1999-01-18 2005-10-13 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법
JP3511106B2 (ja) 1999-04-07 2004-03-29 東京応化工業株式会社 スリットノズルの洗浄装置
JP2001103202A (ja) 1999-09-30 2001-04-13 Sanyo Electric Co Ltd ファクシミリ装置
JP2001310147A (ja) 2000-05-02 2001-11-06 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd スリットコータの予備吐出装置および予備吐出方法
JP4301694B2 (ja) 2000-05-02 2009-07-22 東京応化工業株式会社 塗布装置
JP2002015664A (ja) 2000-06-28 2002-01-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd プラズマディスプレイパネルの製造方法
JP4577964B2 (ja) 2000-09-04 2010-11-10 東京応化工業株式会社 塗布装置の洗浄方法
JP4004216B2 (ja) 2000-09-04 2007-11-07 東京応化工業株式会社 塗布装置
JP3683485B2 (ja) 2000-09-05 2005-08-17 東京応化工業株式会社 洗浄液の供給システム
JP4130058B2 (ja) 2000-10-10 2008-08-06 東京応化工業株式会社 塗布方法
US6641670B2 (en) 2000-10-12 2003-11-04 Toray Industries, Inc. Leaf coater for producing leaf type coated substrates
CN1267205C (zh) 2000-12-27 2006-08-02 东丽株式会社 喷嘴及涂布液的涂布装置和涂布方法
JP3910017B2 (ja) 2001-01-15 2007-04-25 東京応化工業株式会社 被膜形成方法
JP2002282760A (ja) 2001-03-26 2002-10-02 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 液体供給ノズル及びその製造方法、処理装置ならびに処理方法
JP4004239B2 (ja) 2001-04-02 2007-11-07 東京応化工業株式会社 基板搬送装置
JP2002346453A (ja) 2001-05-28 2002-12-03 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 薄膜形成装置
TW548143B (en) 2001-06-29 2003-08-21 Dainippon Screen Mfg Substrate application apparatus, liquid supply apparatus and method of manufacturing nozzle
KR20030011463A (ko) 2001-08-03 2003-02-11 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 슬릿 코터의 예비토출장치 및 예비토출방법
KR100840730B1 (ko) 2001-08-03 2008-06-23 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 도포장치
JP2003093944A (ja) 2001-09-27 2003-04-02 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板への塗布液の塗布装置
JP4118659B2 (ja) 2001-12-03 2008-07-16 東京応化工業株式会社 基板用トレイ
JP2003236435A (ja) 2002-02-18 2003-08-26 Hirata Corp 液体塗布装置
JP3808792B2 (ja) * 2002-03-28 2006-08-16 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置およびスリットノズル
KR100491257B1 (ko) * 2002-12-31 2005-05-24 엘지.필립스 엘시디 주식회사 반투과형 액정표시장치
JP2004226717A (ja) * 2003-01-23 2004-08-12 Renesas Technology Corp マスクの製造方法および半導体集積回路装置の製造方法
JP4203956B2 (ja) * 2003-02-07 2009-01-07 富士通株式会社 電源供給端子

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0731168U (ja) * 1993-05-31 1995-06-13 平田機工株式会社 流体塗布装置

Also Published As

Publication number Publication date
US7416758B2 (en) 2008-08-26
US20060147621A1 (en) 2006-07-06
KR20060078478A (ko) 2006-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101097519B1 (ko) 도포액 도포장치 및 이를 이용한 도포막의 형성방법
US7647884B2 (en) Slit coater with a standby unit for a nozzle and a coating method using the same
KR100803147B1 (ko) 도포장치 및 이를 이용한 처리액의 도포 방법
US7416758B2 (en) Slit coater
KR101025103B1 (ko) 슬릿노즐을 구비하는 포토레지스트 도포장치
KR100934834B1 (ko) 도포액 도포장치 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법
KR100542151B1 (ko) 레지스트막의 형성 방법 및 포토 마스크의 제조 방법
US20060147618A1 (en) Slit coater with a service unit for a nozzle and a coating method using the same
KR102096956B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
KR200456619Y1 (ko) 슬릿 코터
KR102125793B1 (ko) 기판 처리 장치
KR101130920B1 (ko) 도포액 도포장치 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법
JP2002028552A (ja) 塗布装置
KR20080026341A (ko) 슬릿 코터
JP4183121B2 (ja) 現像処理方法及び現像処理装置
JP3840238B2 (ja) 処理液塗布装置
JPH1147662A (ja) 塗膜形成方法及び塗膜形成装置
JP3879880B2 (ja) 基板処理装置
KR100204535B1 (ko) 감광액 도포시스템과 감광액 도포시스템에서의웨이퍼 세정방법
JP2004336070A (ja) 処理液塗布装置
KR100943324B1 (ko) 슬릿 코터 및 코팅액 도포방법
KR100930669B1 (ko) 비평면 코팅 장치 및 방법
JP3840239B2 (ja) 処理液塗布装置
JPH07328515A (ja) 処理液塗布装置
JPH07335527A (ja) 処理液塗布装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
N231 Notification of change of applicant
N231 Notification of change of applicant
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121228

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131227

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151228

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161214

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171218

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181226

Year of fee payment: 13