KR20010024841A

KR20010024841A - 압출 헤드의 클리닝 및 프라이밍 시스템 및 그 방법

Info

Publication number: KR20010024841A
Application number: KR1020007007606A
Authority: KR
Inventors: 그레고리엠. 깁슨; 존이. 하위스; 세머마모드 캡베이니; 오시티. 스노드그라스
Original assignee: 파스타 리미티드
Priority date: 1998-01-09
Filing date: 1999-01-08
Publication date: 2001-03-26
Also published as: JP2002500097A; CN1296427A; WO1999034929A1; US6488041B1

Abstract

본 발명은 코팅 장치의 압출 헤드 또는 코팅의 자동 클리닝에 적절한 시스템 및 방법에 관한 것이다. 본 발명은 물리적 콘택트 및 강한 용매 용액의 조합이 압출 헤드의 외부로부터 코팅 유체를 제거하기 위해 조합되는 경우의 스크러빙 스테이션을 포함한다. 제2 클리닝 스테이션, 바람직하게는 헹굼 스테이션은 부가로 코팅 유체의 비드를 클리닝시키고, 제1 클리닝 스테이션에 사용된 용매를 제거한다. 헹굼 스테이션에 사용된 용매는 자체-건조됨으로써 임의의 부가의 클리닝 작용에 대한 필요성을 미연에 방지하는 것이 바람직하다. 본 발명은 헤드가 기판 코팅을 시작하기 전에 완전하게 형성된 비드를 용이하게 갖도록 압출 헤드에서 코팅 비드를 프라이밍할 능력을 제공함으로써 상기 기판을 가로질러 균일한 코팅을 제공한다. 프라이밍 오퍼레이션은 일정한 용적식 유량으로 유체를 압출하면서 회전 프라이밍 롤러 상에서 헤드를 확고하게 유지시키는 단계를 포함하는 것이 바람직하다. 압출 헤드는 코팅 비드가 적절히 형성될 때 프라이밍 스테이션으로부터 제거되고, 압출된 코팅 물질은 프라이밍 스테이션에서 용매 조에 용해된다. 프라이밍 오퍼레이션은 클리닝 스테이션에서 수행될 수도 있다.

Description

압출 헤드의 클리닝 및 프라이밍 시스템 및 그 방법{System and method for cleaning and priming extrusion head}

본 출원은 1998년 1월 9일자로 출원되고, "압출 코팅을 위한 방법 및 장치(METHOD AND APPARATUS FOR EXTRUSION COATING)"라는 표제의 미합중국 임시 출원 제60/070,986호의 이점을 청구하며, 그의 개시 내용을 참고 문헌으로서 본 명세서에 기재한다.

본 발명은 또한 동시 출원되어 동시 계류 중이고, 공통으로 양도된 특허 출원들: 즉, "압출 헤드 디스펜서용 지능 제어 시스템(INTELLIGENT CONTROL SYSTEM FOR EXTRUSION HEAD DISPENSEMENT)"이라는 표제의 특허 출원 제[54183-P003US- 986100] 호; "선형 현상기(LINEAR DEVELOPER)"라는 표제의 특허 출원 제[54183-P008US-986104]호; "이동 헤드, 코팅 장치 및 방법(MOVING MEAD, COATING APPARATUS AND METHOD)"라는 표제의 특허 출원 제[54183-PO13US-986110]호; "습식 성분들을 코팅 장치와 상호 접경시키는 시스템 및 방법(SYSTEM AND METHOD FOR INTERCHANGEABLY INTERFACING WET COMPONENTS WITH A COATING APPARATUS)"이라는 표제의 특허 출원 제[54183-P014US-987565]호; 및 "작업 공간에 대응시키기 위해 작업 거리를 조절하는 시스템 및 방법(SYSTEM AND METHOD FOR ADUSTING A WORKING DISTANCE TO CORRESPOND WITH THE WORK SPACE)"이라는 표제의 특허 출원 제[54183-P016US-987567]호에 관련된 것으로 이들 출원의 개시 내용을 참고 문헌으로 본 명세서에 기재한다.

본 출원은 또한 동시 계류 중이고 공통으로 양도된 특허 출원들: 즉, "선형 압출 코팅 시스템 및 방법(LINEAR EXTRUSION COATING SYSTEM AND METHOD)"이라는 표제의 특허 출원 제[54183-P001US-985245]호; 및 "기판의 코팅 제공 시스템 및 그 방법(SYSTEM AND METHOD FOR PROVIDING COATING OF SUBSTRATES)"이라는 표제의 특허 출원 제[54183-P012US-986109]호에 관련된 것으로 이들 출원의 개시 내용을 본 명세서에 참고 문헌으로 기재한다.

압출 코팅은 마이크로일렉트로닉스 및 디스플레이 기술 업계에서 기판, 웨이퍼, 편평 패널 디스플레이, 및 유사한 대상물(총괄하여 "기판") 상으로 프로세스 코팅을 직접적으로 증착시키는 공지된 방법이다. 전형적인 선행 기술 시스템에 따라, 기판들은 압출 코팅 헤드 아래 선형으로 수송되고, 프로세스 유체는 마이크로프로세서-기재 전기 수력학적 펌핑 시스템을 사용하여 압출 헤드에서 선형 구멍으로부터 정확하게 분배된다. 한가지 그러한 시스템은 "큰 표면적의 집적 회로 형성 방법(METHOD OF FORMING A LARGE SURFACE AREA INTEGRATED CIRCUIT)"이라는 표제의 미합중국 특허 제4,696,885호에 개시되어 있다. 특정 특허 출원에 따라, 그러한 프로세스 유체는 포토레지스트, 폴리이미드, 컬러 필터 물질 등을 포함한다. 그러한 압출 코팅 기술은 대량 생산 요건 뿐만 아니라 연구 및 개발 활동에 적합하다.

이러한 유형의 공지된 압출 시스템은 다른 액체 증착 기술(예를 들면 스핀 코팅)에 비해 현저한 장점을 제공하지만, 이들 시스템은 종종 유사한 문제, 보다 상세하게는 코팅 헤드가 특정 용도 중에 기판의 리딩 에지에서 균일한 코팅을 확립할 수 없는 문제를 겪게 된다. 이들 시스템에서, 각각의 기판은 웹 코팅 프로세스와 달리 불연속 부분이고, 따라서 코팅 증착은 각각의 새로운 기판에 의해 시작되고 종료된다. 부분 프로세싱에 의한 그러한 부품과 더불어, 코팅 "헤드"는 압출 헤드와 각각의 새로운 기판 사이에 재형성됨으로써 표면을 "습식"시킨다. 그러나, 이러한 헤드가 기판과 초기에 접촉할 때, 코팅의 리딩 에지로부터 약간의 측정 가능한 거리(예, 5-20mm) 동안 "동요(perturbation)"를 유발할 수 있다. 때때로 이러한 유형의 리딩 에지 변칙은 기판이 완전히 리젝트되고, 따라서 재료 및 프로세스 단가를 증가시키고 프로세스 효율을 감소시키는 것을 지시한다.

선형 또는 이른바 슬롯형 압출 코터에서 균일한 코팅 조건을 확립하는 문제를 지시하기 위한 시도들이 당업계에서 이루어져 왔고, 이러한 유형의 시스템은 "인쇄 회로 기판의 패치 코팅을 위한 방법 및 장치(METHOD AND APPARATUS FOR PATCH COATING PRINTED CIRCUIT BOARDS)"라는 표제의 미합중국 특허 제4,938,994호 및 "인쇄 회로 기판의 패치 코팅 장치(APPARATUS FOR PATCH COATING PRINTED CIRCUIT BOARDS)"라는 표제의 미합중국 특허 제5,183,508호에 예시되어 있다. 이들 특허에서, 액체의 제어된 용적식 유량은 압출 헤드 내의 액체 함유 챔버로 유도되고, 이어서 도포기를 통해 슬롯을 따라 각각의 지점으로부터 배출된 액체의 균일한 용적시 유량이 되게 하는 것을 생성하도록 홈을 판다. 압출 헤드와 연관된 변위 피스톤은 액체의 제어된 용적식 유량을 전송하기 전에, 또는 그와 동시에, 또는 그 후에 액체 코팅의 접속 비드의 형성을 에어하는 유체 펄스를 발생시킨다. 이러한 기술은 기판에 대한 액체의 단위 면적당 정확하게 제어된 체적으로 액체 층을 도포하는 것을 의미한다. 선행 기술의 기계는 또한 도포 사이의 압출 헤드 슬롯을 클리닝하는 슬롯 실링 유니트를 포함한다. 그러나, 선행 기술의 시스템은 코팅 오퍼레이션 중간에 헤드의 상태를 모방하는 코팅 오퍼레이션의 시작 시에 압출 헤드에 대한 조건에 영향을 미치지 않는다. 따라서, 정상 상태 코팅 속도 쪽으로 점진적으로 드리프트하는 문제점이 남아 리딩 에지 동요를 초래한다. 따라서, 선행 기술은 코팅의 불균일성에 영향을 미칠 수 있는 리딩 에지 동요의 문제점을 적절히 지시하지 않는다.

코팅 오퍼레이션 후 압출 헤드 둘레에서 수집된 코팅 물질의 드리핑 또는 손상을 피하기 위해, 새로운 코팅 오퍼레이션이 시작되기 전에 압출 헤드를 종종 클리닝할 필요가 있다. 선행 기술에서, 압출의 클리닝 메카니즘은 통상적으로 수동으로 수행되고, 잠정적으로 코팅 오퍼레이션의 모순된 결과 및 파열 및 지연을 유도한다. 코팅 오퍼레이션 동안 압출에 대해 잔류하는 코팅 물질의 존재는 잔류 물질 상에, 기판 상에 및(또는) 코팅 장치의 일부 상에서 수집된 오염물 또는 코팅 물질의 원치 않는 침착을 초래할 수 있다. 따라서, 선행 기술에서 수동 클리닝 오퍼레이션이 모순되고 신뢰할 수 없는 것이 문제이다.

따라서, 배치 프로세스에서 기판의 슬롯 타입 코팅 동안 발생하는 리딩 에지 변칙의 문제점을 극복할 메커니즘이 당업계에 필요하다.

또한, 코팅 물질이 기판상으로 또는 다른 표면 상으로 드리핑되는 것을 방지하도록 압출 헤드를 효과적이고 일관되게 클리닝할 메커니즘이 당업계에 필요하다.

본 발명은 일반적으로 압출 헤드의 클리닝 및 프라이밍 시스템 및 그 방법에 관한 것이며, 보다 상세하게는 자동 코팅 장치를 사용하기에 적절한 철저하고 공간 효율적인 방식으로 그러한 클리닝 및 프라이밍을 수행하는 것에 관한 것이다.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 클리닝 및 프라이밍 어셈블리의 사시도.

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 클리닝 및 프라이밍 어셈블리의 단면도.

도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 클리닝 및 프라이밍 어셈블리의 실행을 나타내는 도면.

도 4는 본 발명의 대안의 실시예에 따른 압출 헤드에 근접한 클리닝 및 프라이밍 어셈블리의 실행을 나타내는 도면.

도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 프라이밍 장치에 근접한 압출 헤드의 전개도.

도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 프라이밍 스테이션의 단면도.

도 6A는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 프라이밍 롤러의 측면도.

도 7은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 압출 헤드 클리닝 어셈블리의 단면도.

도 8은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 압출 헤드 스크러빙 스테이션의 부품들의 전개도.

도 9는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 스크러빙 스테이션 내의 클리닝 위치의 압출 헤드를 나타내는 도면.

도 10은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 스크러빙 스테이션을 나타내는 도면.

도 11은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 헹굼 스테이션의 단면도.

도 12는 본 발명의 대안의 바람직한 실시예에 따른 헹굼 스테이션의 단면도.

도 13은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 헹굼 스테이션의 등각도.

도 14는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 헹굼 스테이션의 등각도.

이들 목적 및 기타 목적, 특징 및 기술적 장점은 선택된 시간에 압출 또는 분배 헤드의 자동 클리닝 및 프라이밍을 가능케 하는 클리닝 및 프라이밍 어셈블리를 제공하는 시스템 및 방법에 의해 달성된다.

본 발명의 바람직한 실시예는 클리닝 및 프라이밍 오퍼레이션이 압출 헤드를 스테이션으로 향하게 함에 따라 자동으로 수행될 수 있는 것이 바람직한 클리닝 스테이션 및 프라이밍 스테이션을 포함하는 스테이션을 포함한다.

본 발명의 바람직한 실시예에서, 하나의 클리닝 오퍼레이션은 건조된 코팅 물질을 포함하는 특히 점성 또는 끈적거리는 유체 보강재가 압출 헤드의 외부로부터 클리닝될 수 있고, 보강재가 유체 단독에 의해 클리닝될 여지가 없는 효과적인 클리닝 프로세스를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 이와 같이 효과적인 클리닝 오퍼레이션은 마찰 스테이션에서 수행된다. 효과적인 클리닝 오퍼레이션은 클리닝 스테이션의 소자들과 압출 헤드 간의 직접적인 기계적인 접촉을 포함하는 것이 바람직하다. 바람직한 실시예에서, 이러한 기계적인 접촉은 모든 물질 보강재를 제거하기 위해 압출 헤드의 외부를 따라 충분한 거리를 접촉하는 스크러버 형태이다.

바람직하게는, 스크러버는 압출 헤드와 접촉함으로써 헤드로부터 센털로 코팅 물질을 전송하는 수많은 센털을 포함한다. 대안으로, 스크러버는 헤드와 접촉하고 흡수 및 닦음 접촉의 조합을 통해 물질을 제거하는 직물, 스폰지 또는 기타 적절한 물질을 포함하는 표면을 포함할 수 있다.

센털 또는 기타 장치의 효과적인 클리닝 메카니즘은 헤드 외부로부터 벗어나 코팅 물질을 전송시키는 데 보조하도록 유체 분무액 또는 헹굼액과 관련되어 헤드와 접촉하는 것이 바람직하다. 바람직하게는, 유체는 저장기 내에 유지될 수 있고 센털 또는 기타 접촉 장치와 압출 헤드 간의 접촉점 쪽으로 연속적으로 펌프될 수 있다. 선택된 간격으로 대체되는 것이 바람직한 유체의 일정한 푸울이 사용될 수 있다. 바람직한 실시예에서, 스크러버와 관련하여 사용될 유체는 이러한 클리닝 오퍼레이션이 점성 물질의 정화 쪽으로 지향되리라는 기대에 일치하는 강한 용매이다. 용매의 사용은 그것이 헤드 표면 상에 여전히 존재하면서 코팅 물질을 파괴하는 데 조력함으로써 클리닝 프로세스를 보조하고, 스크러버 상으로 전송된 코팅 물질을 용해시킴으로써 스크러버를 정화되게 유지한다. 대안으로, 화학적 불활성 또는 기타 유체는 제거된 코팅 물질을 가져가기 위해서 뿐만 헤드와 클리닝 메카니즘의 접촉을 위한 윤활을 제공하기 이해 사용될 수 있다.

바람직하게는, 과량 물질의 클리닝될 표면의 가장 철저하고 가능한 마찰 유효 범위를 달성하기 위해 센털 또는 기타 접촉 장치와 헤드 간에 상대적인 운동이 구현될 수 있다. 바람직한 실시예에서, 적어도 하나의 원통형 스크러버는 헤드의 표면에 반하여 헤드에 평행한 축 둘레로 회전할 수 있으므로써, 압축 공간 내에서 목적하는 상대적인 운동을 제공한다. 이러한 원통형 스크러버의 축은 고정됨으로써 최소 풋프린트를 제공하는 데 보조하지만, 헤드의 외부 상의 보다 큰 표면적에 도달하거나 또는 그에 의해 가해진 클리닝 압력에서 조절을 허용하도록 스프링 로딩 하에 또는 제어된 운동의 일부 형태하에 선형으로 또는 모나게 이동할 수 있다.

대안으로, 스크러버와 헤드 간의 목적하는 상대 운동은 헤드 또는 스크러버 또는 이들의 선형 운동을 통해 달성될 수 있다. 더욱이, 스크러버는 선형 운동 및 헤드에 수직인 축 둘레의 회전 운동의 조합을 경험함으로써 선회를 제공하고 클리닝될 영역의 보다 큰 전반적인 유효 범위를 인에이블시킨다. 바람직하게는 스크러버는 헤드를 손상시키지 않고 헤드의 방향으로 스크러버의 선형 운동의 일부 양을 허용하는 기계적 컴플라이언스를 포함한다.

바람직한 실시예에서, 물질은 코팅 물질을 그로부터 제거하도록 작동하는 스크러버의 표면과 접촉하는 블레이드 또는 기타 강성 표면을 배치함으로써 압출 헤드로부터 물질을 제거하는 회전하는 스크러버로부터 제거된다. 바람직하게는 블레이드 또는 기타 표면은 압출 헤드와 접경되지 않도록 스크러버의 하위 측면 상에 배치되지만, 스크러버의 도달 범위 내의 어느 곳에나 위치할 수 있다. 블레이드는 임의의 탄성 및 강성 물질로 구성될 수 있지만 금속이 바람직하다.

바람직한 실시예에서, 헹굼 스테이션은 압출 헤드에 대한 단독 클리닝 스테이션으로서 사용될 수 있는 클리닝 스테이션의 일부로서 배치되고, 따라서 상기 마찰 스테이션은 목적하는 실시예에서 생략될 수 있거나, 또는 헤드가 마찰 스테이션에서 클리닝된 후 헤드의 보다 정제된 클리닝이 발생하는 서브-스테이션으로서 사용될 수 있다. 헹굼 스테이션을 위한 유체는 마찰 스테이션을 위한 저장기와는 별개인 것이 바람직한 저장기에 저장되는 것이 바람직하다. 대안으로, 헹굼 및 마찰 스테이션을 위한 유체는 동일한 저장기를 공유할 수 있다.

헹굼 스테이션에서 유체는 어떠한 마찰 오퍼레이션도 수행되지 않은 코팅 오퍼레이션으로부터 남겨진 헤드로부터 비점성 코팅 물질을 제거하도록 의도되는 것이 바람직하다. 대안으로, 헹굼 스테이션에서 유체는 마찰 오퍼레이션이 수행된 후 헤드 상에 남겨진 임의의 잔류하는 코팅 물질 외에 마찰 스테이션에서 사용된 임의의 용매를 제거할 수 있다.

헹굼 스테이션에 사용된 유체는 자체-건조되므로써 코팅을 시작하기 전이나 또는 압출 헤드의 프라이밍을 개시하기 전에 압출 헤드의 임의의 부가의 처리에 대한 필요성을 미연에 방지하는 것이 바람직하다. 대안으로, 자체-건조되지 않는 용매는 가 사용될 수 있고, 건조 수단은 헹굼 유체가 압출 헤드로부터 완전히 제거되는 것을 보장하기 위해 사용될 수 있다. 압출 헤드의 헹굼 용매의 그러한 건조 수단으로는 헤드를 통과한 신속한 공기 흐름을 발생시키고, 헤드 근처에 열을 발생시키는 것을 포함하지만, 그것으로만 제한되지 않는다. 그러나, 코팅 불규칙성을 유발할 수 있는 압출 분기관으로 가스 버블을 도입하지 않도록 조심스럽게 제어될 수 있음을 인식해야 한다.

바람직한 실시예에서, 헹굼 스테이션을 위한 유체는 압출 헤드가 근접하게 되는 "V"자 형상의 홈 또는 유사한 형상의 단면을 갖는 스테이션 아래 저장기에 저장된다. 이어서, 헹굼 유체 또는 용매는 클리닝될 압출 헤드 표면의 완전하고 균일한 헹굼 유체 유효 범위를 보장하도록 유체 분배 구조물을 통해 저장기로부터 펌프된다. 바람직하게는, 유체는 헹굼 스테이션 물질 내의 수직 배향된 구멍을 통해 저장기로부터 펌프되고, 이어서 유체의 균일한 커튼을 발생시키는 협소한 슬롯 내로 피딩됨으로써 클리닝될 표면의 전체 유효 범위를 제공한다. 기타 가능한 기하학으로는 클리닝 표면 쪽으로 유체를 지향시키는 제2 슬롯과 소통하는 헹굼 스테이션의 길이에 따라 단일 슬롯을 사용하지만 이것으로만 제한되지 않고, 단일 슬롯은 저장기로부터 수직으로 지향된 유체 저장기에서 시작하지만 클리닝될 표면 쪽으로 유체를 지향시키도록 적절한 스테이지에서 적절히 굽혀진다. 대안의 실시예에서, 유체 저장기는 클리닝될 표면과 동일한 수직 레벨로 위치함으로써 단일 수직 슬롯이 저장기로부터 클리닝될 표면으로 직접적으로 가압 유체를 인도하게 한다. 본 명세서에 포함된 진보적인 메카니즘에서 벗어나지 않는 여러 가지 가능한 유체 흐름 기하학이 이용될 수 있음을 인식해야 한다.

또 다른 바람직한 실시예에서, 클리닝될 표면 쪽으로 헹굼 유체를 지향시키는 수단은 적절한 압력에 적용될 때 압출 헤드 표면 쪽으로 유체 흐름의 커튼을 공급하고 그에 따라 클리닝될 표면의 전반적인 헹굼 유체를 제공하는 다공성 또는 소결 물질의 배치를 포함한다.

또 다른 바람직한 실시예에서, 유체 저장기와 소통하고 압출 헤드 표면 쪽으로 지향되고 임의로 이동할 수 있는 복수개의 유체 분무기는 클리닝될 표면의 완전한 유체 유효 범위가 달성될 수 있도록 배치된다. 분무기의 배치는 유체가 클리닝될 표면 전체와 접촉하는 한 클리닝될 표면 상으로 분무 패턴을 오버래핑하거나 또는 오버래핑하지 않는 결과를 초래하도록 이루어질 수 있다.

대안의 실시예에서, 압출 헤드가 근접하게 될 헹굼 스테이션은 반원, 정사각형, 직사각형, 타원형 등을 포함하는 많은 가능한 형상을 가질 수 있지만 이들로만 제한되지 않는다.

대안의 바람직한 실시예에서, 마찰 및 헹굼 오퍼레이션은 단일의 또는 별개의 유체 저장기를 사용하는 단일 스테이션에 배치될 수 있다. 스크러버 및 헹굼 분무 메카니즘은 각각 고정 방식으로 배치되더라도 서로 간섭하지 않도록 배치될 수 있다. 대안으로, 스크러버 및(또는) 헹굼 유체 분무 메카니즘은 작동 중에 나머지와 간섭하지 않고 압출 헤드에 모두 액세스될 수 있도록 이동할 수 있다.

본 발명의 바람직한 실시예에서, 프라이밍 스테이션은 일정한 코팅 비드 또는 정상 상태 흐름 조건 압출 헤드를 개시하기 위해 클리닝 스테이션에 근접하게 배치된다. 압출 헤드는 바람직하게는 프라이밍 스테이션으로 가기 전에 1개 이상의 클리닝 스테이션에서 반드시 클리닝될 필요는 없다. 압출 헤드는 헤드 외부에 존재하는 임의의 여분의 코팅 물질 없이 완전하고 일관된 코팅 비드에 의해 코팅 오퍼레이션을 시작하기에 가장 적절하다. 대안으로, 압출 또는 코팅 비드는 특히 그 비드가 특정 생산 운행 내에서 그의 제1 코팅 오퍼레이션을 시작하는 경우에 클리닝 스테이션으로 먼저 진행하지 않고 프라이밍 스테이션으로 직접적으로 갈 수 있다. 그렇지 않으면, 압출 헤드는 그 헤드가 임의의 클리닝 스테이션에서 클리닝 오퍼레이션을 요하지 않도록 충분히 클리닝된 경우에 먼저 클리닝 스테이션으로 진행하지 않고 프라이밍 스테이션으로 직접적으로 진행될 수 있다. 클리닝 오퍼레이션들 간의 코팅 오퍼레이션의 수는 사용된 코팅 물질, 사용된 헤드 갭(코팅된 기판과 압출 헤드 간의 거리) 및 기판의 크기를 포함하는 여러 가지 인자에 크게 의존할 수 있다.

바람직한 실시예에서, 프라이밍 스테이션은 코팅 헤드로부터 전송된 코팅 물질의 롤러를 클리닝하는 브러시와 접촉하여 용매 조 중에 침지된 회전 원통형 롤러를 포함한다. 압출 헤드는 금속 또는 코팅될 기판의 표면을 자극하기에 충분한 기타 물질인 것이 바람직한 롤러에 근접하게 되고, 코팅 유체를 롤러 상으로 압출하기 시작한다. 헤드로부터 유체의 초기 방출은 특정 시간 동안 일치하지 않을 수 있다. 프라이밍 프로세스 없이, 그러한 불일치는 코팅된 표면 상의 안내하는 에지 변형을 유도할 수 있다. 압출 헤드는 충분한 양의 시간 경과 또는 충분한 양의 코팅 유체가 실제 코팅 오퍼레이션을 위해 코팅 비드가 현재 준비되었음을 보장하도록 프라이밍 롤러 상에서 압출될 때까지 코팅될 때와 동일한 방식으로 유체를 압출하는 롤러 상에 남아있다. 프라이밍 프로세스의 완료를 결정하는 또 다른 옵션은 압출 헤드 내의 코팅 비드 또는 콘택트 또는 압력 센서를 보도록 배치된 비전 시스템을 포함하지만 이들로만 제한되지 않는 감지 메카니즘을 사용하는 완전한 코팅의 존재를 감지하는 것을 포함한다. 프라이밍 프로세스의 완료를 결정하는 다른 메카니즘은 롤러 상에서 또는 비전 시스템 또는 콘택트 센서를 사용하는 다른 프라이밍 표면 상에서 코팅물을 감지하는 것을 포함한다.

압출 헤드는 코팅 비드가 압출 헤드의 압출 기하학을 가로질러 완전하고 균일할 때 적절히 프라이밍된다. 압출 헤드가 압출 슬롯을 포함하는 경우, 프라이밍은 일정한 용적식 유량이 슬롯의 전체 길이를 가로질러 도달할 때 완료되고, 코팅 비드는 슬롯의 단면적을 가로질러 완전하고 균일하다.

프라이밍 롤러는 이 롤러의 외부 표면의 운동에 대응하는 선형 거리와 동일한 거리 상의 압출 헤드의 운행을 효율적으로 자극하면서 그 위에 증착된 코팅 물질을 수용한다. 롤러는 연속적으로 회전함으로써 증착된 코팅 물질을 코팅 물질을 용해시키는 작용을 하는 용매에 신속히 노출시킨다. 롤러와 접촉하고, 바람직하게는 압출 헤드와의 간섭을 피하도록 롤러 아래 놓인 롤러 클리닝 기구, 바람직하게는 브러시 또는 블레이드는 프라이밍 롤러로부터 더욱 더 많은 코팅 물질을 제거하는 작용을 한다. 용매 조 및 브러시 또는 기타 물질 제거 장치의 효과는 용매 조로부터 나온 롤러 표면의 일부가 압출 헤드로부터 많은 코팅 물질을 용이하게 수신하기에 충분히 철저히 롤러를 클리닝하는 것이다. 이러한 과정은 압출 헤드 상의 코팅 비드가 실제 코팅 오퍼레이션을 위해 용이할 때까지 연속적으로 발생한다.

대안의 실시예에서, 프라이밍 표면과 압출 헤드 간에 필요한 상대적 운동은 코팅될 물질의 거리 상의 압출 헤드의 운항을 모방하는 압출 헤드 아래로 통과할 때 2개 이상의 롤러에 감겨진 밴드를 포함하지만 이것으로만 제한되지 않는 회전 원형 롤러 이외의 여러 가지 수단에 의해 달성될 수 있다. 그러한 밴드는 유체 조로, 이어서 바람직하게는 밴드 클리닝 기구, 바람직하게는 브러시와의 접촉으로 압출 헤드 아래 밴드를 유도하는 동일한 방향으로 회전하는 롤러들의 병렬 세트를 갖는 쓰레드밀과 동일한 방식으로 작동한다. 이 밴드는 연속적으로 회전하여 보다 큰 풋프린트를 필요로 하지만 롤러와 훨씬 동일한 기능을 수행한다.

대안으로, 코팅 유체 증착을 위한 표면은 보다 많은 코팅 유체를 수용하기 위해 압출 헤드 아래로 되 이동하기 전에 그 위에 그의 클리닝된 코팅 물질을 갖는 표면의 각각의 부분에 의해 압출 헤드 아래에서 전후로 선형으로 이동할 수 있다. 또 다른 실시예는 그 위에 증착된 코팅 유체를 갖는 프라이밍 표면의 일부는 그러한 유체가 증착된 후 가능한 한 빨리 클리닝됨으로써 압출 헤드의 다음 통과를 위한 프라이밍 표면의 이러한 부분을 제조하는 대개의 고정된 프라이밍 표면에 관하여 압출 헤드를 이동시키는 것을 포함한다.

바람직한 실시예에서, 프라이밍 스테이션에 사용된 유체는 많은 그러한 프라이밍 오퍼레이션을 위해 사용된 프라이밍 표면 상에 증착된 코팅 유체를 완전히 용해시킬 수 있는 것이 바람직한 강한 용매이다. 미리 선택된 수의 코팅 오퍼레이션 후, 프라이밍 스테이션에 사용된 용매는 신선한 공급물로 대체될 수 있다. 대안으로, 유체는 화학적으로 불활성일 수 있고 프라이밍 표면으로부터 코팅 유체를 제거하는 데 있어서 브러시 또는 기타 프라이밍 표면 클리닝 장치를 단순히 기계적으로 보조할 수 있다. 이러한 경우에, 사용된 유체는 코팅 유체가 공통 유체 챔버 바닥에 침전될 수 있도록 코팅 유체보다 약간 더 가벼운 것이 바람직하다. 대안으로, 코팅 유체는 적절한 수단에 의해 프라이밍 스테이션 유체 밖으로 여과되고 유체 스테이션으로부터 이후의 제거 및 가능한 회수 또는 재순환을 위해 저장될 수 있다.

바람직한 실시예에서, 브러시는 상기 표면으로부터 코팅 유체를 제거하는 데 조력하기 위해 프라이밍 표면과 접촉하게 된다. 많은 다른 프라이밍 표면 클리닝 메카니즘은 상기 프라이밍 표면에 관하여 선형으로 또는 모나게 운동하는 바람직한 스폰지 및 프라이밍 표면 상에 남아있는 임의의 코팅 유체로부터 벗어나 스크레이핑하기 위해 프라이밍 표면에 근접하게 위치하는 샤프 에지를 포함하지만 그것들로만 제한되지 않는 프라이밍 표면에 근접하게 또는 그와 접촉하게 배치될 수 있다.

프라이밍 프로세스를 정지시킬 때에 관한 결정은 프라이밍 표면 상의 압출 헤드에 의해 유체를 분배하는 데 소모된 시간의 양, 압출 헤드에 의해 소비된 유체의 양 및 코팅 비드가 실제 코팅 오퍼레이션을 준비한다는 센서 수단에 의한 결정을 포함하지만 이것으로만 제한되지 않는 많은 조건에 기초하여 이루어질 수 있다.

대안의 바람직한 실시예에서, 유체 프라이밍 오퍼레이션은 헹굼 스테이션 또는 마찰 스테이션 내에서 수행될 수 있다. 이러한 방식으로 헤드를 프라이밍시키는 것은 정상 상태 용적식 유량 및 신뢰할 수 있는 일정한 비드가 달성될 수 있도록 코팅 유체가 미리 선택된 기간의 시간 동안 압출될 수 있거나 또는 미리 선택된 부피의 유체가 압출될 수 있는 것을 요한다. 이러한 실시예에서, 유체는 클리닝 스테이션으로 압출되고, 헹굼액 또는 스크러버는 압출된 코팅 유체를 그의 용매 푸울로 흡수시킨다. 용매 용액은 압출된 코팅 물질을 완전히 용해시키도록 화학적으로 채택되는 것이 바람직하다. 대안으로, 압출된 코팅 유체는 상이한 밀도의 유체들을 분리하는 능력을 통해서 또는 여과 수단에 의해 푸울 내의 나머지 유체로부터 분리될 수 있다.

따라서, 본 발명의 기술적 장점은 압출 헤드가 코팅 장치 내의 또는 그와 근접한 최소 풋프린트를 점유하는 1개 이상의 클리닝 스테이션에 헤드를 근접시킴으로써 자동으로 클리닝될 수 있다는 것이다.

본 발명의 또 다른 기술적 장점은 상이한 클리닝 오퍼레이션이 제거될 유체의 점도 및 화학적 조성과 같은 인자에 따라 사용될 수 있다는 것이다.

본 발명의 또 다른 기술적 장점은 코팅 오퍼레이션이 착수되기 전에 압출 헤드에 정상 상태 흐름 조건 및 적절한 코팅 비드가 존재한다는 것을 보장하기 위한 프라이밍 메카니즘을 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 기술적 장점은 압출 헤드에서 헤드의 적절한 프라이밍은 기판을 코팅할 때 에지 변형이 유도되는 것을 방지할 수 있다는 것이다.

본 발명의 상세한 설명이 후속하는 순서대로 본 발명의 특징 및 기술적 장점을 오히려 광의로 약술한 상기 설명이 보다 잘 이해될 수 있을 것이다. 본 발명의 특허 청구의 범위의 주제를 형성하는 본 발명의 부가의 특징 및 장점을 이하 기재할 것이다. 개시된 개념 및 특정 실시예는 본 발명의 동일한 목적을 수행하기 위한 다른 구조물을 변형시키거나 또는 설계할 기초로서 용이하게 이용될 수 있음을 당업계의 숙련자들은 인식해야 한다. 본 발명의 정신 및 범위에서 벗어나지 않는 등가의 구성이 첨부된 특허 청구의 범위에 기재되어 있음을 당업계의 숙련자들이 파악해야 한다.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 클리닝 및 프라이밍 어셈블리의 사시도를 나타낸다. 이 실시예에서, 클리닝 및 프라이밍 어셈블리(100)는 스크러버(103)로 구성된 제1 클리닝 스테이션, 행굼액(102)으로 구성된 제2 클리닝 스테이션, 및 프라이밍 장치 또는 스테이션(101) 및 서비스 트로프(104)를 포함한다. 서비스 트로프(104)는 프라이밍 또는 클리닝 스테이션에서 수행될 수 없는 압출 헤드, 코팅 헤드, 또는 분배 헤드 상에서 보수 및(또는) 클리닝을 수행하기 위해 사용되는 것이 바람직하다.

도 1에 나타낸 스테이션의 순서는 압출 헤드 또는 다른 유형의 분배 헤드가 마찰 스테이션(103)에서 시작할 수 있고, 계속 서비스 트로프(104)로부터 벗어나는 방향으로 이동하고 프라이밍 스테이션(101)에서 프라이밍 오퍼레이션에 따라 마무리되는 것이 편리하다. 그러나, 장치의 어떠한 특정 기계적 배열이 필요치 않다. 여러 가지 스테이션은 특정 코팅 오퍼레이션에 적절하거나 또는 특정 압출 헤드의 처리에 편리한 임의의 순서로 배열될 수 있다.

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 클리닝 및 프라이밍 어셈블리(200)의 단면도를 나타낸다. 스테이션은 도 1과 동일한 순서로 배열되고, 여기서 처리는 좌측에서 우측으로 진행되고, 서비스 트로프(104), 스크러빙 스테이션(103), 헹굼 스테이션(102) 및 프라이밍 스테이션(101)이 존재한다. 바람직한 실시예의 구동 수단 또는 모터(201)는 가장 우측에 나타낸다. 바람직한 실시예에서, 스크러빙, 헹굼 및 프라이밍 스테이션 모두는 단일의 공통 구동 수단으로부터 이들의 각각의 오퍼레이션에 필요한 전력을 수신한다. 각각의 스테이션은 헹굼 및 스크러빙 스테이션에서 유체 펌핑 수단으로 및 스크러빙 및 프라이밍 스테이션에서 회전 수단에 기계적 전력의 메인 소스를 접속시키기 위해 적절한 기계적 커플링을 사용할 수 있다. 대안으로, 클리닝 및 프라이밍 어셈블리(100) 내의 각각의 스테이션은 별개의 독립적인 구동 수단을 가질 수 있다. 상이한 구동 수단들의 조합에 의해 사용될 장치의 많은 상이한 조합을 허용하는 여러 가지 치환은 본 발명에서 벗어나지 않고 실행될 수 있다.

도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 클리닝 및 프라이밍 어셈블리(100)의 구현을 나타낸다. 코팅 장치의 한가지 가능한 실시예에서, 코팅 장치의 습식 성분들은 "코팅 장치와 습식 성분을 서로 접속시키는 시스템 및 그 방법(SYSTEM AND METHOD FOR INTERCHANGEABLY INTERFACING WET COMPONENTS WITH A COATING APPARATUS)"이라는 표제의 상기 특허 출원에 상세히 기재된 코팅 장치의 장비와의 균형을 포함하는 스테이션에 이동 가능하게 부착될 수 있는 유체 카트 상에 배치된다. 이러한 상황에서, 클리닝 및 프라이밍 어셈블리(100)는 도 3에 나타낸 유체 카트 상에 배치되는 것이 바람직하다. 이러한 실시예에서, 클리닝 및 프라이밍 어셈블리의 특성은 특정 압출 헤드 및 특정 클리닝 유체로 구성될 수 있고, 그 이유는 모든 코팅 유체 및 압출 또는 분배 헤드가 특정 유체 카트(300)와 연관되기 때문이다.

일단 압출 헤드 및 코팅 유체가 식별된 경우에 가능한 본 발명의 변화는 마찰 스테이션이 보다 많은 점성 유체를 위해 사용되는 경향이 있기 때문에, 마찰 스테이션이 필요한지 여부에 관한 결정을 포함한다. 마찰 스테이션이 포함되어야 하는 경우, 스크러버의 치수 및 대항하는 스크러버들이 서로에 대해 위치하는 근접도는 분배 헤드에 알맞게 조절될 수 있다. 헹굼 스테이션의 치수는 그 스테이션에 사용될 압출 헤드에 알맞게 마찬가지로 조절될 수 있다. 더욱이, 마찰, 헹굼 및 프라이밍 스테이션에서 용매의 선택은 일단 이들에 의해 용해될 코팅 유체가 식별되면 최대 효과로 선택될 수 있다. 그러나, 본 발명은 유체 카트 상에 사용되는 것으로 제한되지 않는다. 이동 가능하게 부착된 유체 카트를 포함하는 코팅 장치의 대안의 실시예에서, 클리닝 및 프라이밍 어셈블리(100)는 예를 들면 코팅될 기판을 유지하는 처크를 포함하는 스테이션 상에 위치할 수 있고, 여러 가지 상이한 압출 헤드 및 코팅 유체에 따라 사용될 수 있다.

본 발명은 코팅 장치의 광범위한 구성에 의해 구현될 수 있고, 앞서 고찰한 유체 카트 상에서 구현되는 것으로 제한되지 않는다. 대안의 바람직한 실시예에서, 코팅 장치는 장비의 단일 조각일 수 있다. 따라서, 클리닝 및 프라이밍 어셈블리는 코팅 장치 구조물의 구성으로 물리적으로 집적될 수 있다. 대안으로, 클리닝 및 프라이밍 어셈블리는 압출 헤드에 액세스 가능한 위치에 가까이 위치하지만, 물리적으로 독립적인 처크, 압출 헤드 및 유체 전달 시스템일 수 있다.

바람직한 실시예에서, 클리닝 및 프라이밍 어셈블리는 적어도 단일 코팅 오퍼레이션을 실행하는 동안에 고정되고, 헤드는 클리닝 및 프라이밍 어셈블리 상으로 이동하고, 지시된 특정 헤드 및 코팅 오퍼레이션의 필요성에 따라 각각의 스테이션에 도달하고 도입된다. 이러한 실시예에서, 클리닝 및 프라이밍 어셈블리는 처크에 의해 지원된 기판 상의 압출 코팅 운항 범위 밖에 위치할 수 있다. 선택된 시점에서, 코팅 오퍼레이션들 사이에서와 같은 메카니즘은 클리닝 및 프라이밍 어셈블리를 액세스하기 위해 코팅 오퍼레이션 범위 밖으로 헤드를 이동시킬 수 있다.

대안의 실시예에서, 클리닝 및 프라이밍 어셈블리는 헤드가 클리닝 및(또는) 프라이밍을 필요로 할 때 압출 운항의 코팅 오퍼레이션 운항 범위로 이동하고, 헤드가 용이하게 코팅 오퍼레이션을 시작할 때 이러한 범위의 운항으로부터 제거된다. 이러한 실시예에 따라, 어셈블리는 단지 2가지 위치: 즉, 헤드에 서비스하는 것 및 코팅 오퍼레이션에서 벗어나 위치하는 제2의 것을 가정해야 한다. 클리닝 및 프라이밍 어셈블리의 필요한 운동은 1개 이상의 실린더, 전기 모터, 수력학적 및 수동 오퍼레이션에 부착된 셔틀을 포함하지만 이것으로 제한되지 않은 많은 이동 수단에 의해 수행될 수 있다.

압출 헤드와 클리닝 및 프라이밍 스테이션 간의 상대적인 운동의 필요성은 2가지 실체 중 하나만을 이동시킴으로써 부합되지 않을 필요가 있다. 서로에 관하여 클리닝 및 프라이밍 어셈블리와 압출 헤드 모두의 선형 및 각 운동의 조합을 포함하는 운동의 일부 조합이 압출 헤드의 서비스를 위해서 둘을 함께 가져오기 위해서 및 클리닝 및 프라이밍 어셈블리로부터 간섭 없이 코팅 오퍼레이션이 처리되게 하기에 충분히 멀리 떨어지게 이들을 가져오기 위해 사용될 수 있다. 어셈블리 또는 스테이션 움직임 및 압출 헤드 움직임의 조합 뿐만 아니라 선형 운동 및 각 운동의 조합은 다음 섹션에 고찰된 대안의 실시예에 사용된다.

도 4는 본 발명의 대안의 실시예에 따른 압출 헤드(410)에 근접한 클리닝 및 프라이밍 스테이션(420)의 구현을 나타낸다. 이 실시예에서, 압출 헤드(410)는 이 압출 헤드의 분배 슬롯이 프라이밍 롤러(421)에 근접할 때까지 축(411) 둘레로 압출 헤드(410)를 회전시킴으로써 프라이밍 스테이션(420)에 액세스한다. 프라이밍 스테이션(420)은 프라이밍 위치와 코팅 위치 간의 선형 축을 따라 이동하는 것이 바람직하다. 코팅 중에, 프라이밍 스테이션(420)은 압출 헤드(410)에 의한 코팅과 접경하지 않도록 도 4의 구성에서 그의 코팅 위치로 우측으로 이동한다. 프라이밍을 예상하고, 프라이밍 스테이션(420)은 코팅 비드의 프라이밍을 위해 압출 헤드(410)에 액세스될 수 있도록 그의 프라이밍 위치로(도 4의 구성에서 좌측 쪽으로) 이동한다.

도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 프라이밍 장치에 근접한 압출 헤드(501)의 입면도(500)를 나타낸다. 압출 헤드(501)는 유체 조(503)에 침지된 프라이밍 롤러(502) 상으로 코팅 물질(504)을 압출시킨다. 유체 조(503)는 그것이 롤러(502) 상에 증착된 코팅 유체(504)를 유체 조(503)에 침지시킴에 따라 프라이밍 롤러(504)의 표면을 클리닝시키는 작용을 한다. 복수개의 기계적 장치(도시하지 않음)는 그것이 유체 조(503) 내에서 회전함에 따라 프라이밍 롤러(502)를 부가로 클리닝시키는 작용을 한다. 압출 헤드(501)는 코팅 유체 또는 물질의 비드가 압출 헤드의 압출 기하학 또는 압출 슬롯(505)을 가로질러 완전하고 균일할 때 적절히 프라이밍된다.

압출 헤드(501) 상의 압출 슬롯(505)과 롤러(502) 상의 포인트 근처 간의 갭은 실제 코팅 오퍼레이션을 수행할 때 압출 헤드 슬롯과 기판 간의 헤드 갭에 가능한 한 근접하게 유지된다. 갭(506)의 치수를 조심스럽게 보존함으로써 헤드의 프라이밍 동안에 발생하는 코팅 활성의 시뮬레이션의 정확도를 보존한다.

압출 헤드(501)로부터 코팅 유체(504)의 압출은 압출 시점에 존재하는 것을 지시하도록 이미 결정된 한 세트의 조건이 만족될 때까지 계속되는 것이 바람직하다. 바람직하게는, 프라이밍 오퍼레이션을 마무리하는 조건은 소정의 시간의 경과이다. 대안으로, 프라이밍을 마무리하는 조건은 소정의 부피의 유체의 압출이다. 프라이밍 오퍼레이션을 마무리하는 조건을 결정하기 위해 사용된 파라메터들은 압출 슬롯(505)의 폭, 코팅 유체(504)의 점도 및 하기 코팅 오퍼레이션에 사용될 기판과 압출 헤드 간의 헤드 갭을 포함할 수 있지만 이들로만 제한되지 않는다.

프라이밍 프로세스와 완성을 결정하는 또 다른 옵션은 압출 헤드 내에서 코팅 비드 또는 접점 또는 압력 센서를 보기 위해 배치된 비전 시스템을 포함하지만 이것으로만 제한되지 않는 압출 헤드(501) 내의 감지 메카니즘을 사용하여 완전한 코팅 헤드의 존재를 감지하는 단계를 포함한다. 프라이밍 프로세스의 완성을 결정하는 다른 메카니즘은 비전 시스템 또는 접촉 센서를 사용하는 기타 프라이밍 표면 또는 롤러(502) 상의 코팅 물질을 감지하는 것을 포함한다. 롤러(502) 상의 코팅 물질(504)이 적절한 형태인 것으로 결정하는 것은 실제 비드의 프라이밍이 성공적으로 완료되는 것을 마무리하기 위해 사용될 수 있다.

도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 프라이밍 스테이션의 단면도를 나타낸다. 프라이밍 롤러(601)는 도 6에 나타낸 도면에서 용매 조에 침지되고 시계 방향으로 회전한다. 압출 헤드(도시하지 않음)는 바람직하게는 다음 코팅 오퍼레이션에서 코팅될 기판 상의 압출 헤드의 높이에 가능한 한 근접하는 롤러 상의 높이에서 롤러(601) 상에 위치한다. 롤러(601)는 롤러의 상부가 브러시(603) 쪽으로 회전함에 따라 압출 헤드로부터 코팅 물질을 수용한다. 브러시(603)는 롤러(601)로부터 대부분의 코팅 물질을 제거하는 작용을 한다. 브러시(603)를 통과한 롤러 상의 포인트는 다음으로 그것이 현재 접촉하는 롤러(601)의 일부로부터 거의 모든 나머지 코팅 물질을 제거하는 것이 바람직한 스크래퍼(605)와 직면한다. 브러시(603) 및 스크래퍼(605)에 의해 롤러(601)로부터 제거된 코팅 물질은 용매 조(도시하지 않음)로 분산되고 점진적으로 상기 조에 용해된다. 그의 반시계 방향 회전(도 6의 도면에서)으로 스크래퍼(605)를 통과한 롤러(601) 상의 지점은 이어서 롤러(601) 상의 그 지점으로부터 실질적으로 모든 나머지 용매를 제거하는 것이 바람직한 와이퍼(602)와 직면한다. 브러시(603)는 롤러(601)에 대항하는 회전하는 것 외에, 브러시(603)에 여전히 부착된 임의의 코팅 물질을 제거하는 것이 바람직한 블레이드(604)에 반하여 프라이밍 롤러와 동일한 방향으로(여기서, 반시계 방향으로) 회전함으로써, 블레이드(604)를 통과하여 회전된 브러시의 일부는 브러시(603) 주변의 지점이 블레이드(604)를 통과하여 회전한 후에 접촉할 롤러로부터 물질을 효과적으로 제거하는 데 충분히 클리닝된다.

바람직하게는, 브러시(603), 스크래퍼(605) 및 와이퍼(602)를 통과하여 회전되는 롤러(601) 부근의 지점에 남아있는 임의의 잔류하는 코팅 물질은 그 지점이 다시 압출 헤드로부터 코팅 물질을 수용하기 전에 용매 조에 용해된다. 압출 헤드로부터 코팅 유체를 수용하려는 프라이밍 롤러(601) 상의 지점은 코팅 유체가 완전히 없는 것이 바람직하지만, 프라이밍 스테이션은 일부 소량의 코팅 유체가 남아있는 경우에 조차 일반적으로 효과적으로 작동할 것이다. 용매 조 중의 브러시(603), 스크래퍼(605), 와이퍼(602) 및 침지는 롤러 상의 코팅 물질의 임의의 파괴적인 증강을 방지할 것이고, 이들 간에 바람직하게는 롤러 상의 거의 모든 코팅 유체를 제거할 것이다.

도 6의 설명은 회전하는 원통형 프라이밍 롤러에 대해 도입된다. 그러나, 본 발명은 이 실시예로만 제한되지 않는다. 여러 가지 대안의 실시예에서, 프라이밍 표면과 압출 헤드 사이에 필요한 상대적인 운동은 코팅될 물질의 거리 상으로 압출 헤드의 운항을 모방하는 압출 헤드 하에 통과하는 2개 이상의 롤러 둘레에 감겨진 밴드를 포함하지만 이것으로만 제한되지 않는 회전하는 원형 롤러 이외의 여려가지 수단에 의해 달성될 수 있다. 그러한 밴드는 압출 헤드 아래의 밴드를 유체 조로, 바람직하게는 밴드 클리닝 기구, 바람직하게는 와이퍼 및(또는) 브러시와 접촉하게 구동시키는 것과 동일한 방향으로 회전하는 롤러들의 병렬인 세트를 갖는 트레드밀과 훨씬 동일한 방식으로 작동할 수 있다. 밴드는 연속적으로 회전하고, 따라서, 훨씬 더 큰 풋프린트를 필요로 하지만 롤러와 훨씬 동일한 기능을 수행한다.

대안으로, 코팅 유체 증착을 위한 표면은 많은 코팅 유체를 수용하기 위해 압출 헤드 아래로 되 이동하기 전에 그 위에 그의 클리닝되는 코팅 물질을 갖는 표면의 각 부분에 의해 압출 헤드 아래에서 전후로 선형으로 이동할 수 있다. 또 다른 대안의 실시예는 그 위에 증착된 코팅 유체가 갖는 프라이밍 표면의 일부는 그러한 유체가 증착된 후 가능한 한 빨리 클리닝될 수 있음으로써 압출 헤드의 다음 통과를 위해 프라이밍 표면의 이러한 부분을 제조하는 대부분의 정지 프라이밍 표면에 관하여 압출 헤드를 이동시키는 것을 포함한다.

바람직한 실시예에서, 프라이밍 스테이션에 사용된 유체는 많은 그러한 프라이밍 오퍼레이션을 위해 사용된 프라이밍 표면 상에 증착된 코팅 유체를 완전히 용해시킬 수 있는 강한 용매이다. 미리 선택된 수의 코팅 오퍼레이션 후, 프라이밍 스테이션에 사용된 용매는 신선한 공급물로 대체될 수 있다. 대안으로, 유체는 화학적으로 불활성일 수 있고, 프라이밍 표면으로부터 코팅 유체를 제거하기 위해 브러시 또는 기타 프라이밍 표면 클리닝 장치를 단순히 보조할 수 있다. 이러한 경우에, 사용된 유체는 코팅 유체가 공통 유체 챔버 바닥에 침전될 수 있도록 코팅 유체보다 가벼운 것이 바람직하다. 대안으로, 코팅 유체는 적절한 수단에 의해 프라이밍 스테이션 유체에서 벗어나 여과될 수 있고, 유체 스테이션으로부터 이후의 제거 및 가능한 회수 또는 재순환을 위해 저장될 수 있다.

도 6의 실시예에서, 프라이밍 롤러(601) 형태의 프라이밍 표면의 클리닝은 브러시(603), 스크래퍼(605) 및 와이퍼(602)의 조합에 의해 수행된다. 그러나, 본 발명은 이들 프라이밍 표면 클리닝 수단으로만 제한되지 않는다. 여러 가지 다른 프라이밍 표면 클리닝 메커니즘이 상기 프라이밍 표면에 관하여 선형으로 또는 모나게 운동하는 것이 바람직한 스폰지, 블레이드, 고압 유체 제트 또는 와이퍼를 포함하지만 이들로만 제한되지 않는 프라이밍 표면에 근접하거나 또는 그와 접촉하여 배치될 수 있다.

도 6의 실시예에서, 프라이밍 표면 클리닝 수단중 하나인 브러시(603)의 클리닝은 브러시에 의해 잔류 코팅 물질을 마찰시키도록 배치된 블레이드(604)의 사용을 통해 달성된다. 브러시, 블레이드, 원통형 또는 그렇지 않은 형상의 스폰지, 고압 유체 제트 또는 와이퍼를 포함하지만 그것들로만 제한되지 않는 프라이밍 표면을 클리닝시키는 클리닝 메카니즘을 위한 여러 가지 수단이 배치될 수 있다.

본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에서, 압출 헤드의 프라이밍은 압출 클리닝 스테이션 중의 하나에 위치함으로써 별개의 프라이밍 스테이션에 대한 필요성을 미연에 방지한다. 이는 압출 헤드 클리닝 스테이션을 기재한 부분에서 보다 상세히 고찰할 것이다.

도 6A는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 프라이밍 롤러(611)의 측면도(610)를 나타낸다. 분배 헤드의 2개의 단부로부터 거리만큼 증가할 수 있는 분배 헤드에서 예상되는 새그와 정합되도록, 롤러가 지원하는 위치의 결과로서 또는 기계적 설계의 결과로서 중간에 새그를 롤러가 갖는 것이 바람직하다.

도 6A는 그의 중량 및 지점(613 및 614)에서 주로 지원된다는 사실의 결과로서 새그되는 롤러(611)의 도면을 나타낸다. 중력의 효과는 지점(613 및 614)에서 강성으로 지원되는 경우를 제외하고 사실상 그의 모든 길이에 따라 롤러(611)를 편향시키거나 또는 새그시킨다. 새그 또는 편향은 지원하는 지점(613 및 614)으로부터 증가하는 거리에 의해 롤러(601)의 거리를 따라 증가한다. 새그는 점선(615)과 실선(616) 간의 롤러(611)의 길이에 따른 임의의 지점의 거리에서 관찰함으로써 가시화될 수 있다. 점선(615)은 롤러가 완전히 강성이고 다라서 그의 상부 표면이 완전히 직선인 경우에 존재할 수 있는 롤러(611)의 상부 표면을 따른 높이 지점을 나타내는 직선이다. 롤러의 거의 전체 길이를 따라 새그가 존재하지만, 롤러(601)에서 최대 편향 또는 새그는 지원지점으로부터 실질적으로 등거리인 지점에서 발생하고 도 6A에서 612로 라벨링된다.

바람직한 실시예에서, 롤러(611)의 재료, 특성 및 치수는 가능한 한 근접하게 롤러(611) 상에 위치할 분배 헤드에서 예상되는 새그와 정합될 새그를 제공하기 위해 선택될 수 있다. 롤러에서 새그의 변형 방법은 일단 그것이 압축 또는 긴장 방식으로(롤러의 축을 따라 2 단부에서 푸시하거나 또는 풀하여) 약 측면으로부터 롤러의 축을 따라 힘을 적용하는 것을 포함하지만 그것으로만 제한되지 않도록 구축되면, 그의 길이를 따라 여러 지점 아래로부터 롤러(611)를 지원한다.

도 7은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 압출 헤드 클리닝 어셈블리의 단면도를 나타낸다. 바람직한 실시예에서, 클리닝 어셈블리(700)는 공통 구동 수단 또는 모터(701)에 모두 부착되는 것이 바람직한 마찰 스테이션(710) 및 헹굼 스테이션(730)을 포함한다. 헹굼 스테이션(730)에 대해, 구동 수단(701)에 대한 접속은 헹굼 스테이션(730) 내의 헹굼 용매를 순환시키는 펌프를 구동하는 수단에 관련한다.

스크러빙 스테이션(710)은 바람직하게는 강한 용매를 포함하는 유체 조(도시하지 않음)에 침지된 압출 헤드(도시하지 않음)의 2개의 외부 표면과 접촉시키는 2개의 원통형 브러시(711)를 포함한다. 2개의 브러시(711)는 반대 방향으로 회전하는 것이 바람직하고, 도 7의 도면에서, 시계 방향으로 회전하는 좌측 스크러버 및 반시계 방향으로 회전하는 우측 스크러버를 가짐으로써 압출 헤드가 2개의 브러시(711) 사이에 배치될 때 모든 브러시(711)에 의해 압출 헤드로부터 제거된 코팅 물질을 브러시(711) 사이 또는 그 아래 영역 쪽으로 지향시킨다. 제거된 코팅 물질은 용매 조에 용해되는 것이 바람직하다.

마찰 스테이션(710)에서 각각의 브러시(711)는 브러시 클리닝 기구에 반하여 회전하는 것이 바람직하고, 블레이드 또는 기타 고체 부재는 그것이 회전함에 따라 브러시와 접촉하도록 배치됨으로써 상기 원칙에 따라 각각의 브러시로부터 코팅 유체를 제거한다. 이러한 방식으로 제거된 코팅 물질은 용매 스트림에 의해 전해지고, 용매 조에 용해되는 것이 바람직하다. 용매는 바람직하게는 압출 헤드로부터 제거된 코팅 물질의 용해 과정을 연속하기에 충분한 레벨로 용매의 화학적 강도를 유지하도록 제조 과정 중에 취급되고 여과된다. 대안으로, 용해된 물질은 용매가 대체될 때까지 마찰 스테이션 용매에 용해되어 남겨질 수 있다.

헹굼 스테이션(730)은 압출 헤드(도시하지 않음)가 헹굼 프로세스 동안 위치하는 클리닝 홈(731), 유체 저장기, 및 압출 헤드 상에서 클리닝될 표면의 전체 유효 범위를 달성하는 유체 전달 시스템을 포함한다. 헹굼 스테이션은 다음 섹션에서 보다 상세히 고찰한다.

도 8은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 압출 헤드 마찰 스테이션의 일부의 전개도를 나타낸다.

도 9는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 마찰 스테이션 내의 클리닝 위치의 압출 헤드(901)를 나타낸다. 압출 헤드(901)는 이 압출 헤드(901) 상에서 클리닝될 표면(904)과 접촉하는 마찰 기구(903) 다음의 정결한 위치에 나타낸다.

바람직한 실시예에서, 마찰 기구(903)는 브러시이고, 2개의 그러한 브러시가 압출 헤드(901)의 측면 중의 하나이다. 대안으로, 임의의 수의 마찰 기구(903)가 사용될 수 있고, 압출 헤드(901)의 외부 표면을 따라 여려 지점에서 클리닝될 표면(904)과 접촉하도록 배치될 수 있다. 압출 헤드의 2 측면 상에 배치된 마찰 기구의 수는 동일할 필요는 없다.

바람직한 실시예에서, 마찰 기구(903)는 상기 헤드 표면(904)에 대한 손상을 방지할 필요 및 최적 코팅 물질 제거를 위해 선택된 압출 헤드 표면(904)과 접촉하는 센털을 포함하는 브러시이다. 대안으로, 마찰 기구는 회전 원통형 스폰지, 헤드 표면 밖으로 물질을 마찰하는 컴플라이언트 에지 또는 헤드 표면에 지시될 때만 용매 유체를 방출하는 고압 비접촉 유체 제트를 포함하지만 이들로만 제한되지 않는 클리닝 메카니즘을 포함할 수 있다.

바람직한 실시예에서, 마찰 기구의 축은 마찰 스테이션 하우징에 관하여 고정된다. 바람직하게는, 마찰 기구의 고정 축의 위치 및 기구 자체의 치수는 특정 압출 헤드의 치수에 맞추어질 수 있다. 대안으로, 마찰 기구(903)의 축 위치 및 치수는 이 기구가 클리닝할 모든 압출 헤드를 수용할 수 있는 안전한 타협 값으로 설정될 수 있다.

대안의 바람직한 실시예에서, 마찰 기구의 축들은 변화하는 치수의 압출 헤드를 수용하도록 이동할 수 있다. 축들은 클리닝 위치에서 압출 헤드(901)의 배치에 응답하여 스프링 로딩 하에 이동할 수 있다. 대안으로, 마찰 기구들은 활성 제어의 일부 형태 하에 이동될 수 있고, 제어 형태는 공기, 전기, 수력학 및 중력을 포함하지만 이들로만 제한되지 않는다.

바람직한 실시예에서, 마찰 스테이션은 그의 클리닝을 위해, 또는 분무를 위해 또는 그렇지 않으면 압출 헤드(901) 상에서 클리닝될 표면(904) 상으로 용매 유체를 지향시키기 위해 저장기로부터 마찰 기구로 용매 유체를 순환시키는 펌핑 수단을 포함한다. 이러한 방식으로, 용매의 마찰 작용 및 화학적 활성은 압출 헤드 표면(904)을 최적으로 클리닝시키기 위해 협력한다.

마찰 스테이션의 바람직한 실시예에서, 강한 용매는 고도로 점성인 유체를 클리닝할 필요성을 예상하는 데 사용된다. 그와 같이 강한 용매는 점성 유체를 용해시키는 데 효과적이지만 일단 마찰 스테이션 오퍼레이션이 종료되면 압출 헤드 표면(904) 상에 남겨진 잔류하는 용매 유체의 효과를 갖는다. 대안의 실시예에서, 자체 건조 용매는 코팅 유체의 제거에 있어서 마찰 기구를 보조한 후, 사용될 수 있는 자체 건조 용매는 외부 도움을 필요로 하지 않고 완전히 증발할 수 있다.

바람직한 실시예에서, 이미 고찰한 바와 같이, 마찰 기구와 압출 또는 코팅 헤드 간의 상대적인 운동은 원통형 마찰 기구, 바람직하게는 브러시의 회전에 의해 제공된다. 대안으로, 요구되는 상대적인 운동은 직선 운동, 회전 운동 또는 직선 및 회전 운동의 조합을 포함하는 상이한 기하학의 상이한 기구들의 마찰 기구에 의해 제공될 수 있다. 상대적인 운동은 대부분의 또는 완전한 고정 마찰 기구에 반하여 코팅 헤드의 움직임에 의해 또는 헤드와 마찰 기구 간의 운동의 조합으로부터 제공될 수도 있다.

이미 고찰한 바와 같이, 압출 헤드의 프라이밍은 프라이밍 스테이션(도 6)에서 수행되는 것이 바람직하다. 그러나, 대안의 바람직한 실시예에서, 압출 헤드는 마찰 스테이션에 배치되면서 프라이밍 오퍼레이션을 수행할 수 있다. 압출 헤드로의 유체 전달 수단은 압출 슬롯(902)에서 코팅 비드가 적절히 형성될 때까지 압출 헤드 슬롯(902) 밖으로 코팅 물질을 압출한다. 상기 프라이밍 공정 동안에 방출된 코팅 물질은 마찰 스테이션 용매 푸울에 흡수되고 용해되는 것이 바람직하다. 이러한 방식으로 압출 헤드를 프라이밍하는 것은 프라이밍 스테이션에서 압출 헤드가 개별적인 종료를 가능케 할 필요성을 미연에 방지한다. 프라이밍 오퍼레이션은 마찰 오퍼레이션과 동시에 또는 그에 후속하여 수행될 수 있다.

도 10은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 마찰 스테이션을 나타낸다. 2개의 스크러버(1002)는 그의 움직임이 각각의 스크러버(1002)에 부착된 스프로켓(1001) 상의 톱니에 의해 인터록되는 것을 나타낸다. 유체 입구(1003)는 용매 유체가 마찰 스테이션에 도입되게 하고, 유체 출구(1004)는 사용된 유체를 마찰 스테이션 밖으로 배출하게 한다.

도 11은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 헹굼 스테이션(110)의 단면도를 나타낸다. 압출 헤드(1101)의 첨단은 헹굼 스테이션(1100)의 대략적인 V-자 형상의 홈(1102)으로 위치하는 것으로 보인다. V-자 형상의 홈(1102)은 유체 저장기(1103)로부터 압출 헤드(1101) 상에서 클리닝될 표면으로 용매 유체를 분배하기에 바람직한 구조이고, 본 발명을 이해하는 데 있어서 당업계의 숙련자들에게 도움이 될 것으로 보인다. 그러나, 헹굼 스테이션의 여러 가지 고성은 본 발명의 개념에 따라 사용될 수 있다.

용매 유체는 초기에 유체 저장기(1103)에 체류하는 것이 바람직하다. 바람직하게는, 유체 펌프 또는 가압 수단(도시하지 않음)은 적절한 속도로 클리닝될 표면에 유체가 도달하게 하는 유체 저장기에 충분한 압력을 제공한다.

바람직한 실시예에서, 용매는 대개의 수직 홈(1104)에 이르는 저장기(1103)로부터 유체 분기관(1105)으로 펌프되는 것이 바람직하다. 분기관 또는 슬롯(1105)에서 유체는 클리닝될 표면 쪽으로 향한다. 분무 경로(1106)는 유체 분기관(1105)으로부터 클리닝될 표면 쪽으로 유체 흐름 경로를 지정한다. 이러한 경로(1106)는 유체 분기관(1105) 기하학, 유체 속도, 유체 분기관(1105)의 출구로의 압출 표면의 유체 속도 및 근접도의 산물일 것이다. 유체 분기관(1105)의 기하학, 바람직하게는 직사각형 슬롯, 유압 및 속도 및 압출 헤드 표면의 위치는 압출 헤드의 전체 길이를 따라 클리닝될 표면을 치기 위해 분무 경로(1106)를 따라 유체의 연속적인 커튼을 허용하는 것이 바람직하다. 도 11에서, 길이 치수는 페이지로 및 그 밖으로의 지시이다. 헤드(1101)의 길이에 따른 분무 경로(1106)에 따른 유체의 연속적인 커튼을 제공함으로써 헤드의 균일하고 철저한 클리닝을 보장하는 데 조력한다.

수직 홈(1104), 분기관(1105) 및 분무 경로(1106)의 조합은 용매 저장기(1103)를 압출 헤드(1101)에 접속시키는 유체 흐름 구조의 한가지 가능한 형태이다. 대안으로, 홈(1104)은 대개 수직일 필요는 없지만 가압된 유체를 분기관(1105)으로 또는 대안으로 클리닝될 표면 쪽을 직접적으로 안내하도록 배치될 필요가 있다. 홈(1104)은 원, 타원, 정사각형 또는 직사각형을 포함하지만 이들로만 제한되지 않는 임의의 단면적 기하학을 가질 수 있다. 유체 저장기(1103)로부터 압출 헤드(1101)로 유체를 안내하는 유체 흐름 구조는 여러 가지 상이한 경로, 단면적 기하학 및 치수를 포함할 수 있다. 따라서, 본 발명은 도 11에 나타낸 구성으로 제한되지 않는다.

또 다른 바람직한 실시예에서, 헤드(1101) 상에서 클리닝될 표면 쪽으로 유체를 지향시키는 수단은 용매 푸울(1103)로부터 다공성 또는 소결 물질(도시하지 않음)로 용매를 지향시키는 것을 포함한다. 가압될 때, 소결 물질은 압출 헤드(1101) 상에서 클리닝될 표면 쪽으로 유체 흐름의 커튼을 공급할 것이다.

바람직한 실시예에서, 펌프는 압출 헤드 표면 쪽으로 저장기로부터 용매를 펌프시키기 위해 사용된다. 상기 펌프에 대한 전력 소스는 전체적인 클리닝 및 프라이밍 어셈블리를 위한 공통 구동 수단 또는 모터(201)(도 2)이거나 또는 헹굼 스테이션(1100)에 전용될 수 있다.

바람직한 실시예에서, 헹굼 스테이션(1100)에 사용된 용매는 임의의 잔류하는 스크러버 스테이션 용매 및 특정 저 점성 코팅 유체를 용해시킬 수 있으면서 신속하게 그를 증발시키는 화학적 조성을 포함한다. 이 실시예의 용매는 오퍼레이션 시퀀스가 마찰 스테이션 및 헹굼 스테이션 모두에서 압출 헤드를 서비스하는 것을 필요로 할 때 최상으로 사용된다. 이 실시예에서 용매의 장점은 그것이 자체 건조되거나 또는 증발함에 따라 압출 헤드로부터 헹굼 용매를 제거하는 데 어떠한 활성 단계도 필요치 않다는 것이다.

대안으로, 헹굼 스테이션은 완전히 자체 건조되는 용매보다 더 점성인 코팅 유체를 제거할 수 있는 보다 강력하지만 자체 건조성 또는 증발성이 약한 용매를 사용할 것이다. 이 용매는 훨씬 더 큰 범위의 코팅 유체를 직접적으로 용해시킬 수 있는 장점을 제공하고, 따라서, 이와 같이 보다 큰 범위의 코팅 유체에 대한 마찰 스테이션에서 서비스를 스킵하도록 압출 헤드를 인에이블시킨다. 이와 같이 보다 강력한 헹굼 용매는 압출 헤드의 표면으로부터 헹굼 용매의 완전한 제거를 보장하기 위해 활성 건조를 필요로 할 수 있다.

이미 고찰한 바와 같이, 압출 헤드의 프라이밍은 프라이밍 스테이션에서 수행되는 것이 바람직하다(도 6). 그러나, 대안의 바람직한 실시예에서, 압출 헤드는 헹굼 스테이션(1100)에 배치되면서 프라이밍 오퍼레이션을 수행할 수 있다. 압출 헤드로의 유체 전달 수단은 압출 슬롯(1107)에서 코팅 비드가 적절히 형성될 때까지 압출 헤드 슬롯(1107) 밖으로 코팅 물질을 압출시킨다. 상기 펌핑 공정 중에 방출된 코팅 물질은 헹굼 스테이션 용매 저장기로 흡수되어 용해되는 것이 바람직하다. 이러한 방식으로 압출 헤드를 프라이밍하는 것은 프라이밍 스테이션에서 압출 헤드가 개별적인 종료를 행할 필요성을 미연에 방지한다. 프라이밍 오퍼레이션은 헹굼 오퍼레이션과 동시에 또는 그에 후속하여 수행될 수 있다.

도 12는 본 발명의 대안의 바람직한 실시예에 따른 헹굼 스테이션의 단면도를 나타낸다. 압출 헤드(1101)는 헹굼 스테이션의 클리닝 홈(1102)에 위치하는 것으로 보인다. 압출 헤드(1101)의 활성 건조가 필요한 경우, 공기 흐름은 압출 헤드(1101) 내의 슬롯(1202) 아래의 바람직한 통로 내의 1201로 나타낸 방향으로 발생되는 것이 바람직하다. 이러한 공기 흐름은 압출 헤드 상의 임의의 잔류하는 헹굼 용매의 증발을 가속화시킨다. 기재된 방식의 활성 건조는 보다 적은 증발 또는 자체 건조된 헹굼 용매가 사용될 때 수행되는 것이 바람직하다.

바람직한 실시예에서, 헹굼 용매는 유체가 압출 헤드 상으로 분무되는 경우의 지점과 저장기 간의 일부 지점에서 또는 유체 저장기 내에서 가열된다. 용매를 가열하는 것은 유체의 클리닝 작용을 증진시키고, 유체의 신속한 증발을 허용함으로써 헹굼 용매의 공기 흐름 건조에 대한 필요성을 미연에 방지한다.

부가로 또는 대안으로, 초음파 에너지는 용매 클리닝 작용에 전송됨으로써 클리닝 오퍼레이션을 격려하고 증진시킨다. 헤드는 진동될 수 있으므로 초음파 클리닝 작용을 개시할 수 있다. 대안으로 또는 부가로, 초음파 에너지는 헹굼 스테이션에서 기원할 수 있고, 헹굼 용매 유체의 연속 스트림을 통해 압출 헤드 상의 클리닝 오퍼레이션으로 전송될 수 있다.

클리닝될 코팅 유체의 유형의 따라, 클리닝 및 프라이밍 어셈블리에 배치된 스테이션들은 변화할 수 있다. 점성 코팅 유치가 클리닝되는 경우, 이 어셈블리는 스크러버의 직접적인 기계적 접촉이 점성 유체에 이롭기 때문에 마찰 스테이션을 포함하는 것이 바람직하다. 마찰 스테이션은 점성 유체를 용해시키기 위해 강력한 용매를 포함하는 것이 바람직하다. 마찰 스테이션에 사용된 용매가 자체 건조되지 않는 경우, 또는 마찰 오퍼레이션 후 헤드 상에 남아있는 코팅 유체의 임의의 가능성이 존재하는 경우, 헹굼 스테이션은 클리닝 및 프라이밍 어셈블리에 배치되는 것이 바람직하다.

대안으로, 클리닝 및 프라이밍 어셈블리는 프라이밍 및 클리닝 스테이션의 풀 세트를 포함할 것이지만, 관련된 코팅 오퍼레이션은 코팅 스테이션이 압출에 의해 그 순서대로 액세스되는 것을 지시할 것이다.

헹굼 스테이션은 헹굼 스테이션을 시작한 후 그의 제거를 위해 어떠한 부가의 작용도 필요로 하지 않는 용매를 사용하는 것이 바람직하다. 부가의 작용에 대한 필요성의 방지는 용매의 신속한 증발, 용매 가열 및 헹굼 공정의 초음파 교반의 임의의 조합을 사용함으로써 달성될 수 있다. 점성 코팅 유체의 경우에, 헹굼 스테이션은 압출 헤드 상에 남아있는 마찰 스테이션 용매 뿐만 아니라 잔류하는 코팅 유체 모두를 제거할 수 있는 것이 바람직하다.

클리닝 및 프라이밍 어셈블리는 코팅 유체의 비드의 프라이밍을 위해 전용 프라이밍 스테이션을 포함하는 것이 바람직하다. 대안으로, 코팅 유체의 비드는 압출 헤드가 클리닝 스테이션에 존재하면서 프라이밍될 수 있다. 클리닝 스테이션에서 프라이밍은 특히 점성 유체에 대해 바람직할 수 있다. 그러한 프라이밍이 특정 유체에 대한 클리닝 스테이션중의 하나에서 수행될 것임이 미리 공지된 경우, 전용 프라이밍 스테이션은 클리닝 및 프라이밍 어셈블리로부터 생략될 수 있거나 또는 단순히 압출 헤드를 서비스하는 것과 관련된 오퍼레이션의 시퀀스에서 스킵될 수 있다.

보다 적은 점성의 코팅 유체에 대해, 마찰 스테이션은 필요치 않을 수 있다. 따라서, 마찰 스테이션은 클리닝 및 프라이밍 어셈블 리가 연장된 시간 동안 특정 유체와 연관될 경우 클리닝 및 프라이밍 어셈블리로부터 생략될 수 있다. 대안으로, 마찰 스테이션은 어셈블리에 포함될 수 있지만 압출 헤드의 서비스와 관련된 오퍼레이션의 시퀀스에서 스킵될 수 있다. 마찰 오퍼레이션이 스킵되는 경우, 압출 헤더는 헹굼 스테이션에 의해 먼저 서비스되고, 이어서 동시에 또는 순차로 프라이밍되는 것이 바람직하다.

압출 헤드에서 코팅 물질 및 클리닝 스테이션에 사용된 용매에 따라, 광범위한 범위의 오퍼레이션이 가능하다. 일반적으로, 압출 헤드의 처리는 하나의 클리닝 스테이션, 마찰 또는 헹굼 스테이션에서 최소한도로 종료를 포함할 것이다. 다른 서비스 종료는 코팅 유체의 필요성이 지시하는 대로 부가될 수 있다. 오퍼레이션의 가능한 시퀀스는 마찰, 헹굼 및 프라이밍(프라이밍 스테이션에서); 마찰 및 프라이밍(프라이밍 스테이션에서); 마찰 스테이션에서 동시에 프라이밍하면서 마찰; 및 헹굼 스테이션에서 프라이밍하면서 헹굼을 포함하지만 이들로만 제한되지 않는다.

압출 헤드의 특성이 공지되어 있고 특정 클리닝 및 프라이밍 어셈블리와 연관될 때, 그 어셈블리에서 모든 스테이션의 많은 특성은 관련된 압출 헤드 및 코팅 물질에 적합하게 맞춰질 수 있다. 헹굼 스테이션에 관하여, 압출 헤드로 맞춰질 수 있는 특성은 용매의 선택, 유체 전달 시스템, 헹굼 유체가 헤드로 전달되는 속도, 스테이션에서 홈의 치수, 헹굼 유체 온도, 및 클리닝 프로세스를 촉매하기 위해 초음파 교반을 사용하거나 또는 사용하지 않는 선택을 포함하지만, 이들로만 제한되지 않는다.

마찰 스테이션에 관하여, 압출 헤드 및 코팅 물질에 적합하게 맞춰질 수 있는 특성은 스크러버 조성 및 기하학의 선택, 스크러버의 수, 스테이션 내의 스크러버의 상대적인 배치, 스크러버 움직임 또는 회전 속도, 스크러버 클리닝 기구 수단, 사용될 용매, 용매 전달 수단 및 코팅 물질에 노출된 용매의 화학적 강도를 보존하는 수단을 포함하지만, 이들로만 제한되지 않는다.

프라이밍 스테이션 및 프라이밍 오퍼레이션의 특징은 사용될 코팅 물질 및 압출 헤드에 적합하게 마찬가지로 맞춰질 수 있다. 프라이밍 오퍼레이션은 프라이밍 스테이션 이외의 다른 위치에서 수행될 수 있지만 마찰 및 헹굼 스테이션으로만 제한되지 않는다. 사용될 코팅 물질 및 압출 헤드로 맞춰질 수 있는 프라이밍 스테이션의 특징은 사용될 용매 조, 프라이밍 표면의 기하학 및 조성, 압출 슬롯에 대한 프라이밍 표면의 상대적인 속도, 그 속에 코팅 물질의 용해 후 용매 조의 화학적 효과를 보존하는 메카니즘, 용매 조의 온도, 및 프라이밍 공정의 지속을 포함하지만, 이들로만 제한되지 않는다. 프라이밍 오퍼레이션이 클리닝 스테이션에서와 같이 프라이밍 스테이션으로부터 벗어나 수행되는 경우, 대등 관계는 시간을 절감하기 위해 마찰 또는 헹굼 등의 다른 오퍼레이션과 동시에 헤드로부터 코팅 물질을 압출하는 것을 포함하는 것이 바람직하다.

압출 헤드를 클리닝 및 프라이밍하는 진보적인 메카니즘은 전체적인 코팅 장치와 서로 개별적인 스테이션의 오퍼레이션을 대등하게 하고 클리닝 및 프라이밍 어셈블리에서 개별적인 스테이션에서 과정 중의 오퍼레이션 파라메터를 제어하는 수단을 포함한다. 이들 파라메터 제어 수단은 클리닝 및 프라이밍 어셈블리 내에 통합적으로 설치되고, 코팅 장치 상에 위치하고, 어셈블리 및 코팅 장치 모두로부터 원격으로 위치하거나 도는 이들 3개의 위치 사이에 분배될 수 있다.

마찰 스테이션에서, 제어될 과정 중의 파라메터는 마찰 기구의 회전 속도, 속도 및 용적식 유량을 포함하는 유체 흐름 제어, 용매 푸울의 온도 제어, 마찰 공정의 지속 및 임의로 마찰 기구의 선형 및 모난 배치를 포함하지만, 이들로만 제한되지 않는다. 예를 들면, 점성 유체의 클리닝은 스크러버의 보다 느린 회전, 보다 낮은 용매 유체 흐름 속도 및 임의로 보다 고온 용매로부터 유리할 수 있다. 스크러버 회전이 빠르고 용매 유체 흐름이 보다 신속할수록 보다 적은 점성의 유체를 다루고 클리닝 오퍼레이션을 보다 적은 시간에 완성시키는 데 효과적일 수 있다.

헹굼 스테이션에서, 제어될 과정 중의 파라메터는 압출 헤드를 향하여 지향된 헹굼 용매의 속도 및 용적식 유량, 헹굼 용매의 온도, 압출 헤드 상의 클리닝 표면에서 지향된 초음파 에너지의 제어, 및 헹굼 공정의 지속을 포함하지만, 이들로만 제한되지 않는다. 보다 점성인 유체를 클리닝하는 것은 헹굼 공정에 대한 열 및 초음파 에너지 등의 클리닝 촉매의 도입으로부터 유리할 수 있다. 이들 촉매는 해가 없지만 보다 적은 점성의 유체를 클리닝시킬 때 필요성이 적다.

프라이밍 스테이션에서, 제어될 과정 중의 파라메터는 헤드 상의 압출 슬롯에 관하여 프라이밍 표면의 속도, 헤드와 프라이밍 표면 간의 헤드 갭 및 헤드로부터 코팅 물질 압출 속도를 포함하지만 이들로만 제한되지 않는다. 예를 들면, 헤드로부터 코팅 물질 압출 속도는 유체의 점도가 증가함에 따라 감소되는 것이 바람직하다. 압출 헤드에 관하여 프라이밍 표면의 속도는 코팅 물질 압출 속도에 따라 조절될 수 있고, 따라서 보다 큰 점성 유체에 대해 보다 느려질 수 있다.

진보적인 메카니즘은 압출 헤드를 포함하는 코팅 장치의 제어와 클리닝 및 프라이밍 어셈블리에서 스테이션 내의 오퍼레이션 간의 대등 관계를 제공한다. 대등 관계는 어플라이언스를 위해 제어 수단이 전력을 온 오프 시키는 능력을 포함하지만 이것으로만 제한되지 않고, 스크러버의 회전, 마찰 및 헹굼 스테이션에서 유체 흐름, 프라이밍 롤러의 회전을 포함하지만 이들로만 제한되지 않는다. 대등 관계를 포함시킨 다른 바람직한 공정은 프라이밍 스테이션 상의 프라이밍 헤드의 공정이다. 프라이밍될 때, 압출 헤드로부터 코팅 물질 압출 속도는 바람직한 실시예에서 프라이밍 롤러의 회전 속도인 프라이밍 표면 움직임의 속도와 대등 관계인 것이 바람직하다.

대안으로 프라이밍 롤러의 속도 뿐만 아니라 여러 가지 스테이션에서 다른 작동 파라메터들은 프로세스 독립적일 수 있다. 보다 상세하게는, 프라이밍 롤러 및 마찰 기구는 압출 헤드의 작동 파라메터 또는 코팅 장치의 임의의 다른 부분과 무관하게 일정한 속도를 가질 수 있다.

본 발명은 압출 코팅 헤드의 움직임 범위 내에 용이하게 배치된 비교적 작은 풋프린트의 압출 코팅 메카니즘의 자동화된 서비스를 위한 장치의 배치를 허용하는 것을 상기 고찰로부터 인식해야 한다. 따라서, 그러한 압출 헤드의 서비스는 코팅 공정을 철저하게 주기적으로 용이하게 수행할 수 있으므로써 개선된 압출 코팅을 제공한다.

본 발명 및 그의 장점을 상세히 기재하였지만, 첨부된 특허 청구의 범위로 제한되는 본 발명의 정신 및 범위에서 벗어나지 않는 여러 가지 변화, 치환 및 변경이 본 명세서에서 이루어질 수 있음을 이해해야 한다.

Claims

코팅 오퍼레이션을 위한 압출 헤드 제조 시스템에 있어서,

압출 헤드의 클리닝 수단과;

압출 헤드의 프라이밍 수단과;

코팅 오퍼레이션 간의 압출의 신속한 준비를 허용하기 위해 코팅 장치에 편리하도록 작은 풋프린트 내에 클리닝 수단 및 프라이밍 수단을 배치하는 수단; 및

제조 시스템을 액세스하기 위한 압출 헤드의 인에이블 수단을 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제1항에 있어서, 상기 클리닝 수단은 압출 헤드의 스크러빙 수단을 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제1항에 있어서, 상기 클리닝 수단은 압출 헤드의 헹굼 수단을 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제1항에 있어서, 상기 클리닝 수단은,

스크러빙 수단; 및

헹굼 수단을 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제1항에 있어서, 상기 제조 시스템은 코팅 장치 내에 배치되는 압출 헤드 제조 시스템.
.
제1항에 있어서, 상기 제조 시스템은 코팅 장치에 이동 가능하게 부착될 수 있는 카트 상에 배치되는 압출 헤드 제조 시스템.
제1항에 있어서, 상기 프라이밍 수단은 압출 헤드가 상기 코팅 물질을 수집하기 위한 용기(receptacle) 상에 배치되는 동안 압출 헤드로부터 코팅 물질을 압출하는 수단을 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제1항에 있어서, 상기 프라이밍 수단은 압출 헤드가 압출 헤드의 클리닝 수단 위에 배치되는 동안 압출 헤드로부터 코팅 물질을 압출하는 수단을 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
.
.
제1항에 있어서, 상기 프라이밍 수단은 상기 압출 헤드에 관하여 프라이밍 표면 모빌 위의 압출 헤드로부터 코팅 물질의 압출 수단을 포함함으로써 상대적인 모빌 프라이밍 표면을 확립하는 압출 헤드 제조 시스템.
제1항에 있어서, 코팅될 표면 상의 압출 헤드의 높이와 실질적으로 동일한 상기 프라이밍 표면 상의 높이로 압출 헤드를 위치시키는 수단을 부가로 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제12항에 있어서, 상기 상대적인 모빌 프라이밍 표면은 회전 실린더이고, 상기 실린더는 2개의 단부를 갖는 압출 헤드 제조 시스템.
제14항에 있어서, 상기 회전 실린더는 두 단부에서 지원되고 중력에 응답하여 상기 단부 사이에서 새그되는 압출 헤드 제조 시스템.
제14항에 있어서, 상기 회전 실린더는 이 회전 실린더를 사용하여 인쇄될 디스펜스 헤드에 참여한 새그와 일치하게 새그되도록 선택되고 지원되는 압출 헤드 제조 시스템.
제14항에 있어서, 상기 실린더는 용매 조에 배치되는 압출 헤드 제조 시스템.
제17항에 있어서, 실린더 클리닝 수단을 부가로 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제18항에 있어서, 상기 실린더 클리닝 수단은 상기 실린더에 관하여 회전 가능하게 이동할 수 있고 그와 접촉하는 브러시를 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제12항에 있어서, 상기 프라이밍 수단은 프라이밍 스테이션에 하우징되며, 상기 압출 헤드에 액세스 가능한 위치로 상기 프라이밍 수단을 이동시키는 수단을 부가로 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제12항에 있어서, 상기 압출 헤드로부터 압출된 상기 코팅 물질을 용해시키는 수단을 부가로 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제2항에 있어서, 상기 스크러빙 수단은 적어도 하나의 스크러빙 기구와 상기 압출 헤드 간의 물리적 접촉을 사용하는 압출 헤드의 클리닝 수단을 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제22항에 있어서, 상기 스크러빙 수단은 상기 압출 헤드 상에서 클리닝될 표면에 반하여 적어도 하나의 브러시를 회전시키는 수단을 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제23항에 있어서, 상기 적어도 하나의 브러시를 클리닝하기 위한 수단을 부가로 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제23항에 있어서, 상기 스크러빙 수단은,

용매 푸울; 및

상기 적어도 하나의 브러시와 상기 압출 헤드 사이의 접촉 영역 쪽으로 용매를 지향시키는 수단을 부가로 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제25항에 있어서, 상기 용매 지향 수단은 용매 가열 수단을 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제23항에 있어서, 상기 적어도 하나의 브러시는 2개의 브러시를 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제3항에 있어서, 상기 헹굼 수단은,

헹굼 유체를 포함하는 유체 저장기; 및

압출 헤드 쪽으로 상기 유체를 지향시키는 수단을 포함하는 헹굼 스테이션인 압출 헤드 제조 시스템.
제28항에 있어서, 상기 유체가 압출 헤드와 접촉하기 전에 헹굼 유체를 가열하는 수단을 부가로 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제28항에 있어서, 상기 유체는 압출 헤드와 접촉하는 동안 헹굼 유체를 초음파로 교반시키는 수단을 부가로 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제28항에 있어서, 상기 헹굼 스테이션은 압출 헤드가 헹굼 용매의 재포획을 허용하기 위해 헹굼 중에 체류하는 홈(groove)을 부가로 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제28항에 있어서, 상기 헹굼액 지향 수단은 상기 용매 유체 저장기로부터 상기 압출 헤드로 유체를 인도하는 유체 흐름 구조물을 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제32항에 있어서, 상기 유체 흐름 구조물은,

유체 저장기와 소통하고 그 위에 배치된 수직 홈; 및

압출 헤드 쪽으로 유체를 인도하는 수직 홈과 소통하는 슬롯을 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제32항에 있어서, 상기 유체 흐름 구조물은 상기 압출 헤드로 흐르는 특정 헹굼 유체를 발생시키기 위해 유체 저장기와 압출 헤드 간에 배치된 소결 물질을 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제28항에 있어서, 상기 유체 지향 수단은 펌프를 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제28항에 있어서, 상기 헹굼 유체는 자체-건조되는 압출 헤드 제조 시스템.
제32항에 있어서, 압출 헤드 표면을 통과하는 공기 흐름을 사용하여 헹굼 유체를 건조시키는 수단을 부가로 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제1항에 있어서, 상기 인에이블 수단은 압출 헤드 이동 범위 내에 제조 시스템을 배치하는 수단을 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제1항에 있어서, 상기 코팅 장치는 압출 헤드를 이동시키는 수단을 포함하고, 이동 수단은 압출 헤드 이동 범위를 갖는 압출 헤드 제조 시스템.
제39항에 있어서, 상기 인에이블 수단은

압출 헤드가 간섭 없이 기판을 코팅하도록 허용하는 압출 헤드 이동 범위 밖으로 제조 시스템을 이동시키는 수단; 및

압출 헤드를 서비스시키기 위해 압출 헤드 이동 범위로 제조 시스템을 이동시키는 수단을 포함하며,

상기 압출 헤드 이동 수단은 상기 제조 시스템에서 서비스되도록 압출 헤드를 위치시킴으로써, 압출 헤드에 서비스를 제공하는 압출 헤드 제조 시스템.
제40항에 있어서, 상기 압출 헤드 이동 수단은 압출 헤드를 실질적으로 선형으로 이동시키는 수단을 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제40항에 있어서, 상기 압출 헤드 이동 수단은 압출 헤드 회전 수단을 포함하고;

인에이블 수단은 상기 헤드가 제조를 위한 위치로 회전될 때 압출 헤드에 의해 액세스하기 적절한 위치로 제조 시스템을 이동시키는 수단을 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
제42항에 있어서, 상기 제조 시스템에 의해 압출 헤드에 제공된 서비스는 프라이밍을 포함하는 압출 헤드 제조 시스템.
코팅 장치에 접속된 압출 헤드 서비스 방법에 있어서,

압출 헤드를 압출 헤드 제조 장치에 인접하게 위치시키는 단계; 및

코팅 오퍼레이션을 위해 압출 헤드를 자동으로 제조하는 단계를 포함하고, 여기서 제조 장치는 제조 단계를 위한 적어도 하나의 전용 스테이션을 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제44항에 있어서, 상기 제조 단계는 각각의 코팅 오퍼레이션 간에 수행되는 압출 헤드 서비스 방법.
제44항에 있어서, 상기 제조 단계는 최종적으로 수행되기 때문에 복수개의 코팅 오퍼레이션이 수행된 후에 상기 제조 단계가 수행되는 압출 헤드 서비스 방법.
제44항에 있어서, 상기 압출 헤드 제조 장치 상으로 압출 헤드를 이동시키는 단계를 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제44항에 있어서, 상기 압출 헤드 제조 장치를 압출 헤드 아래로 이동시키는 단계를 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제44항에 있어서, 상기 제조 단계는 압출 헤드를 클리닝시키는 단계를 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제44항에 있어서, 상기 클리닝 단계는 복수개의 브러시로 압출 헤드를 마찰시키는 단계를 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제50항에 있어서, 상기 클리닝 단계는 압출 헤드에서 유체를 지향시키는 단계를 부가로 포함하고, 상기 유체는 압출 헤드를 클리닝하기 위해 상기 마찰 단계와 협력하여 작용하는 압출 헤드 서비스 방법.
제50항에 있어서, 상기 마찰 단계는 상기 압출 헤드에 반하여 복수개의 원통형 브러시를 회전시키는 단계를 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제50항에 있어서, 상기 원통형 부재로부터 코팅 물질을 제거함으로써 제거된 코팅 물질을 발생시키는 단계; 및

상기 제거된 코팅 물질을 용매 유체의 푸울에 용해시키는 단계를 부가로 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제49항에 있어서, 상기 클리닝 단계는 전용 헹굼 스테이션에서 압출 헤드 상에서 클리닝될 표면의 헹굼 단계를 포함함으로써 클리닝 표면을 확립하는 압출 헤드 서비스 방법.
제49항에 있어서, 상기 헹굼 단계는 전체 클리닝 표면을 유체와 접촉시키는 압출 헤드 서비스 방법.
제49항에 있어서, 상기 헹굼 단계는,

용매 유체의 푸울 제조 단계; 및

클리닝 표면 쪽으로 상기 용매 유체를 지향시키는 단계를 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제56항에 있어서, 상기 지향 단계는 헹굼 스테이션에서 복수개의 통로를 통해 유체를 루팅시키고, 상기 유체를 상기 클리닝 표면 상으로 출현시키는 것을 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제56항에 있어서, 상기 클리닝 표면 상으로 유체 흐름의 커튼을 발생시키는 단계를 부가로 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제56항에 있어서, 상기 지향 단계는 소결된 물질을 통해 유체를 지향시키는 단계를 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제56항에 있어서, 상기 헹굼 단계 이전에 용매 유체를 가열하는 단계를 부가로 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제56항에 있어서, 상기 유체가 클리닝 표면과 접촉하는 동안 유체를 초음파로 교반시키는 단계를 부가로 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제56항에 있어서, 상기 클리닝 표면 상의 용매 유체를 증발시키기 위해 클리닝 표면을 통과하는 공기 흐름을 발생시키는 단계를 포함하고, 공기 흐름은 압출 분기관으로 가스 버블을 도입하지 않도록 지향된 압출 헤드 서비스 방법.
제44항에 있어서, 상기 제조 단계는 압출 헤드 프라이밍 단계를 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제63항에 있어서, 상기 프라이밍 단계는 코팅 비드가 적절히 형성될 때까지 압출 헤드로부터 코팅 물질을 압출시키는 단계를 포함함으로써 압출된 코팅 물질을 발생시키는 압출 헤드 서비스 방법.
제63항에 있어서, 상기 프라이밍 단계는 압출된 코팅 물질을 저장할 수 있는 용기 상에서 수행되는 압출 헤드 서비스 방법.
제64항에 있어서, 상기 프라이밍 단계는 상기 압출 헤드로부터 코팅 물질을 압출시키면서 압출 헤드 아래로 프라이밍 표면을 이동시키는 단계를 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제66항에 있어서, 코팅 오퍼레이션에서 코팅될 표면 상에 압출 헤드의 높이 만큼 가능한 한 근접하도록 상기 프라이밍 표면 상에 압출 헤드를 위치시키는 단계를 부가로 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제64항에 있어서, 상기 실린더가 프라이밍 실린더인 경우, 실린더를 압출 헤드 아래로 배치하는 단계; 및

실린더를 루팅시키는 방법을 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제68항에 있어서, 용매 조에 프라이밍 실린더를 배치하는 단계를 부가로 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제69항에 있어서, 상기 프라이밍 실린더의 클리닝 단계를 부가로 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
코팅 장치에 접속된 압출 헤드 서비스 방법에 있어서,

압출 헤드를 압출 헤드 클리닝 및 프라이밍 장치에 근접하게 위치시키는 단계와;

압출 헤드를 복수개의 회전 클리닝 기구와 기계적으로 접촉시키는 단계와;

상기 압출 헤드를 클리닝시키는 데 있어서 상기 클리닝 기구와 협력하도록 압출 헤드 상의 코팅 물질을 용해시키기 위해 용매를 지향시키는 단계; 및

압출 헤드를 프라이밍시킴으로써 압출 헤드에서 완전하고 균일한 코팅 비드를 발생시키는 단계를 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제71항에 있어서, 전용 헹굼 스테이션에서 압출 헤드를 헹구는 단계를 부가로 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제71항에 있어서, 특히 점성의 코팅 물질에 대해, 서비스 단계는,

압출 헤드가 코팅 물질을 동시에 스크러빙 장치로 압출하면서 스크러빙 장치를 사용하는 압출 헤드를 마찰함으로써 그 자신을 프라이밍하는 단계를 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
제71항에 있어서, 적은 점성 물질에 대해, 서비스 단계는,

전용 헹굼 스테이션에서 압출 헤드를 헹구는 단계; 및

전용 프라이밍 스테이션에서 압출 헤드를 프라이밍하는 단계를 포함하는 압출 헤드 서비스 방법.
코팅 오퍼레이션을 위한 압출 헤드 제조 장치에 있어서,

압출 헤드 상에서 클리닝될 표면으로부터 점성 코팅 물질을 제거함으로써 클리닝 표면을 확립하기 위한 스크러빙 단계와;

상기 클리닝 표면으로부터 최종 클리닝 용매 제거를 수행하는 헹굼 단계; 및

압출 헤드에서 완전하고 균일한 코팅 비드를 발생시키는 프라이밍 단계를 포함하는, 압출 헤드 제조 장치.
제75항에 있어서, 상기 프라이밍 스테이션은 용매 조에 부분적으로 침지된 프라이밍 표면을 포함하는 압출 헤드 제조 장치.
제75항에 있어서, 상기 스크러빙 스테이션은 상기 압출 헤드가 스크러빙 스테이션의 위치에 있을 때 압출 헤드와 접촉하도록 위치하는 복수개의 회전 가능한 원통형 스크러버를 포함하는 압출 헤드 제조 장치.
제77항에 있어서, 상기 스크러버의 치수 및 배치는 클리닝될 압출 헤드를 수용하도록 확립되는 압출 헤드 제조 장치.
제75항에 있어서, 상기 헹굼 스테이션은,

헹굼 용매의 푸울; 및

압출 헤드 상에서 클리닝될 표면으로 상기 헹굼 용매를 전달하는 장치를 포함하는 압출 헤드 제조 장치.
제79항에 있어서, 상기 제조 장치의 수직 풋프린트를 최소화시키고 헹굼 유체의 효율적인 재포획을 허용하기 위해 헹굼 중에 압출 헤드가 위치하는 홈을 부가로 포함하는 압출 헤드 제조 장치.
제75항에 있어서, 코팅 오퍼레이션 및 압출 헤드의 특징에 응답하여 상기 적어도 하나의 스테이션에서 작동 파라메터를 제어하는 수단을 부가로 포함하는 압출 헤드 제조 장치.
제81항에 있어서, 코팅 장치의 작동 파라메터와 제조 장치에서 작동 파라메터를 대등화시키는 수단을 부가로 포함하는 압출 헤드 제조 장치.
제82항에 있어서, 상기 작동 파라메터 대등화 수단은 프라이밍 스테이션에서 프라이밍 표면의 속도와 압출 헤드로부터 코팅 물질의 압출을 대등화시키는 수단을 포함하는 압출 헤드 제조 장치.
코팅 오퍼레이션을 위한 압출 헤드 자동 제조 장치에 있어서,

압출 헤드의 클리닝 수단; 및

압출 헤드의 프라이밍 수단을 포함하고, 상기 클리닝 수단 및 상기 프라이밍 수단은 작은 풋프린트 내에서 코팅될 기판에 근접 배열되고, 따라서 상기 압출 헤드를 코팅 오퍼레이션 사이에서 신속하게 제조하는 압출 헤드 자동 제조 장치.
제84항에 있어서, 상기 클리닝 수단은 상기 압출 헤드가 클리닝을 위해 상기 복수개의 브러시와 접촉하게 하면서 최소 공간을 점유하도록 배치된 복수개의 원통형 브러시를 포함하고, 상기 원통형 브러시는 회전축을 갖는 압출 헤드 자동 제조 장치.
제84항에 있어서, 상기 클리닝 수단은 상기 압출 헤드 상에서 클리닝될 표면에서 용매를 지향시키는 수단을 부가로 포함하고, 브러시들은 클리닝될 상기 표면으로부터 코팅 물질을 제거하도록 용매와 협력하는 것인 압출 헤드 자동 제조 장치.
제85항에 있어서, 상기 클리닝 수단은,

용매 푸울; 및

사용된 용매를 제거하고 새로운 용매가 상기 용매 푸울로 도입되도록 하는 상기 용매 푸울에 대한 입구 및 출구 포트를 부가로 포함하는 압출 헤드 자동 제조 장치.
제85항에 있어서, 상기 원통형 브러시의 회전축이 장치에 대해 고정되는 압출 헤드 자동 제조 장치.
제85항에 있어서, 상기 원통형 브러시의 회전축이 장치에 대해 이동 가능한 압출 헤드 자동 제조 장치.
제84항에 있어서, 상기 클리닝 수단은 상기 압출 헤드의 헹굼 수단을 포함하는 압출 헤드 자동 제조 장치.
제90항에 있어서, 상기 헹굼 수단은,

헹굼 중에 압출 헤드의 배치를 위해 리세스된 영역을 부가로 포함하고, 상기 리세스된 영역은 바닥을 가지며, 상기 리세스된 영역은 헹굼 수단이 보다 작은 풋프린트를 점유하게 하는 압출 헤드 자동 제조 장치.
제91항에 있어서, 상기 헹굼 수단은 헹굼 중에 사용된 유체의 재포획을 허용하기 위해 상기 리세스된 영역의 바닥을 따라 배치된 구멍을 부가로 포함하는 압출 헤드 자동 제조 장치.
제91항에 있어서, 상기 헹굼 수단은 상기 압출 헤드 상에서 클리닝될 표면 쪽으로 용매 흐름의 연속된 커튼을 지시하는 수단을 포함하는 압출 헤드 자동 제조 장치.
제91항에 있어서, 상기 프라이밍 수단은 최소 풋프린트를 점유하는 원통형 프라이밍 표면을 포함하는 압출 헤드 자동 제조 장치.
제94항에 있어서, 상기 원통형 프라이밍 표면은 용매 푸울에 배치되고, 프라이밍 표면은 원통형 프라이밍 표면을 회전시키는 수단을 부가로 포함하는 압출 헤드 자동 제조 장치.
제94항에 있어서, 상기 압출 헤드는 최소 지연에 따라 코팅 오퍼레이션을 재개하도록 허용하기 위해 압출 헤드로부터 용매를 신속하게 제거하는 수단을 부가로 포함하는 압출 헤드 자동 제조 장치.
제96항에 있어서, 척으로부터 상기 압출 헤드에 의해 코팅된 기판의 제거 및 상기 척 내의 상기 압출 헤드에 의해 코팅될 기판의 배치와 실질적으로 일치하도록 압출 헤드의 클리닝 및 프라이밍을 계획하는 수단을 부가로 포함하고, 코팅된 기판의 제거, 코팅될 기판의 상기 배치 및 압출 헤드에 의해 코팅될 상기 기판의 코팅은 코팅 장치의 주기를 나타내는 압출 헤드 자동 제조 장치.
제97항에 있어서, 상기 압출 헤드의 클리닝 수단 및 프라이밍 수단은 코팅 장치의 각각의 주기 동안 한번 활성화되는 압출 헤드 자동 제조 장치.
제97항에 있어서, 상기 압출 헤드의 클리닝 수단 및 프라이밍 수단은 상기 클리닝 수단 및 상기 프라이밍 수단의 이전의 활성화 때문에 코팅 장치의 복수개의 주기가 완료됨에 따라서만 활성화되는 압출 헤드 자동 제조 장치.
코팅 오퍼레이션을 위한 압출 헤드 자동 제조 방법에 있어서,

압출 헤드의 클리닝 단계; 및

압출 헤드의 프라이밍 단계를 포함하고, 여기서, 클리닝 및 프라이밍 장치는 코팅될 기판에 근접하게 배치됨으로써 작은 풋프린트 내에서 코팅 오퍼레이션 간에 압출 헤드의 신속한 제조를 가능케 하는 압출 헤드 자동 제조 방법.
제100항에 있어서, 최소 공간을 점유하도록 원통형 브러시를 배치시키는 단계; 및

원통형 브러시가 회전축을 갖는 경우에, 압출 헤드를 클리닝시키기 위해 상기 원통형 브러시를 회전시키는 단계를 부가로 포함하는 압출 헤드 자동 제조 방법.
제100항에 있어서, 상기 클리닝 단계는 상기 압출 헤드 상에서 클리닝될 표면에 용매를 지시하는 단계를 부가로 포함하고, 용매 지시 단계는 압출 헤드로부터 코팅 물질을 제거하기 위해 원통형 브러시를 회전시키는 단계와 협력하는 압출 헤드 자동 제조 방법.
제101항에 있어서, 상기 클리닝 단계는,

클리닝 스테이션 내에 용매 푸울을 배치하는 단계; 및

상기 용매 푸울에 입구 및 출구 포트를 배치시킴으로써 사용된 용매가 제거되고 새로운 용매가 상기 용매 푸울에 도입되게 하는 단계를 부가로 포함하는 압출 헤드 자동 제조 방법.
제101항에 있어서, 상기 원통형 브러시의 회전 축을 클리닝 장치에 관하여 이동시키는 단계를 포함하는 압출 헤드 자동 제조 방법.
제101항에 있어서, 상기 클리닝 단계는 상기 압출 헤드의 헹굼 단계를 포함하는 압출 헤드 자동 제조 방법.
제105항에 있어서, 상기 헹굼 단계는 헹굼 중에 압출 헤드의 배치를 위해 리세스된 영역을 배치시키는 단계를 포함하고, 상기 리세스된 영역은 바닥을 갖고, 상기 리세스된 영역은 헹굼 수단이 보다 적은 풋프린트를 점유하게 하는 압출 헤드 자동 제조 방법.
제106항에 있어서, 상기 헹굼 단계는 헹굼 중에 사용된 유체의 재포획을 허용하기 위해 상기 리세스된 영역의 바닥을 따라 구멍을 배치하는 단계를 부가로 포함하는 압출 헤드 자동 제조 방법.
제106항에 있어서, 상기 헹굼 단계는 상기 압출 헤드 상에서 클리닝될 표면 쪽으로 용매 흐름의 연속적인 커튼을 지향시키는 단계를 포함하는 압출 헤드 자동 제조 방법.
제106항에 있어서, 상기 프라이밍 단계는 최소 풋프린트를 점유하기 위해 원통형 프라이밍 표면을 배치하는 단계를 포함하는 압출 헤드 자동 제조 방법.
제109항에 있어서, 상기 프라이밍 단계는,

용매 푸울에 원통형 프라이밍 표면을 배치하는 단계; 및

원통형 프라이밍 표면을 회전시키는 단계를 부가로 포함하는 압출 헤드 자동 제조 방법.
제109항에 있어서, 상기 압출 헤드는 최소 지연에 따라 코팅 오퍼레이션을 재개하게 하는 압출 헤드로부터 용매를 신속히 제거하는 단계를 부가로 포함하는 압출 헤드 자동 제조 방법.
제111항에 있어서, 척으로부터 상기 압출 헤드에 의해 코팅된 기판의 제거 단계 및 상기 척 내의 상기 압출 헤드에 의해 코팅될 기판의 배치 단계와 실질적으로 일치하도록 압출 헤드의 클리닝 및 프라이밍 단계를 계획하는 단계를 부가로 포함하고, 코팅된 기판의 제거 단계, 코팅될 기판의 상기 배치 단계 및 상기 압축 헤드에 의해 코팅될 상기 기판의 코팅 단계는 코팅 장치의 주기를 나타내는 압출 헤드 자동 제조 방법.
제112항에 있어서, 상기 압출 헤드의 클리닝 단계 및 프라이밍 단계는 코팅 장치의 각각의 주기 동안 한번 활성화되는 압출 헤드 자동 제조 방법.
제112항에 있어서, 상기 압출 헤드의 클리닝 단계 및 프라이밍 단계는 상기 클리닝 단계 및 상기 프라이밍 단계의 이전의 활성화 때문에 코팅 장치의 복수개의 주기가 완료됨에 따라서만 활성화되는 압출 헤드 자동 제조 방법.