JPH09289161A - 処理液塗布装置 - Google Patents
処理液塗布装置Info
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- JPH09289161A JPH09289161A JP12659396A JP12659396A JPH09289161A JP H09289161 A JPH09289161 A JP H09289161A JP 12659396 A JP12659396 A JP 12659396A JP 12659396 A JP12659396 A JP 12659396A JP H09289161 A JPH09289161 A JP H09289161A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 スリット状の吐出口を有するノズル部を有効
に洗浄することのできる処理液塗布装置を提供すること
を目的とする。 【解決手段】 ノズル３にはレジスト供給管１２が接続
されており、このレジスト供給管１２は、液溜め部９を
介してスリット状の吐出口８と連通している。また、ノ
ズル３には、そこに付着したレジストを洗浄する洗浄液
を供給する一対の洗浄液供給管１５が接続されている。
この一対の洗浄液供給管１５は、液溜め部９の左右両端
付近に接続することにより、液溜め部９を介してスリッ
ト状の吐出口８と連通している。ノズル３を洗浄する場
合には、開閉弁１７を開放し、洗浄液供給管１５よりノ
ズル３に洗浄液を供給する。洗浄液供給管１５より供給
された洗浄液は、液溜め部９の左右両端よりノズル３内
に進入し、液溜め部９を介してスリット状の吐出口８か
らノズル３の外部に排出される。
に洗浄することのできる処理液塗布装置を提供すること
を目的とする。 【解決手段】 ノズル３にはレジスト供給管１２が接続
されており、このレジスト供給管１２は、液溜め部９を
介してスリット状の吐出口８と連通している。また、ノ
ズル３には、そこに付着したレジストを洗浄する洗浄液
を供給する一対の洗浄液供給管１５が接続されている。
この一対の洗浄液供給管１５は、液溜め部９の左右両端
付近に接続することにより、液溜め部９を介してスリッ
ト状の吐出口８と連通している。ノズル３を洗浄する場
合には、開閉弁１７を開放し、洗浄液供給管１５よりノ
ズル３に洗浄液を供給する。洗浄液供給管１５より供給
された洗浄液は、液溜め部９の左右両端よりノズル３内
に進入し、液溜め部９を介してスリット状の吐出口８か
らノズル３の外部に排出される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示パネル
用ガラス基板、半導体ウエハ、半導体製造装置用マスク
基板等の基板の表面に、フォトレジスト等の処理液を塗
布するための処理液塗布装置に関する。
用ガラス基板、半導体ウエハ、半導体製造装置用マスク
基板等の基板の表面に、フォトレジスト等の処理液を塗
布するための処理液塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】このような処理液塗布装置の一種とし
て、スリット状の吐出口を有するノズルから基板の表面
に処理液を供給することにより、処理液を均一に塗布し
ながら処理液の使用量を低減することのできる処理液塗
布装置が提案されている（特開平７−２８４７１５号公
報）。
て、スリット状の吐出口を有するノズルから基板の表面
に処理液を供給することにより、処理液を均一に塗布し
ながら処理液の使用量を低減することのできる処理液塗
布装置が提案されている（特開平７−２８４７１５号公
報）。
【０００３】この処理液塗布装置は、例えば矩形状の基
板を水平に保持する回転可能な基板保持部と、この基板
保持部に保持された基板の表面と対向して配置されたス
リット状の吐出口を有し、基板表面の全域より小さい領
域に処理液を供給するノズル部と、このノズル部を基板
の表面に沿って移動させる移動手段とを有する。そし
て、この処理液塗布装置により基板の表面に処理液を塗
布する際には、移動手段によりノズル部を基板の長手方
向に移動させながら、吐出口から基板の表面に処理液を
吐出することにより、基板表面の所定範囲に処理液を供
給する。そして、基板保持部により基板をその表面に沿
った平面内で回転させ、基板表面の処理液を遠心力によ
って拡散させることにより、基板の表面に処理液を薄膜
状に塗布する。
板を水平に保持する回転可能な基板保持部と、この基板
保持部に保持された基板の表面と対向して配置されたス
リット状の吐出口を有し、基板表面の全域より小さい領
域に処理液を供給するノズル部と、このノズル部を基板
の表面に沿って移動させる移動手段とを有する。そし
て、この処理液塗布装置により基板の表面に処理液を塗
布する際には、移動手段によりノズル部を基板の長手方
向に移動させながら、吐出口から基板の表面に処理液を
吐出することにより、基板表面の所定範囲に処理液を供
給する。そして、基板保持部により基板をその表面に沿
った平面内で回転させ、基板表面の処理液を遠心力によ
って拡散させることにより、基板の表面に処理液を薄膜
状に塗布する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した処理液塗布装
置により処理液の塗布動作を繰り返すと、ノズル部に次
第に乾燥、固化した処理液が付着する現象が発生する。
このようにノズル部に処理液が乾燥、固化して付着した
場合には、処理後の基板にこの処理液に起因するパーテ
ィクルが付着したり、処理液をスリット状の吐出口の全
域に亘り均一に吐出することができなくなる等の問題が
発生する。
置により処理液の塗布動作を繰り返すと、ノズル部に次
第に乾燥、固化した処理液が付着する現象が発生する。
このようにノズル部に処理液が乾燥、固化して付着した
場合には、処理後の基板にこの処理液に起因するパーテ
ィクルが付着したり、処理液をスリット状の吐出口の全
域に亘り均一に吐出することができなくなる等の問題が
発生する。
【０００５】また、上記問題点とは別に、処理液塗布装
置により基板に塗布する処理液の種類を変更する場合に
おいても、変更の当初に変更前後の処理液が混合してし
まい処理液の特性が低下するという問題が発生してい
る。
置により基板に塗布する処理液の種類を変更する場合に
おいても、変更の当初に変更前後の処理液が混合してし
まい処理液の特性が低下するという問題が発生してい
る。
【０００６】この発明は、上記問題点に鑑みてなされた
ものであり、スリット状の吐出口を有するノズル部を効
率的に洗浄することにより、上記課題を有効に解決する
ことができる処理液塗布装置を提供することを目的とす
る。
ものであり、スリット状の吐出口を有するノズル部を効
率的に洗浄することにより、上記課題を有効に解決する
ことができる処理液塗布装置を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、基板の表面に処理液を塗布する処理液塗布装置にお
いて、基板を保持する保持手段と、スリット状の吐出口
を有し、当該吐出口から保持手段に保持された基板の表
面に向けて処理液を吐出するノズル部と、ノズル部に処
理液を供給する処理液供給手段と、保持手段により保持
された基板の表面と平行な平面内において、ノズル部を
基板に対して相対的に移動させる移動手段と、ノズル部
に付着した処理液を洗浄する洗浄液をノズル部に供給す
る洗浄液供給手段とを備えたことを特徴とする。
は、基板の表面に処理液を塗布する処理液塗布装置にお
いて、基板を保持する保持手段と、スリット状の吐出口
を有し、当該吐出口から保持手段に保持された基板の表
面に向けて処理液を吐出するノズル部と、ノズル部に処
理液を供給する処理液供給手段と、保持手段により保持
された基板の表面と平行な平面内において、ノズル部を
基板に対して相対的に移動させる移動手段と、ノズル部
に付着した処理液を洗浄する洗浄液をノズル部に供給す
る洗浄液供給手段とを備えたことを特徴とする。
【０００８】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の発明において、洗浄液供給手段は、ノズル部における
吐出口の長手方向に対する両端部付近に各々接続される
ことにより吐出口と連通する２本の洗浄液供給管を備え
ている。
の発明において、洗浄液供給手段は、ノズル部における
吐出口の長手方向に対する両端部付近に各々接続される
ことにより吐出口と連通する２本の洗浄液供給管を備え
ている。
【０００９】請求項３に記載の発明は、請求項１に記載
の発明において、ノズル部には吐出口と連通する連通孔
が穿設されており、処理液供給手段と洗浄液供給手段と
は、連通孔を介して処理液と洗浄液とをノズル部に供給
している。
の発明において、ノズル部には吐出口と連通する連通孔
が穿設されており、処理液供給手段と洗浄液供給手段と
は、連通孔を介して処理液と洗浄液とをノズル部に供給
している。
【００１０】請求項４に記載の発明は、請求項１乃至３
いずれかに記載の発明において、ノズル部に気体を供給
する気体供給手段をさらに備えている。
いずれかに記載の発明において、ノズル部に気体を供給
する気体供給手段をさらに備えている。
【００１１】請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４
いずれかに記載の発明において、処理液供給手段はノズ
ル部に接続された処理液供給管を備え、ノズル部は吐出
口と処理液供給管とに連通する処理液の液溜め部を有し
ている。
いずれかに記載の発明において、処理液供給手段はノズ
ル部に接続された処理液供給管を備え、ノズル部は吐出
口と処理液供給管とに連通する処理液の液溜め部を有し
ている。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図１はこの発明を適用する処理
液塗布装置の模式図であり、図２はそのノズル３の断面
図である。
面に基づいて説明する。図１はこの発明を適用する処理
液塗布装置の模式図であり、図２はそのノズル３の断面
図である。
【００１３】この処理液塗布装置は、液晶表示パネルを
製造するための矩形状の基板１を水平に吸着保持する基
板保持部２と、基板１の表面に処理液として液状のレジ
ストを塗布するためのノズル３とを有する。基板保持部
２は、モータ機構４により、鉛直方向を向く軸を中心に
回転可能に構成されている。また、ノズル３は支持アー
ム５を介して移動フレーム６と接続されており、支持ア
ーム５の上端部は移動フレーム６に上下移動可能に支持
されている。さらに、基板保持部２の周囲には、基板１
の回転時におけるレジストの飛散を防止するためのカッ
プ７が配設されている。
製造するための矩形状の基板１を水平に吸着保持する基
板保持部２と、基板１の表面に処理液として液状のレジ
ストを塗布するためのノズル３とを有する。基板保持部
２は、モータ機構４により、鉛直方向を向く軸を中心に
回転可能に構成されている。また、ノズル３は支持アー
ム５を介して移動フレーム６と接続されており、支持ア
ーム５の上端部は移動フレーム６に上下移動可能に支持
されている。さらに、基板保持部２の周囲には、基板１
の回転時におけるレジストの飛散を防止するためのカッ
プ７が配設されている。
【００１４】ノズル３は、図２に示すように、その断面
が倒立家型をなし、その下端部にはレジストを基板１の
表面に塗布するための吐出口８が設けられている。この
吐出口８は、後程詳細に説明するように、図２における
紙面に垂直な方向に延びるスリット状の形状を成す。ま
た、このノズル３の上方には、ノズル３にレジストを供
給するレジスト供給管１２が接続されている。また、ノ
ズル３におけるレジスト供給管１２と吐出口８との間の
位置には、スリット状の吐出口８より幅の広い液溜め部
９が形成されている。レジスト供給管１２よりノズル３
に供給されたレジストは、液溜め部９に一旦貯留された
後、吐出口８から基板１の表面に向けて均一に吐出され
る。
が倒立家型をなし、その下端部にはレジストを基板１の
表面に塗布するための吐出口８が設けられている。この
吐出口８は、後程詳細に説明するように、図２における
紙面に垂直な方向に延びるスリット状の形状を成す。ま
た、このノズル３の上方には、ノズル３にレジストを供
給するレジスト供給管１２が接続されている。また、ノ
ズル３におけるレジスト供給管１２と吐出口８との間の
位置には、スリット状の吐出口８より幅の広い液溜め部
９が形成されている。レジスト供給管１２よりノズル３
に供給されたレジストは、液溜め部９に一旦貯留された
後、吐出口８から基板１の表面に向けて均一に吐出され
る。
【００１５】この処理液塗布装置により基板１に処理液
を塗布する場合においては、矩形状の基板１を基板保持
部２により吸着保持して停止させた状態で、移動フレー
ム６および支持アーム５により、図１に示すように、ノ
ズル３の下端部が基板１の一方の短辺付近の表面に近接
する位置まで移動させる。この状態において、移動フレ
ーム６を走行させることにより、ノズル３を基板１の長
辺に沿って走行させるとともに、レジスト供給管１２よ
りノズル３にレジストを供給する。これにより、図２に
示すように、基板１の表面にレジストが塗布される。ノ
ズル３が基板１の他方の短辺付近まで移動すれば、レジ
スト供給管１２よりのレジストの供給を停止するととも
に、ノズル３を基板１の上方より退避させる。そして、
基板保持部２を高速に回転させ、基板１の表面に塗布さ
れたレジストを遠心力により基板１の表面全域に行き渡
らせることにより、基板１の表面に均一なレジストの薄
膜を形成する。
を塗布する場合においては、矩形状の基板１を基板保持
部２により吸着保持して停止させた状態で、移動フレー
ム６および支持アーム５により、図１に示すように、ノ
ズル３の下端部が基板１の一方の短辺付近の表面に近接
する位置まで移動させる。この状態において、移動フレ
ーム６を走行させることにより、ノズル３を基板１の長
辺に沿って走行させるとともに、レジスト供給管１２よ
りノズル３にレジストを供給する。これにより、図２に
示すように、基板１の表面にレジストが塗布される。ノ
ズル３が基板１の他方の短辺付近まで移動すれば、レジ
スト供給管１２よりのレジストの供給を停止するととも
に、ノズル３を基板１の上方より退避させる。そして、
基板保持部２を高速に回転させ、基板１の表面に塗布さ
れたレジストを遠心力により基板１の表面全域に行き渡
らせることにより、基板１の表面に均一なレジストの薄
膜を形成する。
【００１６】このような処理液塗布装置においては、基
板１へのレジストの塗布動作を繰り返すと、ノズル３に
乾燥、固化したレジストが付着する現象が発生するた
め、この塗布動作を一定回数繰り返した後にはノズル３
を洗浄する必要がある。また、基板１に塗布する処理液
の種類を変更する場合においても、ノズル３を洗浄する
必要がある。特に、この実施形態に示すように、ノズル
部３に液溜め部９を形成し、レジスト供給管１２から供
給されたレジストをノズル３の長手方向に均一に拡散さ
せることにより、スリット状の吐出口８から均一にレジ
ストを吐出する構成とした場合には、液溜め部９にレジ
ストが残存しやすいことから、ノズル３の洗浄が特に必
要となる。
板１へのレジストの塗布動作を繰り返すと、ノズル３に
乾燥、固化したレジストが付着する現象が発生するた
め、この塗布動作を一定回数繰り返した後にはノズル３
を洗浄する必要がある。また、基板１に塗布する処理液
の種類を変更する場合においても、ノズル３を洗浄する
必要がある。特に、この実施形態に示すように、ノズル
部３に液溜め部９を形成し、レジスト供給管１２から供
給されたレジストをノズル３の長手方向に均一に拡散さ
せることにより、スリット状の吐出口８から均一にレジ
ストを吐出する構成とした場合には、液溜め部９にレジ
ストが残存しやすいことから、ノズル３の洗浄が特に必
要となる。
【００１７】次に、上述したノズル３の洗浄に使用され
る洗浄機構について説明する。図３はノズル３をその洗
浄機構とともに示す模式図である。
る洗浄機構について説明する。図３はノズル３をその洗
浄機構とともに示す模式図である。
【００１８】このノズル３の上方にはレジスト供給管１
２が接続されており、このレジスト供給管１２の先端部
は、前述した液溜め部９を介して、図３における左右方
向に延びるスリット状の吐出口８に連通している。ま
た、レジスト供給管１２の後端部は、レジスト供給源１
３に接続されている。このレジスト供給源１３は、例え
ば、レジストを貯留した耐圧密閉型の容器中に加圧され
た窒素ガスを供給することによりレジストを加圧し、こ
れによりレジストをレジスト供給管１２を介してノズル
３方向に圧送するように構成されている。また、レジス
ト供給管１２中には、開閉弁１４が配設されている。
２が接続されており、このレジスト供給管１２の先端部
は、前述した液溜め部９を介して、図３における左右方
向に延びるスリット状の吐出口８に連通している。ま
た、レジスト供給管１２の後端部は、レジスト供給源１
３に接続されている。このレジスト供給源１３は、例え
ば、レジストを貯留した耐圧密閉型の容器中に加圧され
た窒素ガスを供給することによりレジストを加圧し、こ
れによりレジストをレジスト供給管１２を介してノズル
３方向に圧送するように構成されている。また、レジス
ト供給管１２中には、開閉弁１４が配設されている。
【００１９】また、ノズル３における吐出口８の長手方
向に対する両端部付近、即ち、図３における左右端付近
には、ノズル３に付着したレジストを洗浄するための洗
浄液をノズル３に供給する一対の洗浄液供給管１５が接
続されている。この一対の洗浄液供給管１５の各先端部
は、液溜め部９の左右両端付近に接続することにより、
液溜め部９を介してスリット状の吐出口８と連通してい
る。また、洗浄液供給管１５の後端部は、洗浄液供給源
１６に接続されている。さらに、洗浄液供給管１５中に
は、一対の開閉弁１７が配設されている。
向に対する両端部付近、即ち、図３における左右端付近
には、ノズル３に付着したレジストを洗浄するための洗
浄液をノズル３に供給する一対の洗浄液供給管１５が接
続されている。この一対の洗浄液供給管１５の各先端部
は、液溜め部９の左右両端付近に接続することにより、
液溜め部９を介してスリット状の吐出口８と連通してい
る。また、洗浄液供給管１５の後端部は、洗浄液供給源
１６に接続されている。さらに、洗浄液供給管１５中に
は、一対の開閉弁１７が配設されている。
【００２０】前記洗浄液としては、レジストを溶解可能
な溶剤が使用される。また、洗浄液の供給機構は、上述
したレジストの供給機構同様、窒素ガス等の不活性ガス
による圧送方式を採用することができる。なお、処理液
として、レジストではなく現像液を使用する場合等にお
いては、洗浄液としては例えば純水が使用される。この
場合、洗浄液供給管１５を純水を一定圧力で吐出する純
水の供給源に直接接続することにより、純水をノズル３
に供給することができる。
な溶剤が使用される。また、洗浄液の供給機構は、上述
したレジストの供給機構同様、窒素ガス等の不活性ガス
による圧送方式を採用することができる。なお、処理液
として、レジストではなく現像液を使用する場合等にお
いては、洗浄液としては例えば純水が使用される。この
場合、洗浄液供給管１５を純水を一定圧力で吐出する純
水の供給源に直接接続することにより、純水をノズル３
に供給することができる。
【００２１】上記の構成によりノズル３を洗浄する場合
には、開閉弁１４を閉鎖してレジスト供給管１２からの
レジストの供給を停止した状態で、開閉弁１７を開放
し、洗浄液供給管１５よりノズル３に洗浄液を供給す
る。洗浄液供給管１５より供給された洗浄液は、液溜め
部９の左右両端よりノズル３内に進入し、液溜め部９を
介してスリット状の吐出口８からノズル３の外部に排出
される。これにより、ノズル３における液溜め部９や吐
出口８が洗浄される。特に、この実施の形態において
は、ノズル３の長手方向の両端部より洗浄液を供給して
いることから、洗浄液は、図３における左右方向に延び
る液溜め部９および吐出口８の全域に均一に行き渡り、
液溜め部９および吐出口８の全体を十分に洗浄すること
ができる。
には、開閉弁１４を閉鎖してレジスト供給管１２からの
レジストの供給を停止した状態で、開閉弁１７を開放
し、洗浄液供給管１５よりノズル３に洗浄液を供給す
る。洗浄液供給管１５より供給された洗浄液は、液溜め
部９の左右両端よりノズル３内に進入し、液溜め部９を
介してスリット状の吐出口８からノズル３の外部に排出
される。これにより、ノズル３における液溜め部９や吐
出口８が洗浄される。特に、この実施の形態において
は、ノズル３の長手方向の両端部より洗浄液を供給して
いることから、洗浄液は、図３における左右方向に延び
る液溜め部９および吐出口８の全域に均一に行き渡り、
液溜め部９および吐出口８の全体を十分に洗浄すること
ができる。
【００２２】なお、図３に示す実施の形態においては、
一対の洗浄液供給管１５をノズル３の両端部付近に接続
した場合について説明したが、図４に示すように洗浄液
供給管１５をノズル３の略中央付近に接続するようにし
てもよい。この場合においては、図３に示す実施形態に
比べて、ノズル３における両端部付近の洗浄が不十分と
なりやすいが、ノズル３の略中央部付近に供給された洗
浄液は、液溜め部８の作用によりノズル３の長手方向に
均一に拡散され、スリット状の吐出口８全域から均一に
吐出されることから、吐出口８の長手方向の長さが比較
的小さい場合等においては、このような構成によって
も、液溜め部９および吐出口８の全体を十分に洗浄する
ことができる。
一対の洗浄液供給管１５をノズル３の両端部付近に接続
した場合について説明したが、図４に示すように洗浄液
供給管１５をノズル３の略中央付近に接続するようにし
てもよい。この場合においては、図３に示す実施形態に
比べて、ノズル３における両端部付近の洗浄が不十分と
なりやすいが、ノズル３の略中央部付近に供給された洗
浄液は、液溜め部８の作用によりノズル３の長手方向に
均一に拡散され、スリット状の吐出口８全域から均一に
吐出されることから、吐出口８の長手方向の長さが比較
的小さい場合等においては、このような構成によって
も、液溜め部９および吐出口８の全体を十分に洗浄する
ことができる。
【００２３】次に、ノズル３の他の洗浄機構の実施形態
について説明する。図５は、他の実施形態に係るノズル
３およびその洗浄機構の構成を示す模式図である。この
実施形態においては、ノズル３に乾燥用のガスを供給す
るためのガス供給管２２をさらに付設した点が図３に示
す第１の実施形態と異なる。なお、図３に示す第１の実
施形態と同一の部材については同一の符号を付して詳細
な説明を省略する。
について説明する。図５は、他の実施形態に係るノズル
３およびその洗浄機構の構成を示す模式図である。この
実施形態においては、ノズル３に乾燥用のガスを供給す
るためのガス供給管２２をさらに付設した点が図３に示
す第１の実施形態と異なる。なお、図３に示す第１の実
施形態と同一の部材については同一の符号を付して詳細
な説明を省略する。
【００２４】ノズル３の上方には、第１実施形態と同
様、レジスト供給管１２が接続されており、このレジス
ト供給管１２の先端部は、前述した液溜め部９を介し
て、図５における左右方向に延びるスリット状の吐出口
８と連通している。また、ノズル３における吐出口８の
長手方向に対する両端部付近、即ち、図５における左右
端付近には、ノズル３に付着したレジストを洗浄する洗
浄液をノズル３に供給する一対の洗浄液供給管１５が接
続されている。この一対の洗浄液供給管１５の各先端部
は、液溜め部９の左右両端付近に接続することにより、
液溜め部９を介してスリット状の吐出口８と連通してい
る。さらに、この一対の洗浄液供給管１５には、一対の
ガス供給管２２が連結されている。
様、レジスト供給管１２が接続されており、このレジス
ト供給管１２の先端部は、前述した液溜め部９を介し
て、図５における左右方向に延びるスリット状の吐出口
８と連通している。また、ノズル３における吐出口８の
長手方向に対する両端部付近、即ち、図５における左右
端付近には、ノズル３に付着したレジストを洗浄する洗
浄液をノズル３に供給する一対の洗浄液供給管１５が接
続されている。この一対の洗浄液供給管１５の各先端部
は、液溜め部９の左右両端付近に接続することにより、
液溜め部９を介してスリット状の吐出口８と連通してい
る。さらに、この一対の洗浄液供給管１５には、一対の
ガス供給管２２が連結されている。
【００２５】この一対のガス供給管２２の各先端部は、
洗浄液供給管１５の各先端部と互いに連結することによ
り、液溜め部９の左右両端付近に接続し、液溜め部９を
介してスリット状の吐出口８と連通している。また、ガ
ス供給管２２の後端部は、乾燥用のガスの供給源２３に
接続されている。さらに、ガス供給管２２中には、一対
の開閉弁２４が配設されている。
洗浄液供給管１５の各先端部と互いに連結することによ
り、液溜め部９の左右両端付近に接続し、液溜め部９を
介してスリット状の吐出口８と連通している。また、ガ
ス供給管２２の後端部は、乾燥用のガスの供給源２３に
接続されている。さらに、ガス供給管２２中には、一対
の開閉弁２４が配設されている。
【００２６】前記乾燥用のガスとしては、窒素ガス等の
不活性ガスが使用される。但し、常温あるいは加熱され
た清浄な空気等を使用することも可能である。
不活性ガスが使用される。但し、常温あるいは加熱され
た清浄な空気等を使用することも可能である。
【００２７】上記の構成によりノズル３を洗浄する場合
には、開閉弁１４を閉鎖してレジスト供給管１２からの
レジストの供給を停止した状態で、開閉弁１７を開放
し、洗浄液供給管１５よりノズル３に洗浄液を供給す
る。洗浄液供給管１５より供給された洗浄液は、液溜め
部９の左右両端よりノズル３内に進入し、液溜め部９を
介してスリット状の吐出口８からノズル３の外部に排出
される。これにより、ノズル３における液溜め部９や吐
出口８が洗浄される。特に、この実施の形態において
は、図３に示す実施形態同様、ノズル３の長手方向の両
端部より洗浄液を供給していることから、洗浄液は図３
における左右方向に延びる液溜め部９および吐出口８の
全域に均一に行き渡り、液溜め部９および吐出口８の全
体を十分に洗浄することができる。
には、開閉弁１４を閉鎖してレジスト供給管１２からの
レジストの供給を停止した状態で、開閉弁１７を開放
し、洗浄液供給管１５よりノズル３に洗浄液を供給す
る。洗浄液供給管１５より供給された洗浄液は、液溜め
部９の左右両端よりノズル３内に進入し、液溜め部９を
介してスリット状の吐出口８からノズル３の外部に排出
される。これにより、ノズル３における液溜め部９や吐
出口８が洗浄される。特に、この実施の形態において
は、図３に示す実施形態同様、ノズル３の長手方向の両
端部より洗浄液を供給していることから、洗浄液は図３
における左右方向に延びる液溜め部９および吐出口８の
全域に均一に行き渡り、液溜め部９および吐出口８の全
体を十分に洗浄することができる。
【００２８】洗浄液によるノズル３の洗浄が終了すれ
ば、開閉弁１７を閉鎖して洗浄液供給管１５よりの洗浄
液の供給を停止する。そして、開閉弁２４を開放するこ
とにより、ガス供給管２２よりノズル３にガスを供給す
る。ガス供給管２２より供給されたガスは、液溜め部９
の左右両端よりノズル３内に進入し、液溜め部９を介し
てスリット状の吐出口８からノズル３の外部に排出され
る。これにより、ノズル３における液溜め部９や吐出口
８に残存する洗浄液の乾燥が促進され、洗浄液が除去さ
れる。特に、この実施の形態においては、ノズル３の長
手方向の両端部よりガスを供給していることから、この
ガスは図５における左右方向に延びる液溜め部９および
吐出口８の全域に均一に行き渡り、液溜め部９および吐
出口８の全体を十分に乾燥することができる。
ば、開閉弁１７を閉鎖して洗浄液供給管１５よりの洗浄
液の供給を停止する。そして、開閉弁２４を開放するこ
とにより、ガス供給管２２よりノズル３にガスを供給す
る。ガス供給管２２より供給されたガスは、液溜め部９
の左右両端よりノズル３内に進入し、液溜め部９を介し
てスリット状の吐出口８からノズル３の外部に排出され
る。これにより、ノズル３における液溜め部９や吐出口
８に残存する洗浄液の乾燥が促進され、洗浄液が除去さ
れる。特に、この実施の形態においては、ノズル３の長
手方向の両端部よりガスを供給していることから、この
ガスは図５における左右方向に延びる液溜め部９および
吐出口８の全域に均一に行き渡り、液溜め部９および吐
出口８の全体を十分に乾燥することができる。
【００２９】次に、ノズル３の洗浄機構のさらに他の実
施形態について説明する。図６は、他の実施形態に係る
ノズル３およびその洗浄機構の構成を示す模式図であ
る。この実施形態においては、レジストと洗浄液とガス
とを、ノズル３に穿設した単一の連通孔２８を介してノ
ズル３に供給する点が図５に示す実施形態と異なる。な
お、図５に示す実施形態と同一の部材については同一の
符号を付して詳細な説明を省略する。
施形態について説明する。図６は、他の実施形態に係る
ノズル３およびその洗浄機構の構成を示す模式図であ
る。この実施形態においては、レジストと洗浄液とガス
とを、ノズル３に穿設した単一の連通孔２８を介してノ
ズル３に供給する点が図５に示す実施形態と異なる。な
お、図５に示す実施形態と同一の部材については同一の
符号を付して詳細な説明を省略する。
【００３０】即ち、このノズル３の上方には、単一の連
通孔２８が穿設されており、この連通孔２８は液溜め部
９を介して吐出口８と連通している。そして、この吐出
口２８は、レジスト供給管１２、洗浄液供給管１５、お
よびガス供給管２２により、開閉弁１４、１７、２４を
介して、各々レジスト供給源１３、洗浄液供給源１６お
よびガス供給源２３と接続されている。
通孔２８が穿設されており、この連通孔２８は液溜め部
９を介して吐出口８と連通している。そして、この吐出
口２８は、レジスト供給管１２、洗浄液供給管１５、お
よびガス供給管２２により、開閉弁１４、１７、２４を
介して、各々レジスト供給源１３、洗浄液供給源１６お
よびガス供給源２３と接続されている。
【００３１】上記の構成によりノズル３を洗浄する場合
には、図５に示す実施形態と同様、開閉弁１４を閉鎖し
てレジスト供給管１２からのレジストの供給を停止した
状態で、開閉弁１７を開放し、洗浄液供給管１５よりノ
ズル３に洗浄液を供給する。洗浄液供給管１５より供給
された洗浄液は、連通孔２８よりノズル３内に進入し、
液溜め部９を介してスリット状の吐出口８からノズル３
の外部に排出される。これにより、ノズル３における液
溜め部９や吐出口８が洗浄される。
には、図５に示す実施形態と同様、開閉弁１４を閉鎖し
てレジスト供給管１２からのレジストの供給を停止した
状態で、開閉弁１７を開放し、洗浄液供給管１５よりノ
ズル３に洗浄液を供給する。洗浄液供給管１５より供給
された洗浄液は、連通孔２８よりノズル３内に進入し、
液溜め部９を介してスリット状の吐出口８からノズル３
の外部に排出される。これにより、ノズル３における液
溜め部９や吐出口８が洗浄される。
【００３２】洗浄液によるノズル３の洗浄が終了すれ
ば、開閉弁１７を閉鎖して洗浄液供給管１５よりの洗浄
液の供給を停止する。そして、開閉弁２４を開放するこ
とにより、ガス供給管２２よりノズル３にガスを供給す
る。ガス供給管２２より供給されたガスは、連通孔２８
よりノズル３内に進入し、液溜め部９を介してスリット
状の吐出口８からノズル３の外部に排出される。これに
より、ノズル３における液溜め部９や吐出口８に残存す
る洗浄液の乾燥が促進され、洗浄液が除去される。
ば、開閉弁１７を閉鎖して洗浄液供給管１５よりの洗浄
液の供給を停止する。そして、開閉弁２４を開放するこ
とにより、ガス供給管２２よりノズル３にガスを供給す
る。ガス供給管２２より供給されたガスは、連通孔２８
よりノズル３内に進入し、液溜め部９を介してスリット
状の吐出口８からノズル３の外部に排出される。これに
より、ノズル３における液溜め部９や吐出口８に残存す
る洗浄液の乾燥が促進され、洗浄液が除去される。
【００３３】この実施形態においては、単一の連通孔２
８を介して洗浄液およびガスとレジストとを供給してい
ることから、ノズル３内のレジストの流れと同様の流れ
に沿って洗浄液およびガスが流れる。したがって、ノズ
ル３におけるレジストの通過領域全域を洗浄、乾燥する
ことができる。また、ノズル３に複数の連通孔を穿設す
る必要がなくなるので、ノズル３の構造を簡易なものと
することができる。
８を介して洗浄液およびガスとレジストとを供給してい
ることから、ノズル３内のレジストの流れと同様の流れ
に沿って洗浄液およびガスが流れる。したがって、ノズ
ル３におけるレジストの通過領域全域を洗浄、乾燥する
ことができる。また、ノズル３に複数の連通孔を穿設す
る必要がなくなるので、ノズル３の構造を簡易なものと
することができる。
【００３４】なお、この実施形態においても、図５に示
す実施形態に比べて、ノズル３における両端部付近の洗
浄が不十分となりやすいが、ノズル３の略中央部付近に
供給された洗浄液やガスは、液溜め部８の作用によりノ
ズル３の長手方向に均一に拡散され、スリット状の吐出
口８全域から均一に吐出されることから、吐出口８の長
手方向の長さが比較的小さい場合等においては、このよ
うな構成によっても、液溜め部９および吐出口８の全体
を十分に洗浄、乾燥することができる。
す実施形態に比べて、ノズル３における両端部付近の洗
浄が不十分となりやすいが、ノズル３の略中央部付近に
供給された洗浄液やガスは、液溜め部８の作用によりノ
ズル３の長手方向に均一に拡散され、スリット状の吐出
口８全域から均一に吐出されることから、吐出口８の長
手方向の長さが比較的小さい場合等においては、このよ
うな構成によっても、液溜め部９および吐出口８の全体
を十分に洗浄、乾燥することができる。
【００３５】
【発明の効果】請求項１に記載の発明によれば、洗浄液
供給手段から供給される洗浄液により、ノズル部に付着
した処理液を洗浄することができる。このため、ノズル
部に処理液が乾燥、固化して付着した場合や基板に塗布
する処理液の種類を変更する場合に、洗浄液供給手段か
ら供給される洗浄液によってノズル部を洗浄することに
より、処理後の基板に付着する虞のあるパーティクルが
発生したりノズル部の吐出口から吐出される処理液が不
均一になること、また、処理液の種類の変更時における
処理液の混合等を有効に防止することができる。
供給手段から供給される洗浄液により、ノズル部に付着
した処理液を洗浄することができる。このため、ノズル
部に処理液が乾燥、固化して付着した場合や基板に塗布
する処理液の種類を変更する場合に、洗浄液供給手段か
ら供給される洗浄液によってノズル部を洗浄することに
より、処理後の基板に付着する虞のあるパーティクルが
発生したりノズル部の吐出口から吐出される処理液が不
均一になること、また、処理液の種類の変更時における
処理液の混合等を有効に防止することができる。
【００３６】請求項２に記載の発明によれば、洗浄液供
給手段は、ノズル部における吐出口の長手方向に対する
両端部付近に各々接続されることにより吐出口と連通す
る２本の洗浄液供給管を備えているため、２本の洗浄液
供給管から供給された洗浄液は、スリット状の吐出口全
域に均一に行き渡り、その全体を十分に洗浄することが
できる。
給手段は、ノズル部における吐出口の長手方向に対する
両端部付近に各々接続されることにより吐出口と連通す
る２本の洗浄液供給管を備えているため、２本の洗浄液
供給管から供給された洗浄液は、スリット状の吐出口全
域に均一に行き渡り、その全体を十分に洗浄することが
できる。
【００３７】請求項３に記載の発明のよれば、ノズル部
には吐出口と連通する連通孔が穿設されており、処理液
供給手段と洗浄液供給手段とは、連通孔を介して処理液
と洗浄液とをノズル部に供給するため、ノズル部内の処
理液の流れと同様の流れに沿って洗浄液が流れることか
ら、ノズル部における処理液の通過領域全域を洗浄する
ことができる。また、ノズル部に処理液と洗浄液とを供
給するための複数の連通孔を穿設する必要がなくなるの
で、ノズル部の構造を簡易なものとすることができる。
には吐出口と連通する連通孔が穿設されており、処理液
供給手段と洗浄液供給手段とは、連通孔を介して処理液
と洗浄液とをノズル部に供給するため、ノズル部内の処
理液の流れと同様の流れに沿って洗浄液が流れることか
ら、ノズル部における処理液の通過領域全域を洗浄する
ことができる。また、ノズル部に処理液と洗浄液とを供
給するための複数の連通孔を穿設する必要がなくなるの
で、ノズル部の構造を簡易なものとすることができる。
【００３８】請求項４に記載の発明によれば、ノズル部
に気体を供給するための気体供給手段をさらに備えてい
ることから、洗浄液によるノズル部の洗浄後にノズル部
に気体を供給することにより、ノズル部に残存する洗浄
液の乾燥が促進され、洗浄液が除去される。
に気体を供給するための気体供給手段をさらに備えてい
ることから、洗浄液によるノズル部の洗浄後にノズル部
に気体を供給することにより、ノズル部に残存する洗浄
液の乾燥が促進され、洗浄液が除去される。
【００３９】請求項５に記載の発明によれば、処理液を
均一に供給可能な液溜め部を有するノズル部を採用した
場合において、処理液が特に残存しやすい液溜め部を有
効に洗浄することが可能となる。また、ノズル部供給さ
れた洗浄液は、液溜め部の作用によりノズル部内に均一
に拡散され、スリット状の吐出口全域から均一に吐出さ
れることから、スリット状の吐出口の全体を十分に洗浄
することができる。
均一に供給可能な液溜め部を有するノズル部を採用した
場合において、処理液が特に残存しやすい液溜め部を有
効に洗浄することが可能となる。また、ノズル部供給さ
れた洗浄液は、液溜め部の作用によりノズル部内に均一
に拡散され、スリット状の吐出口全域から均一に吐出さ
れることから、スリット状の吐出口の全体を十分に洗浄
することができる。
【図１】この発明に係る処理液塗布装置の模式図であ
る。
る。
【図２】ノズル部の断面図である。
【図３】第１実施形態に係るノズル３をその洗浄機構と
ともに示す模式図である。
ともに示す模式図である。
【図４】他の実施形態に係るノズル３をその洗浄機構と
ともに示す模式図である。
ともに示す模式図である。
【図５】他の実施形態に係るノズル３をその洗浄機構と
ともに示す模式図である。
ともに示す模式図である。
【図６】他の実施形態に係るノズル３をその洗浄機構と
ともに示す模式図である。
ともに示す模式図である。
１ 基板 ２ 基板保持部 ３ ノズル ４ モータ機構 ５ 支持アーム ６ 移動フレーム ８ 吐出口 ９ 液溜め部 １２ レジスト供給管 １３ レジスト供給源 １４ 開閉弁 １５ 洗浄液供給管 １６ 洗浄液供給源 １７ 開閉弁 ２２ ガス供給管 ２３ ガス供給源 ２４ 開閉弁 ２８ 連通孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｄ
Claims (5)
- 【請求項１】 基板の表面に処理液を塗布する処理液塗
布装置において、 基板を保持する保持手段と、 スリット状の吐出口を有し、当該吐出口から前記保持手
段に保持された基板の表面に向けて処理液を吐出するノ
ズル部と、 前記ノズル部に処理液を供給する処理液供給手段と、 前記保持手段により保持された基板の表面と平行な平面
内において、前記ノズル部を前記基板に対して相対的に
移動させる移動手段と、 前記ノズル部に付着した処理液を洗浄する洗浄液を前記
ノズル部に供給する洗浄液供給手段と、 を備えたことを特徴とする処理液塗布装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の処理液塗布装置におい
て、 前記洗浄液供給手段は、前記ノズル部における前記吐出
口の長手方向に対する両端部付近に各々接続されること
により前記吐出口と連通する２本の洗浄液供給管を備え
た処理液塗布装置。 - 【請求項３】 請求項１に記載の処理液塗布装置におい
て、 前記ノズル部には前記吐出口と連通する連通孔が穿設さ
れており、前記処理液供給手段と前記洗浄液供給手段と
は、前記連通孔を介して処理液と洗浄液とを前記ノズル
部に供給する処理液塗布装置。 - 【請求項４】 請求項１乃至３いずれかに記載の処理液
塗布装置において、 前記ノズル部に気体を供給する気体供給手段をさらに備
えた処理液塗布装置。 - 【請求項５】 請求項１乃至４いずれかに記載の処理液
塗布装置において、 前記処理液供給手段は前記ノズル部に接続された処理液
供給管を備え、前記ノズル部は前記吐出口と前記処理液
供給管とに連通する処理液の液溜め部を有する処理液塗
布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12659396A JPH09289161A (ja) | 1996-04-22 | 1996-04-22 | 処理液塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12659396A JPH09289161A (ja) | 1996-04-22 | 1996-04-22 | 処理液塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09289161A true JPH09289161A (ja) | 1997-11-04 |
Family
ID=14939030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12659396A Abandoned JPH09289161A (ja) | 1996-04-22 | 1996-04-22 | 処理液塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09289161A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100351988B1 (ko) * | 1999-12-31 | 2002-09-12 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 제조용 코팅액의 디스펜스 장치 |
| US6547168B2 (en) | 2000-02-22 | 2003-04-15 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Coating head |
| JP2005131637A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-05-26 | Toppan Printing Co Ltd | 洗浄機構を有する塗工装置 |
| WO2005075107A1 (ja) * | 2004-02-09 | 2005-08-18 | Toppan Printing Co., Ltd. | 塗工装置及び塗工装置の洗浄方法 |
| JP2006075691A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Toppan Printing Co Ltd | 洗浄機構を有する塗工装置及び洗浄方法 |
| WO2006040846A1 (ja) * | 2004-10-12 | 2006-04-20 | Toppan Printing Co., Ltd. | 洗浄機構を有する塗工装置、塗工装置の洗浄方法および塗工装置に用いる洗浄機構 |
| KR100881955B1 (ko) * | 2007-05-18 | 2009-02-06 | (주)네오이엔지 | 에어 공급 포트가 구비된 아쿠아나이프 |
| CN103522752A (zh) * | 2012-07-05 | 2014-01-22 | 三星显示有限公司 | 印刷装置 |
| CN108296089A (zh) * | 2016-09-16 | 2018-07-20 | 株式会社斯库林集团 | 喷嘴洗涤方法、涂布装置 |
-
1996
- 1996-04-22 JP JP12659396A patent/JPH09289161A/ja not_active Abandoned
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100351988B1 (ko) * | 1999-12-31 | 2002-09-12 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 제조용 코팅액의 디스펜스 장치 |
| US6547168B2 (en) | 2000-02-22 | 2003-04-15 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Coating head |
| JP2005131637A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-05-26 | Toppan Printing Co Ltd | 洗浄機構を有する塗工装置 |
| WO2005075107A1 (ja) * | 2004-02-09 | 2005-08-18 | Toppan Printing Co., Ltd. | 塗工装置及び塗工装置の洗浄方法 |
| JP2006075691A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Toppan Printing Co Ltd | 洗浄機構を有する塗工装置及び洗浄方法 |
| WO2006040846A1 (ja) * | 2004-10-12 | 2006-04-20 | Toppan Printing Co., Ltd. | 洗浄機構を有する塗工装置、塗工装置の洗浄方法および塗工装置に用いる洗浄機構 |
| KR100881955B1 (ko) * | 2007-05-18 | 2009-02-06 | (주)네오이엔지 | 에어 공급 포트가 구비된 아쿠아나이프 |
| CN103522752A (zh) * | 2012-07-05 | 2014-01-22 | 三星显示有限公司 | 印刷装置 |
| JP2014014812A (ja) * | 2012-07-05 | 2014-01-30 | Samsung Display Co Ltd | プリンティング装置 |
| CN108296089A (zh) * | 2016-09-16 | 2018-07-20 | 株式会社斯库林集团 | 喷嘴洗涤方法、涂布装置 |
| CN108296089B (zh) * | 2016-09-16 | 2020-01-31 | 株式会社斯库林集团 | 喷嘴洗涤方法、涂布装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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| A762 | Written abandonment of application |
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