JP4577964B2 - 塗布装置の洗浄方法 - Google Patents

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は塗布装置の洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ガラス基板や半導体ウェーハ表面に、レジストなどの塗布液を塗布する塗布装置において、塗布液の種類を替えるときや、長時間装置を停止するときには、配管、フィルタ、バルブ、ポンプ及び塗布ノズルを含む経路内部に残っている塗布液を排出して内部を洗浄する必要がある。
【０００３】
従来の洗浄方法は、配管などに残っている塗布液をエアーや窒素による加圧送液若しくはポンプを駆動する等して排出し、次いで洗浄液を排管等に送り込み、バルブをオン・オフすることで配管内などを洗浄するようにしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従来の洗浄においては洗浄液として塗布液溶媒あるいは塗布液溶媒を含む混合溶剤などを用いている。塗布液溶媒あるいは塗布液溶媒を含む混合溶剤などは洗浄能力は高いものの一般的には乾燥しにくく、新たな塗布液を供給した際に塗布液が希釈され濃度変化が起きてしまう。
一方、揮発性の高い洗浄液を用いれば容易に乾燥させることができるが、揮発性の高い洗浄液は洗浄能力に劣るという問題がある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため本願発明に係る塗布装置の洗浄方法は、揮発しにくいが洗浄力に優れた低揮発性の洗浄液で経路内などを洗浄した後、洗浄力は劣るものの揮発性の高い洗浄液を用いて再度経路内などを洗浄するようにした。
【０００６】
高揮発性の洗浄液を経路内等に充填することで、内部に残っている低揮発性の洗浄液が除去され、新たな塗布液を供給する際には経路内などは完全に乾燥しており、濃度が変化することがない。
【０００７】
前記低揮発性の洗浄液、即ち塗布液溶媒あるいは塗布液溶媒を含む混合溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、エチルエトキシプロピオネート、メチルアミルケトン、エチルラクテートなどが挙げられ、前記高揮発性の洗浄液としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、メチルエチルケトン、酢酸イソプロピル、アセトンなどが挙げられ、その２５℃における蒸気圧は４×１０3Pa〜３５×１０3Paの範囲である。特に酢酸エチル、酢酸プロピル、メチルエチルケトンはカラーフィルター用レジストに対して、アセトンは半導体用レジストに対して異物を生じず、溶解性も良くて有効である。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を説明する。図１〜図３は塗布装置の概略図であり、各図は第１〜第３の洗浄工程を示す。
先ず、塗布装置は塗布ノズルＮと、この塗布ノズルＮに塗布液を供給する供給配管１と、塗布ノズルＮからのノズル内エアー抜き用配管２とを備え、塗布液の供給配管１にはフィルタＦ1、第１バルブＶ1及びポンプＰ、第２バルブＶ2及びフィルタＦ2を設け、ノズル内エアー抜き配管２には第３バルブＶ3を設け、更にこの実施例にあっては、ポンプＰからポンプ内エアー抜き用配管３を導出し、このポンプ内エアー抜き用配管３に第４バルブＶ4を設けている。
【０００９】
上記の塗布装置を洗浄するには、先ず第１バルブＶ1から第４バルブＶ4を全て開として、各配管、フィルタ、バルブ及びポンプの内部に残っている塗布液を排出する。この塗布液の排出にはエアーや窒素による加圧送液にて排出するかポンプを駆動する。
【００１０】
次いで、低揮発性の洗浄液を用いた洗浄を行う。この洗浄は本実施例では３工程に分けて行う。各工程におけるバルブＶ1〜Ｖ4の状態を以下の（表１）に示す。
【００１１】
【表１】
Figure 0004577964
【００１２】
（表１）に示すように、第１工程では、第２バルブＶ2と第３バルブＶ3を閉とし、第４バルブＶ4を開とし、この状態でエアーや窒素による加圧送液するとともに第１バルブＶ1に開閉動作を行わせる。この場合、エアーや窒素による加圧送液がポンプＰによる送液であってもよい。
【００１３】
この第１工程では、図１に示すように、塗布液の供給配管１のうちポンプＰまでの部分とポンプ内エアー抜き用配管３、更にこれら配管に設けられたフィルタＦ1、第1バルブＶ1、ポンプＰおよび第４バルブＶ4が洗浄される。なお、第１バルブＶ1が開閉動作を行うことで脈動が発生し、効果的に洗浄が行われる。
【００１４】
次いで、第２工程を行う。この第２工程では、第１バルブＶ1を開、第３バルブＶ3と第４バルブＶ4を閉とし、この状態でポンプＰを駆動するとともに第２バルブＶ2に開閉動作を行わせる。
【００１５】
この第２工程では、図２に示すように、塗布液の供給配管１、ノズルＮ、更にフィルタＦ1、第1バルブＶ1、ポンプＰ、第２バルブＶ2およびフィルタＦ2が洗浄される。
【００１６】
次いで、第３工程を行う。この第３工程では、第１バルブＶ1及び第２バルブＶ2を開、第４バルブＶ4を閉とし、この状態でポンプＰを駆動するとともに第３バルブＶ3に開閉動作を行わせる。
【００１７】
この第３工程では、図３に示すように、塗布液の供給配管１、ノズル内エアー抜き配管２、ノズルＮ、更にフィルタＦ1、第1バルブＶ1、ポンプＰ、第２バルブＶ2、フィルタＦ2及び第３バルブＶ3が洗浄される。
【００１８】
以上の低揮発性の洗浄液を用いた第１〜第３工程からなる前洗浄が終了したならば、高揮発性の洗浄液を用いた後洗浄を行う。この後洗浄も前記低揮発性の洗浄液による場合と同様に（表１）に示した第１〜第３工程でもって行う。
【００１９】
しかしながら、洗浄する第１〜第３工程はこの順番にこだわらず、必要に応じて変えることも可能である。また、第１〜第３工程の前洗浄が全て終了してから後洗浄をするのではなく、第１洗浄の前洗浄が終わったらすぐに後洗浄を行うように各工程ごとに前洗浄と後洗浄を行ってもよい。
【００２０】
【発明の効果】
以上に説明したように本発明に係る塗布装置の洗浄方法によれば、揮発しにくいが洗浄力に優れた低揮発性の洗浄液で経路内などを洗浄した後、洗浄力は劣るものの揮発性の高い洗浄液を用いて再度配管内などを洗浄するようにしたので、洗浄後に塗布装置内部が短時間のうちに乾燥し、新たな塗布液を供給する際に濃度が変化することがない。
【図面の簡単な説明】
【図１】洗浄の第１工程を示す図
【図２】洗浄の第２工程を示す図
【図３】洗浄の第３工程を示す図

Claims (1)

  1. 塗布ノズルと、この塗布ノズルへの塗布液供給配管と、塗布ノズルからのノズル内エアー抜き配管と、塗布液供給配管に設けられるポンプと、ポンプからのポンプ内エアー抜き配管とを備え、前記塗布液供給配管のポンプの上流側には第１バルブが設けられ、前記塗布液供給配管のポンプの下流側には第２バルブが設けられ、前記ノズル内エアー抜き配管には第３バルブが設けられ、前記ポンプ内エアー抜き配管には第４バルブが設けられたレジスト塗布装置の洗浄方法において、洗浄は低揮発性の洗浄液を用いた洗浄の後に高揮発性の洗浄液を用いた洗浄を行い且つ以下の第１〜第３工程を含み、前記低揮発性の洗浄は、塗布液溶媒あるいは塗布液溶媒を含む混合溶剤であり、前記高揮発性の洗浄液は、酢酸エチル、酢酸プロピル、メチルエチルケトン、酢酸イソプロピル、アセトンから選ばれることを特徴とするレジスト塗布装置の洗浄方法。
    第１工程
    第２バルブと第３バルブを閉とし、第４バルブを開とし、この状態でエアーや窒素による加圧送液するとともに第１バルブに開閉動作を行わせる。
    第２工程
    第１バルブを開、第３バルブと第４バルブを閉とし、この状態でポンプを駆動するとともに第２バルブに開閉動作を行わせる。
    第３工程
    第１バルブ及び第２バルブを開、第４バルブを閉とし、この状態でポンプを駆動するとともに第３バルブに開閉動作を行わせる。
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