JPH06320128A - スピンコータライン配管の洗浄液及び洗浄方法 - Google Patents
スピンコータライン配管の洗浄液及び洗浄方法Info
- Publication number
- JPH06320128A JPH06320128A JP5115713A JP11571393A JPH06320128A JP H06320128 A JPH06320128 A JP H06320128A JP 5115713 A JP5115713 A JP 5115713A JP 11571393 A JP11571393 A JP 11571393A JP H06320128 A JPH06320128 A JP H06320128A
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- JP
- Japan
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- spin coater
- line piping
- cleaning
- coater line
- methylpyrrolidone
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- Pending
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 スピンコータライン配管用の洗浄効率の優れ
た洗浄液及び実用上有利な洗浄方法を提供する。 【構成】 Ｎ−メチルピロリドンを含むことを特徴とす
るスピンコータライン配管用の洗浄液及び当該洗浄液を
用いて洗浄操作を行うことを特徴とするスピンコータラ
イン配管の洗浄方法。
た洗浄液及び実用上有利な洗浄方法を提供する。 【構成】 Ｎ−メチルピロリドンを含むことを特徴とす
るスピンコータライン配管用の洗浄液及び当該洗浄液を
用いて洗浄操作を行うことを特徴とするスピンコータラ
イン配管の洗浄方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はスピンコータライン配管
（集積回路等の作製のために用いられるポジ型レジスト
液の塗布装置）の洗浄液及び洗浄方法に関する。
（集積回路等の作製のために用いられるポジ型レジスト
液の塗布装置）の洗浄液及び洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】LSI の高集積化に伴い、集積回路のデザ
インルールも約１μｍから約0.5 μｍへと微細化してい
る。このような微細加工に用いられるポジ型レジスト液
（キノンジアジド系感光剤を含む）には、良好な基本的
性能（例えば解像度、感度、プロファイル、塗布性及び
焦点深度等）を有することは勿論、微粒子が少ないこと
が要求される。即ち、ポジ型レジスト液中に目視では観
察しえない微粒子が多い場合、該レジスト液から形成さ
れたレジストパターンを介して基板をエッチングする
と、しばしば、レジストパターンにより覆われた基板部
分に塗布むらが発生し、集積回路作製時の歩留りが悪化
することが知られている。そして、本発明者らの研究に
より、前記の微粒子は主として上記キノンジアジド系感
光剤に由来することが判明している。一方、レジスト液
品種の切替時、先のレジスト液排出後の空のスピンコー
タライン配管には感光剤を含む先のレジスト液が少量残
存するので、レジスト液塗布前にアセトン等の溶剤で洗
浄する必要が生じる。しかしながら、アセトン等の溶剤
では配管の洗浄効率は必ずしも良くなかった。
インルールも約１μｍから約0.5 μｍへと微細化してい
る。このような微細加工に用いられるポジ型レジスト液
（キノンジアジド系感光剤を含む）には、良好な基本的
性能（例えば解像度、感度、プロファイル、塗布性及び
焦点深度等）を有することは勿論、微粒子が少ないこと
が要求される。即ち、ポジ型レジスト液中に目視では観
察しえない微粒子が多い場合、該レジスト液から形成さ
れたレジストパターンを介して基板をエッチングする
と、しばしば、レジストパターンにより覆われた基板部
分に塗布むらが発生し、集積回路作製時の歩留りが悪化
することが知られている。そして、本発明者らの研究に
より、前記の微粒子は主として上記キノンジアジド系感
光剤に由来することが判明している。一方、レジスト液
品種の切替時、先のレジスト液排出後の空のスピンコー
タライン配管には感光剤を含む先のレジスト液が少量残
存するので、レジスト液塗布前にアセトン等の溶剤で洗
浄する必要が生じる。しかしながら、アセトン等の溶剤
では配管の洗浄効率は必ずしも良くなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、スピンコー
タライン配管の洗浄効率に優れた洗浄液及び実用上有利
な洗浄方法を提供する。
タライン配管の洗浄効率に優れた洗浄液及び実用上有利
な洗浄方法を提供する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明はＮ−メチルピロ
リドンを含むことを特徴とするスピンコータライン配管
の洗浄液並びに上記洗浄液を用いて洗浄操作を行うこと
を特徴とするスピンコータライン配管の洗浄方法であ
る。
リドンを含むことを特徴とするスピンコータライン配管
の洗浄液並びに上記洗浄液を用いて洗浄操作を行うこと
を特徴とするスピンコータライン配管の洗浄方法であ
る。
【０００５】ポジ型レジスト液はアルカリ可溶性樹脂、
キノンジアジド系感光剤及びレジスト溶剤からなるもの
である。アルカリ可溶性樹脂としては、例えばポリヒド
ロキシスチレンもしくはその誘導体、スチレン−無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルヒドロキシベンゾエー
ト、カルボキシル基含有メタアクリル系樹脂あるいはノ
ボラック樹脂等が挙げられる。キノンジアジド系感光剤
としては例えば１，２−ベンゾキノンジアジド−４−ス
ルホン酸エステル、１，２−ナフトキノンジアジド−４
−スルホン酸エステル、１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸エステル等が挙げられる。レジスト溶
剤としては、例えば酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エ
ステル類、乳酸エチル又は２−メトキシプロピオン酸メ
チル等のモノオキシ又はモノアルコキシカルボン酸エス
テル、ピルビン酸エチル等のピルビン酸アルキルエステ
ル類、２−ヘプタノン又はシクロヘキサノン等の直鎖も
しくは分岐状又は環状のケトン類或いはエチルセロソル
ブアセテート等のグリコールエーテルエステル類等が挙
げられる。
キノンジアジド系感光剤及びレジスト溶剤からなるもの
である。アルカリ可溶性樹脂としては、例えばポリヒド
ロキシスチレンもしくはその誘導体、スチレン−無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルヒドロキシベンゾエー
ト、カルボキシル基含有メタアクリル系樹脂あるいはノ
ボラック樹脂等が挙げられる。キノンジアジド系感光剤
としては例えば１，２−ベンゾキノンジアジド−４−ス
ルホン酸エステル、１，２−ナフトキノンジアジド−４
−スルホン酸エステル、１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸エステル等が挙げられる。レジスト溶
剤としては、例えば酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エ
ステル類、乳酸エチル又は２−メトキシプロピオン酸メ
チル等のモノオキシ又はモノアルコキシカルボン酸エス
テル、ピルビン酸エチル等のピルビン酸アルキルエステ
ル類、２−ヘプタノン又はシクロヘキサノン等の直鎖も
しくは分岐状又は環状のケトン類或いはエチルセロソル
ブアセテート等のグリコールエーテルエステル類等が挙
げられる。
【０００６】本発明の洗浄液はジクロロメタン、シクロ
ペンタノン及びアセトンからなる群から選択される少な
くとも１種の有機溶剤とＮ−メチルピロリドンとの混合
物であってもよく、当該混合物がより好ましい。本発明
の洗浄方法としては、例えば、スピンコータライン配管
からレジスト液を排出後に或いは排出せずに、レジスト
液中に含まれるレジスト溶剤と同種の溶剤で洗浄操作を
行った後、Ｎ−メチルピロリドン単独或いは上記混合物
の洗浄液を用いて洗浄操作を行う方法等が挙げられる。
汎用的なレジスト溶剤としては、エチルセロソルブアセ
テート等のグリコールエーテルエステル類が挙げられ
る。洗浄操作は攪拌、浸漬又は通液等の手段により行わ
れる。
ペンタノン及びアセトンからなる群から選択される少な
くとも１種の有機溶剤とＮ−メチルピロリドンとの混合
物であってもよく、当該混合物がより好ましい。本発明
の洗浄方法としては、例えば、スピンコータライン配管
からレジスト液を排出後に或いは排出せずに、レジスト
液中に含まれるレジスト溶剤と同種の溶剤で洗浄操作を
行った後、Ｎ−メチルピロリドン単独或いは上記混合物
の洗浄液を用いて洗浄操作を行う方法等が挙げられる。
汎用的なレジスト溶剤としては、エチルセロソルブアセ
テート等のグリコールエーテルエステル類が挙げられ
る。洗浄操作は攪拌、浸漬又は通液等の手段により行わ
れる。
【０００７】
【発明の効果】本発明の洗浄液は洗浄効率に優れてお
り、本発明方法はスピンコータライン配管を効率的に洗
浄できるので、実用上有利なものである。
り、本発明方法はスピンコータライン配管を効率的に洗
浄できるので、実用上有利なものである。
【０００８】
【実施例】次に実施例をあげて本発明をより具体的に説
明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定さ
れるものではない。
明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定さ
れるものではない。
【０００９】比較例１ 図１に示すスピンコータライン配管〔ポンプはイワキ製
作所製ベローズ型ポンプSB-2SH-Mを、フィルタハウジン
グ部は日本ミリポア社製のウエハガードWP-16を、フィ
ルタユニットは日本ミリポア社製のウエハガードＦ−16
（孔径0.2 μｍ）を、エアーオペレーションバルブは高
砂製作所製PDT-SC1MT を、各々使用した。又、これらの
部品を接続するライン及び吐出用ノズルはテフロン製チ
ューブを使用した。〕を模擬スピンコータとして使用し
た。フィルタハウジング部に上記フィルタを装着した
後、スミレジストPFI-15〔住友化学工業（株）製ポジ型
レジスト液〕300ml をポンプで送液してフィルタハウジ
ング部をポジ型レジスト液で満たし、フィルタを通過さ
せてレジスト液を濾過した。ポンプを稼働させながら、
スピンコータライン配管の先端部の吐出用ノズルまでポ
ジ型レジスト液を満たした。次いで、フィルタハウジン
グ部を解体してフィルタを取外し、フィルタハウジング
カップをエチルセロソルブアセテートで充分洗浄後、フ
ィルタを装着せずに、フィルタハウジング部をスピンコ
ータライン配管に装着した。次いで、ポンプによりエチ
ルセロソルブアセテートを通液させ、250ml 毎に分別サ
ンプリングした廃液を400nm における吸光度分析に供し
た。廃液中のキノンジアジド系感光剤濃度が0.01ppm 以
下になるまでに、合計4250mlのエチルセロソルブアセテ
ートを要した。
作所製ベローズ型ポンプSB-2SH-Mを、フィルタハウジン
グ部は日本ミリポア社製のウエハガードWP-16を、フィ
ルタユニットは日本ミリポア社製のウエハガードＦ−16
（孔径0.2 μｍ）を、エアーオペレーションバルブは高
砂製作所製PDT-SC1MT を、各々使用した。又、これらの
部品を接続するライン及び吐出用ノズルはテフロン製チ
ューブを使用した。〕を模擬スピンコータとして使用し
た。フィルタハウジング部に上記フィルタを装着した
後、スミレジストPFI-15〔住友化学工業（株）製ポジ型
レジスト液〕300ml をポンプで送液してフィルタハウジ
ング部をポジ型レジスト液で満たし、フィルタを通過さ
せてレジスト液を濾過した。ポンプを稼働させながら、
スピンコータライン配管の先端部の吐出用ノズルまでポ
ジ型レジスト液を満たした。次いで、フィルタハウジン
グ部を解体してフィルタを取外し、フィルタハウジング
カップをエチルセロソルブアセテートで充分洗浄後、フ
ィルタを装着せずに、フィルタハウジング部をスピンコ
ータライン配管に装着した。次いで、ポンプによりエチ
ルセロソルブアセテートを通液させ、250ml 毎に分別サ
ンプリングした廃液を400nm における吸光度分析に供し
た。廃液中のキノンジアジド系感光剤濃度が0.01ppm 以
下になるまでに、合計4250mlのエチルセロソルブアセテ
ートを要した。
【００１０】比較例２ 比較例１と同様の模擬スピンコータを用いた。但し、フ
ィルタハウジング部を解体した後、図２に示すようにベ
ローズ型ポンプとエアーオペレーションバルブとを直結
し、次いで、ポンプによりエチルセロソルブアセテート
を通液させ、250ml 毎に分別サンプリングした廃液を40
0nm における吸光度分析に供した。廃液中のキノンジア
ジド系感光剤濃度が0.01ppm 以下になるまでに、合計32
50mlのエチルセロソルブアセテートを要した。
ィルタハウジング部を解体した後、図２に示すようにベ
ローズ型ポンプとエアーオペレーションバルブとを直結
し、次いで、ポンプによりエチルセロソルブアセテート
を通液させ、250ml 毎に分別サンプリングした廃液を40
0nm における吸光度分析に供した。廃液中のキノンジア
ジド系感光剤濃度が0.01ppm 以下になるまでに、合計32
50mlのエチルセロソルブアセテートを要した。
【００１１】参考例１ スミレジストPFI-15〔住友化学工業（株）製ポジ型レジ
スト液〕に使用されている感光剤の各種溶剤に対する溶
解度を示す。
スト液〕に使用されている感光剤の各種溶剤に対する溶
解度を示す。
【００１２】
【表１】
【００１３】実施例１ エチルセロソルブアセテートの代わりにジクロロメタン
とＮ−メチルピロリドンとの混合物（重量比＝１／１）
を通液させる以外は、比較例１と同様の操作を行った。
廃液中のキノンジアジド系感光剤濃度が0.01ppm 以下に
なるまでに、合計3000mlの混合物を要した。
とＮ−メチルピロリドンとの混合物（重量比＝１／１）
を通液させる以外は、比較例１と同様の操作を行った。
廃液中のキノンジアジド系感光剤濃度が0.01ppm 以下に
なるまでに、合計3000mlの混合物を要した。
【００１４】実施例２ エチルセロソルブアセテートの代わりにＮ−メチルピロ
リドンを通液させる以外は、比較例２と同様の操作を行
った。廃液中のキノンジアジド系感光剤濃度が0.01ppm
以下になるまでに、合計1750mlのＮ−メチルピロリドン
を要した。
リドンを通液させる以外は、比較例２と同様の操作を行
った。廃液中のキノンジアジド系感光剤濃度が0.01ppm
以下になるまでに、合計1750mlのＮ−メチルピロリドン
を要した。
【００１５】参考例２ スミレジストPFI-15に使用されている感光剤の10ppm 濃
度Ｎ−メチルピロリドン液を室温で16時間保持し、400n
m の吸光度を測定してその残存率を求めた。
度Ｎ−メチルピロリドン液を室温で16時間保持し、400n
m の吸光度を測定してその残存率を求めた。
【００１６】
【表２】
【図１】模擬スピンコータである。
【図２】ベローズ型ポンプとエアーオペレーションバル
ブとを直結した模擬スピンコータである。
ブとを直結した模擬スピンコータである。
１ レジスト液瓶（又は洗浄溶剤瓶） ２ テフロン製チューブ ３ ベローズ型ポンプ ４ フィルタハウジング ５ エアーオペレーションバルブ ６ クオート瓶
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｇ０３Ｆ 7/16
Claims (5)
- 【請求項１】Ｎ−メチルピロリドンを含むことを特徴と
するスピンコータライン配管の洗浄液。 - 【請求項２】ジクロロメタン、シクロペンタノン及びア
セトンからなる群から選択される少なくとも１種の有機
溶剤を含有する請求項１に記載の洗浄液。 - 【請求項３】請求項１又は２に記載の洗浄液を用いて洗
浄操作を行うことを特徴とするスピンコータライン配管
の洗浄方法。 - 【請求項４】スピンコータライン配管からレジスト液を
排出後に或いは排出せずに、レジスト溶剤で洗浄操作を
行った後、洗浄操作を行う請求項３に記載の洗浄方法。 - 【請求項５】洗浄操作を浸漬又は通液の手段により行う
請求項３又は４に記載の洗浄方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5115713A JPH06320128A (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | スピンコータライン配管の洗浄液及び洗浄方法 |
| CA 2123193 CA2123193A1 (en) | 1993-05-18 | 1994-05-09 | Cleaning solution for apparatuses used for production of photosensitizer, apparatuses used for preparation of positive resist solutions and spin coater line pipings, and cleaning method using the cleaning solution |
| EP94107626A EP0625568A1 (en) | 1993-05-18 | 1994-05-17 | Cleaning solution for apparatuses contacted with quinone diazide photosensitizers and cleaning method using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5115713A JPH06320128A (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | スピンコータライン配管の洗浄液及び洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06320128A true JPH06320128A (ja) | 1994-11-22 |
Family
ID=14669345
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5115713A Pending JPH06320128A (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | スピンコータライン配管の洗浄液及び洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06320128A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002066487A (ja) * | 2000-09-04 | 2002-03-05 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 塗布装置の洗浄方法 |
| JP2004056131A (ja) * | 2003-07-03 | 2004-02-19 | Miyazaki Oki Electric Co Ltd | レジスト塗布装置 |
| JP2005131637A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-05-26 | Toppan Printing Co Ltd | 洗浄機構を有する塗工装置 |
| JP2006075691A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Toppan Printing Co Ltd | 洗浄機構を有する塗工装置及び洗浄方法 |
| JP2009060129A (ja) * | 2008-10-30 | 2009-03-19 | Oki Semiconductor Miyazaki Co Ltd | レジスト塗布方法 |
| JP2010229616A (ja) * | 2010-04-05 | 2010-10-14 | Nisshin Chem Ind Co Ltd | レジスト用洗浄剤 |
| JP2011031240A (ja) * | 2010-08-31 | 2011-02-17 | Oki Semiconductor Miyazaki Co Ltd | 洗浄方法 |
| KR20210124052A (ko) | 2020-04-03 | 2021-10-14 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 액 처리 장치의 운전 방법 및 액 처리 장치 |
-
1993
- 1993-05-18 JP JP5115713A patent/JPH06320128A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002066487A (ja) * | 2000-09-04 | 2002-03-05 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 塗布装置の洗浄方法 |
| JP4577964B2 (ja) * | 2000-09-04 | 2010-11-10 | 東京応化工業株式会社 | 塗布装置の洗浄方法 |
| JP2004056131A (ja) * | 2003-07-03 | 2004-02-19 | Miyazaki Oki Electric Co Ltd | レジスト塗布装置 |
| JP2005131637A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-05-26 | Toppan Printing Co Ltd | 洗浄機構を有する塗工装置 |
| JP2006075691A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Toppan Printing Co Ltd | 洗浄機構を有する塗工装置及び洗浄方法 |
| JP2009060129A (ja) * | 2008-10-30 | 2009-03-19 | Oki Semiconductor Miyazaki Co Ltd | レジスト塗布方法 |
| JP2010229616A (ja) * | 2010-04-05 | 2010-10-14 | Nisshin Chem Ind Co Ltd | レジスト用洗浄剤 |
| JP2011031240A (ja) * | 2010-08-31 | 2011-02-17 | Oki Semiconductor Miyazaki Co Ltd | 洗浄方法 |
| KR20210124052A (ko) | 2020-04-03 | 2021-10-14 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 액 처리 장치의 운전 방법 및 액 처리 장치 |
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