JP2011031240A

JP2011031240A - 洗浄方法

Info

Publication number: JP2011031240A
Application number: JP2010193029A
Authority: JP
Inventors: Toshikazu Yamauchi; 俊和山内
Original assignee: Oki Semiconductor Co Ltd; Oki Semiconductor Miyazaki Co Ltd
Current assignee: Lapis Semiconductor Co Ltd; Lapis Semiconductor Miyazaki Co Ltd
Priority date: 2010-08-31
Filing date: 2010-08-31
Publication date: 2011-02-17

Abstract

【課題】レジストフィルタ部の内容積を低減して容易にして、確実で、しかも安全なレジスト配管の洗浄が可能な洗浄方法を提供する。
【解決手段】配管を有するレジスト塗布装置を洗浄する方法において、前記配管に接続され、上面及び下面によって画成される流路とこの流路内に配置されるフィルタとを有する治具を用いてレジストを供給する工程と、前記治具に代えて、前記治具の上面と下面との幅よりも狭い上面及び下面により画成される流路を有し、この流路にはフィルタを配置しない治具を用いて洗浄する工程と、を有する。
【選択図】図１

Description

本発明は、半導体製造装置に係り、特に、その洗浄方法に関するものである。

従来、このような分野の技術としては、例えば、以下に示すようなものがあった。
図４はかかる従来のレジスト塗布装置（以下、レジストコータという）内のレジスト配管システムの全体構成図、図５はその第１のレジストフィルタの構成図、図６はその第２のレジストフィルタの構成図である。
図４に示すように、レジストコータ内のレジスト配管システムは、加圧されたＮ₂ガスを通すフィルタ１、ガロン瓶２（レジスト瓶、シンナ瓶、空瓶等）、残量センサタンク３、ボールバルブ４、ポンプ５、ドレインタンク６、ニードルバルブ７、レジストフィルタ８、エア弁及びサックバックユニット９、ノズル１０とを有している。

このように、レジスト配管システムでは、レジストフィルタ８が設けられており、ポンプ５から排出されるレジストを濾過するようにしている。
そのレジストフィルタ８は、第１の例としては、図５に示すように、カートリッジ１１、ハウジング１２、上蓋１３、Ｏリング１４、クランプ（留め具）１５、イン配管１６、アウト配管１７、ドレイン配管１８を有している。

また、そのレジストフィルタ８は、第２の例としては、図６に示すように、イン配管１６Ａが上蓋１３側になく、ハウジング１２の下方に設置されている場合がある。
そのレジストフィルタの交換時のレジスト配管の洗浄方法は次の通りである（図４参照）。
使用済のフィルタ８を取外した後、空のフィルタハウジングを取付け、ガロン瓶２として、レジスト瓶の代わりにシンナ瓶を接続し、これをＮ₂ガスでの加圧によりレジスト配管９Ａに流し込み、ノズル１０から出す。吐出される液の色からレジスト色が消えて、シンナの無色透明になるまでシンナを流し続けてレジスト配管９Ａを洗浄する。洗浄が終了したら、ガロン瓶２として空瓶を接続し、これをＮ₂ガスで加圧して、レジスト配管９Ａ内に残存するシンナをノズル１０から押し出す。

なし

しかしながら、上記した従来の装置では、シンナによるレジスト配管洗浄時に次の問題点があった。
フィルタを外した後に空のハウジングを取付けているため、シンナを流し込んだ際に、一定量のシンナがハウジング内に溜まる。従って、
（１）ハウジング内に溜まったシンナの置換が迅速に行われず、洗浄に多量のシンナが必要となる。
（２）ハウジング内に溜まったシンナは、洗浄後のＮ₂ガス加圧によっても完全に排除できず、ハウジング内に残り、ハウジング取外し時にこぼれ出る等の作業性の障害となる。

本発明は、上記問題点を除去し、レジストフィルタ部の内容積を低減して容易にして、確実で、しかも安全なレジスト配管の洗浄が可能な洗浄方法を提供することを目的とする。

本発明は、上記目的を達成するために、
〔１〕配管を有するレジスト塗布装置を洗浄する方法において、前記配管に接続され、上面及び下面によって画成される流路とこの流路内に配置されるフィルタとを有する治具を用いてレジストを供給する工程と、前記治具に代えて、前記治具の上面と下面との幅よりも狭い上面及び下面により画成される流路を有し、この流路にはフィルタを配置しない治具を用いて洗浄する工程と、を有することを特徴とする。
〔２〕上記〔１〕記載の洗浄方法において、前記フィルタを有さない治具による流路の容積は、前記フィルタを有する治具による流路の容積よりも小さいことを特徴とする。

本発明によれば、次のような効果を奏することができる。
〔Ａ〕レジストフィルタのハウジングに代えて、浅い凹部を有するキャップを装着して、内容積を必要かつ十分に小さくすることによって、シンナが流された場合、過剰なシンナがキャップ内に溜まることがない。
従って、シンナはイン配管からアウト配管またはドレイン配管へ連続的に滞留なく流れるようになる。

これによって、シンナの置換は促進され、洗浄に要するシンナの量及び作業時間が削減される。
さらに、洗浄が終了し、Ｎ₂ガス圧送により配管内のシンナを排出した後にも、キャップ内にはシンナの残りはなく、キャップを取外してもシンナがこぼれ出るといった不具合が生じず、作業（安全）性の向上を図ることができる。

〔Ｂ〕ハウジング内にレジスト配管洗浄用治具（アダプタ）を装着したことによって、上記〔Ａ〕と同様に、シンナの滞留スペースをなくすことができ、同等の効果を奏することができる。
また、イン配管がハウジングの底側に設置してあるために、ハウジング自体を用いざるを得ない場合に、レジスト配管の洗浄時のハウジング内の内容積を低減することができ、シンナの滞留スペースをなくすことができる。

本発明の第１実施例を示すレジスト配管洗浄用治具の断面図である。本発明の第２実施例を示すレジスト配管洗浄用治具の断面図である。本発明の第２実施例を示すレジスト配管洗浄用治具の斜視図である。従来のレジストコータ内のレジスト配管システムの全体構成図である。従来のレジストコータ内のレジスト配管システムの第１のレジストフィルタの構成図である。従来のレジストコータ内のレジスト配管システムの第２のレジストフィルタの構成図である。

本発明の配管を有するレジスト塗布装置を洗浄する方法は、前記配管に接続され、上面及び下面によって画成される流路とこの流路内に配置されるフィルタとを有する治具を用いてレジストを供給する工程と、前記治具に代えて、前記治具の上面と下面との幅よりも狭い上面及び下面により画成される流路を有し、この流路にはフィルタを配置しない治具を用いて洗浄する工程と、を有する。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
図１は本発明の第１実施例を示すレジスト配管洗浄用治具の断面図である。
この実施例では、通常のレジストフィルタを構成するハウジング１２（図５参照）の代わりに、内容積を減少させるために、レジスト配管洗浄用治具として凹部２２の深さが浅いキャップ２１を用いる。材質はテフロン（登録商標）等の耐薬品性のものを使用する。

このキャップ２１の上蓋１３との接触部２３の形状、寸法は、従来のハウジング１２と全く同等とする。上蓋１３とキャップ２１の鍔部２４はＯリング１４でシールされ、クランプ１５で留める。このＯリング１４及びクランプ１５の構造は従来のもの（図５参照）と同じである。
キャップ２１の凹部２２の深さｄ（隙間）は、イン配管１６から入ったシンナがアウト配管１７、ドレイン配管１８の両配管へ流れ出る径路であり、ある程度の幅が必要であるが、広すぎるとシンナの溜まりが増え、置換効率が悪くなるため、例えば、イン配管１６、アウト配管１７、ドレイン配管１８等の配管の内径サイズと同等程度の５ｍｍ前後とする。

そこで、図４に示したレジスト配管全体を洗浄する場合、レジストフィルタ８において図５に示したカートリッジ１１及びハウジング１２を取外し、図１に示したキャップ２１の鍔部２４にＯリング１４を装着し、キャップ２１の鍔部２４を上蓋１３にクランプ１５で留めて取付ける。
次に、図４に示すガロン瓶２にシンナの入った瓶を接続し、このシンナ瓶内をＮ₂ガスで加圧する。圧送されたシンナは、各部を通過し、レジストフィルタ８を経由してノズル１０から吐出される。

レジストフィルタ８では、図１に示すイン配管１６からシンナが入り、アウト配管１７から流出する。ドレイン配管１８からは、図４に示すニードルバルブ７を開いた場合にのみシンナが流出する。
洗浄が終了したら、図４に示すガロン瓶２に空瓶を接続し、これをＮ₂ガスで加圧し、配管全体にＮ₂ガスを圧送する。これにより、レジスト配管内に残存するシンナをノズル１０から吐出及びニードルバルブ７を通してドレインタンク６へ排出する。

以上のように、第１実施例によれば、キャップ２１によって内容積を必要かつ十分に小さくしたことによって、シンナが流された場合、過剰なシンナがキャップ２１内に溜まることがない。
従って、シンナはイン配管１６からアウト配管１７、またはドレイン配管１８へ連続的に滞留なく流れるようになる。

これによって、シンナの置換は促進され、洗浄に要するシンナの量及び作業時間が削減されるという効果が得られる。
さらに、洗浄が終了し、Ｎ₂ガス圧送により配管内のシンナを排出した後にも、キャップ内にはシンナの残りはなく、キャップを取外してもシンナがこぼれ出るといった不具合が生じず、作業（安全）性の向上を図ることができる。

次に、本発明の第２実施例について説明する。
図２は本発明の第２実施例を示すレジスト配管洗浄用治具の断面図、図３はそのレジスト配管洗浄用治具の斜視図である。
フィルタ構成については、図５に示すもの以外に、図６に示すようにイン配管１６Ａが上蓋１３側になく、ハウジング１２の下方に設置されている場合がある。この場合には、この実施例に示すレジスト配管洗浄用治具（アダプタ）４０を使用する。

このレジスト配管洗浄用治具（アダプタ）４０は、ハウジング１２内にセットされ、下方に配置される台座部４４とパイプ４３を介して上方に配置される第１実施例で示したキャップ２１と同様の構造のキャップ４１を有する。すなわち、そのキャップ４１は深さが浅い凹部４２を形成し、その深さｄ（隙間）を確保されている。また、パイプ４３の下端は台座部４４から下方に突出し、凸部４５を形成している。

そこで、レジスト配管洗浄用治具（アダプタ）４０の台座部４４から突出した凸部４５を、ハウジング１２のイン配管１６Ａに差し込み、凸部４５の根元には、Ｏリング４６を装着しシールする。
一方、レジスト配管洗浄用治具（アダプタ）４０の上方には、キャップ４１が配置される。すなわち、そのキャップ４１は深さの浅い凹部４２を形成し、その深さｄ（隙間）を確保し、Ｏリング４７でシールする。このキャップ４１上端の高さはハウジング１２の高さと同一に揃える。

このように、台座部４４とキャップ４１とはパイプ４３でつながっており、このパイプ４３の径はイン配管１６Ａと同等とする。
このように構成したので、レジスト配管の洗浄のために流されたシンナは、ハウジング１２下方のイン配管１６Ａから流入し、レジスト配管洗浄用治具（アダプタ）４０の下方の凸部４５の口からレジスト配管洗浄用治具（アダプタ）４０の内に入る。そして、パイプ４３内を通り上方に上がったシンナは、アウト配管１７及びドレイン配管１８へと流出する。

他の基本的な動作は全て第１実施例と同様である。
以上のように、第２実施例によれば、ハウジング１２内にレジスト配管洗浄用治具（アダプタ）４０を装着したことによって、第１実施例と同様に、シンナの滞留スペースをなくすことができ、第１実施例と全く同等の効果を奏することができる。
また、イン配管１６Ａがハウジング１２側に設置してあるために、ハウジング１２自体を用いざるを得ない場合に、ハウジング１２内のスペースを低減することができる。

なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これらを本発明の範囲から排除するものではない。

本発明の洗浄方法は、レジストフィルタ部の内容積を低減して容易にして、確実で、しかも安全なレジスト配管の洗浄が可能な洗浄方法として利用することができる。

２ガロン瓶
６ドレインタンク
７ニードルバルブ
８レジストフィルタ
１０ノズル
１１カートリッジ
１２ハウジング
１３上蓋
１４，４６，４７Ｏリング
１５クランプ
１６，１６Ａイン配管
１７アウト配管
１８ドレイン配管
２１，４１キャップ
２２，４２凹部
２３接触部
２４鍔部
４０レジスト配管洗浄用治具（アダプタ）
４３パイプ
４４台座部
４５凸部

Claims

配管を有するレジスト塗布装置を洗浄する方法において、
前記配管に接続され、上面及び下面によって画成される流路と該流路内に配置されるフィルタとを有する治具を用いてレジストを供給する工程と、
前記治具に代えて、前記治具の上面と下面との幅よりも狭い上面及び下面により画成される流路を有し、該流路にはフィルタを配置しない治具を用いて洗浄する工程と、
を有することを特徴とする洗浄方法。
前記フィルタを有さない治具による流路の容積は、前記フィルタを有する治具による流路の容積よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。