JP3725936B2 - レジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法 - Google Patents

レジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体製造装置に係り、特に、レジスト塗布装置(以下、レジストコータという)のレジスト配管の洗浄方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、このような分野の技術としては、例えば、以下に示すようなものがあった。
【0003】
図4はかかる従来のレジストコータ内のレジスト配管システムの全体構成図、図5はその第1のレジストフィルタの構成図、図6はその第2のレジストフィルタの構成図である。
【0004】
図4に示すように、レジストコータ内のレジスト配管システムは、加圧されたN2 ガスを通すフィルタ1、ガロン瓶2(レジスト瓶、シンナ瓶、空瓶等)、残量センサタンク3、ボールバルブ4、ポンプ5、ドレインタンク6、ニードルバルブ7、レジストフィルタ8、エア弁及びサックバックユニット9、ノズル10とを有している。
【0005】
このように、レジスト配管システムでは、レジストフィルタ8が設けられており、ポンプ5から排出されるレジストを濾過するようにしている。
【0006】
そのレジストフィルタ8は、第1の例としては、図5に示すように、カートリッジ11、ハウジング12、上蓋13、Oリング14、クランプ(留め具)15、イン配管16、アウト配管17、ドレイン配管18を有している。
【0007】
また、そのレジストフィルタ8は、第2の例としては、図6に示すように、イン配管16Aが上蓋13側になく、ハウジング12の下方に設置されている場合がある。
【0008】
そのレジストフィルタの交換時のレジスト配管の洗浄方法は次の通りである(図4参照)。
【0009】
使用済のフィルタ8を取外した後、空のフィルタハウジングを取付け、ガロン瓶2として、レジスト瓶の代わりにシンナ瓶を接続し、これをN2 ガスでの加圧によりレジスト配管9Aに流し込み、ノズル10から出す。吐出される液の色からレジスト色が消えて、シンナの無色透明になるまでシンナを流し続けてレジスト配管9Aを洗浄する。洗浄が終了したら、ガロン瓶2として空瓶を接続し、これをN2 ガスで加圧して、レジスト配管9A内に残存するシンナをノズル10から押し出す。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した従来の装置では、シンナによるレジスト配管洗浄時に次の問題点があった。
【0011】
フィルタを外した後に空のハウジングを取付けているため、シンナを流し込んだ際に、一定量のシンナがハウジング内に溜まる。従って、
(1)ハウジング内に溜まったシンナの置換が迅速に行われず、洗浄に多量のシンナが必要となる。
【0012】
(2)ハウジング内に溜まったシンナは、洗浄後のN2 ガス加圧によっても完全に排除できず、ハウジング内に残り、ハウジング取外し時にこぼれ出る等の作業性の障害となる。
【0013】
本発明は、上記問題点を除去し、レジストフィルタ部の内容積を低減して容易にして、確実で、しかも安全なレジスト配管の洗浄が可能なレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法を提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記目的を達成するために、
〔1〕レジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、配管を有する上蓋に、この上蓋に取り付けられたレジストフィルタ部のハウジングに代えてこのハウジングより深さの浅い凹部を有するキャップを装着して洗浄を行うようにしたものである。
【0015】
〔2〕上記〔1〕記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、前記キャップは鍔部を有し、この鍔部を前記上蓋にクランプにて留めるようにしたものである。
【0016】
〔3〕上記〔2〕記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、前記上蓋と前記鍔部との間にはOリングを介在させるようにしたものである。
【0017】
〔4〕レジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、配管を有する上蓋に取り付けられたレジストフィルタ部のハウジングより深さの浅い凹部を有するキャップを前記上蓋に装着して洗浄を行うようにしたものである。
【0018】
〔5〕上記〔4〕記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、前記キャップは前記ハウジングの内部に配置して洗浄を行うようにしたものである。
【0019】
〔6〕上記〔5〕記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、前記キャップは凸部を有する台座部を持ち、この凸部は前記ハウジングが有する配管内に配置されるようにしたものである。
【0020】
〔7〕上記〔6〕記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、前記台座部と前記ハウジングとの間にはOリングが装着されるようにしたものである。
【0021】
〔8〕上記〔1〕〜〔7〕のいずれか1項に記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、前記凹部の深さは前記配管の内径のサイズと同等程度であるようにしたものである。
【0022】
〔9〕上記〔1〕〜〔5〕、〔8〕のいずれか1項に記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、前記上蓋の前記配管として、イン配管、アウト配管、及びドレイン配管が設けられており、前記キャップの凹部は、洗浄の際にイン配管からアウト配管への流路を構成するようにしたものである。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
【0024】
図1は本発明の第1実施例を示すレジスト配管洗浄用治具の断面図である。
【0025】
この実施例では、通常のレジストフィルタを構成するハウジング12(図5参照)の代わりに、内容積を減少させるために、レジスト配管洗浄用治具として凹部22の深さが浅いキャップ21を用いる。材質はテフロン(登録商標)等の耐薬品性のものを使用する。
【0026】
このキャップ21上蓋13との接触部23の形状、寸法は、従来のハウジング12と全く同等とする。上蓋13とキャップ21の鍔部24はOリング14でシールされ、クランプ15で留める。このOリング14及びクランプ15の構造は従来のもの(図5参照)と同じである。
【0027】
キャップ21の凹部22の深さd(隙間)は、イン配管16から入ったシンナがアウト配管17、ドレイン配管18の両配管へ流れ出る径路であり、ある程度の幅が必要であるが、広すぎるとシンナの溜まりが増え、置換効率が悪くなるため、例えば、イン配管16、アウト配管17、ドレイン配管18等の配管の内径サイズと同等程度の5mm前後とする。
【0028】
そこで、図4に示したレジスト配管全体を洗浄する場合、レジストフィルタにおいて図5に示したカートリッジ11及びハウジング12を取外し、図1に示したキャップ21の鍔部24にOリング14を装着し、キャップ21の鍔部24を上蓋13にクランプ15で留めて取付ける。
【0029】
次に、図4に示すガロン瓶2にシンナの入った瓶を接続し、このシンナ瓶内をN2 ガスで加圧する。圧送されたシンナは、各部を通過し、レジストフィルタ8を経由してノズル10から吐出される。
【0030】
レジストフィルタ8では、図1に示すイン配管16からシンナが入り、アウト配管17から流出する。ドレイン配管18からは、図4に示すニードルバルブ7を開いた場合にのみシンナが流出する。
【0031】
洗浄が終了したら、図4に示すガロン瓶2に空瓶を接続し、これをN2 ガスで加圧し、配管全体にN2 ガスを圧送する。これにより、レジスト配管内に残存するシンナをノズル10から吐出及びニードルバルブ7を通してドレインタンク6へ排出する。
【0032】
以上のように、第1実施例によれば、キャップ21によってレジストフィルタ8の内容積を必要かつ十分に小さくしたことによって、シンナしても、過剰なシンナがキャップ21内に溜まることがない。
【0033】
従って、シンナはイン配管16からアウト配管17、またはドレイン配管18へ連続的に滞留なく流れるようになる。
【0034】
これによって、シンナの置換は促進され、洗浄に要するシンナの量及び作業時間が削減されるという効果が得られる。
【0035】
さらに、洗浄が終了し、N2 ガス圧送により配管内のシンナを排出した後にも、キャップ内にはシンナの残りはなく、キャップを取外してもシンナがこぼれ出るといった不具合が生じず、作業(安全)性の向上を図ることができる。
【0036】
次に、本発明の第2実施例について説明する。
【0037】
図2は本発明の第2実施例を示すレジスト配管洗浄用治具の断面図、図3はそのレジスト配管洗浄用治具の斜視図である。
【0038】
レジストフィルタは、図5に示すもの以外に、図6に示すようにイン配管16Aが上蓋13側になく、ハウジング12の下方に設置されている場合がある。この場合には、この実施例に示すレジスト配管洗浄用治具(アダプタ)40を使用する。
【0039】
このレジスト配管洗浄用治具(アダプタ)40は、ハウジング12内にセットされ、下方に配置される台座部44とパイプ43を介して上方に配置される第1実施例で示したキャップ21と同様の構造のキャップ41を有する。すなわち、そのキャップ41は深さが浅い凹部42を形成し、その深さd(隙間)を確保されている。また、パイプ43の下端は台座部44から下方に突出し、凸部45を形成している。
【0040】
そこで、レジスト配管洗浄用治具(アダプタ)40の台座部44から突出した凸部45を、ハウジング12のイン配管16Aに差し込み、凸部45の根元には、Oリング46を装着しシールする。
【0041】
一方、レジスト配管洗浄用治具(アダプタ)40の上方には、キャップ41が配置される。すなわち、そのキャップ41は深さの浅い凹部42を形成し、その深さd(隙間)を確保し、Oリング47でシールする。このキャップ41上端の高さはハウジング12の高さと同一に揃える。
【0042】
このように、台座部44とキャップ41とはパイプ43でつながっており、このパイプ43の径はイン配管16Aと同等とする。
【0043】
このように構成したので、レジスト配管の洗浄のために流されたシンナは、ハウジング12下方のイン配管16Aから流入し、レジスト配管洗浄用治具(アダプタ)40の下方の凸部45の口からレジスト配管洗浄用治具(アダプタ)40の内に入る。そして、パイプ43内を通り上方に上がったシンナは、アウト配管17及びドレイン配管18へと流出する。
【0044】
他の基本的な動作は全て第1実施例と同等である。
【0045】
以上のように、第2実施例によれば、ハウジング12内にレジスト配管洗浄用治具(アダプタ)40を装着したことによって、第1実施例と同様に、シンナの滞留スペースをなくすことができ、第1実施例と全く同等の効果を奏することができる。
【0046】
また、イン配管16Aがハウジング12側に設置してあるために、ハウジング12自体を用いざるを得ない場合に、ハウジング12内のスペースを低減することができる。
【0047】
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これらを本発明の範囲から排除するものではない。
【0048】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明によれば、以下のような効果を奏することができる。
【0049】
〔A〕レジストフィルタのハウジングに代えて、浅い凹部を有するキャップを装着して、内容積を必要かつ十分に小さくすることによって、シンナが流された場合、過剰なシンナがキャップ内に溜まることがない。
【0050】
従って、シンナはイン配管からアウト配管またはドレイン配管へ連続的に滞留なく流れるようになる。
【0051】
これによって、シンナの置換は促進され、洗浄に要するシンナの量及び作業時間が削減される。
【0052】
さらに、洗浄が終了し、N2 ガス圧送により配管内のシンナを排出した後にも、キャップ内にはシンナの残りはなく、キャップを取外してもシンナがこぼれ出るといった不具合が生じず、作業(安全)性の向上を図ることができる。
【0053】
〔B〕ハウジング内にレジスト配管洗浄用治具(アダプタ)を装着したことによって、上記〔A〕と同様に、シンナの滞留スペースをなくすことができ、同等の効果を奏することができる。
【0054】
つまり、イン配管がハウジングの底側に設置してあるために、ハウジング自体を用いざるを得ない場合に、レジスト配管の洗浄時のハウジング内の内容積を低減することができ、シンナの滞留スペースをなくすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1実施例を示すレジスト配管洗浄用治具の断面図である。
【図2】 本発明の第2実施例を示すレジスト配管洗浄用治具の断面図である。
【図3】 本発明の第2実施例を示すレジスト配管洗浄用治具の斜視図である。
【図4】 従来のレジストコータ内のレジスト配管システムの全体構成図である。
【図5】 従来のレジストコータ内のレジスト配管システムの第1のレジストフィルタの構成図である。
【図6】 従来のレジストコータ内のレジスト配管システムの第2のレジストフィルタの構成図である。
【符号の説明】
2 ガロン瓶
6 ドレインタンク
7 ニードルバルブ
8 レジストフィルタ
10 ノズル
11 カートリッジ
12 ハウジング
13 上蓋
14,46,47 Oリング
15 クランプ
16,16A イン配管
17 アウト配管
18 ドレイン配管
21,41 キャップ
22,42 凹部
23 接触部
24 鍔部
40 レジスト配管洗浄用治具(アダプタ)
43 パイプ
44 台座部
45 凸部

Claims (9)

  1. 配管を有する上蓋に、該上蓋に取り付けられたレジストフィルタ部のハウジングに代えて該ハウジングより深さの浅い凹部を有するキャップを装着して洗浄を行うことを特徴とするレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
  2. 前記キャップは鍔部を有し、該鍔部を前記上蓋にクランプにて留めることを特徴とする請求項1記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
  3. 前記上蓋と前記鍔部との間にはOリングを介在させることを特徴とする請求項2記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
  4. 配管を有する上蓋に取り付けられたレジストフィルタ部のハウジングより深さの浅い凹部を有するキャップを前記上蓋に装着して洗浄を行うことを特徴とするレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
  5. 前記キャップは前記ハウジングの内部に配置して洗浄を行うことを特徴とする請求項4記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
  6. 前記キャップは凸部を有する台座部を持ち、該凸部は前記ハウジングが有する配管内に配置されることを特徴とする請求項5記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
  7. 前記台座部と前記ハウジングとの間にはOリングが装着されることを特徴とする請求項6記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
  8. 前記凹部の深さは前記配管の内径のサイズと同等程度であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
  9. 前記上蓋の前記配管として、イン配管、アウト配管、及びドレイン配管が設けられており、前記キャップの凹部は、洗浄の際にイン配管からアウト配管への流路を構成することを特徴とする請求項1〜5、8のいずれか1項に記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
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