KR101157667B1 - 리소그래피용 세정제 및 린스액 - Google Patents

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Abstract

레지스트 등의 용해성, 박리성이 뛰어난 리소그래피용 세정제를 제공한다.
리소그래피용 세정제는, (a1) 알킬기의 탄소수가 2이상인 모노프로필렌글리콜모노알킬에테르, (a2) 모노프로필렌글리콜디알킬에테르, (a3) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르, (a4) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르, (a5) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르, (b1) 알킬기의 탄소수가 2이상인 α형 모노프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b2) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b3) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르아세테이트, (b4) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르아세테이트, (b5) C3-4알칸폴리올아세테이트를 주성분으로서 포함한다.
레지스트막, 리소그래피용 세정제, 린스액, 유기용제, 알킬기, 균질용액, 반사 방지막, 노볼락 수지

Description

리소그래피용 세정제 및 린스액{CLEANING AGENT AND RINSING LIQUID FOR LITHOGRAPHY}
[문헌 1] 일본 특허공고 평4-49938호 공보
[문헌 2] 일본 특허공개 평6-324499호 공보
[문헌 3] 일본 특허공개2001-117242호 공보
[문헌 4] 일본 특허공개2001-117241호 공보
본 발명은 집적회로 소자, 컬러 필터, 액정 표시 소자 등에 있어서의 기판 또는 레지스트 도포장치 등으로부터, 경화 및 미경화의 불필요한 레지스트, 반사 방지막 등을 용해 또는 박리 제거하기 위해 유용한 리소그래피용 세정제 및 린스액에 관한 것이다.
집적회로 소자, 컬러 필터, 액정 표시 소자 등의 제조를 위해 종래부터 리소그래피 기술이 이용되고 있다. 리소그래피 기술을 이용하는 집적회로 소자 등의 제조에서는 예를 들면 기판 위에 필요에 따라 반사 방지막을 형성한 후, 포지티브형 또는 네가티브형의 레지스트가 도포되고, 베이킹에 의해 용제를 제거한 후, 레 지스트 막 위에 필요에 따라 반사 방지막이 형성되고, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등의 각종 방사선에 의해 노광되고 현상되어 레지스트 패턴이 형성된다.
상기 레지스트 등의 도포는 스핀 코팅, 롤 코팅, 리버스 코팅, 유연 도포, 닥터 코팅, 침지 도포 등의 여러가지 공지의 방법이 채용되고 있고, 예를 들면 집적회로 소자의 제조에 있어서는 레지스트 도포법으로서 스핀 코팅법이 주로 이용되고 있다. 스핀 코팅법에서는 기판 위에 레지스트 용액이 적하되고, 이 적하된 레지스트 용액은 기판의 회전에 의해 기판 외주방향으로 유연되고, 과잉의 레지스트 용액은 기판외주에서 비산제거되어 원하는 막 두께를 가지는 레지스트 막이 형성된다.
그러나, 그 때 레지스트 용액의 일부가 기판의 배면에까지 퍼져 들어가거나, 또는 기판의 외주 가장자리에는 레지스트 용액이 다른 부분보다 두껍게 남는, 이른바 비드가 형성되는 결점이 있어, 기판 측면 주변부 또는 이면으로부터 불필요한 레지스트를 제거하거나, 비드를 제거할 필요가 있다. 이것은 집적회로 소자의 제조에 한하지 않고, 컬러 필터, 액정 표시 소자 등의 제조에 있어서도 마찬가지다. 또한, 스핀 코팅법 이외의 도포법에 있어서도, 불필요한 부분에 레지스트가 부착될 수 있는 것은 스핀 코팅법에 있어서의 경우와 같다.
또, 기판과 레지스트 막 사이에 반사막이 있는 집적회로 소자의 경우, 패턴이 형성된 후, 반사 방지막을 제거할 필요가 있다. 도포장치에도 레지스트 용액이 부착되기 때문에 새로운 사용에 있어서 도포장치를 세정하는 것도 필요하다.
이들의 해결책으로서 일본 특허공고 평4-49938호 공보의 실시예에는 프로필 렌글리콜메틸에테르와 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트의 1:1혼합물을 포함하는 박리제를 이용해서 포토레지스트층을 박리시키는 예가 기재되어 있다.
일본 특허공개 평6-324499호 공보의 실시예에는 β형 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 포함하는 레지스트 세정제거용 용제, 및 β형 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 주성분으로 하고 α형 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 포함하는 세정제거용 용제를 이용해서 불필요한 레지스트 형성용 도포물을 제거하는 예가 기재되어 있다.
일본 특허공개2001-117242호 공보의 실시예에는 1,3-프로판디올메틸에테르나 1,3-프로판디올메틸에테르아세테이트를 세정제로서 이용해서 불필요한 레지스트를 제거하는 예가 기재되어 있다. 또한, 일본 특허공개2001-117241호 공보의 실시예에는 1,3-프로판디올메틸에테르나 1,3-프로판디올메틸에테르아세테이트와 물의 혼합액을 린스액으로서 이용해서 불필요한 레지스트를 제거하는 예가 기재되어 있다.
그러나, 상기의 용제나 용제 조성물은 레지스트에 대한 용해성, 박리성이 충분하지 않고, 또 비교적 긴 용해시간을 필요로 한다고 하는 점에서 실용상 충분한 것이라고는 말할 수 없다.
본 발명의 목적은 상기 결점을 가지지 않고, 유기용제 용액으로 형성되는 레지스트 또는 반사 방지막 등에 대해서는 물론, 수용액으로 형성되는 반사 방지막 등에 대해서도 또한 양호한 용해성, 박리성을 가지는 리소그래피용 세정제 및 린스액을 제공하는 것에 있다.
본 발명의 다른 목적은 상기 특성에 부가해서 화재의 위험성이 개선되고, 취급성도 뛰어난 리소그래피용 린스액을 제공하는 것에 있다.
본 발명자들은 예의 연구한 결과, 특정한 유기용제 또는 특정한 복수의 유기용제의 조합, 또는 그것들과 물의 혼합액에 의해 상기의 목적을 달성할 수 있는 것을 발견하고 본 발명에 이르렀다.
즉, 본 발명은 (a1) 알킬기의 탄소수가 2이상인 모노프로필렌글리콜모노알킬에테르, (a2) 모노프로필렌글리콜디알킬에테르, (a3) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르, (a4) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르, (a5) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르, (b1) 알킬기의 탄소수가 2이상인 α형 모노프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b2) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b3) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르아세테이트, (b4) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르아세테이트, 및 (b5) C3-4알칸폴리올아세테이트로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 유기용제를 주성분으로서 함유하는 리소그래피용 세정제를 제공한다.
이 리소그래피용 세정제의 바람직한 양태에서는, (a1) 알킬기의 탄소수가 2이상인 모노프로필렌글리콜모노알킬에테르, (a2) 모노프로필렌글리콜디알킬에테르, (a3) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르, (a4) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르, 및 (a5) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르로 이루어진 군 에서 선택된 1종 이상의 에테르류와, (b1') 모노프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b2) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b3) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르아세테이트, (b4) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르아세테이트, 및 (b5) C3-4알칸폴리올아세테이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 아세테이트류를 주성분으로서 포함한다.
또, 상기 리소그래피용 세정제의 다른 바람직한 양태에서는, (a1') 모노프로필렌글리콜모노알킬에테르, (a2) 모노프로필렌글리콜디알킬에테르, (a3) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르, (a4) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르, 및 (a5) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 에테르류와, (b1) 알킬기의 탄소수가 2이상인 α형 모노프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b2) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b3) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르아세테이트, (b4) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르아세테이트, 및 (b5) C3-4알칸폴리올아세테이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 아세테이트류를 주성분으로서 포함한다.
본 발명은 또한 상기의 리소그래피용 세정제에 물을 함유시켜 균질용액으로 한 것을 특징으로 하는 리소그래피용 린스액을 제공한다.
또한, 본 명세서에 있어서 특별히 단서가 없는 경우에는 「프로필렌글리콜」은, α형 프로필렌글리콜(1,2-프로판디올) 및 β형 프로필렌글리콜(1,3-프로판디올)을 포함한다.
본 발명의 리소그래피용 세정제는, (a1) 알킬기의 탄소수가 2이상인 모노프로필렌글리콜모노알킬에테르, (a2) 모노프로필렌글리콜디알킬에테르, (a3) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르, (a4) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르, (a5) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르, (b1) 알킬기의 탄소수가 2이상인 α형 모노프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b2) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b3) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르아세테이트, (b4) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르아세테이트, 및 (b5) C3-4알칸폴리올아세테이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 유기용제를 주성분으로서 함유한다.
이들 유기용제는 각각 단독으로 이용할 수 있는 외에, 2종 이상을 임의의 비율로 혼합해서 이용할 수 있다. 특히, 상기 (a1) 내지 (a5)의 에테르류와 상기 (b1) 내지 (b5)의 아세테이트류가 각각 1종 이상 존재하는 혼합계가 바람직하다. 또한, 상기 각 유기용제에 있어서 「알킬」로서는 메틸, 에틸, 프로필, 부틸기 등의 탄소수 1 내지 4의 직쇄상 또는 분기쇄상 알킬기가 바람직하다. 또한, 「아릴」로서는, 페닐, 나프틸기 등의 탄소수 6 내지 10의 아릴기가 바람직하다.
상기 알킬기의 탄소수가 2이상인 모노프로필렌글리콜모노알킬에테르(a1)로서는 예를 들면 프로필렌글리콜-1-에틸에테르, 프로필렌글리콜-1-프로필에테르, 프로필렌글리콜-1-부틸에테르 등의 모노프로필렌글리콜모노알킬에테르(특히 알킬기의 탄소수가 3 또는 4인 모노프로필렌글리콜모노알킬에테르) 등을 들 수 있다. 그 중 에서도 α형 모노프로필렌글리콜모노알킬에테르가 바람직하다.
상기 모노프로필렌글리콜디알킬에테르(a2)로서는 프로필렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜메틸에틸에테르, 프로필렌글리콜메틸프로필에테르, 프로필렌글리콜메틸부틸에테르, 프로필렌글리콜디에틸에테르, 프로필렌글리콜에틸프로필에테르, 프로필렌글리콜에틸부틸에테르, 프로필렌글리콜디프로필에테르, 프로필렌글리콜프로필부틸에테르, 프로필렌글리콜디부틸에테르 등을 들 수 있다.
상기 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르(a3) 중, 디프로필렌글리콜알킬에테르로서는 디프로필렌글리콜-1-메틸에테르, 디프로필렌글리콜-1-에틸에테르, 디프로필렌글리콜-1-프로필에테르, 디프로필렌글리콜-1-부틸에테르 등의 디프로필렌글리콜모노알킬에테르; 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜메틸에틸에테르, 디프로필렌글리콜메틸프로필에테르, 디프로필렌글리콜메틸부틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 디프로필렌글리콜에틸프로필에테르, 디프로필렌글리콜에틸부틸에테르, 디프로필렌글리콜디프로필에테르, 디프로필렌글리콜프로필부틸에테르, 디프로필렌글리콜디부틸에테르 등의 디프로필렌글리콜디알킬에테르를 들 수 있다.
트리프로필렌글리콜알킬에테르로서는 트리프로필렌글리콜-1-메틸에테르, 트리프로필렌글리콜-1-에틸에테르, 트리프로필렌글리콜-1-프로필에테르, 트리프로필렌글리콜-1-부틸에테르 등의 트리프로필렌글리콜모노알킬에테르; 트리프로필렌글리콜디메틸에테르, 트리프로필렌글리콜메틸에틸에테르, 트리프로필렌글리콜메틸프로필에테르, 트리프로필렌글리콜메틸부틸에테르, 트리프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리프로필렌글리콜에틸프로필에테르, 트리프로필렌글리콜에틸부틸에테르, 트리프로필렌글리콜디프로필에테르, 트리프로필렌글리콜프로필부틸에테르, 트리프로필렌글리콜디부틸에테르 등의 트리프로필렌글리콜디알킬에테르를 들 수 있다.
상기 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르(a4) 중, 모노프로필렌글리콜아릴에테르로서는 프로필렌글리콜모노페닐에테르 등의 모노프로필렌글리콜모노아릴에테르; 프로필렌글리콜디페닐에테르 등의 모노프로필렌글리콜디아릴에테르를 들 수 있다. 디프로필렌글리콜아릴에테르로서는 디프로필렌글리콜모노페닐에테르 등의 디프로필렌글리콜모노아릴에테르; 디프로필렌글리콜디페닐에테르 등의 디프로필렌글리콜디아릴에테르를 들 수 있다. 트리프로필렌글리콜아릴에테르로서는 트리프로필렌글리콜모노페닐에테르 등의 트리프로필렌글리콜모노아릴에테르; 트리프로필렌글리콜디페닐에테르 등의 트리프로필렌글리콜디아릴에테르를 들 수 있다.
상기 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르(a5) 중, 1,3-부탄디올알킬에테르로서는 모노알킬에테르와 디알킬에테르 어느 것이나 사용할 수 있다. 모노알킬에테르로서는 1,3-부탄디올모노메틸에테르, 1,3-부탄디올모노에틸에테르, 1,3-부탄디올모노프로필에테르, 1,3-부탄디올모노부틸에테르 등을 들 수 있다. 디알킬에테르로서는 상기 1,3-부탄디올모노알킬에테르에 대응하는 1,3-부탄디올디알킬에테르(2개의 알킬기는 동일하거나 상이할 수 있다)가 예시된다.
글리세린알킬에테르에는 글리세린모노알킬에테르, 글리세린디알킬에테르, 글리세린트리알킬에테르가 포함된다. 글리세린알킬에테르의 대표적인 예로서 예를 들면 글리세린모노메틸에테르, 글리세린디메틸에테르, 글리세린트리메틸에테르, 글 리세린모노에틸에테르, 글리세린디에틸에테르, 글리세린트리에틸에테르, 글리세린모노프로필에테르, 글리세린디프로필에테르, 글리세린트리프로필에테르, 글리세린모노부틸에테르, 글리세린디부틸에테르, 글리세린트리부틸에테르 등을 들 수 있다.
상기 알킬기의 탄소수가 2이상인 α형 모노프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트(b1)로서는 α형 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트, α형 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, α형 프로필렌글리콜부틸에테르아세테이트 등의 α형 모노프로필렌글리콜C2-4알킬에테르아세테이트(특히 α형 모노프로필렌글리콜C3-4알킬에테르아세테이트)를 들 수 있다.
상기 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트(b2) 중, 디프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트로서는 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜부틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다.
트리프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트로서는 트리프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜부틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다.
상기 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르아세테이트(b3)로서는 프로필렌글리콜페닐에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜페닐에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜페닐에테르아세테이트 등을 예시할 수 있다.
상기 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르아세테이트(b4) 중, 1,3-부탄 디올알킬에테르아세테이트로서는 1,3-부탄디올메틸에테르아세테이트, 1,3-부탄디올에틸에테르아세테이트, 1,3-부탄디올프로필에테르아세테이트, 1,3-부탄디올부틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다. 글리세린알킬에테르아세테이트로서는 글리세린모노메틸에테르아세테이트, 글리세린모노에틸에테르아세테이트, 글리세린모노프로필에테르아세테이트, 글리세린디메틸에테르아세테이트, 글리세린디에틸에테르아세테이트, 글리세린디프로필에테르아세테이트 등을 들 수 있다.
상기 C3-4알칸폴리올아세테이트(b5)에는 탄소수 3 또는 4의 알칸폴리올의 아세테이트, 예를 들면 1,2-프로판디올아세테이트, 1,3-프로판디올아세테이트, 1,3-부탄디올아세테이트, 글리세린아세테이트 등이 포함된다. 1,2-프로판디올아세테이트로서는 1,2-프로판디올모노아세테이트, 1,2-프로판디올디아세테이트를 들 수 있다. 1,3-프로판디올아세테이트로서는 1,3-프로판디올모노아세테이트, 1,3-프로판디올디아세테이트를 들 수 있다. 1,3-부탄디올아세테이트로서는 1,3-부탄디올모노아세테이트, 1,3-부탄디올디아세테이트를 들 수 있다. 글리세린아세테이트로서는 글리세린모노아세테이트, 글리세린디아세테이트, 글리세린트리아세테이트를 들 수 있다.
이들 유기용제 중에서도 특히 바람직한 것으로서, 프로필렌글리콜-1-프로필에테르 등의 모노프로필렌글리콜모노C3-4알킬에테르; 프로필렌글리콜디프로필에테르 등의 모노프로필렌글리콜디C1-4알킬에테르; 디프로필렌글리콜-1-메틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 트리프로필렌글리콜-1-부틸에테르 등의 디 또는 트리프로 필렌글리콜모노 또는 디C1-4알킬에테르; 프로필렌글리콜-1-페닐에테르 등의 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜모노 또는 디페닐에테르; 1,3-부탄디올-1-에틸에테르, 1,3-부탄디올디에틸에테르 등의 1,3-부탄디올모노 또는 디C1-4알킬에테르; 글리세린-1-메틸에테르, 글리세린-1,2-디메틸에테르, 글리세린트리메틸에테르 등의 글리세린의 모노, 디 또는 트리C1-4알킬에테르; α형 프로필렌글리콜-1-프로필에테르아세테이트 등의 α형 모노프로필렌글리콜C2-4알킬에테르아세테이트(특히 α형 모노프로필렌글리콜C3-4알킬에테르아세테이트); 디프로필렌글리콜-1-메틸에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜-1-부틸에테르아세테이트 등의 디 또는 트리프로필렌글리콜C1-4알킬에테르아세테이트; 프로필렌글리콜-1-페닐에테르아세테이트 등의 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜페닐에테르아세테이트; 1,3-부탄디올-1-에틸에테르아세테이트 등의 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 C1-4알킬에테르아세테이트류; 1,3-부탄디올디아세테이트, 글리세린트리아세테이트 등의 C3-4알칸폴리올의 모노, 디 또는 트리아세테이트 등을 들 수 있다.
단독으로 사용해서 뛰어난 효과를 얻을 수 있는 용제로서는 예를 들면 디프로필렌글리콜-1-메틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르 등의 디프로필렌글리콜모노 또는 디C1-4알킬에테르; 1,3-부탄디올디에틸에테르 등의 1,3-부탄디올디C1-4알킬에테르; 글리세린-1-메틸에테르, 글리세린-1,2-디메틸에테르, 글리세린트리메틸에 테르 등의 글리세린의 모노, 디 또는 트리C1-4알킬에테르; α형 프로필렌글리콜-1-프로필에테르아세테이트 등의 α형 모노프로필렌글리콜C2-4알킬에테르아세테이트(특히 α형 모노프로필렌글리콜C3-4알킬에테르아세테이트); 1,3-부탄디올-1-에틸에테르아세테이트 등의 1,3-부탄디올C1-4알킬에테르아세테이트; 1,3-부탄디올디아세테이트, 글리세린트리아세테이트 등의 C3-4알칸폴리올의 디 또는 트리아세테이트 등을 들 수 있다.
2종 이상의 유기용제를 병용할 경우의 바람직한 조합으로서는 (1) (a1) 알킬기의 탄소수가 2이상인 모노프로필렌글리콜모노알킬에테르, (a2) 모노프로필렌글리콜디알킬에테르, (a3) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르, (a4) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르, 및 (a5) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 에테르류와, (b1') 모노프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b2) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b3) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르아세테이트, (b4) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르아세테이트, 및 (b5) C3-4알칸폴리올아세테이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 아세테이트류와의 조합, (2) (a1') 모노프로필렌글리콜모노알킬에테르, (a2) 모노프로필렌글리콜디알킬에테르, (a3) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르, (a4) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르, 및 (a5) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 에테르류와, (b1) 알킬기의 탄소수가 2이상인 α형 모노프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b2) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b3) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르아세테이트, (b4) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르아세테이트, 및 (b5) C3-4알칸폴리올아세테이트로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 아세테이트류와의 조합을 들 수 있다.
(a1), (a2), (a3), (a4), (a5), (b1), (b2), (b3), (b4), (b5)는 상기와 동일하다. 상기 (a1')모노프로필렌글리콜모노알킬에테르로서는 (a1)에 포함되는 용매 외에, 모노프로필렌글리콜모노메틸에테르를 들 수 있다. (b1')모노프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트로서는 (b1)에 포함되는 용매 외에, α형 모노프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트; β형 모노프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 등의 β형 모노프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트를 들 수 있다.
보다 구체적으로는 2종 이상의 유기용매의 조합으로서, 예를 들면 프로필렌글리콜프로필에테르와 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트[또는 모노프로필렌글리콜모노C3-4알킬에테르와 모노프로필렌글리콜C3-4알킬에테르아세테이트, 예를 들면 α형 모노프로필렌글리콜모노C3-4알킬에테르와 α형 모노프로필렌글리콜C3-4알킬에테르아세테이트], 디프로필렌글리콜프로필에테르와 디프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트[또는 디프로필렌글리콜모노 또는 디C1-4알킬에테르와 디프로필렌글리콜C1-4알킬에테르아세테이트], 트리프로필렌글리콜부틸에테르와 트리프로필렌글리콜부틸 에테르아세테이트[또는 트리프로필렌글리콜모노 또는 디C1-4알킬에테르와 트리프로필렌글리콜C1-4알킬에테르아세테이트], 프로필렌글리콜페닐에테르와 프로필렌글리콜페닐에테르아세테이트, 1,3-부탄디올프로필에테르와 1,3-부탄디올프로필에테르아세테이트[또는 1,3-부탄디올모노 또는 디C1-4알킬에테르와 1,3-부탄디올C1-4알킬에테르아세테이트], 또는 글리세린모노메틸에테르와 글리세린트리아세테이트[또는 글리세린의 모노, 디 또는 트리C1-4알킬에테르와 글리세린의 디 또는 트리아세테이트] 등을 바람직한 것으로서 들 수 있다. 특히, 폴리올부가 공통되는 2종의 용제(예를 들면 글리콜에테르류와 대응하는 글리콜에테르아세테이트류, 글리콜에테르아세테이트류와 대응하는 글리콜폴리아세테이트류, 글리콜에테르류와 대응하는 글리콜폴리아세테이트류 등)을 조합시키는 것이 바람직하다.
모노프로필렌글리콜모노메틸에테르, α형 모노프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, β형 모노프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트는 단독으로 이용하지 않고, 상기의 에테르류[(a1), (a2), (a3), (a4), (a5)], 아세테이트류[(b1), (b2), (b3), (b4), (b5)]와 병용할 수 있다.
상기와 같이 2종의 유기용제를 혼합해서 이용할 경우, 양자의 비율은 용매의 종류나 목적에 따라 적절히 선택된다. 예를 들면 상기 (1) 또는 (2)의 경우와 같이 에테르류(글리콜에테르류)와 아세테이트류를 혼합해서 이용할 경우, 양자의 비율은 전자/후자(중량비)=1/99 내지 99/1, 바람직하게는 5/95 내지 95/5, 더욱 바람직하게는 10/90 내지 90/10정도이다.
본 발명의 리소그래피용 세정제에는 상기 (a1), (a2), (a3), (a4), (a5), (b1), (b2), (b3), (b4), (b5) 이외에, 종래 레지스트 또는 반사 방지막 등의 용제 또는 린스액으로서 이용할 수 있고 또한 물에 가용성인 유기용제를 1종 또는 2종 이상 포함할 수 있다. 이들 유기용제의 함유량은 세정제를 구성하는 유기용제 전체에 대해서 80중량% 미만인 것이 바람직하고, 60중량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 더욱 바람직하게는 40중량% 미만이다. 본 발명의 리소그래피용 세정제에 있어서의 상기 (a1), (a2), (a3), (a4), (a5), (b1), (b2), (b3), (b4) 및 (b5)로부터 선택된 유기용제의 총 함유량은 세정제를 구성하는 유기용제 전체에 대해서 바람직하게는 20중량% 이상, 보다 바람직하게는 40중량%를 초과하는 양, 더욱 바람직하게는 60중량% 이상(특히 80중량% 이상)이다. 본 발명의 리소그래피용 세정제는 실질적으로 (a1), (a2), (a3), (a4), (a5), (b1), (b2), (b3), (b4) 및 (b5)로부터 선택된 유기용제만으로 구성될 수 있다.
본 발명에 있어서 병용할 수 있는 수가용성 유기용제로서는 상기의 모노프로필렌글리콜모노메틸에테르, α형 모노프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, β형 모노프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트 외에, 예를 들면 카르복실산 알킬에스테르류, 지방족 케톤 등을 들 수 있다. 상기 카르복실산 에스테르류에는 예를 들면 락트산 알킬에스테르, 아세트산 알킬에스테르, 프로피온산 알킬에스테르, 알콕시프로피온산 알킬에스테르 등의, 히드록실기, 알콕시기(예를 들면 C1-4알콕시기 등) 등의 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 4정도의 지방족 카르복실산의 알킬에스테 르(예를 들면 C1-6알킬에스테르 등) 등이 포함된다.
보다 구체적으로는 락트산 알킬에스테르로서는 락트산 메틸, 락트산 에틸 등의 락트산 C1-6알킬에스테르 등이, 아세트산 알킬에스테르로서는 아세트산 프로필, 아세트산 n-부틸, 아세트산 n-아밀 등의 아세트산 C1-6알킬에스테르 등이, 프로피온산 알킬에스테르로서는 프로피온산 메틸, 프로피온산 에틸, 프로피온산 프로필, 프로피온산 부틸 등의 프로피온산 C1-6알킬에스테르 등이, 알콕시프로피온산 알킬에스테르로서는 메톡시프로피온산 메틸, 에톡시프로피온산 에틸, 메톡시프로피온산 에틸, 에톡시프로피온산 메틸 등의 C1-4알콕시-프로피온산 C1-6알킬에스테르 등을 들 수 있다. 또한, 지방족 케톤으로서는 2-부탄온, 2-펜탄온, 2-헥산온, 2-헵탄온 등의 탄소수 3 내지 10정도의 지방족 케톤 등을 들 수 있다.
본 발명의 리소그래피용 린스액은 본 발명의 상기 리소그래피용 세정제에 물을 함유시켜서 균질용액으로 한 것이다. 균질용액이란, 사용조건에 있어서 각 용제 및 물이 완전히 용해된 용액인 경우 외에, 분리층을 형성하고 있지 않으면, 어떤 성분이 다른 성분 중에 분산된 상태인 형태도 포함한다.
린스액 중의 물의 함유량은 사용하는 유기용제에 따라 적절히 설정할 수 있다. 일반적으로는 물의 양은 전유기용제 100중량부에 대해서 0.5 내지 30중량부(예를 들면 5 내지 30중량부), 바람직하게는 0.5 내지 20중량부, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 10중량부이다. 예를 들면 세정제(유기용제)로서 디프로필렌글리콜모노메 틸에테르 등의 유기용제를 이용할 경우, 상기 디프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 유기용제 100중량부에 대해서 10 내지 30중량부의 물을 첨가해서 린스액으로 할 수 있다.
본 발명의 세정제 및 린스액은 공지의 포지티브형 레지스트, 네가티브형 레지스트, 반사 방지막 어디에도 적용할 수 있다. 본 발명의 세정제 및 린스액을 적용할 수 있는 레지스트의 대표적인 것을 예시하면, 포지티브형에서는 예를 들면 퀴논디아지드계 감광제와 알칼리 가용성 수지를 포함하는 것, 화학증폭형 레지스트 등이, 네가티브형에서는 예를 들면 폴리신남산 비닐 등의 감광성기를 가지는 고분자 화합물을 포함하는 것, 방향족 아지드 화합물을 함유하는 것 또는 환화 고무와 비스아지드 화합물을 포함하는 아지드 화합물을 함유하는 것, 디아조 수지를 포함하는 것, 부가중합성 불포화 화합물을 포함하는 광중합성 조성물, 화학증폭형 네가티브 레지스트 등을 들 수 있다.
본 발명의 린스액이 적용되는데 바람직한 레지스트 재료로서, 퀴논디아지드계 감광제와 알칼리 가용성 수지를 포함하는 레지스트 재료를 들 수 있다. 퀴논디아지드계 감광제의 예로서는 예를 들면 1,2-벤조퀴논디아지드-4-술폰산, 1,2-나프토퀴논디아지드-4-술폰산, 1,2-나프토퀴논디아지드-5-술폰산, 이들 술폰산의 에스테르 또는 아미드 등을 들 수 있다. 또한, 알칼리 가용성 수지로서는 예를 들면 폴리비닐페놀, 폴리비닐알코올, 아크릴산 또는 메타크릴산의 공중합체나, 예를 들면 페놀, o-크레졸, m-크레졸, p-크레졸, 크실레놀 등의 페놀류의 1종 또는 2종 이상과, 포름알데히드, 파라포름알데히드 등의 알데히드류로 제조되는 노볼락 수지 등을 들 수 있다.
또, 화학증폭형 레지스트도 본 발명의 세정제 및 린스액이 적용되는데 바람직한 레지스트이다. 화학증폭형 레지스트는 방사선 조사에 의해 산을 발생시키고, 이 산의 촉매작용에 의한 화학변화에 의해 방사선 조사부분의 현상액에 대한 용해성을 변화시켜 패턴을 형성하는 것으로, 예를 들면 방사선 조사에 의해 산을 발생시키는 산발생 화합물과, 산의 존재하에 분해해서 페놀성 수산기 또는 카르복실기와 같은 알칼리 가용성 기가 생성되는 산 감응성 기 함유 수지를 포함하는 것, 알칼리 가용성 수지와 가교제, 산발생제를 포함하는 것을 들 수 있다.
한편, 본 발명의 세정제 및 린스액이 적용되는 반사 방지막으로서는 유기재료를 포함하는 반사 방지막이면 어느 것이라도 좋다. 이러한 반사 방지막으로서는 예를 들면 염료를 첨가한 폴리아민산 또는 폴리부텐산, 염료를 첨가한 공중합체, 무수 말레산 중합체, 무수 이타콘산 중합체, 폴리아크릴레이트 또는 폴리메타크릴레이트를 포함하는 중합체에 염료 등을 그래프트시킨 것, 아미노 방향족 발색단과 무수기를 가지는 중합체와의 반응생성물, 수용성 폴리머와 수용성 퍼플루오로카르복실산을 포함하는 것, 수용성 고분자를 포함하는 테트라메틸암모늄히드록시드 등의 유기 알칼리 용액, 수용성 막 형성 성분과 불소계 계면활성제를 포함하는 것, 퍼플루오로알킬카르복실산, 유기 아민, 폴리비닐피롤리돈을 포함하는 것, 퍼플루오로알킬술폰산, 유기 아민, 폴리비닐피롤리돈, 수용성 알킬실록산 중합체를 포함하는 것 등, 유기용제 또는 수용액으로 형성되는 막을 들 수 있다.
또한, 본 발명의 린스액은 물을 함유하기 때문에 수용액으로 형성된 막과도 친밀성이 좋고(접촉각이 작다), 수용액으로 형성된 반사 방지막에 대해서도 양호한 린스 효과를 얻을 수 있다.
본 발명의 세정제 및 린스액의 적용은 공업조사회편 「세정기술 입문」이나, 공업조사회편 「즉시 사용할 수 있는 세정기술」 등에 기재되어 있는 방법으로 행할 수 있다.
본 발명의 세정제 및 린스액의 적용에 대해서 레지스트 패턴의 형성방법과 함께 보다 상세하게 설명하면, 우선 레지스트 용액은 스핀 코팅법 등 종래 공지의 도포법에 의해, 필요에 따라 전처리된 실리콘 기판, 유리 기판 등에 도포된다. 레지스트의 도포에 앞서서, 또는 도포 형성된 레지스트 막 위에, 필요에 따라 반사 방지막이 도포, 형성된다. 예를 들면 스핀 코팅법에 있어서는 레지스트 또는 반사 방지막의 비드가 기판 가장자리에 형성되는 경향이 있지만, 본 발명의 세정제, 린스액을 회전하는 가장자리 비드 위에 스프레이함으로써 비드의 유동을 촉진시켜, 기판 위에 실질적으로 균일한 두께를 가지는 레지스트 막 또는 반사 방지막을 형성할 수 있다.
또, 기판 측면 주변 또는 배면에 퍼져 들어간 레지스트 또는 반사 방지막은 본 발명의 세정제 및 린스액의 스프레이에 의해 제거할 수 있다. 또한, 예를 들면 포지티브형 레지스트의 경우에서 기판과 레지스트 막 사이에 반사 방지막이 존재할 경우에는 노광, 현상에 의해 패턴이 형성된 후, 레지스트 막이 없는 부분의 반사 방지막을 본 발명의 린스액을 이용해서 습식 제거할 수도 있다.
기판에 도포된 레지스트는 예를 들면 핫플레이트 위에서 프리베이크되어 용 제가 제거되어, 두께가 통상 1 내지 2.5 ㎛정도인 레지스트 막이 된다. 프리베이크 온도는 이용하는 용제 또는 레지스트의 종류에 따라 다르지만, 통상 20 내지 200℃, 바람직하게는 50 내지 150℃정도의 온도로 행하여진다. 레지스트 막은 그 후 고압 수은등, 메탈할라이드 램프, 초고압 수은 램프, KrF 엑시머 레이저, ArF 엑시머 레이저, F2레이저, 연X선 조사장치, 전자선 묘화장치 등의 공지의 조사장치를 이용하여 필요에 따라 마스크를 개재시켜 노광이 행하여진다.
노광 후, 현상성, 해상도, 패턴 형상 등을 개선하기 위해서, 필요에 따라 애프터 베이킹을 한 후, 현상이 행하여지고 레지스트 패턴이 형성된다. 레지스트의 현상은 통상 현상액을 이용하여 노광역과 미노광역의 용제 또는 알칼리 용액에 대한 용해성의 차이를 이용해서 행하여진다. 알칼리 현상액으로서는 예를 들면 수산화 나트륨, 수산화 테트라메틸암모늄(TMAH) 등의 수용액 또는 수성용액을 이용할 수 있다.
또, 상기 레지스트 막 또는 반사 방지막의 도포는 도포장치를 이용해서 행하여지는데, 레지스트 막 또는 반사 방지막이 기판 위에 도포된 후, 도포 후의 장치를 다른 종류의 재료의 도포장치로서 다시 이용하는 경우가 있다. 예를 들면 레지스트로부터 반사 방지막, 레지스트로부터 다른 종류의 레지스트, 또는 반사 방지막으로부터 레지스트 등의 도포장치로서 사용하는 수가 있다. 이러한 경우, 다른 종류의 재료의 도포장치로서 사용하기 전에 해당 도포장치를 세정하는데, 이러한 경우에도 본 발명의 세정제 및 린스액을 유효하게 이용할 수 있다.
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이것으로 한정되지 않는다.
실시예 1 내지 14, 비교예 1
노볼락 수지(m-크레졸/p-크레졸 = 6/4와 포름알데히드의 축중합물) 100중량부와, 퀴논디아지드 감광제(2,3,4,4'-테트라히드록시벤조페논과 1,2-나프토퀴논디아지드-5-술포닐클로라이드의 에스테르화물) 24중량부를 고형분이 25중량%가 되도록 α형 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트에 용해시켜 이루어지는 레지스트를, 4인치 실리콘 기판에 프리베이크 후의 막 두께가 2 ㎛가 되도록 스핀 코팅하고, 다이렉트 핫플레이트에서 100℃, 90초로 프리베이크하여 레지스트 막을 형성했다.
레지스트 막 위에 표 1에 나타내는 조성의 세정제 0.03 ㎖를 적하하고, 적하하고 나서 기초의 실리콘이 보일 때까지의 시간(sec)을 측정하고, 레지스트 막(옹스트롬)을 시간(sec)으로 나눈 값(옹스트롬/sec)을 용해속도로 했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
세정제 조성(중량비) 용해속도(Å/sec)
실시예 1 DPM:DPMA=50:50 12,400
실시예 2 PNP:PNPA=50:50 14,500
실시예 3 TPNB:TPNBA=40:60 13,200
실시예 4 PNDP:PNPA=40:60 14,000
실시예 5 1,3-BE:1,3-BEA=50:50 13,500
실시예 6 1,3-BDE 12,500
실시예 7 GME:GTA=20:80 14,200
실시예 8 DPM=100 13,000
실시예 9 DPDM=100 12,500
실시예 10 PNPA=100 13,500
실시예 11 1,3-BEA=100 13,000
실시예 12 GTA=100 12,800
실시예 13 GDME=100 12,800
실시예 14 GTME=100 12,700
비교예 1 1,3-PDME:1,3-PDMEA=50:50 11,600
실시예 15 내지 24, 비교예 2
세정제에 대신해서 표 2에 나타내는 조성의 린스액을 이용한 것 이외에는, 상기 실시예 1 내지 14, 비교예 1과 동일한 조작을 하여 레지스트 막의 용해속도(옹스트롬/sec)를 구했다. 결과를 표 2에 나타낸다.
린스액 조성(중량비) 용해속도(Å/sec)
실시예 15 DPM:DPMA:물=50:30:20 11,200
실시예 16 PNP:PNPA:물=50:30:20 12,300
실시예 17 TPNB:TPNBA:물=60:20:20 11,500
실시예 18 PNDP:PNPA:물=50:30:20 12,700
실시예 19 1,3-BE:1,3-BEA:물=80:10:10 11,300
실시예 20 GME:GTA:물=80:10:10 12,200
실시예 21 DPM:물=80:20 11,200
실시예 22 DPDM:물=80:20 10,800
실시예 23 GDME:물=80:20 10,200
실시예 24 GTME:물=80:20 10,100
비교예 2 1,3-PDME:1,3-PDMEA:물=50:30:20 8,500
상기 각 표 중의 약호는 이하와 같다.
DPM:디프로필렌글리콜-1-메틸에테르
DPDM:디프로필렌글리콜디메틸에테르
DPMA:디프로필렌글리콜-1-메틸에테르아세테이트
PNP:프로필렌글리콜-1-프로필에테르
PNDP:프로필렌글리콜디프로필에테르
PNPA:프로필렌글리콜-1-프로필에테르아세테이트
TPNB:트리프로필렌글리콜-1-부틸에테르
TPNBA:트리프로필렌글리콜-1-부틸에테르아세테이트
1,3-BE:1,3-부탄디올-1-에틸에테르
1,3-BDE:1,3-부탄디올디에틸에테르
1,3-BEA:1,3-부탄디올-1-에틸에테르아세테이트
GME:글리세린-1-메틸에테르
GDME:글리세린-1,2-디메틸에테르
GTME:글리세린트리메틸에테르
GTA:글리세린트리아세테이트
1,3-PDME:1,3-프로판디올-1-메틸에테르
1,3-PDMEA:1,3-프로판디올-1-메틸에테르아세테이트
본 발명의 리소그래피용 세정제 및 린스액은 유기용제 용액으로 형성되는 레지스트 또는 반사 방지막 등에 대해서 뿐만 아니라, 수용액으로 형성되는 반사 방지막 등에 대해서도 양호한 용해성, 박리성을 나타낸다. 또한, 본 발명의 리소그래피용 린스액은 화재의 위험성이 개선되어 취급에도 뛰어난 것이다.
본 발명의 세정제 및 린스액은 레지스트 막, 반사 방지막 등의 용해성이 높고, 실용성이 뛰어나다. 또한, 본 발명의 린스액은 제조현장, 공장에서 안전하면서도 간단하게 취급할 수 있다.

Claims (6)

  1. (a1) 알킬기의 탄소수가 3 이상인 모노프로필렌글리콜모노알킬에테르, (a4) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르, (a5) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르, (b1) 알킬기의 탄소수가 2이상인 α형 모노프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b2) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b3) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르아세테이트, (b4) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르아세테이트, 및 (b5) C3-4알칸폴리올아세테이트로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 유기용제를 함유하는 리소그래피용 세정제.
  2. (a1) 알킬기의 탄소수가 2이상인 모노프로필렌글리콜모노알킬에테르, (a2) 모노프로필렌글리콜디알킬에테르, (a3) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르, (a4) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르, 및 (a5) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 에테르류와, (b1') 모노프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b2) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b3) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르아세테이트, (b4) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르아세테이트, 및 (b5) C3-4알칸폴리올아세테이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 아세테이트류를 포함하는 리소그래피용 세정제.
  3. (a1') 모노프로필렌글리콜모노알킬에테르, (a2) 모노프로필렌글리콜디알킬에테르, (a3) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르, (a4) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르, 및 (a5) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 에테르류와, (b1) 알킬기의 탄소수가 2이상인 α형 모노프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b2) 디 또는 트리프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트, (b3) 모노, 디 또는 트리프로필렌글리콜아릴에테르아세테이트, (b4) 1,3-부탄디올 또는 글리세린의 알킬에테르아세테이트, 및 (b5) C3-4알칸폴리올아세테이트로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 아세테이트류를 포함하는 리소그래피용 세정제.
  4. (a) 프로필렌글리콜-1-프로필에테르, 1,3-부탄디올-1-에틸에테르, 1,3-부탄디올디에틸에테르, 글리세린-1-메틸에테르, 글리세린-1,2-디메틸에테르, 글리세린트리메틸에테르, (b) 디프로필렌글리콜-1-메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜-1-프로필에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜-1-부틸에테르아세테이트, 1,3-부탄디올-1-에틸에테르아세테이트, 글리세린트리아세테이트로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 유기용제를 함유하는 리소그래피용 세정제.
  5. (a) 디프로필렌글리콜-1-메틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜-1-프로필에테르. 프로필렌글리콜디프로필에테르, 트리프로필렌글리콜-1-부틸에테르, 1,3-부탄디올-1-에틸에테르, 1,3-부탄디올디에틸에테르, 글리세린-1-메틸에테르, 글리세린-1,2-디메틸에테르 및 글리세린트리메틸에테르로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 에테르류와, (b) 디프로필렌글리콜-1-메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜-1-프로필에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜-1-부틸에테르아세테이트, 1,3-부탄디올-1-에틸에테르아세테이트 및 글리세린트리아세테이트로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 아세테이트류를 포함하는 리소그래피용 세정제.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항 기재의 리소그래피용 세정제에 물을 함유시켜 균질용액으로 한 것을 특징으로 하는 리소그래피용 린스액.
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