JP3311407B2 - 基板端縁洗浄装置及び方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、フォトレジスト液，感
光性ポリイミド樹脂，カラーフィルタ用の染色剤などか
らなる薄膜がその一方主面に塗布された液晶用ガラス基
板，フォトマスク用ガラス基板などの基板に対し、上記
薄膜塗布後に基板の端面（側面）に付着した不要薄膜を
洗浄除去する基板端縁洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】上述のような基板端縁洗浄装置として
は、従来、例えば特公平３−７８７７７号公報に開示さ
れているものがあった。

【０００３】この公知例によれば、その一方主面に薄膜
が形成された基板の周縁部の上方主面（表面）と下方主
面（裏面）に対向して第１の管と第２の管がそれぞれ設
けられるとともに、第１および第２の管の間の間隙部で
かつ基板端部の延長上に第３の管が設けられている。そ
して、第１および第２の管から基板の周縁部の上方主面
と下方主面にリンス液として溶剤を供給するとともに、
その溶剤ならびに溶解除去された不要薄膜を第３の管か
ら吸引排出できるように構成されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、基板に形成
された薄膜の種類によっては、複数種類のリンス液を用
いて端縁洗浄する、例えば第１のリンス液による基板の
端縁洗浄を行った後、続けて第１のリンス液と異なる第
２のリンス液としての溶剤による端縁洗浄を行うのが好
ましい場合がある。

【０００５】しかしながら、上記従来例では、１種類の
リンス液を用いることしか考慮されていないため、複数
種類のリンス液を用いた基板の端縁洗浄を行うことがで
きなかった。

【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、複数種類のリンス液を順次、基板端縁
に吐出して洗浄することができる基板端縁洗浄装置を提
供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１の発明は、一方主面に薄膜が形成された基
板を載置保持する基板保持手段と、該基板保持手段によ
って保持された基板の端縁に液を吐出するノズルと、前
記ノズルに、第１のリンス液または第１のリンス液とは
異なる第２のリンス液を選択して供給するリンス液供給
手段と、前記リンス液供給手段と前記ノズルとを接続す
る配管と、前記配管内から前記ノズルに向けて気体を導
入する気体導入手段と、を備えている。また、請求項２
の発明は、一方主面に薄膜が形成された基板を載置保持
する基板保持手段と、該基板保持手段によって保持され
た基板の端縁に第１のリンス液を吐出する第１のノズル
と、前記基板の端縁に第１のリンス液とは異なる第２の
リンス液を吐出する第２のノズルと、前記第１のノズル
に第１のリンス液を供給する第１のリンス液供給手段
と、前記第２のノズルに第２のリンス液を供給する第２
のリンス液供給手段と、を備えている。また、請求項３
の発明は、請求項２の発明に係る基板端縁洗浄装置にお
いて、前記第１のノズルと前記第２のノズルとを、前記
基板の端縁に沿う方向に配置している。また、請求項４
の発明は、請求項２または請求項３の発明に係る基板端
縁洗浄装置において、前記第１のノズルに、複数のノズ
ルからなるノズル群を含ませている。また、請求項５の
発明は、請求項２から請求項４のいずれかの発明に係る
基板端縁洗浄装置において、前記第２のノズルに、複数
のノズルからなるノズル群を含ませている。また、請求
項６の発明は、請求項１の発明に係る基板端縁洗浄装置
において、前記ノズルを前記基板の端縁に沿わせて相対
移動させる移動手段をさらに備えている。また、請求項
７の発明は、請求項２から請求項５のいずれかの発明に
係る基板端縁洗浄装置において、前記第１のノズルおよ
び前記第２のノズルを前記基板の端縁に沿わせて相対移
動させる移動手段をさらに備えている。また、請求項８
の発明は、一方主面に薄膜が形成された基板を用意する
工程と、前記基板の端縁に第１のノズルから第１のリン
ス液を吐出して前記端縁を洗浄する工程と、前記第１の
リンス液が吐出された前記端縁に、第２のノズルから前
記第１のリンス液とは異なる第２のリンス液を吐出して
前記端縁を洗浄する工程と、を備えている。また、請求
項９の発明は、一方主面に薄膜が形成された基板を用意
する工程と、前記基板の端縁にノズルから第１のリンス
液を吐出して前記端縁を洗浄する工程と、前記ノズルお
よび当該ノズルへの配管に気体を導入する工程と、前記
第１のリンス液が吐出された前記端縁に、気体導入後の
前記ノズルから前記第１のリンス液とは異なる第２のリ
ンス液を吐出して前記端縁を洗浄する工程と、を備えて
いる。

【０００８】

【作用】請求項１の発明では、基板の端縁に液を吐出す
るノズルに、第１のリンス液または第１のリンス液とは
異なる第２のリンス液を選択して供給するリンス液供給
手段と、リンス液供給手段とノズルとを接続する配管
と、配管内からノズルに向けて気体を導入する気体導入
手段と、を備えているため、複数種類のリンス液を用い
て基板の端縁を洗浄することができる。また、請求項２
の発明では、基板の端縁に第１のリンス液を吐出する第
１のノズルと、基板の端縁に第１のリンス液とは異なる
第２のリンス液を吐出する第２のノズルと、第１のノズ
ルに第１のリンス液を供給する第１のリンス液供給手段
と、第２のノズルに第２のリンス液を供給する第２のリ
ンス液供給手段と、を備えるため、複数種類のリンス液
を用いて基板の端縁を洗浄することができる。また、請
求項３の発明では、第１のノズルと第２のノズルとを基
板の端縁に沿う方向に配置しているため、洗浄処理時間
を短縮することができる。また、請求項４の発明では、
第１のノズルが複数のノズルからなるノズル群を含むた
め、複数種類のリンス液を用いて基板の端縁を洗浄する
ことができる。また、請求項５の発明では、第２のノズ
ルが複数のノズルからなるノズル群を含むため、複数種
類のリンス液を用いて基板の端縁を洗浄することができ
る。また、請求項６の発明では、ノズルを基板の端縁に
沿わせて相対移動させる移動手段を備えているため、簡
単な装置構成にて複数種類のリンス液を用いて基板の端
縁を洗浄することができる。また、請求項７の発明で
は、第１のノズルおよび第２のノズルを基板の端縁に沿
わせて相対移動させる移動手段を備えているため、簡単
な装置構成にて複数種類のリンス液を用いて基板の端縁
を洗浄することができる。また、請求項８の発明では、
基板の端縁に第１のノズルから第１のリンス液を吐出し
て端縁を洗浄し、第１のリンス液が吐出された端縁に、
第２のノズルから第１のリンス液とは異なる第２のリン
ス液を吐出して当該端縁を洗浄するため、複数種類のリ
ンス液を用いて基板の端縁を洗浄することができる。ま
た、請求項９の発明では、基板の端縁にノズルから第１
のリンス液を吐出し て端縁を洗浄し、そのノズルおよび
ノズルへの配管に気体を導入し、第１のリンス液が吐出
された端縁に、気体導入後のノズルから第１のリンス液
とは異なる第２のリンス液を吐出して当該端縁を洗浄す
るため、複数種類のリンス液を用いて基板の端縁を洗浄
することができる。

【０００９】

【実施例】次に、本発明の実施例を図面に用いて説明す
る。

【００１０】Ａ．第１実施例 図１は、本発明にかかる基板端縁洗浄装置の第１実施例
の全体概略平面図であり、図２は一部切欠全体概略側面
図である。この基板端縁洗浄装置４では、回転塗布によ
って表面に薄膜が形成された角型基板１を載置保持する
基板保持ユニット２が基台Ｂ上に設けられ、さらにその
基板保持ユニット２の周囲４箇所に基板端縁洗浄具３が
配置されている。

【００１１】基板保持ユニット２では、基台Ｂに、第１
のエアーシリンダ５と一対の第１のガイド６，６を介し
てシリンダ支持台７が昇降可能に設けられている。ま
た、そのシリンダ支持台７上に第２のエアーシリンダ８
が設けられ、さらに第２のエアーシリンダ８に角型基板
１を真空吸着によって載置保持する基板載置プレート９
が一体的に設けられている。

【００１２】基板端縁洗浄具３は、洗浄具本体１０（後
述する図４を参照）と、その洗浄具本体１０を角型基板
１の端縁に沿わせて直線移動する移動機構１１と、洗浄
具本体１０を角型基板１の端縁に対して遠近変位する位
置調整機構１２とで構成されている。

【００１３】図３は、基板端縁洗浄具３を示す図であ
る。移動機構１１は、同図に示すように、基台Ｂに取り
付けられた支持台１３を有している。そして、図１に示
すように、この支持台１３に一対の第２のガイド１４，
１４を介して角型基板１の端縁に沿う方向に移動可能に
移動台１５が設けられるとともに、支持台１３に主動プ
ーリー１６と従動プーリー１７とが取り付けられ、さら
に、これらのプーリー１６，１７にベルト１８が巻回さ
れている。また、そのベルト１８には移動台１５が一体
的に取り付けられており、主動プーリー１６に連動連結
されている電動モータ１９を駆動することによって、洗
浄具本体１０を角型基板１の端縁に沿わせて直線移動す
ることができるように構成されている。

【００１４】位置調整機構１２は、一対の第３のガイド
２０，２０と、第３のエアーシリンダ２１と、支持部材
２２（図４）とで構成されている。支持部材２２は、一
対の第３のガイド２０，２０と第３のエアーシリンダ２
１とを介して、移動台１５に取り付けられており、第３
のエアーシリンダ２１を駆動することによって角型基板
１に対して遠近する方向に駆動移動するようになってい
る。したがって、この支持部材２２の移動により、支持
部材２２に取り付けられた洗浄具本体１０を角型基板１
の大きさに応じて、変位できるように構成されている。

【００１５】図４は、洗浄具本体１０を角型基板１側か
ら見た正面図である。同図に示すように、この支持部材
２２には、吸引部材２３が取り付けられるとともに、そ
の吸引部材２３の吸引口２３ａを挟んだ上下方向の上側
に第１のリンス液吐出ユニット２４ａと第１のガスノズ
ル２５ａ（図３）とが設けられる一方、その下側に第２
のリンス液吐出ユニット２４ｂと第２のガスノズル２５
ｂ（図３）とが設けられている。なお、図示を省略する
が、吸引部材２３には排気管を介して真空源が接続され
ている。また、第１および第２のリンス液吐出ユニット
２４ａ，２４ｂは、次に説明するリンス液供給ユニット
に接続されており、リンス液供給ユニットからのリンス
液を基板保持ユニット２に保持された基板１の端縁部分
に吐出するように構成されている。さらに、第１および
第２のガスノズル２５ａ，２５ｂそれぞれには、ガスと
して窒素ガスを供給するガス供給管が接続されている。

【００１６】図５は、リンス液供給ユニットの構成を示
す概略ブロック図である。この実施例では、リンス液と
して互いに種類の異なる溶剤を第１および第２のリンス
液吐出ユニット２４ａ，２４ｂに供給するため、第１及
び第２のリンス液供給ユニット２７ａ，２７ｂが設けら
れている。なお、第１のリンス液供給ユニット２７ａか
ら供給する第１のリンス液と、第２のリンス液供給ユニ
ット２７ｂから供給する第２のリンス液との組み合わせ
てとしては、例えばＮ−メチル，２−ピロリドン（以下
「ＮＭＰ」という）とメチルイソブチルケトン（以下
「ＭＩＢＫ」という）との組み合わせがある。これ以外
の、組み合わせとしては、例えばジメチルホルムアミド
（以下「ＤＭＦ」という）と上記ＭＩＢＫとの組み合わ
せ、ジメチルアセトアミド（以下「ＤＭＡｃ」という）
と上記ＭＩＢＫとの組み合わせ、エチレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート（以下「ＥＣＡ」という）
と上記ＭＩＢＫとの組み合わせ等がある。

【００１７】第１のリンス液供給ユニット２７ａでは、
第１のリンス液を貯留するボトル２８ａが加圧タンク２
９ａに収納されている。この加圧タンク２９ａには、開
閉バルブ３０ａが取り付けられており、この開閉バルブ
３０ａを介して窒素ガスやエアーを加圧タンク２９ａに
導入すると、内圧が上昇し、ボトル２８ａ内の第１のリ
ンス液がチューブ３１ａを通ってトラップタンク３２ａ
に供給される。なお、このトラップタンク３２ａには、
エアー抜き用のバルブ３３ａが取り付けられている。

【００１８】トラップタンク３２ａはチューブ３４ａに
よってマニホールド３５ａと接続されており、トラップ
タンク３２ａに一時的に貯留された第１のリンス液がマ
ニホールド３５ａに与えられる。そして、マニホールド
３５ａから伸びる４本の分岐端３６ａ〜３９ａのうちの
分岐端３６ａには、流量計４０ａおよびエアーオペレー
ト弁４１ａを介して所定の第１のリンス液吐出ユニット
２４ａと接続されており、エアーオペレート弁４１ａを
開成することによって、第１のリンス液を第１のリンス
液吐出ユニット２４ａに供給し、第１のリンス液吐出ユ
ニット２４ａから基板１の上面へ第１のリンス液が吐出
される。また、第１のリンス液吐出ユニット２４ａに
は、エアーオペレート弁４２ａが接続されており、この
エアーオペレート弁４２ａを開成することによって窒素
ガスが第１のリンス液吐出ユニット２４ａに向けて導入
され、残存溶剤等のリンス液をパージすることができる
ようになっている。

【００１９】なお、図５では吸引口２３ａの上側に配置
された第１のリンス液吐出ユニット２４ａにのみ第１の
リンス液が供給されるように図示されているが、その下
側に配置された第２のリンス液吐出ユニット２４ｂにも
同時に供給されるように構成されている。また、エアー
オペレート弁４２ａを介して窒素ガスを第２のリンス液
吐出ユニット２４ｂに供給して、残存溶剤をパージする
ことができるようになっている。さらに、上記では、分
岐端３６ａに関連する要素（流量計４０ａ，エアーオペ
レート弁４１ａ，４２ａ）のみを図示しているが、その
他の分岐端３７ａ〜３９ａにも同一要素が設けられてお
り、上記と同様にして第１および第２のリンス液吐出ユ
ニット２４ａ，２４ｂへの第１のリンス液の供給および
残存溶剤等のリンス液のパージ処理を行うことができる
ように構成されている。

【００２０】以上のように、第１および第２のリンス液
吐出ユニット２４ａ，２４ｂと、第１のリンス液供給ユ
ニット２７ａとで角型基板１の端縁に第１のリンス液を
吐出する手段、つまり第１のリンス液吐出手段が構成さ
れている。

【００２１】一方、第２のリンス液供給ユニット２７ｂ
では、ボトル２８ｂ内に第１のリンス液とは異なる種類
の第２のリンス液としての溶剤が貯留されている。な
お、その他の構成は上記第１のリンス液供給ユニット２
７ａと同一構成であるため、相当符号を付して、その説
明を省略する。

【００２２】次に、基板端縁洗浄装置の動作について具
体例（ポリイミド薄膜を除去する場合）を示しながら説
明する。

【００２３】図６は、基板端縁洗浄装置の動作を示すフ
ローチャートである。

【００２４】角型基板１へのポリイミド薄膜の形成が完
了すると、以下の処理が実行されて、基板端縁の洗浄処
理が行われる。なお、予め基板端縁洗浄装置には、ボト
ル２８ａに第１のリンス液として溶剤ＮＭＰを、またボ
トル２８ｂに第２のリンス液として溶剤ＭＩＢＫを貯留
しておく。また、薄膜形成完了時点では、エアーオペレ
ート弁４１ａ，４１ｂ，４２ａ，４２ｂはともに閉成さ
れている。

【００２５】まず、ステップＳ１で、エアーオペレート
弁４１ａが開成され、これによってボトル２８ａに貯留
されている第１のリンス液（ＮＭＰ）が第１および第２
のリンス液吐出ユニット２４ａ，２４ｂから角型基板１
の両主面（表面，裏面）の端縁部に向けて吐出される。

【００２６】そして、この状態のままで、４つの洗浄具
本体１０を同期させながら角型基板１の各辺に沿って移
動させて（ステップＳ２）、第１のリンス液（ＮＭＰ）
によるポリイミド薄膜の溶解除去処理を行う。

【００２７】上記のようにして薄膜の溶解除去処理が完
了すると、エアーオペレート弁４１ａを閉成して（ステ
ップＳ３）、第１のリンス液（ＮＭＰ）の供給を停止す
る。なお、この処理をもって端縁洗浄処理を完了するこ
とも可能であるが、ＮＭＰは揮発性が比較的低いので、
角型基板１を充分に乾燥させるためには、上記処理（ス
テップＳ３）の後、角型基板１をその状態（基板保持ユ
ニット２に載置された状態）で長時間放置しておく必要
がある。その結果、全体の処理時間が長くなってしま
う。また、ＮＭＰは乾燥しにくいため、その吐出領域
（基板端縁部）で「シミ」，「ムラ」などの不具合が生
じることがある。

【００２８】そこで、この実施例では、長時間放置する
代わりに、次の処理（ステップＳ４〜Ｓ８）を行って、
基板端縁洗浄処理に要する処理時間の短縮化を図るとと
もに、上記不具合の発生を防止している。

【００２９】すなわち、ステップＳ４で、エアーオペレ
ート弁４２ａを一定時間開成する。このようにエアーオ
ペレート弁４２ａを開成することによって、窒素ガスが
第１および第２のリンス液吐出ユニット２４ａ，２４ｂ
側に導入され、第１および第２のリンス液吐出ユニット
２４ａ，２４ｂに残存している第１のリンス液（ＮＭ
Ｐ）がパージされる。

【００３０】そして、ステップＳ５で、エアーオペレー
ト弁４１ｂが開成され、ボトル２８ｂに貯留されている
第２のリンス液としての溶剤（ＭＩＢＫ）が第１および
第２のリンス液吐出ユニット２４ａ，２４ｂから角型基
板１の両主面（表面，裏面）の端縁部に向けて吐出され
る。そして、第２のリンス液としての溶剤（ＭＩＢＫ）
を角型基板１に吐出しながら、４つの洗浄具本体１０を
角型基板１の各辺に沿って移動させる（ステップＳ
６）。ここで、第２のリンス液としての溶剤であるＭＩ
ＢＫは揮発性が比較的高く、その溶剤を上記のようにし
て溶解除去された領域（つまり、基板両主面の端縁部）
に供給することによって、その領域は短時間で乾燥す
る。

【００３１】上記のように第２のリンス液（ＭＩＢＫ）
による乾燥処理が完了すると、エアーオペレート弁４１
ｂを閉成し（ステップＳ７）、第２のリンス液（ＭＩＢ
Ｋ）の角型基板１への吐出を停止する。その後、上記ス
テップＳ４と同様に、エアーオペレート弁４２ｂを一定
時間開成して（ステップＳ８）、第１および第２のリン
ス液吐出ユニット２４ａ，２４ｂに残存している第２の
リンス液（ＭＩＢＫ）をパージする。

【００３２】このように、この具体例によれば、ポリイ
ミド薄膜を溶解させるための溶剤（ＮＭＰ）と、揮発性
の高い溶剤（ＭＩＢＫ）とを用意し、第１のリンス液
（ＮＭＰ）でポリイミド薄膜を溶解した後、第２のリン
ス液（ＭＩＢＫ）をその溶解除去した領域に供給して短
時間で乾燥するようにしているので、基板端縁洗浄に要
する時間を大幅に短縮することができる。また、溶解処
理により基板端縁に残り「シミ」，「ムラ」の原因とな
る第１のリンス液（ＮＭＰ）を第２のリンス液（ＭＩＢ
Ｋ）で洗い流すため、上記不具合の発生を効果的に防止
することができる。

【００３３】なお、上記具体例では、第１および第２の
リンス液の組み合わせを（ＮＭＰ，ＭＩＢＫ）とした
が、その組み合わせはこれに限定されるものではなく、
上記したような各種の組み合わせによって基板端縁洗浄
処理を行うことができ、同様の効果が得られる。

【００３４】また、上記具体例では、第１のリンス液
（ＮＭＰ）による溶解処理が完了した後、窒素ガスによ
るパージ処理（ステップＳ４）を行っているが、この処
理を行わず、溶解処理完了に続いて、第２のリンス液
（ＭＩＢＫ）による乾燥処理を行うようにしてもよい。

【００３５】また、上記説明では、角型基板１の端縁部
に形成されたポリイミド薄膜を溶解除去する具体例につ
いて詳述しているが、この実施例にかかる基板端縁洗浄
装置はこれ以外の目的にも適用できる。例えば、カラー
レジストが形成された基板の端縁を洗浄する場合、カラ
ーレジストを溶解するためには互いに種類の異なる第１
および第２のリンス液を用いる必要があり、従来の基板
端縁洗浄装置では対応することができなかった。しか
し、上記のように構成された基板端縁洗浄装置によれ
ば、第１および第２のリンス液をそれぞれボトル２８
ａ，２８ｂに貯留し、上記のように順次基板端縁に吐出
することによってカラーレジストの溶解除去が可能とな
る。

【００３６】Ｂ．第２実施例 上記第１実施例では第１および第２のリンス液吐出ユニ
ット２４ａ，２４ｂから第１および第２のリンス液が交
互に吐出するようにしているが、図７に示すように、各
リンス液吐出ユニット２４ａ，２４ｂに第１のリンス液
のみを吐出するノズル５０ａ，５０ｂと第２のリンス液
のみを吐出するノズル５１ａ，５１ｂとを設け、しかも
ノズル５０ａ，５０ｂを第１のリンス液供給ユニット２
７ａに、またノズル５１ａ，５１ｂを第２のリンス液供
給ユニット２７ｂに接続してもよい。

【００３７】Ｃ．第３実施例 また、図８に示すように、各リンス液吐出ユニット２４
ａ，２４ｂを、第１のリンス液のみを吐出するノズル６
１ａ群からなるノズルブロック６０ａと第２のリンス液
のみを吐出するノズル６１ｂ群からなるノズルブロック
６０ｂとで構成し、しかもノズルブロック６０ａ，６０
ｂをそれぞれ第１および第２のリンス液供給ユニット２
７ａ，２７ｂに接続するようにしてもよい。この場合、
上記のように洗浄具本体１０を基板１の各辺に沿って移
動させると、ノズルブロック６０ａ，６０ｂが同時に同
図の矢印Ｘ方向に移動する。したがって、この第３実施
例では、第１および第２のリンス液を基板１に向けて吐
出しながら、洗浄具本体１０をＸ方向に移動させること
によって、基板１の端縁を洗浄することができる。この
ように、第３実施例によれば、１回の洗浄具本体移動に
より洗浄処理を行うことができるので、基板端縁洗浄処
理時間を短縮することができる。

【００３８】Ｄ．その他の実施例 なお、上記実施例では、図１に示す４つの基板端縁洗浄
具３でそれぞれ第１および第２のリンス液による基板端
縁洗浄処理を行うことができるように構成しているが、
例えば上記基板端縁洗浄具３のうち２つを第１のリンス
液による洗浄処理ステーション（第１の処理ステーショ
ン）とする一方、残りを第２のリンス液による洗浄処理
ステーション（第２の処理ステーション）とすることも
可能である。この場合、まず第１の処理ステーションで
の第１のリンス液による洗浄処理が完了すると、角型基
板１を回転させ、第１のリンス液による処理が完了した
基板端縁を第２の処理ステーションに位置させる。そし
て、その第２の処理ステーションで第２のリンス液によ
る洗浄処理を行うことによって、上記実施例と同様の効
果が得られる。

【００３９】また、上記説明では、２種類のリンス液を
用いて基板の端縁洗浄を行う場合について説明したが、
リンス液の種類は２種類に限定されるものではなく、３
種類以上のリンス液を用いる場合にも、本発明を適用す
ることができることはいうまでもない。

【００４０】なお、上記実施例では、第１、第２のリン
ス液吐出ノズルからリンス液として互いに種類の異なる
溶剤を吐出させて基板端縁を洗浄するように構成されて
いたが、水溶性の材料からなる薄膜が基板上に形成され
ている場合には、水もしくは湯などによって洗浄するこ
とができるので、第１のリンス液吐出ノズルからは、薄
膜材料の種類に応じて、溶剤の代わりに水、湯、アルカ
リ現像液等、他の種類のリンス液を吐出するよう構成し
てもよい。

【００４１】さらに、上記実施例では、基板１の両主面
における端縁を洗浄するようにしているが、どちらか一
方主面の端縁のみを洗浄する場合にも本発明を適用する
ことができ、上記と同様の効果が得られる。

【００４２】

【発明の効果】請求項１の発明にかかる基板端縁洗浄装
置によれば、一方主面に薄膜が形成された基板を載置保
持する基板保持手段と、該基板保持手段によって保持さ
れた基板の端縁に液を吐出するノズルと、該ノズルに、
第１のリンス液または第１のリンス液とは異なる第２の
リンス液を選択して供給するリンス液供給手段と、リン
ス液供給手段とノズルとを接続する配管と、該配管内か
らノズルに向けて気体を導入する気体導入手段と、を備
えているため、複数種類のリンス液を用いて基板の端縁
を洗浄することができる。また、請求項２の発明にかか
る基板端縁洗浄装置によれば、一方主面に薄膜が形成さ
れた基板を載置保持する基板保持手段と、該基板保持手
段によって保持された基板の端縁に第１のリンス液を吐
出する第１のノズルと、前記基板の端縁に第１のリンス
液とは異なる第２のリンス液を吐出する第２のノズル
と、前記第１のノズルに第１のリンス液を供給する第１
のリンス液供給手段と、前記第２のノズルに第２のリン
ス液を供給する第２のリンス液供給手段と、を備えてい
るため、複数種類のリンス液を用いて基板の端縁を洗浄
することができる。また、請求項３の発明にかかる基板
端縁洗浄装置によれば、第１のノズルと第２のノズルと
を、基板の端縁に沿う方向に配置するため、洗浄処理時
間を短縮することができる。また、請求項４の発明にか
かる基板端縁洗浄装置によれば、第１のノズルが複数の
ノズルからなるノズル群を含むため、複数種類のリンス
液を用いて基板の端縁を洗浄することができる。また、
請求項５の発明にかかる基板端縁洗浄装置によれば、第
２のノズルが複数のノズルからなるノズル群を含むた
め、複数種類のリンス液を用いて基板の端縁を洗浄する
ことができる。また、請求項６の発明にかかる基板端縁
洗浄装置によれば、ノズルを基板の端縁に沿わせて相対
移動させる移動手段を備えているため、簡単な装置構成
にて複数種類のリンス液を用いて基板の端縁を洗浄する
ことができる。また、請求項７の発明にかかる基板端縁
洗浄装置によれば、第１のノズルおよ び第２のノズルを
基板の端縁に沿わせて相対移動させる移動手段を備えて
いるため、簡単な装置構成にて複数種類のリンス液を用
いて基板の端縁を洗浄することができる。また、請求項
８の発明にかかる基板端縁洗浄方法によれば、一方主面
に薄膜が形成された基板を用意する工程と、基板の端縁
に第１のノズルから第１のリンス液を吐出して端縁を洗
浄する工程と、第１のリンス液が吐出された端縁に、第
２のノズルから第１のリンス液とは異なる第２のリンス
液を吐出して当該端縁を洗浄する工程と、を備えている
ため、複数種類のリンス液を用いて基板の端縁を洗浄す
ることができる。また、請求項９の発明にかかる基板端
縁洗浄方法によれば、一方主面に薄膜が形成された基板
を用意する工程と、基板の端縁にノズルから第１のリン
ス液を吐出して端縁を洗浄する工程と、当該ノズルおよ
びノズルへの配管に気体を導入する工程と、第１のリン
ス液が吐出された端縁に、気体導入後のノズルから第１
のリンス液とは異なる第２のリンス液を吐出して当該端
縁を洗浄する工程と、を備えているため、複数種類のリ
ンス液を用いて基板の端縁を洗浄することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる基板端縁洗浄装置の第１実施例
の全体概略平面図である。

【図２】図１の一部切欠拡大概略側面図である。

【図３】図１の要部の一部切欠拡大側面図である。

【図４】洗浄具本体を角型基板側から見た正面図であ
る。

【図５】リンス液供給ユニットの構成を示す概略ブロッ
ク図である。

【図６】第１実施例にかかる基板端縁洗浄装置の動作を
示すフローチャートである。

【図７】本発明にかかる基板端縁洗浄装置の第２実施例
の部分拡大図である。

【図８】本発明にかかる基板端縁洗浄装置の第３実施例
の部分拡大図である。

【符号の説明】

２４ａ 第１のリンス液吐出ユニット ２４ｂ 第２のリンス液吐出ユニット ２７ａ 第１のリンス液供給ユニット ２７ｂ 第２のリンス液供給ユニット

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木瀬 一夫 滋賀県彦根市高宮町480番地の１ 大日 本スクリーン製造株式会社 彦根地区事 業所内 (72)発明者 松村 吉雄 滋賀県彦根市高宮町480番地の１ 大日 本スクリーン製造株式会社 彦根地区事 業所内 (56)参考文献 特開 平６−124887（ＪＰ，Ａ)

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一方主面に薄膜が形成された基板を載置
   保持する基板保持手段と、 該基板保持手段によって保持された基板の端縁に液を吐
   出するノズルと、 前記ノズルに、第１のリンス液または第１のリンス液と
   は異なる第２のリンス液を選択して供給するリンス液供
   給手段と、 前記リンス液供給手段と前記ノズルとを接続する配管
   と、 前記配管内から前記ノズルに向けて気体を導入する気体
   導入手段と、 を備えることを特徴とする 基板端縁洗浄装置。
2. 【請求項２】 一方主面に薄膜が形成された基板を載置
   保持する基板保持手段と、 該基板保持手段によって保持された基板の端縁に第１の
   リンス液を吐出する第１のノズルと、 前記基板の端縁に第１のリンス液とは異なる第２のリン
   ス液を吐出する第２のノズルと、 前記第１のノズルに第１のリンス液を供給する第１のリ
   ンス液供給手段と、 前記第２のノズルに第２のリンス液を供給する第２のリ
   ンス液供給手段と、 を備えることを特徴とする 基板端縁洗浄装置。
3. 【請求項３】 請求項２記載の基板端縁洗浄装置におい
   て、 前記第１のノズルと前記第２のノズルとを、前記基板の
   端縁に沿う方向に配置することを特徴とする 基板端縁洗
   浄装置。
4. 【請求項４】 請求項２または請求項３に記載の基板端
   縁洗浄装置において、 前記第１のノズルは、複数のノズルからなるノズル群を
   含むことを特徴とする 基板端縁洗浄装置。
5. 【請求項５】 請求項２から請求項４のいずれかに記載
   の基板端縁洗浄装置において、 前記第２のノズルは、複数のノズルからなるノズル群を
   含むことを特徴とする 基板端縁洗浄装置。
6. 【請求項６】 請求項１記載の基板端縁洗浄装置におい
   て、 前記ノズルを前記基板の端縁に沿わせて相対移動させる
   移動手段をさらに備えることを特徴とする 基板端縁洗浄
   装置。
7. 【請求項７】 請求項２から請求項５のいずれかに記載
   の基板端縁洗浄装置において、 前記第１のノズルおよび前記第２のノズルを前記基板の
   端縁に沿わせて相対移動させる移動手段をさらに備える
   ことを特徴とする 基板端縁洗浄装置。
8. 【請求項８】 一方主面に薄膜が形成された基板を用意
   する工程と、 前記基板の端縁に第１のノズルから第１のリンス液を吐
   出して前記端縁を洗浄する工程と、 前記第１のリンス液が吐出された前記端縁に、第２のノ
   ズルから前記第１のリンス液とは異なる第２のリンス液
   を吐出して前記端縁を洗浄する工程と、 を備えることを特徴とする基板端縁洗浄方法。
9. 【請求項９】 一方主面に薄膜が形成された基板を用意
   する工程と、 前記基板の端縁にノズルから第１のリンス液を吐出して
   前記端縁を洗浄する工程と、 前記ノズルおよび当該ノズルへの配管に気体を導入する
   工程と、 前記第１のリンス液が吐出された前記端縁に、気体導入
   後の前記ノズルから前記第１のリンス液とは異なる第２
   のリンス液を吐出して前記端縁を洗浄する工程と、 を備えることを特徴とする基板端縁洗浄方法。