JP3840239B2 - 処理液塗布装置 - Google Patents
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Description
本発明は、レジスト液塗布装置に限定されず、他の処理液塗布装置に用いてもよい。また、基板の種類は角型に限定されず、円形の半導体ウエハ,オリエンテーションフラットを有する半導体ウエハ等他の種類でも良い。
2 基板保持部
3 塗布部
4 洗浄部
20 ノズル
20a スリット
39 洗浄装置
40 移動機構
46 洗浄溝
47 リンスノズル
Claims (2)
- 基板の表面に所定の処理液を塗布するための処理液塗布装置であって、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された前記基板表面に沿う方向に移動可能で断面が倒立家型の部材であり、移動する方向と交差する方向に延びるスリットを下端に有し、移動しながら前記スリットから前記基板表面に処理液を供給するノズルと、
洗浄位置に移動してきた前記ノズルの下端が進入し上面が前記ノズルの下端部の形状に沿ったテーパ面である洗浄溝と、前記スリットの延びる方向に並べて設けられ前記洗浄溝に洗浄液を吐出する複数のリンスノズルと、前記洗浄溝に連通し前記洗浄溝に吐出された洗浄液を排出する排出通路とを有し、前記ノズルの下端を洗浄するノズル洗浄部と、
前記ノズル洗浄部を前記ノズルに沿って移動させる移動機構と、
を備えた処理液塗布装置。 - 前記排出通路を吸引する排気系をさらに備えている、請求項1に記載の処理液塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004201855A JP3840239B2 (ja) | 2004-07-08 | 2004-07-08 | 処理液塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2004201855A JP3840239B2 (ja) | 2004-07-08 | 2004-07-08 | 処理液塗布装置 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP12660794A Division JP3645586B2 (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | 処理液塗布装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2004314077A JP2004314077A (ja) | 2004-11-11 |
JP3840239B2 true JP3840239B2 (ja) | 2006-11-01 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP6466846B2 (ja) * | 2013-09-12 | 2019-02-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | ノズル洗浄方法及び自動分析装置 |
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- 2004-07-08 JP JP2004201855A patent/JP3840239B2/ja not_active Expired - Lifetime
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