JP2002282760A - 液体供給ノズル及びその製造方法、処理装置ならびに処理方法 - Google Patents
液体供給ノズル及びその製造方法、処理装置ならびに処理方法Info
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- JP2002282760A JP2002282760A JP2001088340A JP2001088340A JP2002282760A JP 2002282760 A JP2002282760 A JP 2002282760A JP 2001088340 A JP2001088340 A JP 2001088340A JP 2001088340 A JP2001088340 A JP 2001088340A JP 2002282760 A JP2002282760 A JP 2002282760A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液体の供給を高品質で行なうことができる液
体供給ノズルを提供する。 【解決手段】 ノズル部７の先端部７ｆの側面７ｈ、７
ｉには、撥水性材料をコーティングして形成した撥水性
材料層７ｊ、７ｋが設けられている。撥水性材料として
は、例えばフッ素樹脂があげられる。また、ノズル部７
の先端部７ｆの長手方向の両端面７ｍにも、同様の撥水
性加工が施してある。ノズル部７の下端面７ｇには撥水
性材料層は設けられていないが、鏡面加工が施されてお
り、ノズル部７の基板Ｐに対する位置調整を容易にする
とともに、比較的レジストが付着しにくく、また付着し
ても比較的容易に洗浄できる。そのため、ノズルの汚れ
に起因したパーティクル発生や不均一性などの塗布品質
の不良は十分に抑制されている。
体供給ノズルを提供する。 【解決手段】 ノズル部７の先端部７ｆの側面７ｈ、７
ｉには、撥水性材料をコーティングして形成した撥水性
材料層７ｊ、７ｋが設けられている。撥水性材料として
は、例えばフッ素樹脂があげられる。また、ノズル部７
の先端部７ｆの長手方向の両端面７ｍにも、同様の撥水
性加工が施してある。ノズル部７の下端面７ｇには撥水
性材料層は設けられていないが、鏡面加工が施されてお
り、ノズル部７の基板Ｐに対する位置調整を容易にする
とともに、比較的レジストが付着しにくく、また付着し
ても比較的容易に洗浄できる。そのため、ノズルの汚れ
に起因したパーティクル発生や不均一性などの塗布品質
の不良は十分に抑制されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、液晶表示
パネルやプラズマ表示パネルなどの製造に用いるガラス
基板、半導体ウエハ、半導体製造装置用のマスク基板な
どの各種基板の表面に、フォトレジスト液、カラーレジ
スト液、現像液、超純水などの各種液体を供給するため
の液体供給ノズルとその製造方法、処理装置ならびに処
理方法に関する。
パネルやプラズマ表示パネルなどの製造に用いるガラス
基板、半導体ウエハ、半導体製造装置用のマスク基板な
どの各種基板の表面に、フォトレジスト液、カラーレジ
スト液、現像液、超純水などの各種液体を供給するため
の液体供給ノズルとその製造方法、処理装置ならびに処
理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、特開平７−７８７５０号公報に
は、処理液供給ノズルの先端部表面に超撥水性層を形成
したノズルが示されている。
は、処理液供給ノズルの先端部表面に超撥水性層を形成
したノズルが示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】例えば液晶表示パネル
の製造工程において、スリット状の開口を有するノズル
を用いてガラス基板（以下、単に基板と称する）に対し
てフォトレジスト液（以下、単にレジストと称する）を
吐出しながらノズルを移動させて塗布する場合において
は、ノズルと基板との間隔を極めて精密に調整しなけれ
ばならない。そのような間隔調整は、具体的には、基板
とノズルの先端との間隔に隙間ゲージを挟み込んで間隔
の大きさをみることで行う。しかるにこのような場合、
上記公報に記載のようにノズルの先端部に超撥水性層を
形成してあるものを用いると、間隔調整時に隙間ゲージ
とノズルの先端部とがこすれて超撥水性層がはがれてし
まうことがある。そうなると、ノズルの先端部において
超撥水性層がある部分とない部分とができてしまうの
で、その部分で塗布特性が異なってしまい、かすれて塗
布されてしまったり、塗布したレジストの膜にスジ状の
ムラができたりして、液体の供給の品質が劣るという問
題点がある。このようなムラは、塗布後に基板を回転さ
せて塗布膜の厚みを調整する操作を行なっても残ってし
まうことがあり、解消が望まれていた。
の製造工程において、スリット状の開口を有するノズル
を用いてガラス基板（以下、単に基板と称する）に対し
てフォトレジスト液（以下、単にレジストと称する）を
吐出しながらノズルを移動させて塗布する場合において
は、ノズルと基板との間隔を極めて精密に調整しなけれ
ばならない。そのような間隔調整は、具体的には、基板
とノズルの先端との間隔に隙間ゲージを挟み込んで間隔
の大きさをみることで行う。しかるにこのような場合、
上記公報に記載のようにノズルの先端部に超撥水性層を
形成してあるものを用いると、間隔調整時に隙間ゲージ
とノズルの先端部とがこすれて超撥水性層がはがれてし
まうことがある。そうなると、ノズルの先端部において
超撥水性層がある部分とない部分とができてしまうの
で、その部分で塗布特性が異なってしまい、かすれて塗
布されてしまったり、塗布したレジストの膜にスジ状の
ムラができたりして、液体の供給の品質が劣るという問
題点がある。このようなムラは、塗布後に基板を回転さ
せて塗布膜の厚みを調整する操作を行なっても残ってし
まうことがあり、解消が望まれていた。
【０００４】本発明はそのような問題点がなく、液体の
供給が高品質でできる液体供給ノズルとその製造方法、
処理装置ならびに処理方法を提供するものである。
供給が高品質でできる液体供給ノズルとその製造方法、
処理装置ならびに処理方法を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、被処
理体の表面に液体供給ノズルの先端部を臨ませて、液体
供給ノズル先端部に形成した吐出口から液体を吐出しつ
つ相対移動させて被処理体の表面に液体を供給する液体
供給ノズルにおいて、前記液体供給ノズルの先端部の吐
出口から所定の距離だけ離間した表面に撥水性加工を施
したことを特徴とする。
理体の表面に液体供給ノズルの先端部を臨ませて、液体
供給ノズル先端部に形成した吐出口から液体を吐出しつ
つ相対移動させて被処理体の表面に液体を供給する液体
供給ノズルにおいて、前記液体供給ノズルの先端部の吐
出口から所定の距離だけ離間した表面に撥水性加工を施
したことを特徴とする。
【０００６】請求項１１の発明は、被処理体の表面に液
体供給ノズルの先端部を臨ませて、液体供給ノズル先端
部に形成した吐出口から液体を吐出しつつ相対移動させ
て被処理体の表面に液体を供給する液体供給ノズルの製
造方法において、ノズル本体の先端部の端面に吐出口を
形成する工程と、ノズル本体の先端部に撥水性層を形成
する工程と、前記端面の撥水性層を除去する工程とを備
えたことを特徴とする液体供給ノズルの製造方法であ
る。
体供給ノズルの先端部を臨ませて、液体供給ノズル先端
部に形成した吐出口から液体を吐出しつつ相対移動させ
て被処理体の表面に液体を供給する液体供給ノズルの製
造方法において、ノズル本体の先端部の端面に吐出口を
形成する工程と、ノズル本体の先端部に撥水性層を形成
する工程と、前記端面の撥水性層を除去する工程とを備
えたことを特徴とする液体供給ノズルの製造方法であ
る。
【０００７】請求項１２の発明は、請求項１乃至１０の
いずれかに記載の液体供給ノズルと、基板を保持する基
板保持手段と、前記液体供給ノズルと前記基板とを相対
移動させる移動手段と、前記液体供給ノズルに液体を供
給する液体供給源と、を備えたことを特徴とする、液体
供給ノズルを用いた処理装置である。
いずれかに記載の液体供給ノズルと、基板を保持する基
板保持手段と、前記液体供給ノズルと前記基板とを相対
移動させる移動手段と、前記液体供給ノズルに液体を供
給する液体供給源と、を備えたことを特徴とする、液体
供給ノズルを用いた処理装置である。
【０００８】請求項１３の発明は、基板保持部に保持し
た被処理体の表面に液体供給ノズルの先端部を臨ませ
て、液体供給ノズル先端部に形成した吐出口から液体を
吐出しつつ相対移動させて被処理体の表面に液体を供給
する処理方法において、先端部の下面に吐出口を形成
し、かつ前記下面に隣接する側面に撥水性層を形成した
液体供給ノズルを移動機構に取り付ける工程と、基板保
持部に基板を保持させる工程と、前記基板保持部が保持
する基板の上方に前記液体供給ノズルを移動させる工程
と、前記液体供給ノズルの先端部の下面と前記基板保持
部が保持する基板の上面との間隔をゲージを用いて所望
の値に調整する工程と、前記液体供給ノズルの吐出口か
ら液体を吐出しながら前記移動機構によって前記液体供
給ノズルを前記基板表面に沿って移動させ、液体を基板
表面に供給する工程と、前記液体供給ノズルを前記基板
の上方から退避させる工程と、を備えたことを特徴とす
る処理方法である。
た被処理体の表面に液体供給ノズルの先端部を臨ませ
て、液体供給ノズル先端部に形成した吐出口から液体を
吐出しつつ相対移動させて被処理体の表面に液体を供給
する処理方法において、先端部の下面に吐出口を形成
し、かつ前記下面に隣接する側面に撥水性層を形成した
液体供給ノズルを移動機構に取り付ける工程と、基板保
持部に基板を保持させる工程と、前記基板保持部が保持
する基板の上方に前記液体供給ノズルを移動させる工程
と、前記液体供給ノズルの先端部の下面と前記基板保持
部が保持する基板の上面との間隔をゲージを用いて所望
の値に調整する工程と、前記液体供給ノズルの吐出口か
ら液体を吐出しながら前記移動機構によって前記液体供
給ノズルを前記基板表面に沿って移動させ、液体を基板
表面に供給する工程と、前記液体供給ノズルを前記基板
の上方から退避させる工程と、を備えたことを特徴とす
る処理方法である。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の一実施例の液体供給ノズ
ルを使用した処理装置であるレジスト塗布装置を図３乃
至図５に示す。このレジスト塗布装置は、処理部１と、
レジスト圧送部２と、モータ機構２６とを主に備えてい
る。このレジスト塗布装置では、図４に示すような矩形
のガラス基板Ｐに対してレジストが塗布され、コーティ
ング処理が行われる。
ルを使用した処理装置であるレジスト塗布装置を図３乃
至図５に示す。このレジスト塗布装置は、処理部１と、
レジスト圧送部２と、モータ機構２６とを主に備えてい
る。このレジスト塗布装置では、図４に示すような矩形
のガラス基板Ｐに対してレジストが塗布され、コーティ
ング処理が行われる。
【００１０】処理部１は、基板Ｐを真空吸着口により吸
着し水平に保持し得る基板保持部４と、基板保持部４に
保持された基板Ｐに対してレジストを供給するレジスト
供給部５とを備えている。基板保持部４は回転自在であ
り、モータ機構２６によって水平回転させられるように
なっている。基板保持部４の周囲には、回転時のレジス
トの飛散を防止するためのカップ６が配置されている。
着し水平に保持し得る基板保持部４と、基板保持部４に
保持された基板Ｐに対してレジストを供給するレジスト
供給部５とを備えている。基板保持部４は回転自在であ
り、モータ機構２６によって水平回転させられるように
なっている。基板保持部４の周囲には、回転時のレジス
トの飛散を防止するためのカップ６が配置されている。
【００１１】レジスト供給部５は、図４に示すように、
基板Ｐの上面に沿って基板Ｐの短辺方向（図３の奥行き
方向）に延びるノズル部７を有している。ノズル部７
は、基板の短辺長さよりも若干短い長さの液吐出口であ
るスリット２０を備えており、ノズル支持アーム８の下
端に取り付けられている。ノズル支持アーム８の上端部
は、移動フレーム９に上下移動可能に支持されている。
移動フレーム９は、移動ガイド１０に移動可能に支持さ
れている。移動ガイド１０は、基板Ｐの長手方向（図１
の左右方向）に沿って延び、移動フレーム９は移動ガイ
ド１０に沿った水平方向に移動可能となっている。これ
らよりなる移動機構によって、ノズル部７は、基板Ｐの
長手方向に基板Ｐの上面に沿って移動して、基板Ｐのほ
ぼ全面、すなわち図４に示すように、基板Ｐの縁に沿っ
た若干の領域を残した所定の領域に対してレジストを供
給し得る。このノズル部７については後に詳述する。
基板Ｐの上面に沿って基板Ｐの短辺方向（図３の奥行き
方向）に延びるノズル部７を有している。ノズル部７
は、基板の短辺長さよりも若干短い長さの液吐出口であ
るスリット２０を備えており、ノズル支持アーム８の下
端に取り付けられている。ノズル支持アーム８の上端部
は、移動フレーム９に上下移動可能に支持されている。
移動フレーム９は、移動ガイド１０に移動可能に支持さ
れている。移動ガイド１０は、基板Ｐの長手方向（図１
の左右方向）に沿って延び、移動フレーム９は移動ガイ
ド１０に沿った水平方向に移動可能となっている。これ
らよりなる移動機構によって、ノズル部７は、基板Ｐの
長手方向に基板Ｐの上面に沿って移動して、基板Ｐのほ
ぼ全面、すなわち図４に示すように、基板Ｐの縁に沿っ
た若干の領域を残した所定の領域に対してレジストを供
給し得る。このノズル部７については後に詳述する。
【００１２】レジスト圧送部２は、図３に示すように、
レジスト液を貯溜したポリタンク１２を収納し、かつ内
部が気密に封止された加圧タンク１１を有している。加
圧タンク１１の上部には、図示しない窒素ガス源から加
圧された窒素ガスが供給される加圧配管１３が開口して
いる。加圧配管１３の途中には、給排用三方弁１４及び
レギュレータ１５が加圧タンク１１側からこの順に配置
されている。なお、三方弁１４は、窒素ガスを加圧タン
ク１１に供給するかまたは他に排気するかを選択でき
る。一端がポリタンク１２の底面近傍に達するレジスト
液供給配管１６は、他端がノズル部７に接続されてい
る。レジスト液供給配管１６の途中には、流量計１７及
びレジスト液供給弁１８がポリタンク１２側からこの順
で配置されている。
レジスト液を貯溜したポリタンク１２を収納し、かつ内
部が気密に封止された加圧タンク１１を有している。加
圧タンク１１の上部には、図示しない窒素ガス源から加
圧された窒素ガスが供給される加圧配管１３が開口して
いる。加圧配管１３の途中には、給排用三方弁１４及び
レギュレータ１５が加圧タンク１１側からこの順に配置
されている。なお、三方弁１４は、窒素ガスを加圧タン
ク１１に供給するかまたは他に排気するかを選択でき
る。一端がポリタンク１２の底面近傍に達するレジスト
液供給配管１６は、他端がノズル部７に接続されてい
る。レジスト液供給配管１６の途中には、流量計１７及
びレジスト液供給弁１８がポリタンク１２側からこの順
で配置されている。
【００１３】図１は本発明に係る液体供給ノズルである
ノズル部７の断面図、図２は同側面図である。このノズ
ル部７は、ノズル本体７ａ，７ｂの間にスペーサ７ｃを
挟み込んで図示しないボルト等の締着手段により締め付
けて中空状に構成されている。ノズル本体７ａ，７ｂに
は、厚みが先端ほど薄くなる下向きの突部７ｄ，７ｅが
突出形成されている。これら両方の突部７ｄ，７ｅが合
わさって、ノズル部７の下部において下に向って細くな
る先端部７ｆが形成される。突部７ｄ，７ｅの間には、
スペーサ７ｃの厚みだけのスリット２０が形成されて先
端部７ｆの下端面７ｇに開口している。ノズル部７内部
には、スリット２０と連通するように中空でかつスリッ
ト２０と比べて大容積の液溜め３１が形成されている。
この液溜め３１は、レジスト供給配管１６（後述）から
供給されたレジスト液をノズル部７の長手方向（図３の
奥行き方向）に均一に拡散させるためのものである。ま
た、先端部７ｆは、図２に示すように、ノズル部７の長
手方向の両端側においても先端ほどその長さが短くなる
ように形成されている。
ノズル部７の断面図、図２は同側面図である。このノズ
ル部７は、ノズル本体７ａ，７ｂの間にスペーサ７ｃを
挟み込んで図示しないボルト等の締着手段により締め付
けて中空状に構成されている。ノズル本体７ａ，７ｂに
は、厚みが先端ほど薄くなる下向きの突部７ｄ，７ｅが
突出形成されている。これら両方の突部７ｄ，７ｅが合
わさって、ノズル部７の下部において下に向って細くな
る先端部７ｆが形成される。突部７ｄ，７ｅの間には、
スペーサ７ｃの厚みだけのスリット２０が形成されて先
端部７ｆの下端面７ｇに開口している。ノズル部７内部
には、スリット２０と連通するように中空でかつスリッ
ト２０と比べて大容積の液溜め３１が形成されている。
この液溜め３１は、レジスト供給配管１６（後述）から
供給されたレジスト液をノズル部７の長手方向（図３の
奥行き方向）に均一に拡散させるためのものである。ま
た、先端部７ｆは、図２に示すように、ノズル部７の長
手方向の両端側においても先端ほどその長さが短くなる
ように形成されている。
【００１４】ノズル部７の先端部７ｆの詳細な構成につ
いて説明すると、先端部７ｆの側面７ｈ、７ｉには、撥
水性加工が施してある。具体的には、この側面７ｈ、７
ｉには、撥水性材料をコーティングして形成した撥水性
材料層７ｊ、７ｋが設けられている。撥水性材料として
は、例えばフッ素樹脂があげられる。また、ノズル部７
の先端部７ｆの長手方向の両端面７ｍにも、同様の撥水
性加工が施してある。
いて説明すると、先端部７ｆの側面７ｈ、７ｉには、撥
水性加工が施してある。具体的には、この側面７ｈ、７
ｉには、撥水性材料をコーティングして形成した撥水性
材料層７ｊ、７ｋが設けられている。撥水性材料として
は、例えばフッ素樹脂があげられる。また、ノズル部７
の先端部７ｆの長手方向の両端面７ｍにも、同様の撥水
性加工が施してある。
【００１５】さて、上記レジスト塗布装置を使用する方
法について以下に説明する。まず塗布処理時におけるノ
ズル部７と基板との間隔を調整する。すなわち、まず始
めに基板保持部４に基板を搭載する。次に搭載した基板
に対して、ノズル部７を基板面上の塗布開始位置へ移動
させ、さらにノズル部７を基板に対して下降させて、ノ
ズル支持アーム８や移動フレーム９などの移動機構の状
態を、塗布処理実行時の状態とする。そして、この状態
で、ノズル部７の下端面７ｇと基板表面との間隔を調整
する。この調整作業は、ノズル部７の下端面７ｇと基板
表面との間に隙間ゲージを差し込んでその大きさを測
り、当該大きさが所定の大きさになるように、ノズル支
持アーム８の高さを機械的または電気的に移動させる
か、あるいはノズル支持アーム８へのノズル部７の取り
付け位置を移動させるか、またあるいは基板保持部４の
高さを微調整することによってなされる。
法について以下に説明する。まず塗布処理時におけるノ
ズル部７と基板との間隔を調整する。すなわち、まず始
めに基板保持部４に基板を搭載する。次に搭載した基板
に対して、ノズル部７を基板面上の塗布開始位置へ移動
させ、さらにノズル部７を基板に対して下降させて、ノ
ズル支持アーム８や移動フレーム９などの移動機構の状
態を、塗布処理実行時の状態とする。そして、この状態
で、ノズル部７の下端面７ｇと基板表面との間隔を調整
する。この調整作業は、ノズル部７の下端面７ｇと基板
表面との間に隙間ゲージを差し込んでその大きさを測
り、当該大きさが所定の大きさになるように、ノズル支
持アーム８の高さを機械的または電気的に移動させる
か、あるいはノズル支持アーム８へのノズル部７の取り
付け位置を移動させるか、またあるいは基板保持部４の
高さを微調整することによってなされる。
【００１６】この調整の際、操作の仕方によっては、差
し込んだ隙間ゲージがノズル部７の下端面７ｇにこすれ
てしまうようなことが起こりがちであるが、このノズル
部７では下端面７ｇは金属の表面自体が露出しており、
フッ素樹脂のコーティングなどの撥水性樹脂材料層を設
けていないので、ノズル部７の下端面７ｇが金属製の隙
間ゲージとこすれても、撥水性材料層がはがれてしまう
といった不都合が生じるおそれはなく、その後の処理実
行時においてそのはがれが原因での塗布ムラが生じるよ
うなこともない。
し込んだ隙間ゲージがノズル部７の下端面７ｇにこすれ
てしまうようなことが起こりがちであるが、このノズル
部７では下端面７ｇは金属の表面自体が露出しており、
フッ素樹脂のコーティングなどの撥水性樹脂材料層を設
けていないので、ノズル部７の下端面７ｇが金属製の隙
間ゲージとこすれても、撥水性材料層がはがれてしまう
といった不都合が生じるおそれはなく、その後の処理実
行時においてそのはがれが原因での塗布ムラが生じるよ
うなこともない。
【００１７】さて、この調整作業の後、ノズル部７のス
リット２０からレジストを吐出しながら移動機構によっ
てノズル部７を基板表面に沿って移動させ、レジストを
基板のほぼ全面に供給して塗布する。そして、かかる供
給が終ると、ノズル部７は基板の上方からカップ６の外
側まで移動して退避する。この際、ノズル部７の先端部
７ｆの側面７ｈ、７ｉには、撥水性材料層７ｊ、７ｋが
設けられ、長手方向の両端面７ｍにも同様の撥水性加工
が施してあるので、先端部７ｆの側面７ｈ、７ｉ、両端
面７ｍはレジストをはじくようになっており、レジスト
等による汚れが付着しにくく、また図示しないノズル洗
浄機構によって容易に清浄に洗浄できる。また、下端面
７ｇには撥水性材料層は設けられていないが、鏡面加工
が施されており、比較的レジストが付着しにくく、また
付着しても比較的容易に洗浄できる。そのため、ノズル
の汚れに起因したパーティクル発生や不均一性などの塗
布品質の不良は十分に抑制されている。
リット２０からレジストを吐出しながら移動機構によっ
てノズル部７を基板表面に沿って移動させ、レジストを
基板のほぼ全面に供給して塗布する。そして、かかる供
給が終ると、ノズル部７は基板の上方からカップ６の外
側まで移動して退避する。この際、ノズル部７の先端部
７ｆの側面７ｈ、７ｉには、撥水性材料層７ｊ、７ｋが
設けられ、長手方向の両端面７ｍにも同様の撥水性加工
が施してあるので、先端部７ｆの側面７ｈ、７ｉ、両端
面７ｍはレジストをはじくようになっており、レジスト
等による汚れが付着しにくく、また図示しないノズル洗
浄機構によって容易に清浄に洗浄できる。また、下端面
７ｇには撥水性材料層は設けられていないが、鏡面加工
が施されており、比較的レジストが付着しにくく、また
付着しても比較的容易に洗浄できる。そのため、ノズル
の汚れに起因したパーティクル発生や不均一性などの塗
布品質の不良は十分に抑制されている。
【００１８】そしてその後、基板保持部４がモータ機構
２６によって所定時間回転駆動されて、基板上のレジス
トを所望の膜厚とすべく、余剰のレジストを振り切り除
去する。所定時間の回転が終了すると、基板保持部４は
停止し、基板は搬出される。
２６によって所定時間回転駆動されて、基板上のレジス
トを所望の膜厚とすべく、余剰のレジストを振り切り除
去する。所定時間の回転が終了すると、基板保持部４は
停止し、基板は搬出される。
【００１９】なお、上記の調整作業は、すべての基板の
塗布ごと行なう必要はなく、例えばノズル部７を洗浄の
ために取り外して再度取り付けた後の最初の１枚を塗布
する前、あるいは基板を所定枚数塗布するたびごと（例
えば１０００枚塗布するたびごと）に、行なえばよい。
塗布ごと行なう必要はなく、例えばノズル部７を洗浄の
ために取り外して再度取り付けた後の最初の１枚を塗布
する前、あるいは基板を所定枚数塗布するたびごと（例
えば１０００枚塗布するたびごと）に、行なえばよい。
【００２０】また、上記実施形態においては、レジスト
圧送部２において窒素ガス源を用いて窒素ガスによる加
圧でレジストを圧送していたが、これに限らず、例えば
エアー源を用いたエアー加圧によってもよいし、ベロー
ズポンプなど各種ポンプを用いてもよい。また、塗布す
べき液体も、フォトレジスト液のような感光性樹脂に限
らず、非感光性樹脂などその他の液体であっても本発明
は同様に適用できるが、特にフォトレジスト液やカラー
レジスト液などのように粘性が高い樹脂液であって、ノ
ズルへの付着を放置するとパーティクルの原因になりや
すい液体の塗布に適用すると効果が大きく適している。
圧送部２において窒素ガス源を用いて窒素ガスによる加
圧でレジストを圧送していたが、これに限らず、例えば
エアー源を用いたエアー加圧によってもよいし、ベロー
ズポンプなど各種ポンプを用いてもよい。また、塗布す
べき液体も、フォトレジスト液のような感光性樹脂に限
らず、非感光性樹脂などその他の液体であっても本発明
は同様に適用できるが、特にフォトレジスト液やカラー
レジスト液などのように粘性が高い樹脂液であって、ノ
ズルへの付着を放置するとパーティクルの原因になりや
すい液体の塗布に適用すると効果が大きく適している。
【００２１】次にノズル部７の製造方法について説明す
る。まず、図６のように、金属製のノズル本体７ａ，７
ｂの間にスペーサ７ｃを挟み込んで、ボルト等の締着手
段により締め付け固定する。次に、その先端部７ｆの下
端面７ｇを鏡面加工を施す。次に、先端部７ｆの外面に
対して撥水性加工を施す。ここでは、溶解したフッ素樹
脂の中に先端部７を浸すか、あるいはフッ素樹脂を吹き
付けて塗装し、図７に示す撥水性材料層７ｊ，７ｋ，７
ｎを先端部７ｆの外面全体に形成する。つぎに、下端面
７ｇにできているフッ素樹脂層７ｎを削り取るなどして
除去して図１に示すノズル部７が完成する。なお、上記
の製造工程において、フッ素樹脂で撥水性材料層を形成
する際、スリット２０の内部にフッ素樹脂が侵入するよ
うなことがあれば、すぐに拭き取るなどの方法で除去し
ておく。
る。まず、図６のように、金属製のノズル本体７ａ，７
ｂの間にスペーサ７ｃを挟み込んで、ボルト等の締着手
段により締め付け固定する。次に、その先端部７ｆの下
端面７ｇを鏡面加工を施す。次に、先端部７ｆの外面に
対して撥水性加工を施す。ここでは、溶解したフッ素樹
脂の中に先端部７を浸すか、あるいはフッ素樹脂を吹き
付けて塗装し、図７に示す撥水性材料層７ｊ，７ｋ，７
ｎを先端部７ｆの外面全体に形成する。つぎに、下端面
７ｇにできているフッ素樹脂層７ｎを削り取るなどして
除去して図１に示すノズル部７が完成する。なお、上記
の製造工程において、フッ素樹脂で撥水性材料層を形成
する際、スリット２０の内部にフッ素樹脂が侵入するよ
うなことがあれば、すぐに拭き取るなどの方法で除去し
ておく。
【００２２】なお、下端面７ｇには、レジストが付着し
にくいほうが好ましく、その目的のために、鏡面加工以
外の他の付着阻止加工であって、金属製の隙間ゲージと
の接触に対して十分に強い、例えば金属のメッキ等を施
す構成を採用してもよい。
にくいほうが好ましく、その目的のために、鏡面加工以
外の他の付着阻止加工であって、金属製の隙間ゲージと
の接触に対して十分に強い、例えば金属のメッキ等を施
す構成を採用してもよい。
【００２３】
【発明の効果】本発明にかかる液体供給ノズルによれ
ば、また液体供給ノズルを用いた処理装置によれば、ま
た処理方法によれば、基板に対して液体を高品質で供給
することができる。また本発明にかかる液体供給ノズル
の製造方法によれば、液体を高品質で供給できる液体供
給ノズルを製造する事ができる。
ば、また液体供給ノズルを用いた処理装置によれば、ま
た処理方法によれば、基板に対して液体を高品質で供給
することができる。また本発明にかかる液体供給ノズル
の製造方法によれば、液体を高品質で供給できる液体供
給ノズルを製造する事ができる。
【図１】本発明に係る液体供給ノズルの要部断面図であ
る。
る。
【図２】本発明に係る液体供給ノズルの正面図である。
【図３】本発明に係る液体供給ノズルを用いた処理装置
の概略構成を示す模式的断面図である。
の概略構成を示す模式的断面図である。
【図４】本発明に係る液体供給ノズルを用いた処理装置
の処理状態を示す斜視図である。
の処理状態を示す斜視図である。
【図５】本発明に係る液体供給ノズルの処理状態を示す
断面図である。
断面図である。
【図６】本発明に係る液体供給ノズルの製造過程を示す
断面図である。
断面図である。
【図７】本発明に係る液体供給ノズルの製造過程を示す
断面図である。
断面図である。
Ｐ・・・基板 １・・・ローラコンベア ２・・・剥離処理室 ７・・・ノズル部 ７ｆ・・・先端部 ７ｈ、７ｉ・・・側面 ７ｊ、７ｋ・・・撥水性材料層 ２０・・・スリット
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０５Ｄ 3/00 Ｂ０５Ｄ 3/00 Ｂ ５Ｆ０４６ Ｄ 7/24 ３０１ 7/24 ３０１Ｚ Ｇ０３Ｆ 7/16 ５０２ Ｇ０３Ｆ 7/16 ５０２ Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｃ (72)発明者 佐藤 隆行 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA18 AB16 AB20 EA05 4D075 AC79 AC84 AC88 AC93 BB02Z CA36 CA48 CB05 DA06 DA31 DA34 DA35 DB01 DB13 DC19 DC21 DC22 DC24 EA05 EA45 EB16 4F033 AA01 BA03 CA05 DA01 EA01 NA01 4F041 AA05 AA06 AB01 BA11 BA12 BA13 BA17 BA21 4F042 AA06 AA07 BA08 DD12 DD17 DF09 DF28 DF32 EB09 EB17 EB18 EB23 ED03 ED05 5F046 LA04
Claims (13)
- 【請求項１】 被処理体の表面に液体供給ノズルの先端
部を臨ませて、液体供給ノズル先端部に形成した吐出口
から液体を吐出しつつ相対移動させて被処理体の表面に
液体を供給する液体供給ノズルにおいて、 前記液体供給ノズルの先端部の吐出口から所定の距離だ
け離間した表面に撥水性加工を施したことを特徴とする
液体供給ノズル。 - 【請求項２】 前記液体供給ノズルの先端部の吐出口か
ら所定の距離内の表面は、先端部の素材が露出している
ことを特徴とする請求項１記載の液体供給ノズル。 - 【請求項３】 前記液体供給ノズルの先端部の吐出口か
ら所定の距離内の表面は、先端部の素材が鏡面加工され
ていることを特徴とする請求項２記載の液体供給ノズ
ル。 - 【請求項４】 前記素材が金属であることを特徴とする
請求項３記載の液体供給ノズル。 - 【請求項５】 前記吐出口がスリット状に形成され、ま
たは複数の小吐出口の集合により形成されていることを
特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の液体供給
ノズル。 - 【請求項６】 前記先端部は、 前記吐出口が形成される平坦な先端面と、当該先端面に
接する側面とを備え、 前記側面に撥水性加工を施したことを特徴とする請求項
１乃至５のいずれかに記載の液体供給ノズル。 - 【請求項７】 前記液体は樹脂であることを特徴とする
請求項１乃至６のいずれかに記載の液体供給ノズル。 - 【請求項８】 前記液体供給ノズルの先端部の吐出口か
ら上記所定の距離内の表面には撥水性加工を施さないこ
とを特徴とする請求項１記載の液体供給ノズル。 - 【請求項９】 前記液体供給ノズルの先端部の吐出口か
ら上記所定の距離内の表面には、撥水性樹脂材料層を形
成せず、金属との接触に対して十分に強い他の付着阻止
加工を施したことをを特徴とする請求項８記載の液体供
給ノズル。 - 【請求項１０】 前記撥水性加工は、撥水性樹脂材料層
の形成であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれ
かに記載の液体供給ノズル。 - 【請求項１１】 被処理体の表面に液体供給ノズルの先
端部を臨ませて、液体供給ノズル先端部に形成した吐出
口から液体を吐出しつつ相対移動させて被処理体の表面
に液体を供給する液体供給ノズルの製造方法において、 ノズル本体の先端部の端面に吐出口を形成する工程と、 ノズル本体の先端部に撥水性層を形成する工程と、 前記端面の撥水性層を除去する工程とを備えたことを特
徴とする液体供給ノズルの製造方法。 - 【請求項１２】 請求項１乃至１０のいずれかに記載の
液体供給ノズルと、基板を保持する基板保持手段と、前
記液体供給ノズルと前記基板とを相対移動させる移動手
段と、前記液体供給ノズルに液体を供給する液体供給源
と、を備えたことを特徴とする、液体供給ノズルを用い
た処理装置。 - 【請求項１３】 基板保持部に保持した被処理体の表面
に液体供給ノズルの先端部を臨ませて、液体供給ノズル
先端部に形成した吐出口から液体を吐出しつつ相対移動
させて被処理体の表面に液体を供給する処理方法におい
て、 先端部の下面に吐出口を形成し、かつ前記下面に隣接す
る側面に撥水性層を形成した液体供給ノズルを移動機構
に取り付ける工程と、 基板保持部に基板を保持させる工程と、 前記基板保持部が保持する基板の上方に前記液体供給ノ
ズルを移動させる工程と、 前記液体供給ノズルの先端部の下面と前記基板保持部が
保持する基板の上面との間隔をゲージを用いて所望の値
に調整する工程と、 前記液体供給ノズルの吐出口から液体を吐出しながら前
記移動機構によって前記液体供給ノズルを前記基板表面
に沿って移動させ、液体を基板表面に供給する工程と、 前記液体供給ノズルを前記基板の上方から退避させる工
程と、 を備えたことを特徴とする処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001088340A JP2002282760A (ja) | 2001-03-26 | 2001-03-26 | 液体供給ノズル及びその製造方法、処理装置ならびに処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001088340A JP2002282760A (ja) | 2001-03-26 | 2001-03-26 | 液体供給ノズル及びその製造方法、処理装置ならびに処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002282760A true JP2002282760A (ja) | 2002-10-02 |
Family
ID=18943451
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001088340A Pending JP2002282760A (ja) | 2001-03-26 | 2001-03-26 | 液体供給ノズル及びその製造方法、処理装置ならびに処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002282760A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006108287A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-04-20 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP2006135294A (ja) * | 2004-10-07 | 2006-05-25 | Tokyo Electron Ltd | 塗布膜形成装置、及び塗布膜形成方法 |
| JP2008119610A (ja) * | 2006-11-13 | 2008-05-29 | Yokogawa Electric Corp | 液体供給装置 |
| US7416758B2 (en) | 2004-12-31 | 2008-08-26 | Lg Display Co., Ltd. | Slit coater |
| US7449069B2 (en) | 2004-12-28 | 2008-11-11 | Lg Display Co., Ltd. | Slit coater having apparatus for supplying a coating solution |
| US7469639B2 (en) | 2004-11-04 | 2008-12-30 | Lg. Display Co., Ltd. | Printing device and method of coating a printing roll and fabricating a LCD device using the printing device |
| US7647884B2 (en) | 2004-12-31 | 2010-01-19 | Lg. Display Co., Ltd. | Slit coater with a standby unit for a nozzle and a coating method using the same |
| US7914843B2 (en) | 2004-12-31 | 2011-03-29 | Lg Display Co., Ltd. | Slit coater having pre-applying unit and coating method using the same |
| CN103487993A (zh) * | 2013-10-17 | 2014-01-01 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种配向液喷嘴 |
| CN106773358A (zh) * | 2017-01-22 | 2017-05-31 | 武汉华星光电技术有限公司 | 封框胶的涂布方法及狭缝喷头 |
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-
2001
- 2001-03-26 JP JP2001088340A patent/JP2002282760A/ja active Pending
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| KR102161899B1 (ko) * | 2018-12-07 | 2020-10-05 | 한국기술교육대학교 산학협력단 | 슬롯 다이 헤드 |
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