JP3040938B2 - 液晶用基板及びカラーフィルター用基板のラビング処理後の洗浄方法 - Google Patents

液晶用基板及びカラーフィルター用基板のラビング処理後の洗浄方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶用基板及びカ
ラーフィルター用基板のラビング処理後の洗浄方法、詳
しくは液晶用表示基板の製造工程における表示基板及び
カラーフィルター用基板の配向膜形成プロセスにおい
て、これら基板の表面にポリイミドなどの高分子膜を塗
布し、その膜面をラビング処理した後に、この基板表面
を洗浄むらを生じさせることなく洗浄する方法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶用表示基板のラビング処理後の洗浄
方法としては、例えば特開平７−６４０９１のように洗
浄開始前に純水を基板表面全体に層状に流動化させ、全
体を覆うようにして処理を行い、洗浄むらを抑制する方
法が存在している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、洗浄開始前
に基板表面を純水にて均一に覆うようにしても、洗浄時
のむらが消えずにそのまま残り、この結果、配向膜の配
向性能が変化し、製造されたＬＣＤの表示性能に悪影響
を及ぼすことがあり、程度によっては不良となってしま
う事もしばしば起こった。これは、視野角の広い特性を
持った配向膜や、光の透過性の良い配向膜を使用した場
合特に起こりやすく、配向膜表面に付着した純水による
加水分解反応がその原因の一つであると言われている。
この発明は、以上のような問題点を解決するためになさ
れたものであり、液晶用基板やカラーフィルター用基板
のラビング処理後、純水を使用してラビング処理後の基
板表面を洗浄する場合に、基板の表面における洗浄むら
の発生を防止できる洗浄方法を提供せんとするものであ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この発明は、液晶用ある
いはカラーフィルター用基板の表面に形成させた高分子
膜の膜面をラビング処理した後に、このラビング処理後
の基板の表面を洗浄する洗浄方法において、前段階とし
てイソプロピルアルコール（ＣＨ3 ＣＨ（ＯＨ）Ｃ
Ｈ3 ）又はイソプロピルアルコールの水溶液を前記基板
表面に供給し、これら液体によって該基板表面全体を被
覆せしめ、しかる後に純水の噴射による洗浄又は純水に
よる超音波洗浄を行うことにより、洗浄むらを生じさせ
ることなくラビング処理後の基板を洗浄せんとするもの
である。
【０００５】
【発明の実施の形態】図面に基づいてこの発明の好適な
実施態様を説明する。図１はこの発明に係る洗浄方法を
実施する為の洗浄装置の一例の説明図、図２はその要部
の斜視図である。
【０００６】この洗浄装置は前段処理室４、超音波洗浄
室９、液切り室１４が順次連設されて構成されている。
又、これら各室間には基板１を搬送する為の搬送用ロー
ラー３が一列に配設されており、これら搬送用ローラー
３群により基板搬送路が構成されている。又、前段処理
室４の搬送用ローラー３の上方にはスプレー管２が配設
されている。このスプレー管２は、図２に示す通り、多
数のノズル１７を有する円筒状の管であり、このノズル
１７からは基板１に向ってイソプロピルアルコール（Ｃ
Ｈ3 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ3 ）あるいはこのイソプロピルア
ルコールの水溶液１５がシャワー状に噴射される様にな
っている。なお、図中５はイソプロピルアルコールある
いはその水溶液を蓄えるタンク、７はこれら液体を揚水
加圧する為のポンプである。なお、イソプロピルアルコ
ールの水溶液の場合には、イソプロピルアルコールを１
０ｖｏｌ％以上含んでいることが望ましい。
【０００７】この様に、イソプロピルアルコールあるい
はその水溶液１５が基板１に噴射されると、基板１の表
面は図２に示す様に、これら液体によって覆われ、その
ままの状態で搬送用ローラー３によって超音波洗浄室９
に搬送され、超音波洗浄される。図中１０は超音波洗浄
の際用いられる純水１６を蓄える純水用タンク、１１は
この純水１６を揚水加圧する為のポンプであり、純水１
６はこのポンプ１１によって搬送用ローラー３の上方に
位置せしめられて超音波振動子８に供給される様になっ
ている。
【０００８】この超音波洗浄室９において超音波洗浄が
行われた基板１は、水切り室１４に搬送され、搬送用ロ
ーラー３の上下に設けられたエアーナイフ１２，１３に
よって液切りが行われ、次工程へと搬送される。
【０００９】本発明においては、ラビング処理後の基板
１は、その表面に純水が付着してしまう前に、あらかじ
めその表面全体がイソプロピルアルコールあるいはその
水溶液によって被覆される為、次工程である純水の噴射
による洗浄又は純水による超音波洗浄工程において、基
板表面で加水分解反応が発生することはない。従って、
これを原因とする洗浄むらも生成せず、ラビング処理に
よって付着した汚れを精度良く除去することができるの
である。図３はこの実施例及び比較例の実験結果を示し
たものである。
【００１０】
【発明の効果】この発明は上述の通り、液晶基板及びカ
ラーフィルター基板のラビング処理後の洗浄において、
純水の付着を原因とする加水分解反応などによる洗浄む
らの発生を防止し、品質の向上を図り、不良品の発生を
防止できる極めて実用的な効果を有する。
【００１１】
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明に係る洗浄方法を実施する為の洗浄装
置の説明図。
【図２】その要部の斜視図。
【図３】この発明に係る方法及び比較例の実施結果を表
にした説明図。
【符号の説明】
１ 基板 ２ スプレー管 ３ 搬送用ローラー ４ 前段処理室 ５ タンク ７ ポンプ ８ 超音波振動子 ９ 超音波洗浄室 １０ 純水用タンク １１ ポンプ １２ エアーナイフ １３ エアーナイフ １４ 液切り室 １５ イソプロピルアルコールあるいはその水溶
液 １６ 純水 １７ ノズル

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 液晶用あるいはカラーフィルター用基板
    の表面に形成させた高分子膜の膜面をラビング処理した
    後に、このラビング処理後の基板の表面を洗浄する洗浄
    方法において、前段階としてイソプロピルアルコール
    （ＣＨ3 ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ3 ）又はイソプロピルアルコ
    ールの水溶液を前記基板表面に供給し、これら液体によ
    って該基板表面全体を被覆せしめ、しかる後に純水の噴
    射による洗浄又は純水による超音波洗浄を行う様にした
    ことを特徴とする液晶用基板及びカラーフィルター用基
    板のラビング処理後の洗浄方法。
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