JPH0329919A - 液晶表示素子のガラス基板洗浄方法 - Google Patents
液晶表示素子のガラス基板洗浄方法Info
- Publication number
- JPH0329919A JPH0329919A JP16562389A JP16562389A JPH0329919A JP H0329919 A JPH0329919 A JP H0329919A JP 16562389 A JP16562389 A JP 16562389A JP 16562389 A JP16562389 A JP 16562389A JP H0329919 A JPH0329919 A JP H0329919A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- washing
- liquid crystal
- display element
- crystal display
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 238000005406 washing Methods 0.000 title abstract description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 32
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く産業上の利用分野〉
本発明は、テレビ、パーソナルコンピュータ、ワードプ
ロセンサ等の表示部に使用する液晶表示素子のガラス基
板洗浄方法に関する。
ロセンサ等の表示部に使用する液晶表示素子のガラス基
板洗浄方法に関する。
〈従米の技術〉
従来、液晶表示素子を構或するにはガラスｌ１（板」二
にＩｎ，Ｃ）：＋上りなる透明電極パターンを１没｛つ
るための７ォ１レノスト膜や液晶を配向さーωるための
配同膜（ポリイミド膜）など秤々の薄膜を形威している
。
にＩｎ，Ｃ）：＋上りなる透明電極パターンを１没｛つ
るための７ォ１レノスト膜や液晶を配向さーωるための
配同膜（ポリイミド膜）など秤々の薄膜を形威している
。
そして、これらの薄膜加工即ち７才トレジスト膜からパ
ターン形成のための現像、エッチング及び剥離二γの処
理を行い、そして−１ｚ記処理後の加Ｔ、即ち配向膜か
ら液晶を配向させるためのラッピング処理、そして基板
の清浄化等の処理を行うが、その実施に当たっては基板
上の汚れや湿りを洗浄によって除いている。
ターン形成のための現像、エッチング及び剥離二γの処
理を行い、そして−１ｚ記処理後の加Ｔ、即ち配向膜か
ら液晶を配向させるためのラッピング処理、そして基板
の清浄化等の処理を行うが、その実施に当たっては基板
上の汚れや湿りを洗浄によって除いている。
そこで、上記洗浄には、従米シ，１・ワー法、ブラシ法
及び超音波法等が用いられている。
及び超音波法等が用いられている。
〈発明力伊ダｒ決しようとする課題〉
しかし、」二記従米例のうちシャワー法によるものは最
も簡却な反面、洗浄力が十分でなく、特に基板が濡れた
状態になって、その表面に水の被膜ができ、通常の１へ
２ｉ＜ｇｆ ／ｃｍ’ ］のシャワー圧力では確実な洗
浄が期待できない。
も簡却な反面、洗浄力が十分でなく、特に基板が濡れた
状態になって、その表面に水の被膜ができ、通常の１へ
２ｉ＜ｇｆ ／ｃｍ’ ］のシャワー圧力では確実な洗
浄が期待できない。
又、ブラシ法によるものではブラシの接触で除失するの
で汚れの除去効果は高いが、その反面、摺擦に弱いレノ
ス１膜や配向膜が形或されたものでは傷イ・１けるので
使用できない．，次に超１１波法では物質の振動を利用
するものであり、前名ブラシ法同様に洗浄効果は大きい
が、洗浄液中において実施される手段であるから洗浄液
の管理がその或果を左右することになり、特に洗浄液が
汚れでいると却ってガラス基板を汚損し、又、万一、ガ
ラス基板が作業中に破損した場合微少破片（カレッ１）
か洗浄液中に混入し、他の基板に付着して既或被膜と接
してビンホールを１：．威するおそれがあり、しかも除
去不可能なことから洗浄液の立替えを強いられるなどそ
れぞれの欠点があった。
で汚れの除去効果は高いが、その反面、摺擦に弱いレノ
ス１膜や配向膜が形或されたものでは傷イ・１けるので
使用できない．，次に超１１波法では物質の振動を利用
するものであり、前名ブラシ法同様に洗浄効果は大きい
が、洗浄液中において実施される手段であるから洗浄液
の管理がその或果を左右することになり、特に洗浄液が
汚れでいると却ってガラス基板を汚損し、又、万一、ガ
ラス基板が作業中に破損した場合微少破片（カレッ１）
か洗浄液中に混入し、他の基板に付着して既或被膜と接
してビンホールを１：．威するおそれがあり、しかも除
去不可能なことから洗浄液の立替えを強いられるなどそ
れぞれの欠点があった。
そこで、本発明は上記従来例における欠点を除去し、簡
単な手段で確実な洗浄ができる方法を提供するものであ
る。
単な手段で確実な洗浄ができる方法を提供するものであ
る。
〈課題を解決するための手段〉
ガラス基板又は被膜を形威したガラス基板に洗浄液のシ
ャワーと、エアーノズルからのエアーとを噴射させるよ
うにしてなる。
ャワーと、エアーノズルからのエアーとを噴射させるよ
うにしてなる。
く作用〉
ガラス基板又は被膜を形威したガラス基板の被洗浄面に
洗浄液のシャワーを叩き付けることにより被洗浄面の汚
れを溶かして洗い落とすと共に、被洗浄面に付着した残
りの汚れや水分をエアーノズルによって一瞬のうちに吹
き飛ばして洗浄を完了する。
洗浄液のシャワーを叩き付けることにより被洗浄面の汚
れを溶かして洗い落とすと共に、被洗浄面に付着した残
りの汚れや水分をエアーノズルによって一瞬のうちに吹
き飛ばして洗浄を完了する。
ぐ実施例〉
以下、本発明について図面に示す実施例により詳細に説
明すると、先ずｆ：ＩＳ１図に示すものは、洗浄槽３内
に一端から他端Ｉｌ旧こ亘って複数の搬送ローラ１，１
・・・を水平に列設し、しかも該搬送ローラ１，１・・
・は常に一定方向ａ．ａ・・・に回転し、これにイ′１
′ってｉ’＋ｊｒ記洗沖梢３の一端に形威した進入口３
゛からガラス県板２を挿入し、矢印ｂの方向へ一定速度
で移動する上うにすると共に、該洗浄槽３内の上方には
該ガラス基板２の進行方向に洗浄液配Ｗ ４， ＝を架
設し、該配Ｉｉ？７Ｉ， ’から前記ガラス基板２の走
行路に向かって洗浄液を噴出する複数個のシャワーノズ
ル４を設けると共に、該ガラス基板２の進路に沿って、
該ガラス基板の直上位置（約５ｍ＋ｎ）に、前記ガラス
基板の幅方向以上の長さを有するスリソト状吹出口のエ
アー７ス゛ル６．，６．・を対３ 設したものである。
明すると、先ずｆ：ＩＳ１図に示すものは、洗浄槽３内
に一端から他端Ｉｌ旧こ亘って複数の搬送ローラ１，１
・・・を水平に列設し、しかも該搬送ローラ１，１・・
・は常に一定方向ａ．ａ・・・に回転し、これにイ′１
′ってｉ’＋ｊｒ記洗沖梢３の一端に形威した進入口３
゛からガラス県板２を挿入し、矢印ｂの方向へ一定速度
で移動する上うにすると共に、該洗浄槽３内の上方には
該ガラス基板２の進行方向に洗浄液配Ｗ ４， ＝を架
設し、該配Ｉｉ？７Ｉ， ’から前記ガラス基板２の走
行路に向かって洗浄液を噴出する複数個のシャワーノズ
ル４を設けると共に、該ガラス基板２の進路に沿って、
該ガラス基板の直上位置（約５ｍ＋ｎ）に、前記ガラス
基板の幅方向以上の長さを有するスリソト状吹出口のエ
アー７ス゛ル６．，６．・を対３ 設したものである。
又、第２図は上記と基本的には同じであるかが・ラス基
板２の下面にも同様のエアーノズル６ｐ＋６，・・・を
〃ラス基板２の進路に沿って複数個対設したものである
。尚、図中符号５はシャワー洗浄液を示す。
板２の下面にも同様のエアーノズル６ｐ＋６，・・・を
〃ラス基板２の進路に沿って複数個対設したものである
。尚、図中符号５はシャワー洗浄液を示す。
そこで、ガラス基板を洗浄するにはガラス基板２を洗浄
槽３の片方に開口形威した進入口３゛がら挿入し、搬送
ローラ１，１・・・によって矢印ｂ方向へ移送せしめら
れ、上部のシャワーノズルからの洗浄液によって洗い落
とし、更に進行しながらガラス基板２の進路上に配置し
たエアーノズル６１，６１・・・により水分を飛散せし
めつつ洗浄摺外に送出される。尚、１２図ではガラス基
板の両面を洗浄する場合であって、動作は上記と全く同
じであるので動作についての説明は省略する。
槽３の片方に開口形威した進入口３゛がら挿入し、搬送
ローラ１，１・・・によって矢印ｂ方向へ移送せしめら
れ、上部のシャワーノズルからの洗浄液によって洗い落
とし、更に進行しながらガラス基板２の進路上に配置し
たエアーノズル６１，６１・・・により水分を飛散せし
めつつ洗浄摺外に送出される。尚、１２図ではガラス基
板の両面を洗浄する場合であって、動作は上記と全く同
じであるので動作についての説明は省略する。
そこで、上記手段の戊果について、エアー圧力とエアー
ノズルの距離変化に対し、洗浄効果と搬送時の姿勢の安
定性がどのように変化するかを観察した結果を次表に示
した。
ノズルの距離変化に対し、洗浄効果と搬送時の姿勢の安
定性がどのように変化するかを観察した結果を次表に示
した。
４
上記より明らかなようにエアー圧力２．０［ｋＨｆ／ｃ
ｍ２１，エアーノズルと基板の距離５［ｍ＋ｎｌの時が
洗浄効果、搬送時の姿勢の安定性共に良好なことが伺え
、その他では何れかが下良又は、何れとも言えない状態
が見られる。
ｍ２１，エアーノズルと基板の距離５［ｍ＋ｎｌの時が
洗浄効果、搬送時の姿勢の安定性共に良好なことが伺え
、その他では何れかが下良又は、何れとも言えない状態
が見られる。
く発明の効果〉
本発明は、−１二述のようになり、テレビ、パーソナル
コンピュータ、ワードプロセソサ等における液品表示素
子を構或するガラス基板を洗浄する場合、洗浄力が向−
１ニするので液晶表示素子の品質が苦しく改１９され、
不良発Ｉ１七車が代滅する。
コンピュータ、ワードプロセソサ等における液品表示素
子を構或するガラス基板を洗浄する場合、洗浄力が向−
１ニするので液晶表示素子の品質が苦しく改１９され、
不良発Ｉ１七車が代滅する。
又、ブラシなどの使用が訂されない７才トレノスト膜や
配向膜が既に設けられたガラス基板についての洗浄も可
能である。
配向膜が既に設けられたガラス基板についての洗浄も可
能である。
更に、超１１波洗洋の上うな浸漬槽が不要であって、洗
浄液のＩｒ！埋の不｛１７ｉ１についてグラス基板の２
次汚損を生しる心配がないなど、本発明特イｊの効果を
有する。
浄液のＩｒ！埋の不｛１７ｉ１についてグラス基板の２
次汚損を生しる心配がないなど、本発明特イｊの効果を
有する。
第１図は、本発明の−丈施例の説明１二ｆＪＬする洗汀
１装置の断面格図、 第２図は、本発明の他の実施例の説門に供する洗浄Ｈｎ
の断面図である。 １・・・搬送ローラ 、２・・・ガラス基板３・
・・洗沖槽 、４ シャワーノズル６
１装置の断面格図、 第２図は、本発明の他の実施例の説門に供する洗浄Ｈｎ
の断面図である。 １・・・搬送ローラ 、２・・・ガラス基板３・
・・洗沖槽 、４ シャワーノズル６
Claims (1)
- １．液晶表示素子を構成するガラス基板又は表面に所要
薄膜を形成したガラス基板の被洗浄面に洗浄液シャワー
とエアーノズルからのエアーとを噴射させて洗浄するこ
とを特徴とする液晶表示素子のガラス基板洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1165623A JP2656980B2 (ja) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | ガラス基板洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1165623A JP2656980B2 (ja) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | ガラス基板洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0329919A true JPH0329919A (ja) | 1991-02-07 |
| JP2656980B2 JP2656980B2 (ja) | 1997-09-24 |
Family
ID=15815882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1165623A Expired - Lifetime JP2656980B2 (ja) | 1989-06-27 | 1989-06-27 | ガラス基板洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2656980B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5518552A (en) * | 1992-05-28 | 1996-05-21 | Tokyo Electron Limited | Method for scrubbing and cleaning substrate |
| US5691301A (en) * | 1988-06-22 | 1997-11-25 | Ambi Inc. | Nisin compositions for use as enhanced, broad range bactericides |
| KR20040042287A (ko) * | 2002-11-13 | 2004-05-20 | 주식회사 씨어테크 | 스크린 프린터의 세정액 공급장치 |
| JP2012186325A (ja) * | 2011-03-07 | 2012-09-27 | Zebiosu:Kk | 非接触浮上搬送機能を有する基板処理装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57141614A (en) * | 1981-02-25 | 1982-09-02 | Canon Inc | Manufacture of electrooptical display device |
| JPS62121041U (ja) * | 1986-01-27 | 1987-07-31 | ||
| JPS6367229A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-26 | 凸版印刷株式会社 | カ−トン内部連続洗浄装置 |
-
1989
- 1989-06-27 JP JP1165623A patent/JP2656980B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57141614A (en) * | 1981-02-25 | 1982-09-02 | Canon Inc | Manufacture of electrooptical display device |
| JPS62121041U (ja) * | 1986-01-27 | 1987-07-31 | ||
| JPS6367229A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-26 | 凸版印刷株式会社 | カ−トン内部連続洗浄装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5691301A (en) * | 1988-06-22 | 1997-11-25 | Ambi Inc. | Nisin compositions for use as enhanced, broad range bactericides |
| US5518552A (en) * | 1992-05-28 | 1996-05-21 | Tokyo Electron Limited | Method for scrubbing and cleaning substrate |
| KR20040042287A (ko) * | 2002-11-13 | 2004-05-20 | 주식회사 씨어테크 | 스크린 프린터의 세정액 공급장치 |
| JP2012186325A (ja) * | 2011-03-07 | 2012-09-27 | Zebiosu:Kk | 非接触浮上搬送機能を有する基板処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2656980B2 (ja) | 1997-09-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100323502B1 (ko) | 액정표시패널의 제조방법 및 이것에 사용되는 세정장치 | |
| JP3070511B2 (ja) | 基板乾燥装置 | |
| JP4839986B2 (ja) | ウェット洗浄装置 | |
| JP4352194B2 (ja) | 基板乾燥装置及び基板乾燥方法 | |
| JPH0329919A (ja) | 液晶表示素子のガラス基板洗浄方法 | |
| TW201802877A (zh) | 基板處理裝置 | |
| JPH01299682A (ja) | ウェブの除塵方法 | |
| JPH09234432A (ja) | 液晶表示パネルの洗浄方法及び液晶表示パネル用洗浄装置 | |
| JP2001227868A (ja) | 基板乾燥装置及び乾燥方法 | |
| JP4031629B2 (ja) | 基材洗浄装置およびその方法 | |
| JPH0994546A (ja) | 基板の液切り装置 | |
| JP2988828B2 (ja) | 基板の液切り乾燥装置 | |
| JP2003322976A (ja) | 液噴霧方法及びこれを用いた基板現像処理方法及び装置 | |
| JPH10308338A (ja) | 塗布ノズルの洗浄装置及び洗浄方法 | |
| JPS5947457B2 (ja) | 半導体ウェファ−の洗浄方法 | |
| JP3659526B2 (ja) | 基板の液切り装置 | |
| JP4444474B2 (ja) | 板状基板の処理装置及び処理方法 | |
| JP2001284310A (ja) | 基板の処理装置及び処理方法 | |
| JP3851370B2 (ja) | 基板の液切り装置 | |
| JPH09179312A (ja) | 基板現像処理装置 | |
| JPH05228449A (ja) | ガラス基板の洗浄方法及びガラス基板の洗浄装置 | |
| JPH11307434A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3040055B2 (ja) | 感光性樹脂の現像方法 | |
| KR100693761B1 (ko) | 상압 플라즈마 발생기를 구비한 세정장치 | |
| JP2002043266A (ja) | 基板の処理装置及び処理方法、液切りミストナイフ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080530 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090530 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100530 Year of fee payment: 13 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100530 Year of fee payment: 13 |