JP2001227868A

JP2001227868A - 基板乾燥装置及び乾燥方法

Info

Publication number: JP2001227868A
Application number: JP2000034755A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiko Kenmori; 和彦権守
Original assignee: Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Current assignee: Hitachi High Tech Corp
Priority date: 2000-02-14
Filing date: 2000-02-14
Publication date: 2001-08-24
Anticipated expiration: 2020-02-14
Also published as: JP4122674B2

Abstract

(57)【要約】【課題】基板をエアナイフ効果により乾燥させる際
に、迅速かつ効率的に、しかもその表面全体を極めて高
精度に乾燥する。【解決手段】コンベア手段１０により搬送される基板
Ｓがエアナイフノズル２０によるエア吹き付け領域に突
入する時には、このエアナイフノズル２０の仰角を小さ
くして、エアの基板Ｓに対する入射角を浅くし、遅くと
もエア吹き付け領域から離脱する直前の段階では、エア
ナイフノズル２０の仰角を大きくして、エアの基板Ｓに
対する入射角を深くする。エアナイフノズル２０のケー
シング２１の両端には、そのノズル口２４と平行に回動
軸２６ａ，２６ｂを延在させ、これら回動軸２６ａ，２
６ｂを軸受２７ａ，２７ｂに回動自在に支持させると共
に、軸受２７ａ側にはエアナイフノズル２０を駆動する
駆動モータとしてのパルスモータ２８が装着され、この
パルスモータ２８はコントローラ３０からの信号に基づ
いて駆動制御される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶基板の
ように四角形状の基板や、円形等の形状をした薄板基板
を乾燥するための装置及び方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】薄板基板として、例えば液晶パネルを構
成するガラス基板があり、例えば、ＴＦＴ型の液晶パネ
ルはＴＦＴ基板とカラーフィルタとからなる２枚の基板
で構成される。このＴＦＴ基板を製造するに当っては、
成膜、レジスト膜形成、露光、現像、エッチング、レジ
スト膜の剥離等の工程を順次経ることにより基板表面に
ＴＦＴ素子を形成するが、これらの工程において、処理
の前や後に繰り返し洗浄が行われ、また基板洗浄後には
その乾燥が行われる。一方、カラーフィルタはフォトリ
ソグラフィ法等により製造されるが、その前工程及び工
程間において、適宜基板の洗浄及び乾燥がなされる。さ
らに、ＴＦＴ型以外の液晶パネル、その他四角形状のガ
ラス，樹脂等からなる基板に対して所定の処理を行う際
にも洗浄及び乾燥が行われる。

【０００３】基板の洗浄後に行われる乾燥方法は様々な
ものが知られているが、処理乃至加工におけるライン上
を搬送する間に連続的に洗浄及び乾燥を行う場合、つま
りインライン処理を行う場合には、エアナイフ効果を利
用した乾燥を行うのが一般的である。このエアナイフに
よる乾燥は次のようにして行われる。

【０００４】基板を水平または僅かに搬送方向と直交す
る方向（左右方向）に傾けた状態にして搬送するローラ
やベルト等からなる搬送手段の所定の位置に、エア吹き
付け領域が設定される。このエア吹き付け領域には、基
板の表面に対向するようにして細長いスリット状の通路
からなるノズル口を有するエアナイフノズルが配置され
る。このエアナイフノズルからは高い圧力のクリーンエ
アを基板の搬送方向に対して直交する方向における全長
に及ぶように吹き付けることによって、基板の表面に付
着している液滴や液膜等が基板表面から剥離されるよう
にして乾燥される。

【０００５】ここで、エアナイフノズルから噴出するエ
アの方向としては、搬送手段による基板の搬送方向とは
反対方向に向けて比較的浅い角度となし、しかもエアナ
イフノズルのノズル口を基板表面に近接させるようにす
る。これによって、エアナイフノズルからは細い帯状の
エアが基板の表面に入射されるようになる結果、このエ
アの圧力で基板表面の液は、この基板の搬送方向におけ
る後方側に向けて移動し、この基板のエッジ部分から排
出されることになる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、搬送手段に
より搬送される基板が、例えば長方形のものである場合
には、その長手方向を搬送方向に向けるようにして搬送
させる。このように搬送される基板の表面に付着してい
る液をより円滑かつ確実に除去するには、エアナイフノ
ズルを基板の搬送面と平行な面内で、この基板の搬送方
向に対して直交する方向に対して所定の角度傾けるよう
に斜めに配置するのが望ましい。これによって、エアの
圧力により基板表面に沿って液が移動する方向は、基板
の搬送方向ではなく、エアナイフノズルを傾けた分だけ
斜め方向に向けて移動することになる。この結果、基板
の搬送方向における後端部だけでなく、その側部からも
液が除去されるので、液の移動距離が短くなり、もって
基板表面から円滑かつ迅速に除去できる。

【０００７】前述したエアナイフによる基板表面からの
液の剥離をより確実に行うには、エアの入射角をできる
だけ浅くするのが望ましい。特に、エアナイフノズルか
らエアが吹き付けられるエア吹き付け領域に基板の先端
が進入する際、つまりエア吹き付け領域への基板の突入
時に、エアの入射角が深い場合には、基板の表面に付着
している液がエアの圧力で周囲に飛散する可能性があ
る。従って、入射角はできるだけ浅い方が望ましい。こ
こで、エアの入射角が浅いというのは、基板の表面に対
して平行に近い角度を言い、従ってエアの入射角が深い
というのは、基板の表面に対して直角に近い角度を言
う。

【０００８】エアナイフノズルによる乾燥工程におい
て、基板がエア吹き付け領域から離脱する直前では、こ
の基板表面に付着している液は角隅部に向けて集中す
る。この位置が基板における最後の液切り位置となる。
しかしながら、基板の角隅部では、エアの流れをガイド
する基板表面が存在しないから、特に基板表面における
液の付着量が多い場合等には、角隅部に集中した液を完
全に吹っ切る程度の圧力を作用させることができない場
合がある。基板表面の角隅部に液が僅かでも残留して完
全な液切れが行われないまま次の工程に向けて搬送され
ると、この搬送途中での振動等に起因して、液が基板表
面に向けて流れ出すおそれがあり、その結果一度乾燥し
た基板表面が再度汚損されて、しみ等が発生するという
不都合が生じる。基板のサイズが小さい場合には、液の
集中があまり大きくなくなることから液切れも良好にな
る。また、搬送手段による基板の搬送速度を十分遅く設
定すれば、角隅部からの液除去は確実に行える。

【０００９】一般に、液晶パネル等の製造工程において
は、生産効率等の観点から、大判サイズのマザー基板を
用い、このマザー基板を所定の大きさに切断して、所定
のサイズを有する液晶パネルを形成するが、近年におい
ては液晶パネルの大画面化等の関係で、マザー基板のサ
イズも大きくなる傾向にある。勿論、このマザー基板の
段階でも洗浄及びエアナイフ効果を利用した乾燥が行わ
れる。従って、大型サイズの基板において、エアナイフ
効果による乾燥を確実に行えるようにしなければならな
い。また、乾燥工程で基板の搬送速度を遅くすると、ラ
イン全体に大きな影響を与えることになる結果、全体と
しての基板の処理効率が大きく低下してしまう等の問題
点がある。つまり、大判の基板を高速搬送する間に、こ
の基板を確実に乾燥できる基板乾燥装置の開発が望まれ
ている。

【００１０】本発明は以上の点に鑑みてなされたもので
あって、その目的とするところは、基板をエアナイフ効
果で乾燥させる際に、迅速かつ効率的に、しかも角隅部
を含めた全体を極めて高精度に乾燥できるようにするこ
とにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明による基板乾燥装置は、薄板基板を搬送
手段により水平または所定の角度傾斜した状態で搬送す
る間に、この基板搬送方向と直交する方向のほぼ全長に
わたって加圧したエアを噴射するスリット状のノズル口
を有し、基板表面からほぼ均一な間隔だけ離間させ、か
つこの基板搬送方向と反対方向に向けて所定の入射角を
もってエアを基板に吹き付けて、この基板の表面に付着
している液を剥離するようにして乾燥するエアナイフノ
ズルを備えた基板乾燥装置であって、前記搬送手段によ
り搬送される基板がエアの吹き付け領域に突入する際に
はエア入射角が浅く、遅くとも基板がエアの吹き付け領
域から離脱する直前になった時にはエア入射角を深くな
るように前記エアナイフノズルの仰角を変化させるノズ
ル仰角制御手段を備える構成としたことをその特徴とす
るものである。

【００１２】ここで、エアナイフノズルは搬送手段によ
る基板の搬送面と平行な面内で斜めに配置するのが望ま
しく、またノズル仰角制御手段としては、エアナイフノ
ズルのノズル口とほぼ平行な回動軸を設けて、この回動
軸の少なくとも一端を軸受により回動可能に支持させ、
パルスモータ等の駆動手段を接続する構成とすることが
できる。そして、エアナイフノズルの仰角は、基板突入
時は４５°以下となし、基板離脱時は４５°以上とする
のが望ましい。

【００１３】また、本発明の基板乾燥方法は、薄板基板
を搬送手段により水平または所定の角度傾斜した状態で
搬送する間に、エアナイフノズルからこの基板の表面に
加圧したエアを吹き付けるようにして乾燥させるものに
おいて、前記搬送手段により搬送される基板がエア吹き
付け領域に突入した時には、前記エアナイフノズルから
のエアの入射角を浅くするようになし、遅くともエア吹
き付け領域から離脱する直前の位置となった時には、前
記エアナイフノズルからのエアの入射角を深くするよう
にしたことを特徴とするものである。

【００１４】そして、基板がエア吹き付け領域に突入し
てから所定の位置まで進行した時から離脱までの間に、
エアナイフノズルからのエアの入射角をほぼ連続的に変
化させるようにするのが望ましい。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の実
施の形態について説明する。なお、本発明は以下に示す
実施の形態に限定されるものでないことは言うまでもな
い。

【００１６】まず、図１に基板の洗浄・乾燥工程の概略
構成を示す。図中において、Ｓは基板、１は洗浄ステー
ジ、２は乾燥ステージであって、洗浄ステージ１及び乾
燥ステージ２はそれぞれハウジングにより区画形成され
ており、またこれら両ステージ１，２間には隔壁３が設
けられている。洗浄ステージ１には基板Ｓの搬入部１ａ
が、また乾燥ステージ２には基板Ｓの搬出部２ａが設け
られており、さらに隔壁３には基板Ｓの走行経路を構成
する細い開口３ａが形成されている。洗浄ステージ１に
は洗浄液供給手段４が設置されており、また乾燥ステー
ジ２内には、基板Ｓを挟むように上下にエアナイフ乾燥
装置５が設けられている。そして、乾燥ステージ２内は
洗浄液のミスト等が入り込まないようにするために陽圧
状態となし、また洗浄ステージ１内は陰圧状態にする。
このために、乾燥ステージ２には雰囲気加圧装置６が設
置されており、また洗浄ステージ１には排気部７が装着
されている。さらに、洗浄ステージ１の下部に余剰の洗
浄液の排液部８が設けられている。

【００１７】ここで、基板Ｓは例えば長方形の薄板ガラ
ス基板等からなり、この基板Ｓは、前工程から、洗浄ス
テージ１及び乾燥ステージ２を経て、後工程に至るま
で、概略水平状態乃至僅かに左右に傾斜させた状態で搬
送される。従って、基板Ｓを搬送するために、図２に示
した搬送手段としてのコンベア手段１０を備えている。
コンベア手段１０は、例えばローラコンベアで構成され
ており、このコンベア手段１０は所定のピッチ間隔をも
って設けた回転軸１１にその長手方向に複数のローラ１
２を装着したもので構成され、両端のローラ１２ａ，１
２ａには鍔部１３が連設されている。基板Ｓは、その長
辺を両鍔部１３，１３に当接するようにして位置決めさ
れ、その表面を水平にした状態で図２の矢印方向に搬送
されることになる。このために、各回転軸１１の一端に
はギア１４が連結して設けられ、これら各回転軸１１の
ギア１４は伝達ギア１５を介して順次係合しており、従
って１本の回転軸１１のギア１４を回転駆動すると、全
ての回転軸１１が回転して、基板Ｓが搬送されることに
なる。

【００１８】洗浄ステージ１で洗浄された基板Ｓは隔壁
３の開口から乾燥ステージ２に移行して、この乾燥ステ
ージ２に設けたエアナイフ乾燥装置５を用いて乾燥され
る。エアナイフ乾燥装置５は、図３及び図４から明らか
なように、エアナイフノズル２０を有し、このエアナイ
フノズル２０は、細長い長尺筒状のケーシング２１を有
し、このケーシング２１内には加圧したエアが導入され
る加圧エアチャンバ２２が形成されている。そして、ケ
ーシング２１の側面部にはエア流出通路２３が形成され
ており、その先端は細いスリット状のノズル口２４とな
っている。エア流出通路２３は、ノズル口２４からエア
が噴出する際に細いライン状となるように整流するため
に必要な通路長を有するものである。さらに、ケーシン
グ２１には加圧エアチャンバ２２内に加圧エアを供給す
るためのエア供給配管２５が１乃至複数箇所接続されて
いる。

【００１９】以上の構成を有するエアナイフノズル２０
は、乾燥ステージ２内において、コンベア手段１０から
なる基板Ｓの搬送経路を挟んで上下に配置されており、
ノズル口２４は、基板Ｓの表面に対してほぼ均等な高さ
位置からエアを吹き付けることができるようになってい
る。しかも、エアナイフノズル２０は基板Ｓの搬送方向
と直交する方向に配置されているのではなく、基板Ｓの
搬送面と平行な面内で所定角度θだけ斜めに配置されて
いる。しかも、ノズル口２４は、コンベア手段１０上を
搬送される基板Ｓの表面に対して、その搬送方向と交差
する方向の全長に及ぶようになっている。従って、コン
ベア手段１０により搬送される基板Ｓがエアナイフノズ
ル２０から吹き出される領域、つまりエア吹き付け領域
にまず突入するのは、図５に示した角隅部Ｃ₁ であり、
またエア吹き付け領域から最後に離脱する位置は角隅部
Ｃ₂ である。従って、基板ＳがＦ方向に搬送されて、エ
ア吹き付け領域に到達すると、最初にその角隅部Ｃ₁ に
向けてエアが噴射され、基板Ｓの進行と共に基板Ｓの表
面全体にエアが吹き付けられる。エアナイフノズル２０
からのエア圧によって、基板Ｓの表面に付着している液
滴や液膜等からなる付着液は、基板Ｓの搬送方向とは反
対方向に向けて移動することになるが、エアナイフノズ
ル２０は基板Ｓの搬送方向に対して斜めに配置されてい
るので、付着液の移動方向は図５に矢印で示したよう
に、斜め方向となり、付着液は基板Ｓの後端エッジＬ₁
と一方側の長辺側の側部エッジＬ₂ から排出されること
になる。これによって、基板Ｓの表面から液が極めて効
率的に除去されて、エアナイフノズル２０が通過した部
分から順次乾燥されることになる。

【００２０】ところで、基板Ｓがエア吹き付け領域に突
入する直前では、エアナイフノズル２０から噴出してい
るエアは障害物がなく所定の方向に流れる。基板Ｓの角
隅部Ｃ₁ がこのエア吹き付け領域に突入すると、吹き付
けたエアの衝撃によって付着液は周囲に飛散する可能性
がある。基板Ｓの突入時におけるエアの入射角は、図６
に点線で示したように、基板Ｓの水平面Ｈに対して角度
が深いほど、つまりこの水平面Ｈに対して直交する方向
に近いほど、基板Ｓへの衝突時における衝撃が大きくな
って、吹き付けたエアの跳ね返りが大きい。また、基板
Ｓの搬送速度が速くなればなるほど、エアの衝撃及び跳
ね返りが大きくなる。その結果、基板Ｓの表面の付着し
ている液が周囲に飛散する度合いが大きくなる。このよ
うに飛散した液は、たとえ乾燥ステージ２内を陽圧状態
にし、洗浄ステージ１内を陰圧にして、基板Ｓの搬送方
向とは反対側に向けて空気の流れが形成されていても、
エアの衝撃により飛散した液が基板Ｓの搬送方向の下流
側に向かうこともあり、その結果乾燥した部分に再付着
する可能性がある。従って、基板Ｓの表面からの液の跳
ね返りは最小限に抑制しなければならない。このために
は、エアの入射角は、図６に実線で示したように、４５
°以下の浅い角度となし、好ましくは３５°〜４５°程
度とする。そして、望ましくは基板Ｓがエア吹き付け領
域に突入した後に、角隅部Ｃ₃ がエア吹き付け領域に入
り込むまでの間は、少なくともエアの入射角はこの角度
状態に保持する。

【００２１】基板Ｓの幅方向の全長がこのエア吹き付け
領域に入り込むと、吹き付けられたエアは基板Ｓの表面
に沿って流れるようになり、基板Ｓの表面に付着してい
る液滴や液膜が基板Ｓの表面から剥離されるようにして
乾燥される。従って、この間はエアの入射角が突入時の
入射角より多少大きくしたとしても、液の飛散が生じる
ことはない。ただし、途中までは基板Ｓ上の液の量が多
いので、この液を基板Ｓの表面から確実に剥離させるに
は、液を基板Ｓの搬送方向と反対方向に押し出す力をで
きるだけ大きくする必要があり、従ってエアの入射角は
浅い方が望ましい。

【００２２】基板Ｓがさらに進行すると、やがては角隅
部Ｃ₄ がエア吹き付け領域から離脱し、後端エッジＬ₁
が連続的にエア吹き付け領域から離脱して行く。この時
には基板Ｓ上の液は後端エッジＬ₁ から排出されずに、
角隅部Ｃ₂ 方向に向けて流れるものもあり、また側端エ
ッジＬ₂ に沿って流れる液の一部も角隅部Ｃ₂ に向けて
流れることになる。その結果、角隅部Ｃ₂ に液が集中す
ることになるが、図７に点線で示したように、この時に
エアの入射角が浅いと、エアは集中した液の表面を撫で
るようにして通過して、角隅部Ｃ₂ に液が残存する可能
性がある。このような事態の発生を防止するには、むし
ろエアの入射角を深くして、基板Ｓのエッジから液をそ
ぎ落とすように剥離させる必要がある。つまり、エアの
入射角を深くすればするほど、円滑かつ迅速に液切れを
行わせることができる。このためには、図７に実線で示
したように、エアの入射角は４５°以上となし、好まし
くは４５°〜５５°程度とする。

【００２３】そこで、本発明では、エアナイフ乾燥装置
５を用いて基板Ｓに加圧したエアの吹き付けにより乾燥
させる際に、ノズル仰角制御手段によりエアナイフノズ
ル２０から吹き付けられるエアの基板Ｓの表面に対する
入射角を変化させるようにしている。このために、エア
ナイフ乾燥装置５に付設されるノズル仰角制御手段とし
ては、例えば以下に示す構成とする。

【００２４】而して、エアナイフノズル２０には、図２
及び図４から明らかなように、また図８に示したよう
に、そのケーシング２１の両端から回動軸２６ａ，２６
ｂが延在されている。これら回動軸２６ａ，２６ｂを含
む軸線はノズル口２４と平行になっており、従って、こ
の回動軸２６ａ，２６ｂを回動させると、ノズル口２４
は、その全長が基板Ｓに対して均等な間隔を保ったまま
で、その仰角が図８の矢印方向に変化して、エアの基板
Ｓへの入射角を変えることができるようになっている。
回動軸２６ａ，２６ｂはコンベア手段１０の左右両側に
設けた軸受２７ａ，２７ｂに回動自在に支持されてお
り、かつ軸受２７ａ側にはエアナイフノズル２０を駆動
する駆動モータとしてのパルスモータ２８が装着されて
おり、このパルスモータ２８は回動軸２６ａに連結され
ている。従って、このパルスモータ２８を作動させる
と、エアナイフノズル２０の基端Ｓに対する仰角が変化
する。

【００２５】さらに、コンベア手段１０による基板Ｓの
搬送方向において、エアナイフノズル２０によるエア吹
き付け領域より所定の距離ｄだけ上流側の位置には、基
板Ｓの通過検出手段２９が設けられている。この通過検
出手段２９は透過型または反射型の光センサ等で構成さ
れる。そして、通過検出手段２９からの信号はコントロ
ーラ３０に取り込まれ、このコントローラ３０からの信
号に基づいてパルスモータ２８の駆動制御が行われるよ
うになっている。

【００２６】本発明は以上のように構成されるものであ
って、次にその作動について説明する。基板Ｓは、前工
程で所定の処理が行われた上で、コンベア手段１０に搬
送されて、洗浄ステージ１内に送り込まれて、その表面
の洗浄が行われる。ここで、基板Ｓの洗浄は、ロールブ
ラシ洗浄、シャワー洗浄、超音波洗浄等種々の方式で行
うことができ、またこれらを適宜組み合わせることもで
きる。さらに、洗浄は基板Ｓの表裏両面に対して行うこ
ともできる。基板Ｓの洗浄は、コンベア手段１０により
搬送される間に行われるものであって、この洗浄が終了
した後には、隔壁３の開口３ａから乾燥ステージ２に移
行することになる。

【００２７】乾燥ステージ２内において、エアナイフノ
ズル２０の配設位置、より具体的にはエアナイフノズル
２０によるエア吹き付け領域より上流側の位置に、基板
Ｓの通過を検出する通過検出手段２９が設けられている
ので、遅くともこの通過検出手段２９により基板Ｓが通
過したことを検出した時には、エアナイフノズル２０の
仰角を、このエアナイフノズル２０から吹き付けられる
エアの基板Ｓに対する入射角が４５°以下、例えば４０
°となるように調整する。即ち、パルスモータ２８を作
動させて、回動軸２６ａを回動変位させて、エアナイフ
ノズル２０の仰角制御を行う。従って、エアナイフノズ
ル２０から吹き付けられるエアの入射角が浅くなるの
で、たとえコンベア手段１０による基板Ｓの搬送速度を
速くしても、この基板Ｓの角隅部Ｃ₁ がエア吹き付け領
域に突入する際に、吹き付けられるエアは基板Ｓの表面
に沿って流れる方向に導かれる。その結果、エアが基板
Ｓの表面に衝撃的に衝突するようなことがなくなり、基
板Ｓ上の付着液が飛散する等のおそれはない。

【００２８】前述したエアナイフノズル２０の仰角は、
少なくとも図５に示した基板Ｓの角隅部Ｃ₃ がエア吹き
付け領域に突入するまではそのままの状態に維持する。
このように、エアナイフノズル２０から浅い角度で基板
Ｓに対してエアを吹き付けることによって、基板Ｓの表
面から液滴や液膜等がエアの圧力により剥離されて、搬
送方向とは反対方向に向けて押し出されるようにしてそ
の表面を乾燥させることができる。ここで、液が基板Ｓ
の表面に沿って押し出されるためには、エアの入射角を
できるだけ浅くするのが望ましい。従って、基板Ｓの角
隅部Ｃ₄ がエア吹き付け領域を通過する直前までは、エ
アナイフノズル２０の仰角を浅いまま保つようにしても
良い。ただし、基板Ｓの進行に応じて、その表面におけ
る液が後端エッジＬ₁ や側端エッジＬ₂ から排出されて
少なくなるので、角隅部Ｃ₃ がエア吹き付け領域に突入
した後には、多少エアナイフノズル２０の仰角を変化さ
せても格別問題とはならない。

【００２９】基板Ｓの角隅部Ｃ₄ がエア吹き付け領域か
ら離脱した後には、後端エッジＬ₁がエア吹き付け領域
に臨むようになる。この時にエアの入射角が浅いと、後
端エッジＬ₁ の位置まで押し出された付着液は、この後
端エッジＬ₁ から振り切られるというより、むしろこの
後端エッジＬ₁ に沿って角隅部Ｃ₂ 方向に向かう傾向が
強くなる。従って、付着液が角隅部Ｃ₂ に集中しようと
する。そこで、遅くとも基板Ｓの角隅部Ｃ₄ がエアの吹
き付け領域から離脱した後には、エアナイフノズル２０
の仰角を大きくして、基板Ｓに対するエアの入射角を深
くする。これにより、後端エッジＬ₁ にまで押し出され
た液は、その大部分がエッジからそぎ落とされるように
して除去される。従って、基板Ｓを高速で搬送しても、
液切れを円滑かつ確実に行えるようになる。とりわけ、
基板Ｓにおけるエア吹き付け領域から最後に離脱する角
隅部Ｃ₂ にエアを吹き付ける際には、エアの入射角が最
大になるように、例えば５０°となるように、エアナイ
フノズル２０の仰角を最も大きくする。これによって、
この角隅部Ｃ₂ から液が確実にそぎ落とされることにな
って、液の残存による乾燥むらが生じるおそれはなくな
る。

【００３０】而して、通過検出手段２９により基板Ｓが
乾燥ステージ２におけるエア吹き付け領域の手前位置ま
で搬送されたことが検出された時に、この信号をコント
ローラ３０に取り込んで、このコントローラ３０からの
指令によりパルスモータ２８を作動させて、エアナイフ
ノズル２０の仰角を最小となし、基板Ｓの表面のうち例
えば１／３程度がエアの吹き付けにより乾燥した時、ま
たは角隅部Ｃ₄ がエア吹き付け領域から離脱する直前の
位置になった時から、エアナイフノズル２０の仰角を連
続的または段階的に大きくし、角隅部Ｃ₂ が離脱する直
前の位置で仰角を最大にするように制御する。これによ
って、基板Ｓがエア吹き付け領域に突入する際における
基板Ｓの表面から液が飛散するのを防止でき、かつ基板
Ｓがエア吹き付け領域を離脱する際に、液が表面に残存
して乾燥むらが生じるのを確実に防止できる。

【００３１】従って、大型基板を高速で搬送するように
しても、基板Ｓの乾燥時に一度乾燥した部分に液が再付
着したりせず、また角隅部等における液切れが確実に行
われ、乾燥むらが発生するおそれはない。従って、基板
Ｓの洗浄から乾燥に至る処理の効率化が図られて、全体
としてスループットを向上させることができる。

【００３２】なお、前述した実施の形態においては、乾
燥される基板は、液晶パネルを構成するガラス基板等と
して用いられる長方形の薄板ガラス基板としたが、要は
薄板の基板であって、精密で高精度な洗浄が必要なも
の、例えばマスク，ウエハ，時期ディスク等を対象とす
るものであり、従って薄板基板の外形形状としては、長
方形に限らず、任意の形状のもの、例えば長方形以外の
多角形，円形，楕円形等であっても良く、また薄板基板
の材質はガラスに限定されるものではなく、合成樹脂や
金属等であっても良い。

【００３３】

【発明の効果】本発明は以上のように構成したので、基
板をエアナイフ効果で乾燥させる際に、迅速かつ効率的
に、しかも角隅部を含めた全体を極めて高精度に乾燥で
きる等の効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】基板の洗浄・乾燥機構を示す概略構成図であ
る。

【図２】基板乾燥装置の平面図である。

【図３】エアナイフノズルの断面図である。

【図４】エアナイフノズルの外観斜視図である。

【図５】基板の表面に対するエア圧の作用方向を示す作
用説明図である。

【図６】基板のエア吹き付け領域への突入時におけるエ
アの入射角の説明図である。

【図７】基板がエア吹き付け領域から離脱する際のエア
の入射角の説明図である。

【図８】ノズル仰角制御手段の構成説明図である。

【符号の説明】

１洗浄ステージ２乾燥ステージ３隔壁５エアナイフ乾燥装置１０搬送手段２０エアナイフノズル２１ケーシング２２加圧チャンバ２３エア流出通路２４ノズル口２６ａ，２６ｂ回動軸２８パルスモータ２９通過検出手段３０コントローラＳ基板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】薄板基板を搬送手段により水平または所
定の角度傾斜した状態で搬送する間に、この基板搬送方
向と直交する方向のほぼ全長にわたって加圧したエアを
噴射するスリット状のノズル口を有し、基板表面からほ
ぼ均一な間隔だけ離間させ、かつこの基板搬送方向と反
対方向に向けて所定の入射角をもってエアを基板に吹き
付けて、この基板の表面に付着している液を剥離するよ
うにして乾燥するエアナイフノズルを備えた基板乾燥装
置において、前記コンベア手段により搬送される基板が
エアの吹き付け領域に突入する際にはエア入射角が浅
く、遅くとも基板がエアの吹き付け領域から離脱する直
前になった時にはエア入射角を深くなるように前記エア
ナイフノズルの仰角を変化させるノズル仰角制御手段を
備える構成としたことを特徴とする基板乾燥装置。
【請求項２】前記エアナイフノズルは前記搬送手段に
よる前記基板の搬送面と平行な面内で斜めに配置する構
成としたことを特徴とする請求項１記載の基板乾燥装
置。
【請求項３】前記エアナイフノズルに前記ノズル口と
ほぼ平行な回動軸を設けて、この回動軸の少なくとも片
側の端部を軸受に回動可能に支持させて設け、この回動
軸に駆動手段を接続することによって前記ノズル仰角制
御手段を構成するようにしたことを特徴とする請求項１
記載の基板乾燥装置。
【請求項４】前記エアナイフノズルの仰角は、基板の
エア吹き付け領域への突入時は４５°以下となし、エア
吹き付け領域からの離脱時は４５°以上とする構成とし
たことを特徴とする請求項１記載の基板乾燥装置。
【請求項５】薄板基板を搬送手段により水平または所
定の角度傾斜した状態で搬送する間に、エアナイフノズ
ルからこの基板の表面に加圧したエアを吹き付けるよう
にして乾燥させるものにおいて、前記搬送手段により搬送される基板がエア吹き付け領域
に突入した時には、前記エアナイフノズルからのエアの
入射角を浅くするようになし、遅くともエア吹き付け領域から離脱する直前の位置とな
った時には、前記エアナイフノズルからのエアの入射角
を深くすることを特徴とする基板乾燥方法。
【請求項６】前記基板が前記エア吹き付け領域の所定
の位置まで進行した時から離脱するまでの間に、前記エ
アナイフノズルからのエアの入射角を連続的または段階
的に変化させることを特徴とする請求項５記載の基板乾
燥方法。