JP2003322976A

JP2003322976A - 液噴霧方法及びこれを用いた基板現像処理方法及び装置

Info

Publication number: JP2003322976A
Application number: JP2002131788A
Authority: JP
Inventors: Toshiyuki Masuda; 増田　　敏幸
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2002-05-07
Filing date: 2002-05-07
Publication date: 2003-11-14

Abstract

(57)【要約】【課題】基板上での現像ムラを抑える。【解決手段】基板現像処理機１０は、第１現像槽１２
と、第２現像槽（パターニング槽）１３と、残渣除去槽
１４と、基板搬送部２１とを備える。第１現像槽１２は
薬液噴射ノズル３６を、パターニング槽１３は薬液噴射
ノズル３７を、残渣除去槽１４は薬液噴射ノズル３８を
備える。薬液噴射ノズル３６〜３８は、それぞれノズル
ヘッド３６ａ〜３８ａとノズル本体３６ｂ〜３８ｂとを
備える。ノズル本体３６ｂ〜３８ｂは、ガラス基板１１
に薬液を噴射する。ノズル本体３６ｂ〜３８ｂのノズル
タイプ、ノズルと基板間距離を決定する。ノズル本体３
６ｂ〜３８ｂの噴霧圧力Ｓの最適条件を実験により求め
る。１個のノズル本体３６ｂ〜３８ｂでのガラス基板１
１面における流量分布を測定する。ノズル本体３６ｂ〜
３８ｂのノズルピッチＰの最適条件を算出により求め
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は基板等のシート状物
に複数のスプレーノズルを用いて液を噴射する、特にフ
ォトリソグラフィ工程等において微細なパターンを基板
に形成する場合に用いて好適な液噴霧方法及びこれを用
いた基板現像処理方法及び装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイ等で用いられるカラー
フイルタの製造方法としては各種の方法が知られている
が、近年、感光性着色樹脂シートを用いた転写による方
法が、精度の高いカラーフイルタを簡便に製造すること
ができるなどの理由で注目を浴びている。

【０００３】この感光性着色樹脂シートを用いる転写法
では、まず、所定の色の着色材料（顔料または染料）と
感光性樹脂とからなる感光性着色樹脂層を可撓性支持体
シートの上に設けて製造する。この感光性シートは、赤
色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、黒色（Ｋ）の各色
のものが製造される。次に、この感光性シートをラミネ
ータにセットして、透明なガラス基板に例えばＲの感光
性着色樹脂層を熱転写する。次に、露光装置で、感光性
着色樹脂層の表面にフォトマスクを介して光を照射し、
感光性着色樹脂層をパターン状に露光する。次に、現像
処理装置で露光済みの感光性着色樹脂層を現像して、ガ
ラス基板上にＲの着色画素パターンを形成する。同様に
して、ガラス基板上にＧ及びＢの着色パターンを形成し
た後に、Ｋの感光性着色樹脂層を熱転写し、これを感光
性樹脂層の転写面とは反対側の面から露光した後に現像
して、ガラス基板にブラックマトリクスを形成する。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】カラーフィルタの需要
は近年に至ってますます高くなり、それに伴ってカラー
フィルタの性能の向上および低価格化が要求されてい
る。このため、得率アップ及びコストダウンなどの観点
から基板が大型化しており、それに対応して各現像処理
装置も大型化している。カラーフィルタの製造では、現
像ムラの発生を抑えることが重要であり、そのために、
現像機を購入後にシャワーノズルの配置及び噴射条件等
を最適な環境に設定する必要があった。しかしながら、
その設定には手間がかかり、さらに、基板の大型化に伴
い、現像処理装置も大型化していることから、シャワー
ノズルの数量が増え、最適な環境に設定するのにさらに
多くの手間がかかっていた。

【０００５】本発明は液をシート状物にほぼ均一に噴霧
することができるようにした液噴霧方法を提供すること
を目的とする。また、本発明は、液晶ディスプレイなど
で用いられるカラーフィルタの現像むらが抑えられるよ
うにした基板現像処理方法及び装置を提供することを目
的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するに、
本発明では、複数のスプレーノズルを用いてシート状物
に液を噴霧する液噴霧方法において、前記スプレーノズ
ルを１個用いて使用噴霧領域及び噴霧圧力における流量
分布を求め、前記流量分布に基づき複数のスプレーノズ
ルをライン状に並べてノズルピッチを変えたときの総合
流量分布を求め、この総合流量分布のうち最も均一な流
量分布となるノズルピッチを最適ノズルピッチとし、こ
の最適ノズルピッチにより前記複数のスプレーノズルを
ライン状に並べて、液を前記シート状物に噴霧すること
を特徴とする。

【０００７】なお、上記液噴霧方法を用いて、前記シー
ト状物としての基板に現像処理液または洗浄液を噴霧
し、基板を現像処理することが好ましく、この場合に
は、現像処理液などを基板にほぼ均一に噴霧することが
でき、現像ムラのない基板が得られる。また、複数のス
プレーノズルを前記最適ノズルピッチでライン状に配置
した複数のノズルヘッドを設け、この複数のノズルヘッ
ドを、前記基板の送り方向に離して配置するとともに、
隣接するノズルヘッドのスプレーノズルが千鳥状になる
ように配列することが好ましい。また、前記基板は感光
性着色樹脂層をパターン状に露光した基板であり、液噴
霧装置は、前記感光性着色樹脂層を現像処理する現像処
理槽、現像処理後の基板表面に残る現像残渣を除去する
残渣除去槽、または基板を洗浄する洗浄槽の少なくとも
１つに設けることが好ましい。

【０００８】

【発明の実施の形態】図１は本発明の基板現像処理機１
０を示す正面図である。ここでは、富士写真フイルム株
式会社製のカラーフィルタ用転写フイルム、トランサー
を例にして説明する。基板現像処理機１０はガラス基板
１１を現像処理するものであり、第１現像槽１２と、第
２現像槽（パターニング槽）１３と、残渣除去槽１４
と、第１〜最終リンス槽１５〜１８と、水切り槽１９
と、液切りゾーン２０と、これら各槽１２〜１９にガラ
ス基板１１を搬送する基板搬送部２１とから構成されて
いる。液切りゾーン２０は、各槽１２〜１９にて薬液や
洗浄水などが付着したガラス基板１１に対してエアー噴
射で液切りし、隣接する槽への液の持ち込みを抑制す
る。基板搬送部２１は、多数の搬送ローラ３０から構成
されている。

【０００９】ガラス基板１１には、現像処理の前工程に
おいて、図示しないラミネータにより感光性着色層が転
写され、さらに図示しない露光装置により感光性着色層
にフォトマスクを用いて画素パターンが露光されてい
る。感光性着色層は、ガラス基板の表面に、感光性着色
樹脂層、酸素遮断層、及び熱可塑性樹脂層の順に層設さ
れている。図１において、基板現像処理機１０でのガラ
ス基板１１の流れを矢印で示す。まず、図示しない基板
移載部によって、上述したように露光されたガラス基板
１１が基板現像処理機１０に送られる。基板現像処理機
１０では、露光済みのガラス基板１１に対し現像処理を
行う。

【００１０】第１現像槽１２には基板入口２３が設けら
れており、水切り槽１９には基板出口２４が設けられて
いる。これら基板入口２３と基板出口２４とをつなぐよ
うにして、基板搬送部２１が各槽１２〜１９を貫通する
ように水平に配置されている。また、基板出口２４に
は、上下方向に離して除電バー２７が設けられており、
ガラス基板１１を除電する。除電バー２７としては、イ
オナイザ（リッチモンド社製）を用いているが、除電機
能を有するものであればよく、種々のタイプの除電装置
を用いてよい。

【００１１】図１に示すように、第１現像槽１２には、
ガラス基板１１の感光性着色層に対面するように、上方
に多数の薬液噴射ノズル３６が配置されている。この第
１現像槽１２は、ガラス基板１１の熱可塑性樹脂層と酸
素遮断層とを溶解除去する。同様にして、パターニング
槽１３にも、ガラス基板１１の感光性着色層に対面する
ように、上方に複数の薬液噴射ノズル３７が配置されて
いる。パターニング槽１３は、感光性着色樹脂層を現像
処理して、未露光部分（未硬化部分）を除去し、ガラス
基板１１上に画素パターンを形成する。

【００１２】残渣除去槽１４には、上方に複数の薬液噴
射ノズル３８が配置され、上方及び下方にブラシ洗浄ノ
ズル３９が配置されている。残渣除去槽１４は、現像処
理後のガラス基板１１の表面に残る現像残渣を除去する
もので、処理液をガラス基板１１にかけながらブラッシ
ング処理を行う。残渣除去槽１４には、上下方向に並べ
たロールブラシ対４１，４２が基板送り方向で２組配置
され、これらロールブラシ対４１，４２は、ガラス基板
１１のブラッシングを行う。ロールブラシ対４１，４２
の上方及び下方には、ブラシ洗浄ノズル３９が配置され
ている。ブラシ洗浄ノズル３９は、ブラシに付着した残
渣がガラス基板１１に再付着しないように、上述したも
のと同じ処理液を噴射して、ブラシを洗浄するためのも
のである。

【００１３】図２に示すように、薬液噴射ノズル３６
は、ガラス基板１１の送り方向に直交する基板幅方向に
沿って配置されるノズルヘッド３６ａと、このノズルヘ
ッド３６ａの基板幅方向に所定ピッチで配置される複数
のノズル本体３６ｂとから構成されている。薬液噴射ノ
ズル３６は、ノズルシフト部４５により、ガラス基板１
１の幅方向に往復動自在に構成されており、その振幅、
送り速度が変更可能になっている。薬液噴射ノズル３６
の配置ピッチは、隣接するノズルの干渉を強く受けない
距離で、処理時間と装置の大きさを勘案して決定する
が、通常５０〜３００ｍｍ程度にするのが一般的であ
り、本実施例では、１６５ｍｍとする。薬液噴射ノズル
３７，３８及びブラシ洗浄ノズル３９も、薬液噴射ノズ
ル３６と同様に構成されている。

【００１４】ノズル本体３６ｂ，３７ｂ，３８ｂは、液
流量、噴霧圧力、噴霧角度などを勘案して決定するが、
本実施例では、経験上から、フラットスプレー１／８Ｍ
ＶＶＰ１１５１０ＰＰ（株式会社いけうち製）のノズル
を用いる。図３（ａ）に示すように、フラットスプレー
１／８ＭＶＶＰ１１５１０ＰＰ（株式会社いけうち製）
は、中央が強く両端にかけて次第に弱まる山形流量分布
の扇形噴霧を発生するものであり、図３（ｂ）に示すよ
うに上方から見ると、噴霧の断面形状であるスプレーパ
ターンは、横長で、両端にかけて次第に狭まっている。
このスプレーパターンの端が隣り合うノズルのスプレー
パターンの端とオーバーラップするようにノズルピッチ
を選定することにより、噴射される薬液のガラス基板１
１面における流量分布を、幅方向において均一にするこ
とができる。

【００１５】図４に示すように、薬液噴射ノズル３６
は、ガラス基板１１の搬送方向に複数設けられており、
それぞれの薬液噴射ノズル３６に設けられたノズル本体
３６ｂが、隣接する薬液噴射ノズル３６に設けられたノ
ズル本体３６ｂ間の中間に配置されるようになってい
る。

【００１６】ノズル本体３６ｂ，３７ｂ，３８ｂとガラ
ス基板１１との配置距離Ｌは、隣接するノズルの干渉を
強く受けない距離で、処理時間と装置の大きさを勘案し
て決定するが、通常２０〜１００ｍｍ程度にするのが一
般的であり、本実施例では、４５ｍｍとする。

【００１７】

【実施例１】基板現像処理機１０におけるガラス基板１
１に対する現像処理を最適な環境で行うために、薬液噴
射ノズル３６，３７，３８の配置ピッチを１６５ｍｍ、
ノズル本体３６ｂ，３７ｂ，３８ｂとガラス基板１１と
の配置距離Ｌを４５ｍｍとし、フラットスプレー１／８
ＭＶＶＰ１１５１０ＰＰ（株式会社いけうち製）のノズ
ルを用いて、ノズル本体３６ｂ，３７ｂ，３８ｂの噴霧
圧力Ｓの最適条件を実験により求める。そして、その最
適な噴霧圧力Ｓにて、１個のノズル本体３６ｂ，３７
ｂ，３８ｂでのガラス基板１１面における流量分布を測
定し、それに基づき、ノズル本体３６ｂ，３７ｂ，３８
ｂのノズルピッチＰの最適条件を算出により求める。図
５はこのときの処理手順を示すフローチャートである。

【００１８】まず、噴霧圧力Ｓを変更し、１個のノズル
本体３６ｂ，３７ｂ，３８ｂでのガラス基板１１面にお
ける流量分布を測定する実験を行った。なお、流量分布
とは、噴霧幅方向における噴霧量の分布状態を示し、噴
霧高さと噴霧圧力によって変化するものである。

【００１９】その実験結果を図６に示す。噴霧圧力Ｓを
変えると、噴霧角度Ａと噴霧量とが変化するだけでな
く、ガラス基板１１に当たる打力も変化するため、現像
しようとする膜によって最適圧力を決める必要がある。
本実施例では、ソフトな現像をするため、噴霧圧力Ｓと
して０．０５ＭＰａを選択した。なお、噴霧角度は、ノ
ズル近傍での角度を示し、噴霧量は、噴霧液の比重が軽
く、噴霧圧力が高いほど多くなるものである。

【００２０】上記設定内容を用いて、ノズルピッチＰを
５０〜１１０ｍｍに変更して、ガラス基板１１面におけ
る総合流量分布を算出した。その算出結果を図７及び図
８に示す。この算出結果から、ノズルピッチＰが８０ｍ
ｍの場合が最も均一性が高いと判断でき、ノズル本体３
６ｂ，３７ｂ，３８ｂのノズルピッチＰを８０ｍｍと設
定する。

【００２１】上述した実験に用いるガラス基板１１を作
成するために、まず、表１に示すような処方からなる塗
布液を、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフ
ィルムの仮支持体上に塗布し、乾燥させ、乾燥膜厚が１
５μｍの熱可塑性樹脂層を設ける。この熱可塑性樹脂層
は、複数色の画素を順次ラミネートにより形成する際、
既形成画素の存在に起因する気泡の混入を防止する機能
を有する。

【００２２】

【表１】

【００２３】次に、上述したように形成した熱可塑性樹
脂層上に、表２に示すような処方からなる塗布液を塗
布、乾燥させ、乾燥膜厚が１．６μｍの酸素遮断層を設
ける。この酸素遮断層は、次に酸素遮断層上に形成する
着色層と、熱可塑性樹脂層が混じり合わないようにする
ためのバリアー層として働くものである。また、酸素遮
断膜としての機能も有する。

【００２４】

【表２】

【００２５】そして、上述したように形成した酸素遮断
層上に、表３に示すような処方からなる赤色の感光性溶
液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が２μｍの赤色感光性樹
脂層を形成する。さらに、着色感光性樹脂層表面に厚さ
１２μｍのポリプロピレン製のフイルムをカバーフイル
ムとして貼り付ける。

【００２６】

【表３】

【００２７】上述したように形成された転写フイルム
を、図示しないラミネータにより、洗浄された厚さ０．
７ｍｍ、６８０ｍｍ×８８０ｍｍの透明ガラス基板（コ
ーニング＃１７３７）にラミネートする。まず、透明
ガラス基板をシランカップリング剤（信越化学社製Ｋ
ＢＭ−６０３）０．３％水溶液中に３０秒間浸漬後、３
０秒間純水でリンスし、エアーナイフで乾燥する。この
工程は、着色感光性樹脂層とガラスとの密着性を高める
ためのものである。次に、上述したように形成された赤
色転写フイルムのカバーフイルムを剥離しながら着色感
光性樹脂層面を１００℃に加熱した透明ガラス基板１１
ａに向けて、ラミネータを用いて加圧（２ＭＰａ）、加
熱（１３０℃）して貼り合わせる。そして、透明ガラス
基板１１ａが常温になった後、剥離界面と透明ガラス基
板１１ａ表面とをイオナイザーで除電しながら、仮支持
体を剥離する。次に、図示しない露光装置で、感光性着
色樹脂層の表面にフォトマスクを介して表４に示すよう
な処理条件で光を照射し、感光性着色樹脂層をパターン
状に露光すると、露光済みのガラス基板１１が得られ
る。

【００２８】上述したように形成されたガラス基板１１
を用い、表４に示すような処理条件で現像を行う。

【００２９】

【表４】

【００３０】なお、第１現像槽１２でノズル本体３６ｂ
から噴射され、感光性着色層の熱可塑性樹脂層及び酸素
遮断層を除去する第１現像処理液（以下、ＰＤという）
として、富士写真フイルム社製トランサー現像液Ｔ−Ｐ
Ｄ−２の１０％溶液を用い、その温度は３８℃とした。
また、パターニング槽１３でノズル本体３７ｂから噴射
され、感光性着色層の感光性樹脂層を現像する第２現像
処理液（以下、ＣＤという）として、富士写真フイルム
社製トランサー現像液Ｔ−ＣＤ−１の２０％現像液を用
い、その温度は３３℃とした。さらに、残渣除去槽１４
でノズル本体３８ｂから噴射され、非画素部の残渣を除
去する第３現像処理液（以下、ＳＤという）として、富
士写真フイルム社製トランサー現像液Ｔ−ＳＤ−１の現
像残膜除去液を用い、その温度は３３℃とした。また、
ガラス基板１１の搬送速度は３ｍ／分とし、各ロールブ
ラシ対４１，４２は、繊維径４５μｍ、毛足２０ｍｍの
アクリルロールブラシを用い、１００ｒｐｍで回転さ
せ、ガラス基板１１の残渣除去を行った。

【００３１】また、ポスト露光には、高圧水銀ランプを
用いて照射を行った。さらに、加熱時間は、コンベクシ
ョンオーブンでガラス基板１１が設定温度に達してから
の保持時間を示している。また、各槽１２〜１４での薬
液噴射ノズル３６、３７、３８のガラス基板１１の幅方
向の揺動ストロークは、片側１００ｍｍとし、そのサイ
クルは８ｓとした。

【００３２】このように、ガラス基板１１上にＲ画素パ
ターンが形成される。本実施例では、Ｒ画素形成につい
てのみ述べたが、同様にして、ガラス基板上にＧ及びＢ
の着色パターンを形成した後に、Ｋの感光性着色樹脂層
を熱転写し、これを感光性樹脂層の転写面とは反対側の
面から露光した後に現像して、ガラス基板にブラックマ
トリクスを形成する。なお、画素パターンは、２０イン
チの４面取り、画素サイズは９０μｍ×３００μｍでピ
ッチは３１５μｍ、画素数は１２８０×１０２４であ
る。

【００３３】薬液噴射ノズル３６，３７，３８の配置ピ
ッチを１６５ｍｍとし、ノズル本体３６ｂ，３７ｂ，３
８ｂとガラス基板１１との配置距離Ｌを４５ｍｍとし、
フラットスプレー１／８ＭＶＶＰ１１５１０ＰＰ（株式
会社いけうち製）のノズルを用い、ノズル本体３６ｂ，
３７ｂ，３８ｂの噴霧圧力Ｓを０．０５ＭＰａ、ノズル
本体３６ｂ，３７ｂ，３８ｂのノズルピッチＰを８０ｍ
ｍとそれぞれ最適な処理条件に設定して現像処理を行う
ことにより、画素サイズの面内分布が≦１．５μｍであ
り、十分な均一性を持つガラス基板１１を製造すること
ができた。

【００３４】図２に示すように、搬送ローラ３０は、ロ
ーラ軸３０ａとローラ本体３０ｂとガイドフランジロー
ラ３０ｃとを備えている。ローラ本体３０ｂはローラ軸
３０ａの軸方向で離して２個設けられているが、このロ
ーラ本体３０ｂの配置個数は１個または３個以上であっ
てもよい。ガイドフランジローラ３０ｃは、そのローラ
部がガラス基板１１の両側縁部の下面に接触して、ガラ
ス基板１１を支持するとともに、そのフランジ部がガラ
ス基板の両側縁に接触して基板幅方向でガラス基板１１
が移動することがないように案内する。なお、各槽１２
〜１９において、ガイドフランジローラ３０ｃを軸方向
で移動自在に構成し、ガラス基板１１のサイズに応じて
ガイド幅を変更させるようにしてもよい。

【００３５】図１に示すように、残渣除去槽１４内の搬
送ローラ３０における、ガイドフランジローラ３０ｃの
上方にはニップローラ３２が配置されている。このニッ
プローラ３２は、搬送ローラ３０と協働してガラス基板
１１をニップ搬送し、残渣除去槽１４を通過する際のガ
ラス基板１１のブラッシングによるずれを規制する。な
お、ニップローラ３２は省略してもよい。また、ニップ
ローラ３２は、必要に応じて他の搬送ローラ３０に設け
てもよい。

【００３６】図１に示すように、各リンス槽１５〜１８
には、水をガラス基板１１に向けて噴射する水噴射ノズ
ル７０が設けられている。この水噴射ノズル７０は、ガ
ラス基板１１の上面及び下面に対面する位置で設けられ
ており、薬液噴射ノズル３６とほぼ同様に構成されてい
る。また、最終リンス槽１８には純水製造装置から直接
配管によりピュアな純水が供給され、洗浄の仕上げが行
われる。

【００３７】各槽１２〜１９の間に設けられた液切りゾ
ーン２０には、ガラス基板１１を挟むように配置したエ
アー噴射ノズル７５が設けられている。液切りゾーン２
０のエアー噴射ノズル７５は、ガラス基板１１の搬送方
向において、搬送元の槽に向けてエアーが噴射するよう
に配置されている。したがって、第１現像槽１２から第
１リンス槽１５へガラス基板１１が移動する際に、第１
現像槽１２の薬液が第１リンス槽に入ることがない。同
様にして、ガラス基板１１が移動する際に、移動元から
移動先へ薬液または洗浄水が持ち込まれることがない。
なお、吹き出すエアー量は必要に応じて変えることがで
きる。また、液切りゾーン２０に図示しない位置決めガ
イドを設け、ガラス基板１１をその幅方向で位置決めし
てもよい。また、液切りのためのエアー噴射圧が高い
と、処理面状むらが発生する場合もある。この場合に
は、エアー噴射圧をゼロまたは極力絞ることにより、面
状むらの発生を抑える。

【００３８】水切り槽１９には、ガラス基板１１を上下
方向から挟むように、エアーナイフ８０が配置されてい
る。エアーナイフ８０はガラス基板１１の送り方向に交
差するようにそのエアー噴射ノズル８０ａ，８０ｂが上
方から見て斜めに配置されている。この斜め配置によ
り、ガラス基板１１に付着している水をガラス基板１１
の幅方向側縁に向けて吹き出し、液切れが効率よく行わ
れる。

【００３９】なお、上記実施形態では、液切りのため
に、エアーナイフ８０を用いたが、これはガス流ナイフ
であればよく、用いる気体は特に限定されない。例え
ば、空気の他に、窒素、水素、酸素などの各種気体を用
いてよい。同様にして、液切りゾーン２０の噴出気体も
特に限定されることなく、各種気体を用いてよい。ま
た、現像処理等を行う基板はガラス基板１１に限定され
ることなく、各種基板であってよい。

【００４０】さらに、上記実施形態では、現像槽、パタ
ーニング槽、残渣除去槽と３つの槽を設けて現像処理を
行ったが、１つの薬液処理槽で薬液を切り換えて現像処
理を行ってもよい。これにより、複数の薬液処理槽が不
要になり、現像処理機の設置スペースを小さくすること
ができる。

【００４１】

【発明の効果】本発明によれば、複数のスプレーノズル
を用いて基板に現像処理液または洗浄液を噴霧し、基板
を現像処理する場合において、スプレーノズルを１個用
いて使用噴霧領域及び噴霧圧力における流量分布を求
め、この流量分布に基づき複数のスプレーノズルをライ
ン状に並べてノズルピッチを変えたときの総合流量分布
を求め、この総合流量分布のうち最も均一な流量分布と
なるノズルピッチを最適ノズルピッチとし、この最適ノ
ズルピッチにより複数のスプレーノズルをライン状に並
べて、液を基板に噴霧するようにしたから、現像処理液
などを基板にほぼ均一に噴霧することができ、現像ムラ
のない基板が得られる。

【００４２】また、複数のスプレーノズルを最適ノズル
ピッチでライン状に配置した複数のノズルヘッドを設
け、この複数のノズルヘッドを、基板の送り方向に離し
て配置するとともに、隣接するノズルヘッドのスプレー
ノズルが千鳥状に配列することにより、より一層現像ム
ラを抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の現像処理機の概略を示す正面図であ
る。

【図２】薬液噴射中の一例を示す側面図である。

【図３】薬液噴射ノズルのスプレーパターンを示す概略
図である。

【図４】搬送ローラと薬液噴射ノズルとを示す平面図で
ある。

【図５】本発明の基板現像処理機の最適条件を設定する
ための処理手順の流れを示すフローチャートである。

【図６】噴霧圧力及び噴霧角度を変更し、１個のノズル
でのガラス基板面における流量分布を測定した結果を示
す線図である。

【図７】ノズルピッチを変更して、ガラス基板面におけ
る総合流量分布を算出した結果を示す線図である。

【図８】ノズルピッチを変更して、ガラス基板面におけ
る総合流量分布を算出した結果を示す線図である。

【符号の説明】

１０基板現像処理機１１ガラス基板１２第１現像槽１３第２現像槽（パターニング槽）１４残渣除去槽１５〜１８リンス槽（洗浄槽）１９水切り槽２０液切りゾーン２１基板搬送部３０搬送ローラ３６，３７，３８薬液噴射ノズル３６ａ、３７ａ、３８ａノズルヘッド３６ｂ、３７ｂ、３８ｂノズル本体４５ノズルシフト部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H048 BA02 BA11 BA45 BA48 BB02 BB22 BB42 2H096 AA28 BA05 BA20 EA02 GA08 GA17 GA21 4F033 AA04 AA14 BA03 CA04 DA05 EA06 5F046 LA11

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数のスプレーノズルを用いてシート状
物に液を噴霧する液噴霧方法において、前記スプレーノズルを１個用いて使用噴霧領域及び噴霧
圧力における流量分布を求め、前記流量分布に基づき複数のスプレーノズルをライン状
に並べてノズルピッチを変えたときの総合流量分布を求
め、この総合流量分布のうち最も均一な流量分布となるノズ
ルピッチを最適ノズルピッチとし、この最適ノズルピッ
チにより前記複数のスプレーノズルをライン状に並べ
て、液を前記シート状物に噴霧することを特徴とする液
噴霧方法。
【請求項２】請求項１記載の液噴霧方法を用いて、前
記シート状物としての基板に現像処理液または洗浄液を
噴霧し、基板を現像処理することを特徴とする基板現像
処理方法。
【請求項３】請求項１記載の液噴霧方法を実施した液
噴霧装置を用いて、前記シート状物としての基板に現像
処理液または洗浄液を噴霧し、基板を現像処理すること
を特徴とする基板現像処理装置。
【請求項４】前記液噴霧装置は、前記複数のスプレー
ノズルを前記最適ノズルピッチでライン状に配置した複
数のノズルヘッドであり、前記複数のノズルヘッドは前記基板の送り方向に離して
配置され、且つ隣接するノズルヘッドのスプレーノズル
が千鳥状に配列されることを特徴とする請求項３記載の
基板現像処理装置。
【請求項５】前記基板は感光性着色樹脂層をパターン
状に露光した基板であり、前記液噴霧装置は、前記感光性着色樹脂層を現像処理す
る現像処理槽、現像処理後の基板表面に残る現像残渣を
除去する残渣除去槽、または基板を洗浄する洗浄槽の少
なくとも１つに設けられていることを特徴とする請求項
３または４記載の基板現像処理装置。