JP2001188211A - 液晶表示素子用電極基板の現像装置 - Google Patents
液晶表示素子用電極基板の現像装置Info
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- JP2001188211A JP2001188211A JP37231899A JP37231899A JP2001188211A JP 2001188211 A JP2001188211 A JP 2001188211A JP 37231899 A JP37231899 A JP 37231899A JP 37231899 A JP37231899 A JP 37231899A JP 2001188211 A JP2001188211 A JP 2001188211A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 現像室外への現像液の液跳ねがなく、特に電
極基板に感光性樹脂による光拡散層を形成するのに好適
な現像装置を得る。 【解決手段】 露光済み電極基板１を搬送する搬送手段
２０上に設けられた現像室１０を有し、同現像室内１０
に電極基板１の被露光面に対して現像液を吹き付けるス
プレー１１が設けられている液晶表示素子用電極基板の
枚葉型現像装置において、現像室１０の基板搬入部側
に、エアーナイフ型スリットノズル１３を設けてエアー
カーテンを形成し、スプレー１１より吹き出された現像
液の搬送手段上流側への液跳ねを防止する。
極基板に感光性樹脂による光拡散層を形成するのに好適
な現像装置を得る。 【解決手段】 露光済み電極基板１を搬送する搬送手段
２０上に設けられた現像室１０を有し、同現像室内１０
に電極基板１の被露光面に対して現像液を吹き付けるス
プレー１１が設けられている液晶表示素子用電極基板の
枚葉型現像装置において、現像室１０の基板搬入部側
に、エアーナイフ型スリットノズル１３を設けてエアー
カーテンを形成し、スプレー１１より吹き出された現像
液の搬送手段上流側への液跳ねを防止する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子用電極
基板の現像装置に関し、さらに詳しく言えば、反射型液
晶表示素子に用いられる一方の電極基板に感光性樹脂を
用いてフォトリソ法により微細な凹凸を形成するのに好
適な現像装置に関するものである。
基板の現像装置に関し、さらに詳しく言えば、反射型液
晶表示素子に用いられる一方の電極基板に感光性樹脂を
用いてフォトリソ法により微細な凹凸を形成するのに好
適な現像装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子のパネル製造工程には、露
光工程と現像工程とが組み込まれており、多くの場合、
現像工程には枚葉型の現像装置が備えられている。従来
において、この現像装置はもっぱらＩＴＯ（インジウム
錫酸化物）のエッチング用レジストなどを形成するため
に用いられている。
光工程と現像工程とが組み込まれており、多くの場合、
現像工程には枚葉型の現像装置が備えられている。従来
において、この現像装置はもっぱらＩＴＯ（インジウム
錫酸化物）のエッチング用レジストなどを形成するため
に用いられている。
【０００３】その一例を図２により説明すると、パネル
製造に用いられる枚葉型現像装置は、前工程で露光処理
された電極基板１を搬送するローラコンベア２上に設け
られた現像室３を有し、この現像室３内には電極基板１
の被露光面に所定の現像液を吹き付けるスプレー３ａが
設けられている。
製造に用いられる枚葉型現像装置は、前工程で露光処理
された電極基板１を搬送するローラコンベア２上に設け
られた現像室３を有し、この現像室３内には電極基板１
の被露光面に所定の現像液を吹き付けるスプレー３ａが
設けられている。
【０００４】通常、現像室３の下流側にはリンス室４が
配置されており、このリンス室４にも洗浄液を吹き付け
るスプレー４ａが設けられている。露光済み電極基板１
は、ローラコンベア２にてその基板の下流側端部より順
次に現像室３内に送り込まれ現像処理された後、リンス
室４に入り洗浄される。
配置されており、このリンス室４にも洗浄液を吹き付け
るスプレー４ａが設けられている。露光済み電極基板１
は、ローラコンベア２にてその基板の下流側端部より順
次に現像室３内に送り込まれ現像処理された後、リンス
室４に入り洗浄される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、携帯電話機
などでは、近年省電力の液晶表示素子として反射型でカ
ラー表示のものが開発されているが、光の利用効率の改
善および表示ぼけを解消するために、一部の機種では電
極基板の素子内面側に微細な凹凸よりなる光拡散層を形
成することが行なわれている。
などでは、近年省電力の液晶表示素子として反射型でカ
ラー表示のものが開発されているが、光の利用効率の改
善および表示ぼけを解消するために、一部の機種では電
極基板の素子内面側に微細な凹凸よりなる光拡散層を形
成することが行なわれている。
【０００６】この光拡散層を形成する方法の一つとし
て、感光性樹脂を用いてフォトリソ法で形成する方法が
ある。すなわち、この方法によれば、電極基板（ガラス
基板）上に例えばネガ型の感光性樹脂を塗布し、凹凸形
成用のフォトマスクをかけて露光し現像することによ
り、ガラス基板上に微細な凹凸を有する光拡散層が形成
される。
て、感光性樹脂を用いてフォトリソ法で形成する方法が
ある。すなわち、この方法によれば、電極基板（ガラス
基板）上に例えばネガ型の感光性樹脂を塗布し、凹凸形
成用のフォトマスクをかけて露光し現像することによ
り、ガラス基板上に微細な凹凸を有する光拡散層が形成
される。
【０００７】このフォトリソ法により凹凸を形成するう
えで、現像での制御が重要であるため、上述した従来の
枚葉型現像装置をそのまま適用できない。すなわち、従
来の現像装置では、スプレーから吹き出された現像液の
液跳ねが現像室３から漏れ出るため、その液跳ねが現像
室３の基板搬入部側に待機している露光済み電極基板に
付着し、感光性樹脂にピンホールやクレータが発生する
おそれがある。
えで、現像での制御が重要であるため、上述した従来の
枚葉型現像装置をそのまま適用できない。すなわち、従
来の現像装置では、スプレーから吹き出された現像液の
液跳ねが現像室３から漏れ出るため、その液跳ねが現像
室３の基板搬入部側に待機している露光済み電極基板に
付着し、感光性樹脂にピンホールやクレータが発生する
おそれがある。
【０００８】また、現像液が電極基板の下流側から順次
塗布されるので、搬送速度や現像液の塗れ性（広がり
性）によっては、電極基板の上流側と下流側とで現像処
理時間に差が発生してしまう。これを防止するには、ス
ピンによるパドル現像方式を採用すればよいのである
が、パドル現像は装置が高価であるうえに、搬送の制御
も複雑でタクトが長くなるため、好ましい解決策ではな
い。
塗布されるので、搬送速度や現像液の塗れ性（広がり
性）によっては、電極基板の上流側と下流側とで現像処
理時間に差が発生してしまう。これを防止するには、ス
ピンによるパドル現像方式を採用すればよいのである
が、パドル現像は装置が高価であるうえに、搬送の制御
も複雑でタクトが長くなるため、好ましい解決策ではな
い。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような課
題を解決するためになされたもので、その目的は、現像
室外への現像液の液跳ねがなく、特に電極基板に感光性
樹脂による光拡散層を形成するのに好適な液晶表示素子
用電極基板の現像装置を提供することにある。
題を解決するためになされたもので、その目的は、現像
室外への現像液の液跳ねがなく、特に電極基板に感光性
樹脂による光拡散層を形成するのに好適な液晶表示素子
用電極基板の現像装置を提供することにある。
【００１０】上記目的を達成するため、本発明は、前工
程で露光処理された電極基板を搬送する搬送手段上に設
けられた現像室を有し、同現像室内には上記電極基板の
被露光面に対して現像液を吹き付けるスプレーが設けら
れている液晶表示素子用電極基板の現像装置において、
上記現像室の基板搬入部側には、上記スプレーより吹き
出された現像液の上記搬送手段上流側への液跳ねを防止
するためのエアーカーテンを形成するエアーナイフ型ス
リットノズルが設けられていることを特徴としている。
程で露光処理された電極基板を搬送する搬送手段上に設
けられた現像室を有し、同現像室内には上記電極基板の
被露光面に対して現像液を吹き付けるスプレーが設けら
れている液晶表示素子用電極基板の現像装置において、
上記現像室の基板搬入部側には、上記スプレーより吹き
出された現像液の上記搬送手段上流側への液跳ねを防止
するためのエアーカーテンを形成するエアーナイフ型ス
リットノズルが設けられていることを特徴としている。
【００１１】本発明において、上記エアーナイフ型スリ
ットノズルの空気吹き出し角度は、上記搬送手段の下流
側に向けて１０〜５０゜であることが好ましく、これに
よれば、現像室外への現像液の液跳ねをより確実に防止
することができる。
ットノズルの空気吹き出し角度は、上記搬送手段の下流
側に向けて１０〜５０゜であることが好ましく、これに
よれば、現像室外への現像液の液跳ねをより確実に防止
することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】次に、図１により本発明の実施例
を説明する。この実施例に係る現像装置も先に説明した
枚葉型現像装置の形態を踏襲している。
を説明する。この実施例に係る現像装置も先に説明した
枚葉型現像装置の形態を踏襲している。
【００１３】すなわち、この現像装置の現像室１０は、
電極基板１を搬送するローラコンベア２０上に配置され
ている。この実施例において、電極基板１は光拡散層を
得るため、その一方の面に感光性樹脂が塗布され、前工
程で露光処理されたものである。なお、搬送手段はチェ
ーンコンベアなどであってもよく、搬送手段に特に制限
はない。
電極基板１を搬送するローラコンベア２０上に配置され
ている。この実施例において、電極基板１は光拡散層を
得るため、その一方の面に感光性樹脂が塗布され、前工
程で露光処理されたものである。なお、搬送手段はチェ
ーンコンベアなどであってもよく、搬送手段に特に制限
はない。
【００１４】現像室１０内には、電極基板１の被露光面
に現像液を吹き付けるスプレー１１が設けられている。
スプレー１１の数や形式は任意であってよい。ローラコ
ンベア２０の下方には、現像液を回収するためのトレー
１２が配置されている。この実施例において、回収され
た現像液は循環ポンプにより汲み上げられ再利用され
る。
に現像液を吹き付けるスプレー１１が設けられている。
スプレー１１の数や形式は任意であってよい。ローラコ
ンベア２０の下方には、現像液を回収するためのトレー
１２が配置されている。この実施例において、回収され
た現像液は循環ポンプにより汲み上げられ再利用され
る。
【００１５】現像室１０の基板搬入部側には、エアーカ
ーテン（空気仕切）を形成するためのエアーナイフ型ス
リットノズル（エアーノズル）１３が設けられている。
エアーノズル１３とローラコンベア２０との間は、電極
基板１が通過し得る幅が確保されていればよい。図１に
おいて、ローラコンベア２０の左側が上流で、右側が下
流であるすると、エアーノズル１３は下流側に向けて傾
けられている。エアーノズル１３からの空気吹き出し角
度は１０〜５０゜であることが好ましい。
ーテン（空気仕切）を形成するためのエアーナイフ型ス
リットノズル（エアーノズル）１３が設けられている。
エアーノズル１３とローラコンベア２０との間は、電極
基板１が通過し得る幅が確保されていればよい。図１に
おいて、ローラコンベア２０の左側が上流で、右側が下
流であるすると、エアーノズル１３は下流側に向けて傾
けられている。エアーノズル１３からの空気吹き出し角
度は１０〜５０゜であることが好ましい。
【００１６】現像室１０の下流側にはリンス室３０が配
置されている。リンス室３０内には電極基板１に洗浄液
を吹き付けるスプレー３１が設けられている。このリン
ス室３０の基板搬入部側にも、現像室１０と同じくエア
ーカーテンを形成するためのエアーノズル３２が設けら
れている。エアーノズル１３と３２は同一構成であって
よい。なお、ローラコンベア２０の下方で、エアーノズ
ル１３と３２に対向する位置には、液飛散防止マット４
１，４１がそれぞれ配置されている。
置されている。リンス室３０内には電極基板１に洗浄液
を吹き付けるスプレー３１が設けられている。このリン
ス室３０の基板搬入部側にも、現像室１０と同じくエア
ーカーテンを形成するためのエアーノズル３２が設けら
れている。エアーノズル１３と３２は同一構成であって
よい。なお、ローラコンベア２０の下方で、エアーノズ
ル１３と３２に対向する位置には、液飛散防止マット４
１，４１がそれぞれ配置されている。
【００１７】この実施例によると、現像室１０の上流側
の所定箇所に電極基板１を検出するセンサー５０が設置
されており、このセンサー５０からの信号に基づいて図
示しない制御装置により、現像室１０、リンス室３０お
よびローラコンベア２０が制御される。
の所定箇所に電極基板１を検出するセンサー５０が設置
されており、このセンサー５０からの信号に基づいて図
示しない制御装置により、現像室１０、リンス室３０お
よびローラコンベア２０が制御される。
【００１８】次に、この現像装置の動作を説明する。な
お、エアーノズル１３，３２は常時駆動されているもの
とする。まず、センサー５０にて１枚目の電極基板１の
到来が検知されると、ローラコンベア２０の搬送速度が
速められ、電極基板１が素早く現像室１０内に送り込ま
れる。なお、２枚目の電極基板１は所定の待機位置に止
められる。
お、エアーノズル１３，３２は常時駆動されているもの
とする。まず、センサー５０にて１枚目の電極基板１の
到来が検知されると、ローラコンベア２０の搬送速度が
速められ、電極基板１が素早く現像室１０内に送り込ま
れる。なお、２枚目の電極基板１は所定の待機位置に止
められる。
【００１９】電極基板１が現像室１０内に完全に送り込
まれた状態で、ローラコンベア２０が一旦止められ、す
べてのスプレー１１から電極基板１の片面全面に対して
一気に現像液が所定時間吹き付けられ現像処理が行なわ
れる。現像液の吹き付けにより液跳ねが生ずるが、現像
室１０の基板搬入部にはエアーノズル１３によりエアー
カーテンが形成されているため、その液跳ねが現像室１
０外に飛び出ることはない。
まれた状態で、ローラコンベア２０が一旦止められ、す
べてのスプレー１１から電極基板１の片面全面に対して
一気に現像液が所定時間吹き付けられ現像処理が行なわ
れる。現像液の吹き付けにより液跳ねが生ずるが、現像
室１０の基板搬入部にはエアーノズル１３によりエアー
カーテンが形成されているため、その液跳ねが現像室１
０外に飛び出ることはない。
【００２０】現像処理が終了すると、スプレー１１が止
められるとともに、再びローラコンベア２０が動き、１
枚目の電極基板１がリンス室３０に送り込まれる。１枚
目の電極基板１がリンス室３０に完全に送り込まれたこ
とが確認されると、待機位置に置かれていた２枚目の電
極基板１が現像室１０内に素早く送り込まれる。
められるとともに、再びローラコンベア２０が動き、１
枚目の電極基板１がリンス室３０に送り込まれる。１枚
目の電極基板１がリンス室３０に完全に送り込まれたこ
とが確認されると、待機位置に置かれていた２枚目の電
極基板１が現像室１０内に素早く送り込まれる。
【００２１】そして、２枚目の電極基板１が現像室１０
内に完全に送り込まれた状態で、今度は、現像室１０の
スプレー１１から現像液が、また、リンス室３０のスプ
レー３１から洗浄液がそれぞれ一気に所定時間吹き出さ
れ、現像室１０内では２枚目の電極基板１が現像される
とともに、リンス室３０内では１枚目の電極基板１の洗
浄が行なわれる。
内に完全に送り込まれた状態で、今度は、現像室１０の
スプレー１１から現像液が、また、リンス室３０のスプ
レー３１から洗浄液がそれぞれ一気に所定時間吹き出さ
れ、現像室１０内では２枚目の電極基板１が現像される
とともに、リンス室３０内では１枚目の電極基板１の洗
浄が行なわれる。
【００２２】この場合、リンス室３０の基板搬入部にも
エアーノズル３２によるエアーカーテンが形成されてい
るため、洗浄液が現像室１０内に入り込むおそれはな
い。以後、同様にして電極基板１の現像と洗浄が繰り返
される。
エアーノズル３２によるエアーカーテンが形成されてい
るため、洗浄液が現像室１０内に入り込むおそれはな
い。以後、同様にして電極基板１の現像と洗浄が繰り返
される。
【００２３】この現像装置で現像したフォトリソ法によ
る凹凸パターンには、現像液の液跳ねによるピンホール
やクレータの発生はなかった。また、電極基板の上流側
と下流側とで現像処理時間の差がほとんどなく、光拡散
層の全面にわたってほぼ均一な反射特性が得られた。
る凹凸パターンには、現像液の液跳ねによるピンホール
やクレータの発生はなかった。また、電極基板の上流側
と下流側とで現像処理時間の差がほとんどなく、光拡散
層の全面にわたってほぼ均一な反射特性が得られた。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
現像室の基板搬入部側に、エアーナイフ型スリットノズ
ルを設けてエアーカーテンを形成するようにしたことに
より、現像室外への現像液の液跳ねがなく、特に電極基
板に感光性樹脂による光拡散層を形成するのに好適な現
像装置が得られる。
現像室の基板搬入部側に、エアーナイフ型スリットノズ
ルを設けてエアーカーテンを形成するようにしたことに
より、現像室外への現像液の液跳ねがなく、特に電極基
板に感光性樹脂による光拡散層を形成するのに好適な現
像装置が得られる。
【図１】本発明による現像装置の一実施例を示した模式
図。
図。
【図２】従来の枚葉型現像装置を示した模式図。
１ 電極基板 １０ 現像室 １２ 現像液回収トレー １１，３１ スプレー １３，３２ エアーノズル ２０ コーラコンベア（搬送手段） ５０ センサー
Claims (3)
- 【請求項１】 前工程で露光処理された電極基板を搬送
する搬送手段上に設けられた現像室を有し、同現像室内
には上記電極基板の被露光面に対して現像液を吹き付け
るスプレーが設けられている液晶表示素子用電極基板の
現像装置において、 上記現像室の基板搬入部側には、上記スプレーより吹き
出された現像液の上記搬送手段上流側への液跳ねを防止
するためのエアーカーテンを形成するエアーナイフ型ス
リットノズルが設けられていることを特徴とする液晶表
示素子用電極基板の現像装置。 - 【請求項２】 上記エアーナイフ型スリットノズルの空
気吹き出し角度が上記搬送手段の下流側に向けて１０〜
５０゜とされている請求項１に記載の液晶表示素子用電
極基板の現像装置。 - 【請求項３】 上記電極基板が、感光性樹脂により微細
な凹凸が付与される内面拡散方式の反射型液晶表示素子
用電極基板である請求項１または２に記載の液晶表示素
子用電極基板の現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP37231899A JP2001188211A (ja) | 1999-12-28 | 1999-12-28 | 液晶表示素子用電極基板の現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP37231899A JP2001188211A (ja) | 1999-12-28 | 1999-12-28 | 液晶表示素子用電極基板の現像装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001188211A true JP2001188211A (ja) | 2001-07-10 |
Family
ID=18500248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP37231899A Pending JP2001188211A (ja) | 1999-12-28 | 1999-12-28 | 液晶表示素子用電極基板の現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001188211A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008277682A (ja) * | 2007-05-07 | 2008-11-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2009140990A (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2010051901A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の処理装置及び処理方法 |
| TWI479585B (zh) * | 2007-06-15 | 2015-04-01 | Nuflare Technology Inc | 氣相成長裝置及氣相成長方法 |
| CN117311106A (zh) * | 2023-11-17 | 2023-12-29 | 深圳市龙图光罩股份有限公司 | 显影方法及显影装置 |
-
1999
- 1999-12-28 JP JP37231899A patent/JP2001188211A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008277682A (ja) * | 2007-05-07 | 2008-11-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| TWI467643B (zh) * | 2007-05-07 | 2015-01-01 | Screen Holdings Co Ltd | Substrate processing device |
| TWI479585B (zh) * | 2007-06-15 | 2015-04-01 | Nuflare Technology Inc | 氣相成長裝置及氣相成長方法 |
| JP2009140990A (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2010051901A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の処理装置及び処理方法 |
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| CN117311106B (zh) * | 2023-11-17 | 2024-02-09 | 深圳市龙图光罩股份有限公司 | 显影方法及显影装置 |
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