JP3236742B2 - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
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- JP3236742B2 JP3236742B2 JP25910794A JP25910794A JP3236742B2 JP 3236742 B2 JP3236742 B2 JP 3236742B2 JP 25910794 A JP25910794 A JP 25910794A JP 25910794 A JP25910794 A JP 25910794A JP 3236742 B2 JP3236742 B2 JP 3236742B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプレイ用の
ガラス基板を洗浄する洗浄ユニットを備えた塗布装置に
関する。
ガラス基板を洗浄する洗浄ユニットを備えた塗布装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、液晶表示ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）装置の製造工程においては、ＬＣＤ基板（ガラス基
板）上に例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉ
ｄｅ）の薄膜や電極パターン等を形成するために、半導
体製造工程において用いられるものと同様なフォトリソ
グラフィ技術を用いて回路パターン等を縮小してフォト
レジストに転写し、これを現像処理する一連の処理が施
される。
Ｄ）装置の製造工程においては、ＬＣＤ基板（ガラス基
板）上に例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉ
ｄｅ）の薄膜や電極パターン等を形成するために、半導
体製造工程において用いられるものと同様なフォトリソ
グラフィ技術を用いて回路パターン等を縮小してフォト
レジストに転写し、これを現像処理する一連の処理が施
される。
【０００３】このような処理においては、ガラス基板上
にレジスト液を塗布し、その後露光工程、現像工程が行
われるが、こうした一連の所定の処理を行う前に、回路
パターンの欠陥発生や配線のショートなどを防止するた
めにレジスト液が塗布されるガラス基板の表面を洗浄す
ると共に、露光時の焦点のずれやパーティクルの発生を
防止するためにガラス基板の裏面をも洗浄する必要があ
る。
にレジスト液を塗布し、その後露光工程、現像工程が行
われるが、こうした一連の所定の処理を行う前に、回路
パターンの欠陥発生や配線のショートなどを防止するた
めにレジスト液が塗布されるガラス基板の表面を洗浄す
ると共に、露光時の焦点のずれやパーティクルの発生を
防止するためにガラス基板の裏面をも洗浄する必要があ
る。
【０００４】このため塗布・現像装置の中には、洗浄装
置が設けられている。図１１は従来の洗浄装置の概略を
示す図であり、この装置では、ガラス基板Ｇの両側縁の
例えば端から５〜１０ｍｍの領域を送りローラＲにより
両面側から、挟圧してガラス基板Ｇを一方向に送りなが
ら、図示しないノズルから洗浄水をガラス基板Ｇの両面
に吹き付け、ガラス基板Ｇの幅方向に沿って伸びる回転
ブラシＢによりガラス基板Ｇの両面を洗浄している。
置が設けられている。図１１は従来の洗浄装置の概略を
示す図であり、この装置では、ガラス基板Ｇの両側縁の
例えば端から５〜１０ｍｍの領域を送りローラＲにより
両面側から、挟圧してガラス基板Ｇを一方向に送りなが
ら、図示しないノズルから洗浄水をガラス基板Ｇの両面
に吹き付け、ガラス基板Ｇの幅方向に沿って伸びる回転
ブラシＢによりガラス基板Ｇの両面を洗浄している。
【０００５】
【発明が解決しようとしている課題】しかしながら上述
の洗浄装置ではガラス基板Ｇを移動させながら洗浄を行
っているため、横方向（進行方向）については、ガラス
基板Ｇの長さのおよそ２倍のスペースが少なくとも必要
である。ここでＬＣＤパネルの大型化に伴いガラス基板
Ｇのサイズが大きくなっており、ガラス基板Ｇの２枚分
のスペースを確保すると洗浄装置の占有面積が広くなっ
てしまう。一方塗布・現像装置は、洗浄装置、冷却装
置、塗布装置、現像装置など多くの処理装置が組み込ま
れており、単位面積当りのコストが非常に高価なクリー
ンルーム内に設置するために、冷却装置や加熱装置など
を多段化したり、搬送系の構造を工夫して小型化を図る
ようにしている。従って従来の洗浄装置は塗布・現像の
小型化を阻んでいるという問題がある。
の洗浄装置ではガラス基板Ｇを移動させながら洗浄を行
っているため、横方向（進行方向）については、ガラス
基板Ｇの長さのおよそ２倍のスペースが少なくとも必要
である。ここでＬＣＤパネルの大型化に伴いガラス基板
Ｇのサイズが大きくなっており、ガラス基板Ｇの２枚分
のスペースを確保すると洗浄装置の占有面積が広くなっ
てしまう。一方塗布・現像装置は、洗浄装置、冷却装
置、塗布装置、現像装置など多くの処理装置が組み込ま
れており、単位面積当りのコストが非常に高価なクリー
ンルーム内に設置するために、冷却装置や加熱装置など
を多段化したり、搬送系の構造を工夫して小型化を図る
ようにしている。従って従来の洗浄装置は塗布・現像の
小型化を阻んでいるという問題がある。
【０００６】本発明は、このような事情の下になされた
ものであり、その目的は、液晶ディスプレイ用のガラス
基板を洗浄する洗浄ユニットとガラス基板上に塗布処理
を行う塗布ユニットを備えた塗布装置において、装置の
小型化を図ることにある。
ものであり、その目的は、液晶ディスプレイ用のガラス
基板を洗浄する洗浄ユニットとガラス基板上に塗布処理
を行う塗布ユニットを備えた塗布装置において、装置の
小型化を図ることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、複数枚の液晶
ディスプレイ用のガラス基板を収納したキャリアが載置
されるキャリアステージと、ガラス基板を洗浄する洗浄
ユニットと、洗浄後のガラス基板に対して塗布処理する
塗布ユニットと、前記キャリアステージに載置されたキ
ャリアから取り出されたガラス基板を前記洗浄ユニット
に搬送し、次いで塗布ユニットに搬送するためのメイン
アームと、を備えた塗布装置において、前記洗浄ユニッ
トは、メインアームから搬送されたガラス基板の両側縁
を当該ガラス基板が水平になるように保持する保持手段
と、この保持手段により保持されたガラス基板の一面を
洗浄する洗浄部と、この洗浄部をガラス基板の一縁から
他縁に向かって移動させる移動手段と、前記洗浄部で洗
浄されたガラス基板の他面を当該洗浄部で洗浄するため
に、前記ガラス基板の水平な中心軸を回転軸として前記
保持手段を回転させて当該ガラス基板を反転させる反転
手段と、を備えていることを特徴とする。
ディスプレイ用のガラス基板を収納したキャリアが載置
されるキャリアステージと、ガラス基板を洗浄する洗浄
ユニットと、洗浄後のガラス基板に対して塗布処理する
塗布ユニットと、前記キャリアステージに載置されたキ
ャリアから取り出されたガラス基板を前記洗浄ユニット
に搬送し、次いで塗布ユニットに搬送するためのメイン
アームと、を備えた塗布装置において、前記洗浄ユニッ
トは、メインアームから搬送されたガラス基板の両側縁
を当該ガラス基板が水平になるように保持する保持手段
と、この保持手段により保持されたガラス基板の一面を
洗浄する洗浄部と、この洗浄部をガラス基板の一縁から
他縁に向かって移動させる移動手段と、前記洗浄部で洗
浄されたガラス基板の他面を当該洗浄部で洗浄するため
に、前記ガラス基板の水平な中心軸を回転軸として前記
保持手段を回転させて当該ガラス基板を反転させる反転
手段と、を備えていることを特徴とする。
【０００８】
【作用】本発明においては、ガラス基板の一面を洗浄し
た後そのガラス基板を反転させ、他面を洗浄するように
しているため、洗浄部をガラス基板の一面側に配置すれ
ばよく、従って洗浄部を大掛りな構造としなくてよい。
た後そのガラス基板を反転させ、他面を洗浄するように
しているため、洗浄部をガラス基板の一面側に配置すれ
ばよく、従って洗浄部を大掛りな構造としなくてよい。
【０００９】
【実施例】以下に本発明を、レジスト塗布・現像装置に
用いられる洗浄装置（洗浄ユニット）に適用した実施例
について説明する。先ず本発明の実施例に係る洗浄装置
を説明する前に塗布・現像装置の全体構成について図１
を参照しながら簡単に述べておく。図１中１ａはキャリ
アステージ、１ｂは搬送機構であり、被処理基板、例え
ばＬＣＤパネルに用いられるガラス基板Ｇを複数枚収納
したキャリア１ｃが載置される。１１、１２は基板搬送
用のメインアーム、１０は中継部であり、キャリア１ｃ
内のガラス基板Ｇは、搬送機構１ｂ及びメインアーム１
１を介して本発明の実施例に係る洗浄装置１３に搬送さ
れ、ブラシにより水洗される。その後必要に応じてジェ
ット水洗装置１４にてガラス基板Ｇは、ジェット水洗さ
れ、更にアドヒージョン処理部１５にて疎水化処理が施
され、冷却処理部１６にて冷却された後、塗布（塗布ユ
ニット）装置１７にてフォトレジスト膜すなわち感光膜
が塗布形成される。そして、このフォトレジスト膜が加
熱処理部１８にて加熱されてプリベーキング処理が施さ
れた後、この装置の右側に配置された図示しない露光装
置にて所定のパターンが露光される。そして、露光後の
ガラス基板は現像処理部１９内へ搬送され、現像液によ
り現像された後、メインアーム１２、１１及び搬送機構
１ｂを通じて例えば元のキャリア１ｃ内に戻される。
用いられる洗浄装置（洗浄ユニット）に適用した実施例
について説明する。先ず本発明の実施例に係る洗浄装置
を説明する前に塗布・現像装置の全体構成について図１
を参照しながら簡単に述べておく。図１中１ａはキャリ
アステージ、１ｂは搬送機構であり、被処理基板、例え
ばＬＣＤパネルに用いられるガラス基板Ｇを複数枚収納
したキャリア１ｃが載置される。１１、１２は基板搬送
用のメインアーム、１０は中継部であり、キャリア１ｃ
内のガラス基板Ｇは、搬送機構１ｂ及びメインアーム１
１を介して本発明の実施例に係る洗浄装置１３に搬送さ
れ、ブラシにより水洗される。その後必要に応じてジェ
ット水洗装置１４にてガラス基板Ｇは、ジェット水洗さ
れ、更にアドヒージョン処理部１５にて疎水化処理が施
され、冷却処理部１６にて冷却された後、塗布（塗布ユ
ニット）装置１７にてフォトレジスト膜すなわち感光膜
が塗布形成される。そして、このフォトレジスト膜が加
熱処理部１８にて加熱されてプリベーキング処理が施さ
れた後、この装置の右側に配置された図示しない露光装
置にて所定のパターンが露光される。そして、露光後の
ガラス基板は現像処理部１９内へ搬送され、現像液によ
り現像された後、メインアーム１２、１１及び搬送機構
１ｂを通じて例えば元のキャリア１ｃ内に戻される。
【００１０】次に本発明の実施例に係る洗浄装置につい
て図２及び図３を参照しながら説明する。この洗浄装置
は、被処理基板として方形状のガラス基板Ｇの周縁部の
相対する両側縁を凹部に嵌込んだ状態で保持する一対の
保持アーム２１、２２と、この保持アーム２１、２２を
Ｘ方向に開閉する駆動部２３、２４と、ガラス基板Ｇの
両面を洗浄するための一対の洗浄部３ａ、３ｂと、ガラ
ス基板Ｇの下方側に昇降機構４１により昇降し、ガラス
基板Ｇを上面に保持する昇降ステージ４２と、を有して
いる。
て図２及び図３を参照しながら説明する。この洗浄装置
は、被処理基板として方形状のガラス基板Ｇの周縁部の
相対する両側縁を凹部に嵌込んだ状態で保持する一対の
保持アーム２１、２２と、この保持アーム２１、２２を
Ｘ方向に開閉する駆動部２３、２４と、ガラス基板Ｇの
両面を洗浄するための一対の洗浄部３ａ、３ｂと、ガラ
ス基板Ｇの下方側に昇降機構４１により昇降し、ガラス
基板Ｇを上面に保持する昇降ステージ４２と、を有して
いる。
【００１１】前記洗浄部３ａ（３ｂ）は、概水平に横設
された回転軸３０により回転し、例えば最小の長さがガ
ラス基板Ｇの端縁から例えば５〜１０ｍｍの部分を除い
た領域の横幅に応じた大きさの円筒状の洗浄部材である
洗浄ブラシ３１と、この洗浄ブラシ３１の洗浄時の進行
方向側（図２中右側）に接近して設けられた洗浄液供給
管３２とを備えている。なお、洗浄液供給管を左側にも
設け洗浄液をガラス基板Ｇと洗浄ブラシ３１との接触部
分に向けて噴射するようにすることもできる。洗浄ブラ
シ３１の両端側には、図３に示すように基台３３に設け
られたガイド部３４に沿って上下に連動して互いにＺ方
向に接離する接離機構３５ａ、３５ｂが配設されてい
る。
された回転軸３０により回転し、例えば最小の長さがガ
ラス基板Ｇの端縁から例えば５〜１０ｍｍの部分を除い
た領域の横幅に応じた大きさの円筒状の洗浄部材である
洗浄ブラシ３１と、この洗浄ブラシ３１の洗浄時の進行
方向側（図２中右側）に接近して設けられた洗浄液供給
管３２とを備えている。なお、洗浄液供給管を左側にも
設け洗浄液をガラス基板Ｇと洗浄ブラシ３１との接触部
分に向けて噴射するようにすることもできる。洗浄ブラ
シ３１の両端側には、図３に示すように基台３３に設け
られたガイド部３４に沿って上下に連動して互いにＺ方
向に接離する接離機構３５ａ、３５ｂが配設されてい
る。
【００１２】そして上側の洗浄ブラシ３１については、
回転軸３０の一端が接離機構３５ａ、３５ａの一方に設
けられた図示しないモータにより駆動されると共に、他
端が接離機構３５ａ、３５ａの他方に回転自在に支承さ
れている。下側の洗浄ブラシ３１に関連する部分に関し
ても同一であり、接離機構３５ｂ、３５ｂの一方及び他
方に夫々回転軸３０のモータ及び軸受けが設けられてい
る。また前記基台３３はＸ方向に伸びるＸ機構３６によ
りＸ方向に移動できるようになっており、従って上下に
配置された一対の洗浄ブラシ３１は、Ｚ方向に接離でき
かつＸ方向に移動できることとなる。
回転軸３０の一端が接離機構３５ａ、３５ａの一方に設
けられた図示しないモータにより駆動されると共に、他
端が接離機構３５ａ、３５ａの他方に回転自在に支承さ
れている。下側の洗浄ブラシ３１に関連する部分に関し
ても同一であり、接離機構３５ｂ、３５ｂの一方及び他
方に夫々回転軸３０のモータ及び軸受けが設けられてい
る。また前記基台３３はＸ方向に伸びるＸ機構３６によ
りＸ方向に移動できるようになっており、従って上下に
配置された一対の洗浄ブラシ３１は、Ｚ方向に接離でき
かつＸ方向に移動できることとなる。
【００１３】更に前記洗浄液供給管３２は、接離機構３
５ａ、３５ａの例えば一方に固定され（両方に固定して
もよい）、その一方の中あるいは外に配管された図示し
ない給水路に接続されると共に、洗浄時における洗浄ブ
ラシ３１の移動路の前方領域のガラス基板Ｇ上に洗浄
液、例えば水を供給するように長さ方向に沿って、図で
は見えないが多数の噴射孔が穿設されている。なおこの
実施例では、洗浄部３ａ、３ｂ、基台３３、接離機構３
５ａ、３５ｂ、Ｘ機構３６などにより洗浄手段が構成さ
れている。以上のように説明した主要部分がドアを備え
たケース内に収納され、図１に示す洗浄装置１３が構成
されている。
５ａ、３５ａの例えば一方に固定され（両方に固定して
もよい）、その一方の中あるいは外に配管された図示し
ない給水路に接続されると共に、洗浄時における洗浄ブ
ラシ３１の移動路の前方領域のガラス基板Ｇ上に洗浄
液、例えば水を供給するように長さ方向に沿って、図で
は見えないが多数の噴射孔が穿設されている。なおこの
実施例では、洗浄部３ａ、３ｂ、基台３３、接離機構３
５ａ、３５ｂ、Ｘ機構３６などにより洗浄手段が構成さ
れている。以上のように説明した主要部分がドアを備え
たケース内に収納され、図１に示す洗浄装置１３が構成
されている。
【００１４】次いで上述の洗浄装置の作用について述べ
る。先ず図１に示すメインアーム１１から保持アーム２
１、２２に被処理基板例えばガラス基板Ｇが受け渡され
る。この受け渡しは、図４（ａ）に示すように保持アー
ム２１、２２を開いた状態にしておき、メインアーム１
１から上昇状態の昇降ステージ４２にガラス基板Ｇを受
け渡し、続いて図４（ｂ）に示すように保持アーム２
１、２２が閉じてガラス基板Ｇの両側縁を保持した後、
昇降ステージ４２が降下することにより行われる。
る。先ず図１に示すメインアーム１１から保持アーム２
１、２２に被処理基板例えばガラス基板Ｇが受け渡され
る。この受け渡しは、図４（ａ）に示すように保持アー
ム２１、２２を開いた状態にしておき、メインアーム１
１から上昇状態の昇降ステージ４２にガラス基板Ｇを受
け渡し、続いて図４（ｂ）に示すように保持アーム２
１、２２が閉じてガラス基板Ｇの両側縁を保持した後、
昇降ステージ４２が降下することにより行われる。
【００１５】この間洗浄部３ａ、３ｂは、ガラス基板Ｇ
の載置領域の一端側において互いに上下に離れた状態で
待機している。そして洗浄部３ａ、３ｂの洗浄ブラシ３
１は、図４（ｃ）に示すように互いに接近して夫々ガラ
ス基板Ｇの両面に接触し、例えば矢印方向に回転しなが
ら図中左から右に移動する。このとき洗浄液供給管３２
より、ガラス基板Ｇの両面における洗浄ブラシ３１の進
行方向に対して前方側に洗浄液例えば水が吹き付けら
れ、洗浄ブラシ３１の擦過作用によりガラス基板Ｇの両
面が洗浄される。洗浄部３ａ、３ｂは図４（ｄ）に示す
ようにガラス基板Ｇの図中右端側で互いに上下に離れ、
その後保持アーム２１、２２から上昇した昇降ステージ
４２にガラス基板Ｇが受け渡され、更にメインアーム１
１により洗浄装置から取り出されて次工程へ送られる。
の載置領域の一端側において互いに上下に離れた状態で
待機している。そして洗浄部３ａ、３ｂの洗浄ブラシ３
１は、図４（ｃ）に示すように互いに接近して夫々ガラ
ス基板Ｇの両面に接触し、例えば矢印方向に回転しなが
ら図中左から右に移動する。このとき洗浄液供給管３２
より、ガラス基板Ｇの両面における洗浄ブラシ３１の進
行方向に対して前方側に洗浄液例えば水が吹き付けら
れ、洗浄ブラシ３１の擦過作用によりガラス基板Ｇの両
面が洗浄される。洗浄部３ａ、３ｂは図４（ｄ）に示す
ようにガラス基板Ｇの図中右端側で互いに上下に離れ、
その後保持アーム２１、２２から上昇した昇降ステージ
４２にガラス基板Ｇが受け渡され、更にメインアーム１
１により洗浄装置から取り出されて次工程へ送られる。
【００１６】このような実施例によれば、ガラス基板Ｇ
を固定して、洗浄部３ａ、３ｂがガラス基板Ｇの両面に
沿って移動するので、ガラス基板Ｇ、及び保持アーム２
１、２２などの機構部分を配置するスペースを確保すれ
ばよく、ガラス基板Ｇを移動しながら洗浄する場合に比
べて格段に占有面積が小さくて済み洗浄装置の小型化、
ひいては塗布現像装置の小型化を図ることができる。
を固定して、洗浄部３ａ、３ｂがガラス基板Ｇの両面に
沿って移動するので、ガラス基板Ｇ、及び保持アーム２
１、２２などの機構部分を配置するスペースを確保すれ
ばよく、ガラス基板Ｇを移動しながら洗浄する場合に比
べて格段に占有面積が小さくて済み洗浄装置の小型化、
ひいては塗布現像装置の小型化を図ることができる。
【００１７】また洗浄部３ａ、３ｂとしては、図５及び
図６に示すようにガラス基板Ｇにおける洗浄ブラシ３１
の通過した直後の領域に、即ち洗浄ブラシの通過跡に、
乾燥用の気体例えばＮ2 ガスやエアーなどを吹き付ける
ための気体吹き付け手段５を設けてもよい。この気体吹
き付け手段５は、この例では例えば前記接離機構３５
ａ、３５ｂから伸び出し、洗浄部３ａ、３ｂの後方側に
多数分岐したノズル部５１により構成される。このよう
に構成すれば、洗浄後にガラス基板Ｇに付着している洗
浄液を例えばＮ2 ガスにより吹き飛ばして概乾燥させる
ことができるので、その後の振り切り乾燥の時間を短縮
でき、スループットが向上する。
図６に示すようにガラス基板Ｇにおける洗浄ブラシ３１
の通過した直後の領域に、即ち洗浄ブラシの通過跡に、
乾燥用の気体例えばＮ2 ガスやエアーなどを吹き付ける
ための気体吹き付け手段５を設けてもよい。この気体吹
き付け手段５は、この例では例えば前記接離機構３５
ａ、３５ｂから伸び出し、洗浄部３ａ、３ｂの後方側に
多数分岐したノズル部５１により構成される。このよう
に構成すれば、洗浄後にガラス基板Ｇに付着している洗
浄液を例えばＮ2 ガスにより吹き飛ばして概乾燥させる
ことができるので、その後の振り切り乾燥の時間を短縮
でき、スループットが向上する。
【００１８】更に洗浄部材としては、水平な軸のまわり
に回転する円筒状の洗浄ブラシ３１に限らず、例えば図
７に示すように垂直な軸のまわりに回転する円柱状の複
数の洗浄ブラシ５２を、洗浄部の移動方向と直交する方
向に配列する構成としてもよい。この場合Ｙ方向におい
て洗浄漏れ（未洗浄部分）が生じないように、洗浄ブラ
シ５２を千鳥状に配列しかつＸ方向において各洗浄領域
が多少重なり合うように配置することが望ましい。なお
図中５３は洗浄ブラシ５２を保持しかつ駆動する部分を
備えたブラシ保持部材である。
に回転する円筒状の洗浄ブラシ３１に限らず、例えば図
７に示すように垂直な軸のまわりに回転する円柱状の複
数の洗浄ブラシ５２を、洗浄部の移動方向と直交する方
向に配列する構成としてもよい。この場合Ｙ方向におい
て洗浄漏れ（未洗浄部分）が生じないように、洗浄ブラ
シ５２を千鳥状に配列しかつＸ方向において各洗浄領域
が多少重なり合うように配置することが望ましい。なお
図中５３は洗浄ブラシ５２を保持しかつ駆動する部分を
備えたブラシ保持部材である。
【００１９】ここでガラス基板Ｇの裏面側を洗浄する場
合に便利な洗浄装置の実施例について図８及び図９を参
照しながら述べる。この洗浄装置は、ガラス基板Ｇの周
縁部例えば四隅部分を保持する保持手段６と、この保持
手段６に保持されたガラス基板Ｇの下面側に設けられた
洗浄部７とを備えている。保持手段６は、回転カップ６
１と、この回転カップ６１からガラス基板Ｇの四隅部分
に対応する部位まで放射状に伸びるように設けられ、各
四隅部分の直角に交差する２辺が係合して保持される段
部６２を備えた保持部材６３と、回転カップ６１の底部
から下方に伸び、固定部６４ａに軸受け部６４ｂを介し
て軸受けされている小径の筒部６４とを有しており、前
記筒部６４にプーリ６５を介して掛けられたベルト６６
により鉛直軸のまわりに回転できるように構成されてい
る。６７はモータであり、これらモータ６７及びベルト
６６などにより保持手段６を回転させる回転手段が構成
される。
合に便利な洗浄装置の実施例について図８及び図９を参
照しながら述べる。この洗浄装置は、ガラス基板Ｇの周
縁部例えば四隅部分を保持する保持手段６と、この保持
手段６に保持されたガラス基板Ｇの下面側に設けられた
洗浄部７とを備えている。保持手段６は、回転カップ６
１と、この回転カップ６１からガラス基板Ｇの四隅部分
に対応する部位まで放射状に伸びるように設けられ、各
四隅部分の直角に交差する２辺が係合して保持される段
部６２を備えた保持部材６３と、回転カップ６１の底部
から下方に伸び、固定部６４ａに軸受け部６４ｂを介し
て軸受けされている小径の筒部６４とを有しており、前
記筒部６４にプーリ６５を介して掛けられたベルト６６
により鉛直軸のまわりに回転できるように構成されてい
る。６７はモータであり、これらモータ６７及びベルト
６６などにより保持手段６を回転させる回転手段が構成
される。
【００２０】洗浄部７は、前記筒部６４の中を貫通し、
ガラス基板Ｇの中心軸に重なる昇降軸７１上に設けられ
た昇降ステージ７２と、この昇降ステージ７２上に設け
られた洗浄部材例えば鉛直方向に植毛された洗浄ブラシ
７３、洗浄液供給管７４（図９参照）及び気体吹き付け
手段７５とを備えている。７１ａは昇降機構である。洗
浄ブラシ７３及び洗浄液供給管７４は、各々昇降ステー
ジ７２の半径方向に沿って伸びるように、かつ周方向に
並んで設けられており、洗浄液供給管７４は上方に向け
て洗浄水を噴射する噴射孔７４ａが長さ方向に配列され
ている。前記気体吹き付け手段７５は、昇降ステージ７
２の中心部から偏移した位置から例えば保持手段６上の
ガラス基板Ｇの中心部に向けて乾燥用の気体例えばＮ2
ガスを吹き付けるためのノズルよりなり、このノズル
は、昇降軸７１内を通るガス流路を介して外部のＮ2 ガ
ス供給管７６に接続されている。
ガラス基板Ｇの中心軸に重なる昇降軸７１上に設けられ
た昇降ステージ７２と、この昇降ステージ７２上に設け
られた洗浄部材例えば鉛直方向に植毛された洗浄ブラシ
７３、洗浄液供給管７４（図９参照）及び気体吹き付け
手段７５とを備えている。７１ａは昇降機構である。洗
浄ブラシ７３及び洗浄液供給管７４は、各々昇降ステー
ジ７２の半径方向に沿って伸びるように、かつ周方向に
並んで設けられており、洗浄液供給管７４は上方に向け
て洗浄水を噴射する噴射孔７４ａが長さ方向に配列され
ている。前記気体吹き付け手段７５は、昇降ステージ７
２の中心部から偏移した位置から例えば保持手段６上の
ガラス基板Ｇの中心部に向けて乾燥用の気体例えばＮ2
ガスを吹き付けるためのノズルよりなり、このノズル
は、昇降軸７１内を通るガス流路を介して外部のＮ2 ガ
ス供給管７６に接続されている。
【００２１】図８及び図９に示す洗浄装置では、次のよ
うな作用、効果がある。即ち昇降ステージ７２を降下さ
せておいてメインアーム１１から保持手段６にガラス基
板Ｇが受け渡され、続いて洗浄ブラシ７３がガラス基板
Ｇの裏面に接触する位置まで昇降ステージ７２が上昇
し、モータ６７により保持手段６が図９中反時計まわり
に回転する。このとき洗浄液供給管７４から洗浄水がガ
ラス基板Ｇの裏面に噴射され、洗浄水で濡れたガラス基
板Ｇが洗浄ブラシ７３により擦過されるのでガラス基板
Ｇの裏面が洗浄される。この洗浄工程が終った後、保持
手段６を回転させながら気体吹き付け手段７５からＮ2
ガスをガラス基板Ｇの裏面に吹き付けて洗浄水を吹き飛
ばす。
うな作用、効果がある。即ち昇降ステージ７２を降下さ
せておいてメインアーム１１から保持手段６にガラス基
板Ｇが受け渡され、続いて洗浄ブラシ７３がガラス基板
Ｇの裏面に接触する位置まで昇降ステージ７２が上昇
し、モータ６７により保持手段６が図９中反時計まわり
に回転する。このとき洗浄液供給管７４から洗浄水がガ
ラス基板Ｇの裏面に噴射され、洗浄水で濡れたガラス基
板Ｇが洗浄ブラシ７３により擦過されるのでガラス基板
Ｇの裏面が洗浄される。この洗浄工程が終った後、保持
手段６を回転させながら気体吹き付け手段７５からＮ2
ガスをガラス基板Ｇの裏面に吹き付けて洗浄水を吹き飛
ばす。
【００２２】ガラス基板Ｇの洗浄工程では、ガラス基板
Ｇの裏面側の中央部分のみを洗浄すれば足りる場合があ
り、この場合上述の装置を用いれば、保持手段６を昇降
ステージ７２に対して回転させることにより洗浄を行っ
ているので占有スペースが小さくて済むし、装置構成も
簡単であり、非常に有利である。ただし保持手段６を固
定して昇降ステージ７２側を回転させるようにしてもよ
いし、保持手段６側を昇降させるようにしてもよい。両
者を回転させるようにしてもよい。またガラス基板Ｇの
被洗浄面にＮ2 ガスをノズル７５から一方向に吹き付け
ているため、被洗浄面に付着している水滴がスムーズに
周縁部に向かって移動するので液切りを早く行うことが
できる。なお、ガラス基板Ｇの裏面側部分をなるべく広
く洗浄する場合には、洗浄ブラシ７３及び洗浄液供給管
７４を長く形成し、ガラス基板Ｇの四隅部分の保持手段
６の段部６２付近まで洗浄可能なように構成する。ま
た、洗浄ブラシ７３及び洗浄液供給管７４は、ガラス基
板Ｇの対角線の長さ程度まで長く形成することもでき
る。
Ｇの裏面側の中央部分のみを洗浄すれば足りる場合があ
り、この場合上述の装置を用いれば、保持手段６を昇降
ステージ７２に対して回転させることにより洗浄を行っ
ているので占有スペースが小さくて済むし、装置構成も
簡単であり、非常に有利である。ただし保持手段６を固
定して昇降ステージ７２側を回転させるようにしてもよ
いし、保持手段６側を昇降させるようにしてもよい。両
者を回転させるようにしてもよい。またガラス基板Ｇの
被洗浄面にＮ2 ガスをノズル７５から一方向に吹き付け
ているため、被洗浄面に付着している水滴がスムーズに
周縁部に向かって移動するので液切りを早く行うことが
できる。なお、ガラス基板Ｇの裏面側部分をなるべく広
く洗浄する場合には、洗浄ブラシ７３及び洗浄液供給管
７４を長く形成し、ガラス基板Ｇの四隅部分の保持手段
６の段部６２付近まで洗浄可能なように構成する。ま
た、洗浄ブラシ７３及び洗浄液供給管７４は、ガラス基
板Ｇの対角線の長さ程度まで長く形成することもでき
る。
【００２３】ここで図１０を参照しながら本発明の他の
実施例について述べる。この実施例に係る洗浄装置は、
ガラス基板Ｇの両側縁を保持する一対の保持アーム２
１、２２と、この保持アーム２１、２２を開閉する駆動
部２３、２４と、これら駆動部２３、２４を水平な軸の
まわりに回転させるために駆動部２３を回転自在に支承
する軸支部８１及び駆動部２４を回転させる回転機構８
２と、ガラス基板Ｇの一面側に設けられ、ガラス基板Ｇ
に対して接離自在かつ保持アーム２１、２２間を移動で
きるように構成された洗浄部例えば洗浄ブラシ９１と、
この洗浄ブラシ９１の近傍に設けられた洗浄液供給管９
２と、を有している。洗浄ブラシ９１及び洗浄液供給管
９２は、洗浄部をなすものであり、これらは図２及び図
３で述べた機構と類似の機構を組み合わせることができ
る。なお軸支部８１及び回転機構８２は、反転機構を構
成するものである。
実施例について述べる。この実施例に係る洗浄装置は、
ガラス基板Ｇの両側縁を保持する一対の保持アーム２
１、２２と、この保持アーム２１、２２を開閉する駆動
部２３、２４と、これら駆動部２３、２４を水平な軸の
まわりに回転させるために駆動部２３を回転自在に支承
する軸支部８１及び駆動部２４を回転させる回転機構８
２と、ガラス基板Ｇの一面側に設けられ、ガラス基板Ｇ
に対して接離自在かつ保持アーム２１、２２間を移動で
きるように構成された洗浄部例えば洗浄ブラシ９１と、
この洗浄ブラシ９１の近傍に設けられた洗浄液供給管９
２と、を有している。洗浄ブラシ９１及び洗浄液供給管
９２は、洗浄部をなすものであり、これらは図２及び図
３で述べた機構と類似の機構を組み合わせることができ
る。なお軸支部８１及び回転機構８２は、反転機構を構
成するものである。
【００２４】このような構成によれば、図１０（ａ）に
示すようにガラス基板Ｇを保持アーム２１、２２で保持
してガラス基板Ｇの一面側を洗浄ブラシ９１により洗浄
した後、図１０（ｂ）に示すように反転機構により保持
アーム２１、２２を回転させてガラス基板Ｇを反転させ
ると共に洗浄ブラシ９１を、反転前または反転後に図中
左側の鎖線位置まで戻しておき、同様にガラス基板Ｇの
他面側を洗浄する。
示すようにガラス基板Ｇを保持アーム２１、２２で保持
してガラス基板Ｇの一面側を洗浄ブラシ９１により洗浄
した後、図１０（ｂ）に示すように反転機構により保持
アーム２１、２２を回転させてガラス基板Ｇを反転させ
ると共に洗浄ブラシ９１を、反転前または反転後に図中
左側の鎖線位置まで戻しておき、同様にガラス基板Ｇの
他面側を洗浄する。
【００２５】従ってガラス基板Ｇの両面側に洗浄部を設
けることなく片面側に設ければよいので、洗浄手段の構
成を簡素化できる。なおガラス基板Ｇを反転させる工程
は、保持アーム２１、２２で行わなくとも、洗浄装置の
外で例えばメインアームに吸着部を設けておき、このメ
インアームにより反転させるようにしてもよい。またこ
のようなガラス基板Ｇを反転させる発明では、洗浄部を
固定してガラス基板Ｇを移動させることにより洗浄を行
ってもよい。
けることなく片面側に設ければよいので、洗浄手段の構
成を簡素化できる。なおガラス基板Ｇを反転させる工程
は、保持アーム２１、２２で行わなくとも、洗浄装置の
外で例えばメインアームに吸着部を設けておき、このメ
インアームにより反転させるようにしてもよい。またこ
のようなガラス基板Ｇを反転させる発明では、洗浄部を
固定してガラス基板Ｇを移動させることにより洗浄を行
ってもよい。
【００２６】以上において洗浄ブラシの移動方向は、保
持アームの一方から他方に向かう方向でなくとも、保持
アームを結ぶラインと直交する方向であってもよい。ま
た被処理基板としては、ガラス基板に限らず、プリント
基板、ガラスマスク、半導体ウエハなどであってもよ
い。
持アームの一方から他方に向かう方向でなくとも、保持
アームを結ぶラインと直交する方向であってもよい。ま
た被処理基板としては、ガラス基板に限らず、プリント
基板、ガラスマスク、半導体ウエハなどであってもよ
い。
【００２７】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、ガラ
ス基板の一面側に洗浄部を設ければよいため、洗浄部の
構造を大掛かりなものにしなくて済む。
ス基板の一面側に洗浄部を設ければよいため、洗浄部の
構造を大掛かりなものにしなくて済む。
【図１】本発明の実施例に係る洗浄装置を含む塗布・現
像装置の全体構成を示す斜視図である。
像装置の全体構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の実施例に係る洗浄装置を示す斜視図で
ある。
ある。
【図３】洗浄手段を示す斜視図である。
【図４】本発明の実施例の作用を示す説明図である。
【図５】図２の実施例に用いた洗浄部に気体吹き付け手
段を付加した実施例を示す側面図である。
段を付加した実施例を示す側面図である。
【図６】図５の洗浄部を示す斜視図である。
【図７】洗浄部の他の例を示す斜視図である。
【図８】本発明の他の実施例を示す断面図である。
【図９】本発明の他の実施例を示す平面図である。
【図１０】本発明の洗浄方法の実施例を示す説明図であ
る。
る。
【図１１】従来の洗浄装置の要部を示す側面図である。
２１、２２ 保持アーム ３ａ、３ｂ 洗浄部 ３１ 洗浄ブラシ ３２ 洗浄液供給管 Ｇ ガラス基板 ３５ａ、３５ｂ 接離機構 ３６ Ｘ機構 ５ 気体吹き付け手段 ５１ ノズル ５２ 洗浄ブラシ ６ 保持手段 ６３ 保持部材 ７ 洗浄部 ７２ 昇降ステージ ７３ 洗浄ブラシ ７５ 気体吹き付け手段 ９１ 洗浄ブラシ ９２ 洗浄液供給管 ８１ モータ ８２ 軸支部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６５１ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６５１Ｚ (56)参考文献 特開 平６−45303（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−213826（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−218625（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−267918（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−85791（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−38602（ＪＰ，Ａ) 実開 平４−123532（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭62−164347（ＪＰ，Ｕ) 実開 平５−85070（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭57−35785（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B08B 3/00 - 3/14 H01L 21/304
Claims (1)
- 【請求項１】 複数枚の液晶ディスプレイ用のガラス基
板を収納したキャリアが載置されるキャリアステージ
と、 ガラス基板を洗浄する洗浄ユニットと、 洗浄後のガラス基板に対して塗布処理する塗布ユニット
と、 前記キャリアステージに載置されたキャリアから取り出
されたガラス基板を前記洗浄ユニットに搬送し、次いで
塗布ユニットに搬送するためのメインアームと、を備え
た塗布装置において、 前記洗浄ユニットは、メインアームから搬送されたガラ
ス基板の両側縁を当該ガラス基板が水平になるように保
持する保持手段と、 この保持手段により保持されたガラス基板の一面を洗浄
する洗浄部と、 この洗浄部をガラス基板の一縁から他縁に向かって移動
させる移動手段と、 前記洗浄部で洗浄されたガラス基板の他面を当該洗浄部
で洗浄するために、前記ガラス基板の水平な中心軸を回
転軸として前記保持手段を回転させて当該ガラス基板を
反転させる反転手段と、を備えていることを特徴とする
塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25910794A JP3236742B2 (ja) | 1994-09-28 | 1994-09-28 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25910794A JP3236742B2 (ja) | 1994-09-28 | 1994-09-28 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0889910A JPH0889910A (ja) | 1996-04-09 |
| JP3236742B2 true JP3236742B2 (ja) | 2001-12-10 |
Family
ID=17329425
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25910794A Expired - Fee Related JP3236742B2 (ja) | 1994-09-28 | 1994-09-28 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3236742B2 (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3290910B2 (ja) * | 1997-02-19 | 2002-06-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 洗浄装置 |
| KR100661160B1 (ko) * | 2005-04-15 | 2006-12-26 | 주식회사 대우일렉트로닉스 | 습식처리된 기판의 비활성 영역 제거 장치 |
| US8578953B2 (en) * | 2006-12-20 | 2013-11-12 | Tokyo Electron Limited | Substrate cleaning apparatus, substrate cleaning method, and computer-readable storage medium |
| JP4499147B2 (ja) * | 2007-11-21 | 2010-07-07 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
| JP5136103B2 (ja) | 2008-02-12 | 2013-02-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 洗浄装置及びその方法、塗布、現像装置及びその方法、並びに記憶媒体 |
| JP5764309B2 (ja) * | 2010-09-30 | 2015-08-19 | ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 | シートガラスの製造方法 |
| JP5950759B2 (ja) * | 2012-08-27 | 2016-07-13 | Hoya株式会社 | 基板の製造方法及び基板洗浄装置 |
| JP5799059B2 (ja) | 2013-07-31 | 2015-10-21 | 株式会社 ハリーズ | 薄板移送装置及び薄板清掃システム |
| JP6517522B2 (ja) * | 2015-01-30 | 2019-05-22 | 株式会社 ハリーズ | 清掃装置及びワーク清掃システム |
| US20180126425A1 (en) * | 2015-04-29 | 2018-05-10 | Corning Incorporated | Apparatus and method for cleaning a glass sheet |
| KR102505075B1 (ko) * | 2016-06-02 | 2023-03-07 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
| CN108212836A (zh) * | 2017-12-31 | 2018-06-29 | 重庆优萃科技有限公司 | 一种手机屏幕用清洁装置 |
| CN109954732A (zh) * | 2019-04-01 | 2019-07-02 | 河北医科大学 | 一种蛋白质印迹法用玻璃板清洗装置 |
| JP7355291B2 (ja) * | 2019-07-29 | 2023-10-03 | 株式会社サイト | 鋼板洗浄装置 |
| JP7549624B2 (ja) * | 2022-06-16 | 2024-09-11 | Ｎｘキャッシュ・ロジスティクス株式会社 | 硬貨選別機及び硬貨選別方法 |
| CN118237323B (zh) * | 2024-05-24 | 2024-07-26 | 山东泰东新材料有限公司 | 一种全自动磁芯清洁系统及清洁方法 |
-
1994
- 1994-09-28 JP JP25910794A patent/JP3236742B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0889910A (ja) | 1996-04-09 |
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