JP3887549B2 - 基板搬送装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶デバイスの製造工程において、液晶ディスプレイ(Liquid Crystal Display:LCD)等に使用されるガラス基板を搬送する基板搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
LCDの製造工程において、LCD用のガラス基板上にITO(Indium Tin Oxide)の薄膜や電極パターンを形成するために、半導体デバイスの製造に用いられるものと同様のフォトリソグラフィ技術が利用される。フォトリソグラフィ技術では、フォトレジストをガラス基板に塗布し、これを露光し、さらに現像する。
【0003】
これらレジスト塗布、露光及び現像の一連の処理は、従来から、塗布、現像、ベーキング、あるいは洗浄等の各処理を行う塗布現像処理システムによって行われている。例えば、現像処理及び洗浄処理においては、搬送ローラを複数備えたコロ式の搬送装置によりガラス基板を水平に搬送させながらそれぞれ処理を行っている。このような搬送装置においては各処理工程に応じた搬送速度が必要であるため、例えば速度が異なる2つの搬送装置により基板を連続的に搬送させている。この場合、これら2つの搬送装置の間に、当該2つの搬送速度の間で速度を可変とする緩衝用の搬送装置が設けられている。この緩衝用の搬送装置もコロ式とされている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、近年、ガラス基板は大型化の傾向にあることから、かかる緩衝用の搬送装置が占めるスペースも増大化が必至であり、これによるフットプリントの問題が生じている。
【0005】
一方において、この緩衝用の搬送装置を設けないで、上記速度の異なる2つの搬送装置を直接繋いで基板を搬送させるとすると、例えば1枚の基板が当該2つの搬送装置にまたがった瞬間は、どちらかの搬送装置の搬送ローラが基板に対して擦れながら空転する可能性があり、これにより基板が損傷するおそれがある。
【0006】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、緩衝用の搬送装置のフットプリントを可及的に小さくすることができる基板搬送装置を提供することにある。
【0007】
また、本発明の別の目的は、緩衝用の搬送装置を有する搬送装置全体の搬送効率を向上させることができる基板搬送装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明は、回転する複数のローラ上に基板を載置させて基板を搬送させる第1の搬送部と、回転する複数のローラ上に基板を載置させて、前記第1の搬送部の搬送速度と異なる速度で基板を搬送させる第2の搬送部と、前記第1の搬送部と前記第2の搬送部との間に接続して配置され、搬送方向の長さが基板の搬送方向1辺より短い長さを有し、回転する複数のローラ上に基板を載置させて、前記第1の搬送部から搬送される基板を前記第2の搬送部へ搬送させる第3の搬送部と、1枚の基板が前記第1の搬送部と前記第3の搬送部とにまたがって搬送されているときであって、前記1枚の基板の前記第1の搬送部のローラ上にある面積よりも前記第3の搬送部のローラ上にある面積が大くなったときに、前記第3の搬送部を前記第2の搬送部に接続させた状態で前記第1の搬送部から離間させる手段とを具備する。
【0009】
このような構成によれば、基板の全面が第3の搬送部のローラ上になくても基板を第3の搬送部から第2の搬送部へ連続して搬送させることができる。すなわち、例えば、従来は緩衝用の搬送部の搬送方向長さを基板の搬送方向1辺の長さ以上を必要としていたが、本発明によれば、小さいフットプリントで緩衝用の搬送部である第3の搬送部を設けることができる。
【0010】
また、例えば従来のように基板の搬送方向1辺の長さ以上の緩衝用の搬送部を離間させないで基板を搬送させる場合に比べ、本発明では、第1の搬送部において基板同士の距離を詰めて搬送させることができるので、搬送効率及び処理効率を向上させることができる。
【0011】
本発明の一の形態によれば、前記第3の搬送部の搬送方向の長さは、基板の搬送方向1辺のほぼ半分である。
【0012】
本発明の一の形態によれば、前記第3の搬送部のローラ上に基板がないときは前記第3の搬送部の搬送速度を前記第1の搬送部の搬送速度と等しくし、前記第3の搬送部を前記第1の搬送部から離間させた直後に、前記第3の搬送部による基板の搬送速度を、前記第2の搬送部の搬送速度と等しくする手段を更に具備する。このように、第3の搬送部を前記第1の搬送部から離間させたときに、前記第3の搬送部による基板の搬送速度を、前記第2の搬送部の搬送速度と等しくすることにより搬送効率を向上させるとともに、例えば従来のように、ローラが基板に対し擦れながら空転することがないので、基板の損傷を防止することができる。
【0013】
本発明の一の形態によれば、前記第3の搬送部により搬送される基板の搬送後端が前記第3の搬送部の搬送上流端を通過した直後に、前記第3の搬送部を前記第2の搬送部に接続させた状態で前記第1の搬送部に接続させる手段と、前記第2の搬送部により搬送される基板の搬送後端が前記第2の搬送部の搬送上流端を通過した直後に、前記第3の搬送部の搬送速度を前記第1の搬送部の搬送速度と等しくする手段とを更に具備する。これにより、第1の搬送部によって複数の基板が連続して搬送される場合には、当該複数の基板を連続して前記第2の搬送部へ搬送することができる。
【0014】
本発明の一の形態によれば、前記第3の搬送部の搬送下流端に搬送されて来る基板の搬送先端を検知する第1のセンサを更に具備する。この第1のセンサによる当該基板の搬送先端の検知に基づいて、上記のように第3の搬送部を前記第1の搬送部から離間させることができる。
【0015】
本発明の一の形態によれば、前記第3の搬送部の搬送上流端に搬送される基板の搬送後端を検知する第2のセンサを更に具備する。この第2のセンサによる当該基板の搬送後端の検知に基づいて、上記のように、第3の搬送部により搬送される基板の搬送後端が第3の搬送部の搬送上流端を通過した直後に、前記第3の搬送部を前記第1の搬送部に接続させることができる。
【0016】
本発明の一の形態によれば、前記第1の搬送部により搬送される基板上に現像液を供給する手段を更に具備し、前記第3の搬送部及び前記第2の搬送部により、前記第1の搬送部の搬送速度より遅い速度で基板を搬送させながら現像を行う。これにより、例えば、現像液の基板に対する液盛りを第1の搬送部による速い搬送速度で行い、液盛り後の放置現像処理を第3の搬送部及び前記第2の搬送部による遅い搬送速度で行うことができる。すなわち、各処理に応じた速度で効率的に基板を搬送させることができる。
【0017】
本発明の一の形態によれば、前記第1の搬送部により搬送される基板上に現像液を供給して現像を行う手段と、前記第2の搬送部により、前記第1の搬送部による搬送速度より速い速度で基板を搬送させながら該基板上にリンス液を供給して前記現像液を洗い流す手段とを更に具備する。これにより、搬送及びフットプリントの高効率を維持しつつ、現像処理及びリンス処理に応じた搬送速度で基板を搬送させることができる。
【0018】
本発明の一の形態によれば、前記第1の搬送部により搬送される基板を回転により洗浄するロールブラシと、前記第2の搬送部により、前記第1の搬送部の搬送速度より速い速度で基板を搬送させながら該基板上に高圧洗浄液を供給する手段と、前記第2の搬送部により基板上にエアを供給して液切り乾燥する手段とを更に具備する。これにより、搬送及びフットプリントの高効率を維持しつつ、ロールブラシによる洗浄処理及び高圧洗浄処理に応じた搬送速度で基板を搬送させることができる。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
【0020】
図1は本発明の搬送装置が適用されるLCD基板の塗布現像処理システムを示す平面図であり、図2はその正面図、また図3はその背面図である。
【0021】
この塗布現像処理システム1は、複数のガラス基板Gを収容するカセットCを載置するカセットステーション2と、基板Gにレジスト塗布および現像を含む一連の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部3と、露光装置32との間で基板Gの受け渡しを行うためのインターフェース部4とを備えており、処理部3の両端にそれぞれカセットステーション2及びインターフェース部4が配置されている。
【0022】
カセットステーション2は、カセットCと処理部3との間でLCD基板の搬送を行うための搬送機構10を備えている。そして、カセットステーション2においてカセットCの搬入出が行われる。また、搬送機構10はカセットの配列方向に沿って設けられた搬送路12上を移動可能な搬送アーム11を備え、この搬送アーム11によりカセットCと処理部3との間で基板Gの搬送が行われる。
【0023】
処理部3には、カセットステーション2におけるカセットCの配列方向(Y方向)に垂直方向(X方向)に延設された主搬送部3aと、この主搬送部3aに沿って、レジスト塗布処理ユニット(CT)を含む各処理ユニットが並設された上流部3b及び現像処理ユニット(DEV)18を含む各処理ユニットが並設された下流部3cとが設けられている。
【0024】
主搬送部3aには、X方向に延設された搬送路31と、この搬送路31に沿って移動可能に構成されガラス基板GをX方向に搬送する搬送シャトル23とが設けられている。この搬送シャトル23は、例えば支持ピンにより基板Gを保持して搬送するようになっている。また、主搬送部3aのインターフェース部4側端部には、処理部3とインターフェース部4との間で基板Gの受け渡しを行う垂直搬送ユニット7が設けられている。
【0025】
上流部3bにおいて、カセットステーション2側端部には、基板Gに洗浄処理を施すスクラバ洗浄処理ユニット(SCR)20が設けられ、このスクラバ洗浄処理ユニット(SCR)20の上段に基板G上の有機物を除去するためのエキシマUV処理ユニット(e−UV)19が配設されている。スクラバ洗浄処理ユニット(SCR)20には、本発明に係る基板搬送装置が設けられており、これについては後述する。
【0026】
スクラバ洗浄処理ユニット(SCR)20の隣には、ガラス基板Gに対して熱的処理を行うユニットが多段に積み上げられた熱処理系ブロック24及び25が配置されている。これら熱処理系ブロック24と25との間には、垂直搬送ユニット5が配置され、搬送アーム5aがZ方向及び水平方向に移動可能とされ、かつθ方向に回動可能とされているので、両ブロック24及び25における各熱処理系ユニットにアクセスして基板Gの搬送が行われるようになっている。なお、上記処理部3における垂直搬送ユニット7についてもこの垂直搬送ユニット5と同一の構成を有している。
【0027】
図2に示すように、熱処理系ブロック24には、基板Gにレジスト塗布前の加熱処理を施すベーキングユニット(BAKE)が2段、HMDSガスにより疎水化処理を施すアドヒージョンユニット(AD)が下から順に積層されている。一方、熱処理系ブロック25には、基板Gに冷却処理を施すクーリングユニット(COL)が2段、アドヒージョンユニット(AD)が下から順に積層されている。
【0028】
熱処理系ブロック25に隣接してレジスト処理ブロック15がX方向に延設されている。このレジスト処理ブロック15は、基板Gにレジストを塗布するレジスト塗布処理ユニット(CT)と、減圧により前記塗布されたレジストを乾燥させる減圧乾燥ユニット(VD)と、基板Gの周縁部のレジストを除去するエッジリムーバ(ER)とが一体的に設けられて構成されている。このレジスト処理ブロック15には、レジスト塗布処理ユニット(CT)からエッジリムーバ(ER)にかけて移動する図示しないサブアームが設けられており、このサブアームによりレジスト処理ブロック15内で基板Gが搬送されるようになっている。
【0029】
レジスト処理ブロック15に隣接して多段構成の熱処理系ブロック26が配設されており、この熱処理系ブロック26には、基板Gにレジスト塗布後の加熱処理を行うプリベーキングユニット(PREBAKE)が3段積層されている。
【0030】
下流部3cにおいては、図3に示すように、インターフェース部4側端部には、熱処理系ブロック29が設けられており、これには、クーリングユニット(COL)、露光後現像処理前の加熱処理を行うポストエクスポージャーベーキングユニット(PEBAKE)が2段、下から順に積層されている。
【0031】
熱処理系ブロック29に隣接して現像処理を行う現像処理ユニット(DEV)18がX方向に延設されている。この現像処理ユニット(DEV)18の隣には熱処理系ブロック28及び27が配置され、これら熱処理系ブロック28と27との間には、上記垂直搬送ユニット5と同一の構成を有し、両ブロック28及び27における各熱処理系ユニットにアクセス可能な垂直搬送ユニット6が設けられている。また、現像処理ユニット(DEV)18端部の上には、i線処理ユニット(i―UV)33が設けられている。現像処理ユニット(DEV)18には、上記の基板搬送装置と同様の構成を有する搬送装置が設けられている。
【0032】
熱処理系ブロック28には、クーリングユニット(COL)、基板Gに現像後の加熱処理を行うポストベーキングユニット(POBAKE)が2段、下から順に積層されている。一方、熱処理系ブロック27も同様に、クーリングユニット(COL)、ポストベーキングユニット(POBAKE)が2段、下から順に積層されている。
【0033】
インターフェース部4には、正面側にタイトラー及び周辺露光ユニット(Titler/EE)22が設けられ、垂直搬送ユニット7に隣接してエクステンションクーリングユニット(EXTCOL)35が、また背面側にはバッファカセット34が配置されており、これらタイトラー及び周辺露光ユニット(Titler/EE)22とエクステンションクーリングユニット(EXTCOL)35とバッファカセット34と隣接した露光装置32との間で基板Gの受け渡しを行う垂直搬送ユニット8が配置されている。この垂直搬送ユニット8も上記垂直搬送ユニット5と同一の構成を有している。
【0034】
図4は、本発明の一実施形態に係る搬送装置を含む現像処理ユニット(DEV)18の模式的な側面図である。この現像処理ユニット(DEV)18には、現像室36、リンス室37及び液切り乾燥室38が、基板Gの搬送上流側から順に配設されている。これらの各室36、37及び38には、上流側から搬送装置71、72及び73が延設されている。また、各室36、37及び38には、現像液を吐出する現像液ノズル61、リンス液を吐出するリンスノズル62、基板に液切り用のエアを吹き付けて乾燥させるエアナイフ63が設けられている。各室の間には、基板Gが搬入出されるための開口部65が形成されており、シャッタ部材64がこの開口部65を開閉可能に設けられている。現像室36の搬送装置71は、上流側に第1の搬送部A1が配置され、下流側に第2の搬送部A2が配置されており、これら間に緩衝用の第3の搬送部A3が配置されている。
【0035】
図5及び図6は、この第1の搬送部A1の一実施形態に係る平面図及び側面図である。なお、第2の搬送部A2、第3の搬送部A3、搬送装置72及び73は、基板Gの搬送方向長さ以外の構成については、第1の搬送部A1とほぼ同様であり、第2及び第3の搬送部A2及びA3についても後述する。
【0036】
この搬送装置A1の架台60の側部にはモータ44が取り付けられ、このモータ44により軸部材54が回転可能にガラス基板Gの搬送方向(X方向)に沿って軸架されている。架台60の上部左右には保持部41が搬送方向に延設されている。これら保持部41間には、ベアリング45により軸支された複数のシャフト53が掛け渡されており、これらシャフト53にはガラス基板Gの両端を支持するとともに回転により搬送する1対の搬送ローラ43が取り付けられ、また、端部にはそれぞれねじ歯車49が取り付けられている。上記軸部材54には、これらのねじ歯車49にそれぞれ対応して噛合するねじ歯車52が取り付けられており、これにより搬送ローラ43がモータ44の駆動により回転し基板Gが搬送されるようになっている。
【0037】
1対の搬送ローラ43にはそれぞれ載置部43aが設けられており、この載置部43a上にガラス基板Gが載置されるようになっている。また、載置部43aにはその基板Gの載置面に沿って図示しないOリングが装着され基板Gの搬送時における衝撃が吸収されるようになっている。
【0038】
装置端部には、基板Gの受け渡しを行うための複数の受け渡しピン46が配置され、図6に示すように、これら複数の受け渡しピン46は駆動部58の昇降駆動により連結部材47を介して一体的に、架台60の上部に設けられた開口部60aから昇降されるようになっている。
【0039】
この受け渡しピン46により、熱処理系ブロック29の最下段と熱処理系ブロック28の最下段との間で基板の受け渡しが可能となり、また、スクラバ洗浄処理ユニット(SCR)20においては、搬送機構10及び熱処理系ブロック24の最下段との間で基板の受け渡しが可能となる。
【0040】
図7及び図8は、第1及び第2の搬送部A1及びA2の間に配置された第3の搬送部A3の側面図である。この第3の搬送部A3には、リフト支持部材66を介して保持部41をリフトアップさせるためのリフトアップモータMが設けられている。このリフトアップモータMのリフトアップ動作により基板Gを搬送させながら持ち上げるようになっている。第2の搬送部A2も同様に、リフトアップモータMが設けられており、基板Gを搬送させながら持ち上げるようになっている。
【0041】
この第3の搬送部A3の搬送方向の長さは、基板Gの搬送方向1辺より短く構成されており、本実施形態では、例えば基板Gの搬送方向1辺のほぼ半分の長さを有し、より好ましくは、半分よりやや大きい程度がよい。
【0042】
本実施形態では、例えばこの第1の搬送部A1による搬送速度をV1、第2の搬送部A2による搬送速度をV1よりも遅いV2と設定し、第3の搬送部A3による搬送速度はV2からV1まで可変とする。
【0043】
なお、第3の搬送部A3における軸部材54は、例えば、タイミングベルト68を介してモータ44の回転駆動を搬送ローラ43に伝えるようになっている。
【0044】
以上のように構成された塗布現像処理システム1の処理工程については、先ずカセットC内の基板Gが処理部3部における上流部3bに搬送される。上流部3bでは、エキシマUV処理ユニット(e−UV)19において表面改質・有機物除去処理が行われ、次にスクラバ洗浄処理ユニット(SCR)20において、搬送装置により基板Gが略水平に搬送されながら洗浄処理及び乾燥処理等が行われる。続いて熱処理系ブロック24の最下段部で垂直搬送ユニットにおける搬送アーム5aにより基板Gが取り出され、同熱処理系ブロック24のベーキングユニット(BAKE)にて加熱処理、アドヒージョンユニット(AD)にて疎水化処理が行われ、熱処理系ブロック25のクーリングユニット(COL)による冷却処理が行われる。
【0045】
次に、基板Gは搬送アーム5aから搬送シャトル23に受け渡される。そしてレジスト塗布処理ユニット(CT)に搬送され、レジストの塗布処理が行われた後、減圧乾燥処理ユニット(VD)にて減圧乾燥処理、エッジリムーバ(ER)にて基板周縁のレジスト除去処理が順次行われる。
【0046】
次に、基板Gは搬送シャトル23から垂直搬送ユニット7の搬送アームに受け渡され、熱処理系ブロック26におけるプリベーキングユニット(PREBAKE)にて加熱処理が行われた後、熱処理系ブロック29におけるクーリングユニット(COL)にて冷却処理が行われる。続いて基板Gはエクステンションクーリングユニット(EXTCOL)35にて冷却処理されるとともに露光装置にて露光処理される。
【0047】
次に、基板Gは垂直搬送ユニット8及び7の搬送アームを介して熱処理系ブロック29のポストエクスポージャーベーキングユニット(PEBAKE)に搬送され、ここで加熱処理が行われた後、クーリングユニット(COL)にて冷却処理が行われる。そして基板Gは垂直搬送ユニット7の搬送アームを介して熱処理系ブロック29の最下段において搬送装置の受け渡しピン46に受け渡され、基板Gは搬送装置71〜73により略水平に搬送されながら現像処理、リンス処理及び乾燥処理が行われる。
【0048】
次に、基板Gは熱処理系ブロック28における最下段から垂直搬送ユニット6の搬送アーム6aにより受け渡され、熱処理系ブロック28又は27におけるポストベーキングユニット(POBAKE)にて加熱処理が行われ、クーリングユニット(COL)にて冷却処理が行われる。そして基板Gは搬送機構10に受け渡されカセットCに収容される。
【0049】
次に図9及び図10を参照して、現像処理ユニット(DEV)18における処理について説明する。
【0050】
図9(a)に示すように、例えば、基板G1が第1の搬送部A1上を速度V1で搬送しており、次の基板G2が受け渡しピン46に受け渡される。このときの第3の搬送部A3の搬送速度は第1の搬送部A1と同一のV1である。同図(b)に示すように、基板G1が搬送されながら現像液ノズル61により現像液が盛られる。同図(c)に示すように、基板G1が第3の搬送部A3まで搬送され、基板G1の搬送先端が第3の搬送部A3の下流端まで搬送されてくると、例えば反射式の光センサS1が当該基板の搬送先端を検知する。この検知を基に、同図(d)に示すように第3の搬送部A3及び第2の搬送部A2が同時にリフトアップされるとともに、第3の搬送部A3の搬送速度がV2に変更され第2の搬送部A2の速度に同一とされる。
【0051】
すなわち、基板G1の液盛りが終了すると、放置現像するために放置時間が必要となるので、V1>V2とし、放置現像処理時の搬送距離を可及的に小さくしている。ここで、V1>V2であるので基板G2と基板G1との距離は小さくなっていく。
【0052】
そして、図10(a)に示すように、基板G1が第3の搬送部A3から第2の搬送部A2へ搬送され、基板Gの搬送後端が第3の搬送部A3の上流端に来たときに、当該基板Gの後端が通過した直後を例えば反射式の光センサS2が検知する。この検知を基に、同図(b)に示すように第3の搬送部A3及び第2の搬送部A2を同時に下降させる。このとき基板G2は現像液の液盛りが行われている。そして同図(c)に示すように、基板G1の搬送後端が第3の搬送部A3の下流端を通過した直後を光センサS1により検知する。そしてこの検知を基に、第3の搬送部A3の搬送速度をV1に変える。これにより、基板G1との距離を縮めて搬送されてくる基板G2に対して、基板G1と同様の搬送動作を繰り返す。
【0053】
以上のように、本実施形態によれば、1枚の基板G1が第1の搬送部と第3の搬送部とにまたがって搬送されているときであって、第1の搬送部A1上にある当該1枚の基板の面積よりも第3の搬送部A3上にある面積が大きくなったときに、第3及び第2の搬送部A3及びA2をリフトアップするとともに、第3の搬送部A3の搬送速度をV2としているので、基板G1の全面が第3の搬送部A3上になくても基板G1を第3の搬送部A3から第2の搬送部A3へ連続して搬送させることができる。すなわち、従来は緩衝用の搬送部の搬送方向長さを基板の搬送方向1辺の長さ以上を必要としていたが、本実施形態によれば、小さいフットプリントで緩衝用の搬送部である第3の搬送部A3を設けることができる。
【0054】
また、従来のように基板の搬送方向1辺の長さ以上の緩衝用の搬送部をリフトアップさせないで基板を搬送させる場合に比べ、本実施形態では、第1の搬送部A1において基板同士の距離を詰めて搬送させることができるので、搬送効率及び処理効率を向上させることができる。
【0055】
図11は、上記スクラバ洗浄処理ユニット(SCR)20を示す模式的な側面図である。このスクラバ洗浄処理ユニット(SCR)20には、ブラシ洗浄室74、高圧洗浄室75及び液切り乾燥室76が、基板Gの搬送上流側から順に配設されている。これら各室74、75及び76には、上流側から第1の搬送部B1、第3の搬送部B3及び第2の搬送部B2が延設されている。この搬送部B1、B2及びB3は、それぞれ上記第1〜第3の搬送部A1〜A3に対応しているが、本実施形態の搬送速度の設定は、現像処理ユニット(DEV)18における搬送速度の設定と異なる。B1、B2の搬送速度をV1、V2とすると、V1<V2としている。
【0056】
また、各室74、75及び76には、基板Gを回転により擦って洗浄するロールブラシ81、高圧で基板Gに洗浄水を供給して洗浄する高圧洗浄ノズル82、基板に液切り用のエアを吹き付けて乾燥させるエアナイフ83が設けられている。高圧洗浄ノズル82及びエアナイフ83は昇降駆動部85によってそれぞれ昇降可能に設けられている。
【0057】
図12に示すように、ブラシ洗浄室74で洗浄された基板Gが、第1の搬送部B1及び第3の搬送部B3にまたがったときに、第3の搬送部B3及び第2の搬送部B2を同時にリフトアップさせるとともに、搬送部B3の速度をV2に変えて搬送部B2と同一にする。また、このB3及びB2のリフトアップとともに、高圧洗浄ノズル82及びエアナイフ83を、B3及びB2のリフトアップ分の高さだけ上昇させ洗浄処理及び乾燥処理を続行する。これにより、基板Gが高圧洗浄ノズル82及びエアナイフ83に近づくことなく処理が行える。
【0058】
本実施形態によれば、搬送及びフットプリントの高効率を維持しつつ、ロールブラシによる洗浄処理及び高圧洗浄処理に応じた搬送速度で基板を搬送させることができる。
【0059】
本発明は以上説明した実施形態には限定されるものではなく、種々の変形が可能である。
【0060】
例えば、上記実施形態では、第3の搬送部A3又はB3の搬送速度をV2〜V1とし可変としたが、これに限らず、第3の搬送部A3又はB3の搬送ローラを駆動させるモータ44を設けずにフリーとすることも可能である。この場合、第3の搬送部A3又はB3では、第1の搬送部A1又はB1から搬送される基板の移動力により基板を搬送させることができる。
【0061】
また、現像処理ユニット(DEV)において、搬送装置71と搬送装置72との間に本発明に係る緩衝用の搬送部を配置し、搬送装置72による搬送速度を搬送装置71による搬送速度より速くするようにしてもよい。これにより、搬送及びフットプリントの高効率を維持しつつ、現像処理及びリンス処理に応じた搬送速度で基板を搬送させるようにすることができる。
【0062】
また、現像処理ユニット(DEV)において、搬送装置72及び73を搬送装置71のように3つの搬送部A1〜A3に分けるようにしてもよい。
【0063】
更に、上記スクラバ洗浄処理ユニット(SCR)20において、高圧洗浄室75の下流側に、超音波洗浄水を供給するための超音波洗浄室を更に配置させる構成としてもよい。
【0064】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、緩衝用の搬送装置のフットプリントを可及的に小さくすることができる。また、緩衝用の搬送装置を有する搬送装置全体の搬送効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明が適用される塗布現像処理システムの全体構成を示す平面図である。
【図2】図1に示す塗布現像処理システムの正面図である。
【図3】図1に示す塗布現像処理システムの背面図である。
【図4】一実施形態に係る現像処理ユニットの模式的な側面図である。
【図5】本発明の一実施形態に係る第1の搬送部の平面図である。
【図6】図5に示す第1の搬送部の側面図である。
【図7】第1の搬送部と第2の搬送部との間に配置された第3の搬送部の側面図である。
【図8】第2の搬送部及び第3の搬送部のリフトアップ状態を示す側面図である。
【図9】本発明の一実施形態に係る搬送動作を示す作用図である。
【図10】同作用図である。
【図11】一実施形態に係るスクラバ洗浄処理ユニットの模式的な側面図である。
【図12】図11に示すスクラバ洗浄処理ユニットにおける搬送装置の作用を示す模式的な側面図である。
【符号の説明】
G…ガラス基板
A1…第1の搬送部
A2…第2の搬送部
A3…第3の搬送部
M…リフトアップモータ
V1、V2…速度
S1、S2…光センサ
18…現像処理ユニット
20…スクラバ洗浄処理ユニット
36…現像室
37…リンス室
38…液切り乾燥室
41…保持部
43…搬送ローラ
61…現像液ノズル
62…リンスノズル
63…エアナイフ
66…リフト支持部材
74…ブラシ洗浄室
75…高圧洗浄室
76…液切り乾燥室
81…ロールブラシ
82…高圧洗浄ノズル
83…エアナイフ
85…昇降駆動部
Claims (9)
- 回転する複数のローラ上に基板を載置させて基板を搬送させる第1の搬送部と、
回転する複数のローラ上に基板を載置させて、前記第1の搬送部の搬送速度と異なる速度で基板を搬送させる第2の搬送部と、
前記第1の搬送部と前記第2の搬送部との間に接続して配置され、搬送方向の長さが基板の搬送方向1辺より短い長さを有し、回転する複数のローラ上に基板を載置させて、前記第1の搬送部から搬送される基板を前記第2の搬送部へ搬送させる第3の搬送部と、
1枚の基板が前記第1の搬送部と前記第3の搬送部とにまたがって搬送されているときであって、前記1枚の基板の前記第1の搬送部のローラ上にある面積よりも前記第3の搬送部のローラ上にある面積が大くなったときに、前記第3の搬送部を前記第2の搬送部に接続させた状態で前記第1の搬送部から離間させる手段と
を具備することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1に記載の基板搬送装置において、
前記第3の搬送部の搬送方向の長さは、基板の搬送方向1辺のほぼ半分であることを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1又は請求項2に記載の基板搬送装置において、
前記第3の搬送部のローラ上に基板がないときは前記第3の搬送部の搬送速度を前記第1の搬送部の搬送速度と等しくし、前記第3の搬送部を前記第1の搬送部から離間させた直後に、前記第3の搬送部による基板の搬送速度を、前記第2の搬送部の搬送速度と等しくする手段を更に具備することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項3に記載の基板搬送装置において、
前記第3の搬送部により搬送される基板の搬送後端が前記第3の搬送部の搬送上流端を通過した直後に、前記第3の搬送部を前記第2の搬送部に接続させた状態で前記第1の搬送部に接続させる手段と、
前記第2の搬送部により搬送される基板の搬送後端が前記第2の搬送部の搬送上流端を通過した直後に、前記第3の搬送部の搬送速度を前記第1の搬送部の搬送速度と等しくする手段と
を更に具備することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項2から請求項4のうちいずれか1項に記載の基板搬送装置において、
前記第3の搬送部の搬送下流端に搬送されて来る基板の搬送先端を検知する第1のセンサを更に具備することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項2から請求項5のうちいずれか1項に記載の基板搬送装置において、
前記第3の搬送部の搬送上流端に搬送される基板の搬送後端を検知する第2のセンサを更に具備することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1から請求項6のうちいずれか1項に記載の基板搬送装置において、
前記第1の搬送部により搬送される基板上に現像液を供給する手段を更に具備し、
前記第3の搬送部及び前記第2の搬送部により、前記第1の搬送部の搬送速度より遅い速度で基板を搬送させながら現像を行うことを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1から請求項6のうちいずれか1項に記載の基板搬送装置において、
前記第1の搬送部により搬送される基板上に現像液を供給して現像を行う手段と、
前記第2の搬送部により、前記第1の搬送部による搬送速度より速い速度で基板を搬送させながら該基板上にリンス液を供給して前記現像液を洗い流す手段と
を更に具備することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1から請求項6のうちいずれか1項に記載の基板搬送装置において、
前記第1の搬送部により搬送される基板を回転により洗浄するロールブラシと、
前記第2の搬送部により、前記第1の搬送部の搬送速度より速い速度で基板を搬送させながら該基板上に高圧洗浄液を供給する手段と、
前記第2の搬送部により基板上にエアを供給して液切り乾燥する手段と
を更に具備することを特徴とする基板搬送装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001215905A JP3887549B2 (ja) | 2001-07-16 | 2001-07-16 | 基板搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001215905A JP3887549B2 (ja) | 2001-07-16 | 2001-07-16 | 基板搬送装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003031637A JP2003031637A (ja) | 2003-01-31 |
JP3887549B2 true JP3887549B2 (ja) | 2007-02-28 |
Family
ID=19050455
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001215905A Expired - Fee Related JP3887549B2 (ja) | 2001-07-16 | 2001-07-16 | 基板搬送装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3887549B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103787067A (zh) * | 2014-01-23 | 2014-05-14 | 北京京东方显示技术有限公司 | 基板传送装置 |
CN104291115A (zh) * | 2014-08-06 | 2015-01-21 | 南京索尔玻璃科技有限公司 | 玻璃生产线补片装置 |
CN107249815A (zh) * | 2015-03-05 | 2017-10-13 | 昭和电工株式会社 | 长工件的输送装置 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3968038B2 (ja) * | 2003-03-04 | 2007-08-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法及び基板処理装置及び現像処理方法及び現像処理装置 |
JP4685584B2 (ja) * | 2005-03-11 | 2011-05-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置 |
JP2007316162A (ja) * | 2006-05-23 | 2007-12-06 | Sharp Corp | 表示素子部品修正装置および表示素子部品修正方法 |
JP2009158792A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
CN102602695A (zh) * | 2011-01-25 | 2012-07-25 | 佶新科技股份有限公司 | 基板输送分类装置 |
JP5931409B2 (ja) * | 2011-11-14 | 2016-06-08 | 川崎重工業株式会社 | 板材の搬送システム |
CN103183195B (zh) * | 2011-12-29 | 2015-12-23 | 安东石油技术(集团)有限公司 | 一种柔性浮动的管承托机构及管状物的承托方法 |
JP6065287B2 (ja) * | 2014-03-28 | 2017-01-25 | 株式会社ダイフク | 搬送台車昇降装置 |
CN107111238B (zh) * | 2014-08-28 | 2018-10-26 | 富林特集团德国有限公司 | 用于生产柔性版印刷印版的装置和方法 |
JP6360404B2 (ja) * | 2014-09-30 | 2018-07-18 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
-
2001
- 2001-07-16 JP JP2001215905A patent/JP3887549B2/ja not_active Expired - Fee Related
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CN107249815B (zh) * | 2015-03-05 | 2020-01-17 | 昭和电工株式会社 | 长工件的输送装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003031637A (ja) | 2003-01-31 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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