JP3919464B2 - 搬送装置、洗浄装置及び現像装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶製造工程において液晶ディスプレイ（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）等に使用されるガラス基板を搬送する搬送装置、基板の洗浄を行う洗浄装置及び現像処理を行う現像装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＬＣＤの製造工程において、ＬＣＤ用のガラス基板上にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の薄膜や電極パターンを形成するために、半導体デバイスの製造に用いられるものと同様のフォトリソグラフィ技術が利用される。フォトリソグラフィ技術では、フォトレジストをガラス基板に塗布し、これを露光し、さらに現像する。
【０００３】
これらレジスト塗布、露光及び現像の一連の処理は、従来から、塗布、現像あるいはベーキング等の各処理を行う塗布現像処理システムによって行われており、処理ユニットへガラス基板を搬送する手段として、例えばガラス基板を真空吸着により保持する搬送アームを使用したり、あるいは回転軸を有する複数の搬送ローラ上にガラス基板を載置させ、この搬送ローラの回転により基板を搬送するコロ搬送を使用したりしている。
【０００４】
そこで、このようなコロ搬送装置として、例えば特開平１１−２０８８３９号公報には、非接触状態に近接対向する永久磁石を介して駆動軸の回転を搬送ローラのローラ軸に伝えるようにし、これにより、従来のようなギヤ同士の噛合部分や、ベルトとプーリとの接触部分といった複雑な構成を単純化でき、発塵を防止できる搬送装置が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記公報に開示された搬送装置では、搬送ローラ３０両端のローラ軸３１は支持枠材２０に軸受２１を介して挿通されているのみであり、例えば、搬送ローラ３０を取り外すことができない構造となっているので、軸受２１部分や搬送ローラ３０、永久磁石３３等のメンテナンス、あるいは搬送ローラ３０より下方にある機械類のメンテナンスが困難である。
【０００６】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、発塵を防止でき、メンテナンス等を容易に行うことができる搬送装置を提供することにあり、また、この搬送装置を用いた洗浄装置及び現像装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の第１の観点は、回転可能な軸部材に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対のローラと、上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第１の磁石が配置された第１のギヤと、前記第１のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第１のギヤの表面形状に対向して第２の磁石が配置された第２のギヤと、前記第２のギヤを回転駆動させる駆動部と、前記第１のギヤの近傍に配置され、該第１のギヤが所定の位置に配置されたことを検知する手段とを具備し、前記検知手段は前記第１の磁石による磁場を検出する磁気センサであることを特徴とする。
【０００８】
このような構成によれば、第１のギヤと第２のギヤとが隙間を空けて配置され、それぞれの各ギヤに設けられた第１の磁石と第２の磁石の間の吸引力により駆動部の駆動力が１対のローラに伝達されるように構成されているので、ギヤ同士が接触することはなく発塵を防止することができる。
【０００９】
また、切り欠き部で軸部材を着脱自在に軸支する構成としたので、メンテナンスの際に軸部材を容易に取り外しでき、メンテナンスを容易に行うことができる。
さらに、このような構成によれば、第１のギヤが正常位置に配置されたことを確認することができ、第１のギヤが所定の正常位置に配置されずにギヤ部が機能しないという事態を防止できる。
本発明の第２の観点は、回転可能な軸部材に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対のローラと、上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第１の磁石が配置された第１のギヤと、前記第１のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第１のギヤの表面形状に対向して第２の磁石が配置された第２のギヤと、前記第２のギヤを回転駆動させる駆動部と、前記第１のギヤの近傍に配置され、該第１のギヤが所定の位置に配置されたことを検知する手段とを具備し、前記検知手段は、前記第１のギヤが所定の位置に配置されたときに、前記第１の磁石の近傍位置に引きつけられる可動部を備え、前記可動部が前記第１の磁石の近傍位置に引きつけられることにより、前記第１のギヤが正常位置に配置されたことを確認するスイッチが接続されること特徴とする。
このような構成によれば、第１のギヤと第２のギヤとが隙間を空けて配置され、それぞれの各ギヤに設けられた第１の磁石と第２の磁石の間の吸引力により駆動部の駆動力が１対のローラに伝達されるように構成されているので、ギヤ同士が接触することはなく発塵を防止することができる。
また、切り欠き部で軸部材を着脱自在に軸支する構成としたので、メンテナンスの際に軸部材を容易に取り外しでき、メンテナンスを容易に行うことができる。
このような構成によれば、第１の磁石の磁力を利用した簡単な構成で、第１のギヤが正常位置に配置されたことを確認することができる。
【００１９】
本発明の第３の観点は、回転可能な軸部材に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対のローラと、上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第１の磁石が配置された第１のギヤと、前記第１のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第１のギヤの表面形状に対向して第２の磁石が配置された第２のギヤと、前記第２のギヤを回転駆動させる駆動部と、前記第１のギヤの近傍に配置され、該第１のギヤが所定の位置に配置されたことを検知する手段とを備える搬送装置と、前記１対のローラにより搬送される基板の上部にそれぞれ配置され、基板に対して回転しながら基板を洗浄するブラシと、前記ブラシにより洗浄された基板上に洗浄液を供給する手段と、基板上にエアを吹きつけて乾燥させる手段とを具備し、前記検知手段は前記第１の磁石による磁場を検出する磁気センサであることを特徴とする。
本発明の第４の観点は、回転可能な軸部材に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対のローラと、上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第１の磁石が配置された第１のギヤと、前記第１のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第１のギヤの表面形状に対向して第２の磁石が配置された第２のギヤと、前記第２のギヤを回転駆動させる駆動部と、前記第１のギヤの近傍に配置され、該第１のギヤが所定の位置に配置されたことを検知する手段とを備える搬送装置と、前記１対のローラにより搬送される基板の上部にそれぞれ配置され、基板に対して回転しながら基板を洗浄するブラシと、前記ブラシにより洗浄された基板上に洗浄液を供給する手段と、基板上にエアを吹きつけて乾燥させる手段とを具備し、前記検知手段は、前記第１のギヤが所定の位置に配置されたときに、前記第１の磁石の近傍位置に引きつけられる可動部を備え、前記可動部が前記第１の磁石の近傍位置に引きつけられることにより、前記第１のギヤが正常位置に配置されたことを確認するスイッチが接続されること特徴とする。
【００２０】
このような構成によれば、保持部材に切り欠き部を設けることにより軸部材を第１のギヤ、１対のローラ及とともに、着脱自在に容易に取り外せる構成としたので、例えば、軸部材の軸受け部分や第１のギヤ、あるいは装置下部の機械類のメンテナンスを容易に行うことができる。特に、本洗浄装置においては、洗浄処理に使用する洗浄液等が上記搬送装置に付着する場合があり定期的なメンテナンスが必要とされるのでより効果的である。
また、第１のギヤと第２のギヤとが隙間を空けて配置され、それぞれの各ギヤに設けられた第１の磁石と第２の磁石の間の吸引力により駆動部の駆動力が１対のローラに伝達されるように構成されているので、ギヤ同士が接触することはなく発塵を防止することができる。
さらに、切り欠き部で軸部材を着脱自在に軸支する構成としたので、メンテナンスの際に軸部材を容易に取り外しでき、メンテナンスを容易に行うことができる。
そして、第１の磁石の磁力を利用した簡単な構成で、第１のギヤが正常位置に配置されたことを確認することができる。
【００２１】
本発明の一の形態によれば、前記ブラシ、前記洗浄液供給手段及び前記乾燥手段を基板の搬送方向に対して相対的に移動させる移動手段と、前記移動手段の移動速度を可変にする手段とを更に具備する。
【００２２】
このような構成によれば、ブラシ、洗浄液供給手段及び前記乾燥手段の移動速度が可変とされているので、搬送装置による基板の搬送速度を一定の速度に定めた場合であっても、多種の基板の処理内容に応じて移動速度を定め洗浄処理を行うことができる。
【００２３】
本発明の第５の観点は、回転可能な軸部材に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対のローラと、上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第１の磁石が配置された第１のギヤと、前記第１のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第１のギヤの表面形状に対向して第２の磁石が配置された第２のギヤと、前記第２のギヤを回転駆動させる駆動部と、前記第１のギヤの近傍に配置され、該第１のギヤが所定の位置に配置されたことを検知する手段とを備える搬送装置と、前記１対のローラにより搬送される基板の上部にそれぞれ配置され、基板上に現像液を供給する手段と、前記現像液が供給された基板上にリンス液を供給する手段と、基板上にエアを吹きつけて乾燥させる手段とを具備し、前記検知手段は前記第１の磁石による磁場を検出する磁気センサであることを特徴とする。
本発明の第６の観点は、回転可能な軸部材に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対のローラと、上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第１の磁石が配置された第１のギヤと、前記第１のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第１のギヤの表面形状に対向して第２の磁石が配置された第２のギヤと、前記第２のギヤを回転駆動させる駆動部と、前記第１のギヤの近傍に配置され、該第１のギヤが所定の位置に配置されたことを検知する手段とを備える搬送装置と、前記１対のローラにより搬送される基板の上部にそれぞれ配置され、基板上に現像液を供給する手段と、前記現像液が供給された基板上にリンス液を供給する手段と、基板上にエアを吹きつけて乾燥させる手段とを具備し、前記検知手段は、前記第１のギヤが所定の位置に配置されたときに、前記第１の磁石の近傍位置に引きつけられる可動部を備え、前記可動部が前記第１の磁石の近傍位置に引きつけられることにより、前記第１のギヤが正常位置に配置されたことを確認するスイッチが接続されること特徴とする。
【００２４】
このような構成によれば、保持部材に切り欠き部を設けることにより軸部材を第１のギヤ、１対のローラ及とともに容易に取り外せる構成としたので、例えば、軸部材の軸受け部分や第１のギヤのメンテナンスを容易に行うことができる。特に、本現像装置においては、現像処理に使用する現像液等が上記搬送装置に付着する場合があり定期的なメンテナンスが必要とされるのでより効果的である。
また、第１のギヤと第２のギヤとが隙間を空けて配置され、それぞれの各ギヤに設けられた第１の磁石と第２の磁石の間の吸引力により駆動部の駆動力が１対のローラに伝達されるように構成されているので、ギヤ同士が接触することはなく発塵を防止することができる。
さらに、切り欠き部で軸部材を着脱自在に軸支する構成としたので、メンテナンスの際に軸部材を容易に取り外しでき、メンテナンスを容易に行うことができる。
そして、第１の磁石の磁力を利用した簡単な構成で、第１のギヤが正常位置に配置されたことを確認することができる。
【００２５】
本発明の一の形態によれば、前記現像液供給手段、前記リンス液供給手段及び前記乾燥手段を基板の搬送方向に対して相対的に移動させる移動手段と、前記移動手段の移動速度を可変にする手段とを更に具備する。
【００２６】
このような構成によれば、現像液供給手段、前記リンス液供給手段及び前記乾燥手段の移動速度が可変とされているので、搬送装置による基板の搬送速度を一定の速度に定めた場合であっても、多種の基板の処理内容に応じて移動速度を定め現像処理を行うことができる。
本発明の一の形態によれば、前記第１のギヤ又は第２のギヤのうち少なくとも一方は、前記磁石が螺旋状に配置されていることを特徴とする。
このような構成によれば、例えば上記公報に記載の搬送装置では、永久磁石を回転方向に並設しただけの構成であるので、回転中に永久磁石の吸引力に大小の「波」が生じることにより搬送ローラの回転動作の滑らかさが得られず、基板の搬送に悪影響を与えるおそれがあったが、本実施形態では、第１のギヤにおける第１の磁石及び第２のギヤにおける第２の磁石を螺旋状に配置する構成としたことにより、ギヤ同士の回転動作を滑らかにすることができる。従って基板に悪影響を与えることなく搬送できる。
本発明の一の形態によれば、前記ローラ、前記保持部、前記第１のギヤ、前記第２のギヤ及び前記検知手段を覆うカバー部材を更に具備することを特徴とする。
なお、前記第１のギヤの表面は略鞍型形状であり、前記第２のギヤの表面は、前記第１のギヤの略鞍型形状に対応した曲面であるようにしてもよい。
このような構成によれば、第１のギヤの表面と第２のギヤの表面との対向面積を大きくすることができ、確実に駆動部の動力を伝達することができる。
【００２７】
本発明の更なる特徴と利点は、添付した図面及び発明の実施の形態の説明を参酌することによりより一層明らかになる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
【００２９】
図１は本発明の搬送装置が適用されるＬＣＤ基板の塗布現像処理システムを示す平面図であり、図２はその正面図、また図３はその背面図である。
【００３０】
この塗布現像処理システム１は、複数のガラス基板Ｇを収容するカセットＣを載置するカセットステーション２と、基板Ｇにレジスト塗布および現像を含む一連の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部３と、露光装置３２との間で基板Ｇの受け渡しを行うためのインターフェース部４とを備えており、処理部３の両端にそれぞれカセットステーション２及びインターフェース部４が配置されている。
【００３１】
カセットステーション２は、カセットＣと処理部３との間でＬＣＤ基板の搬送を行うための搬送機構１０を備えている。そして、カセットステーション２においてカセットＣの搬入出が行われる。また、搬送機構１０はカセットの配列方向に沿って設けられた搬送路１２上を移動可能な搬送アーム１１を備え、この搬送アーム１１によりカセットＣと処理部３との間で基板Ｇの搬送が行われる。
【００３２】
処理部３には、カセットステーション２におけるカセットＣの配列方向（Ｙ方向）に垂直方向（Ｘ方向）に延設された主搬送部３ａと、この主搬送部３ａに沿って、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）を含む各処理ユニットが並設された上流部３ｂ及び現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８を含む各処理ユニットが並設された下流部３ｃとが設けられている。
【００３３】
主搬送部３ａには、Ｘ方向に延設された搬送路３１と、この搬送路３１に沿って移動可能に構成されガラス基板ＧをＸ方向に搬送する搬送シャトル２３とが設けられている。この搬送シャトル２３は、例えば支持ピンにより基板Ｇを保持して搬送するようになっている。また、主搬送部３ａのインターフェース部４側端部には、処理部３とインターフェース部４との間で基板Ｇの受け渡しを行う垂直搬送ユニット７が設けられている。
【００３４】
上流部３ｂにおいて、カセットステーション２側端部には、基板Ｇに洗浄処理を施すスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０が設けられ、このスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０の上段に基板Ｇ上の有機物を除去するためのエキシマＵＶ処理ユニット（ｅ−ＵＶ）１９が配設されている。スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０には、本発明に係るコロ搬送型の搬送装置５０が設けられており、これについては後述する。
【００３５】
スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０の隣には、ガラス基板Ｇに対して熱的処理を行うユニットが多段に積み上げられた熱処理系ブロック２４及び２５が配置されている。これら熱処理系ブロック２４と２５との間には、垂直搬送ユニット５が配置され、搬送アーム５ａがＺ方向及び水平方向に移動可能とされ、かつθ方向に回動可能とされているので、両ブロック２４及び２５における各熱処理系ユニットにアクセスして基板Ｇの搬送が行われるようになっている。なお、上記処理部３における垂直搬送ユニット７についてもこの垂直搬送ユニット５と同一の構成を有している。
【００３６】
図２に示すように、熱処理系ブロック２４には、基板Ｇにレジスト塗布前の加熱処理を施すベーキングユニット（ＢＥＫＥ）が２段、ＨＭＤＳガスにより疎水化処理を施すアドヒージョンユニット（ＡＤ）が下から順に積層されている。一方、熱処理系ブロック２５には、基板Ｇに冷却処理を施すクーリングユニット（ＣＯＬ）が２段、アドヒージョンユニット（ＡＤ）が下から順に積層されている。
【００３７】
熱処理系ブロック２５に隣接してレジスト処理ブロック１５がＸ方向に延設されている。このレジスト処理ブロック１５は、基板Ｇにレジストを塗布するレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）と、減圧により前記塗布されたレジストを乾燥させる減圧乾燥ユニット（ＶＤ）と、基板Ｇの周縁部のレジストを除去するエッジリムーバ（ＥＲ）とが一体的に設けられて構成されている。このレジスト処理ブロック１５には、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）からエッジリムーバ（ＥＲ）にかけて移動する図示しないサブアームが設けられており、このサブアームによりレジスト処理ブロック１５内で基板Ｇが搬送されるようになっている。
【００３８】
レジスト処理ブロック１５に隣接して多段構成の熱処理系ブロック２６が配設されており、この熱処理系ブロック２６には、基板Ｇにレジスト塗布後の加熱処理を行うプリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）が３段積層されている。
【００３９】
下流部３ｃにおいては、図３に示すように、インターフェース部４側端部に熱処理系ブロック２９が設けられており、これには、クーリングユニット（ＣＯＬ）、露光後現像処理前の加熱処理を行うポストエクスポージャーベーキングユニット（ＰＥＢＡＫＥ）が２段、下から順に積層されている。。
【００４０】
熱処理系ブロック２９に隣接して現像処理を行う現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８がＸ方向に延設されている。この現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８の隣には熱処理系ブロック２８及び２７が配置され、これら熱処理系ブロック２８と２７との間には、上記垂直搬送ユニット５と同一の構成を有し、両ブロック２８及び２７における各熱処理系ユニットにアクセス可能な垂直搬送ユニット６が設けられている。また、現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８端部の上には、ｉ線処理ユニット（ｉ―ＵＶ）３３が設けられている。現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８には、上記コロ搬送型の搬送装置５０と同一の構成を有する搬送装置５１が設けられている。
【００４１】
熱処理系ブロック２８には、クーリングユニット（ＣＯＬ）、基板Ｇに現像後の加熱処理を行うポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）が２段、下から順に積層されている。一方、熱処理系ブロック２７も同様に、クーリングユニット（ＣＯＬ）、ポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）が２段、下から順に積層されている。
【００４２】
インターフェース部４には、正面側にタイトラー及び周辺露光ユニット（Ｔｉｔｌｅｒ／ＥＥ）２２が設けられ、垂直搬送ユニット７に隣接してエクステンションクーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）３５が、また背面側にはバッファカセット３４が配置されており、これらタイトラー及び周辺露光ユニット（Ｔｉｔｌｅｒ／ＥＥ）２２とエクステンションクーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）３５とバッファカセット３４と隣接した露光装置３２との間で基板Ｇの受け渡しを行う垂直搬送ユニット８が配置されている。この垂直搬送ユニット８も上記垂直搬送ユニット５と同一の構成を有している。
【００４３】
図４及び図５は第１の実施形態に係る搬送装置５０、５１のそれぞれ平面図及び側面図を示す。なお、このスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０における搬送装置５０と現像処理ユニット（ＤＥＶ）における搬送装置５１とは、その長手方向の長さが異なる他、その構成は同一である。
【００４４】
この搬送装置５０、５１の架台６０の側部にはモータ４４が取り付けられ、このモータ４４によりシャフト５４が回転可能にガラス基板Ｇの搬送方向（Ｘ方向）に沿って軸架されている。架台６０の上部左右には、保持部材４１が搬送方向に延設されており、これら保持部材４１間には、上端に形成された切り欠き部４１ａで１対のベアリング４５により軸支された複数の軸部材５３が掛け渡され、これら軸部材５３にはガラス基板Ｇの両端を支持するとともに回転により搬送する１対の搬送ローラ４３が取り付けられている。
【００４５】
１対の搬送ローラ４３にはそれぞれ凸部４３ａが設けられており、この凸部４３ａ上にガラス基板Ｇが載置されるようになっている。また、凸部４３ａにはその基板Ｇの載置面に沿って図示しないＯリングが装着され基板Ｇの搬送時における衝撃が吸収されるようになっている。
【００４６】
また、ガラス基板Ｇの搬送の際に基板Ｇの撓みを防止するために、軸部材５３には１対の搬送ローラ４３の間に基板Ｇの裏面側を支持する支持ローラ６４が設けられている。
【００４７】
図５を参照して、この搬送装置５０、５１の両端部には、上述したように外部との間で基板Ｇの受け渡しを行うための複数の受け渡しピン４６が配置され、図６に示すように、これら複数の受け渡しピン４６は駆動部５８の昇降駆動により連結部材４７を介して一体的に、基板Ｇの裏面側から昇降駆動されるようになっている。
【００４８】
図６に示すように、上記ベアリング４５は切り欠き部４１ａにおける溝部４１ｂに軸部材５３とともに着脱自在に嵌合している。軸部材５３の一端には、略鞍型形状の第１のギヤ５２が設けられており、図７に示すように、この第１のギヤ５２の略鞍型形状部分の表面には、複数の永久磁石４８が軸部材５３の軸方向（Ｙ方向）に螺旋状に配置されている。そしてこの第１のギヤ５２との間に隙間を設けて、略鞍型形状に対応して断面が円形状の上記シャフト５４が設けられている。図８に示すように、このシャフト５４の表面部分には、第２のギア５５として複数の永久磁石４９が第１のギヤ５２における複数の永久磁石４８に対応する位置及び大きさで螺旋状に配置されている。このような構成によってモータ４４の駆動により第２のギヤ５５が回転し、磁石４８と磁石４９とが引きつけられて第１のギヤ５２が回転することで基板Ｇが搬送されるようになっている。
【００４９】
以上のように、第１のギヤ５２と第２のギヤ５５とが隙間を空けて配置され、それぞれのギヤ５２及び５５に設けられた永久磁石４８と４９との吸引力によりモータ４４の駆動力が搬送ローラ４３に伝達されるように構成されているので、ギヤ同士が接触することはなく発塵を防止することができる。
【００５０】
また、本実施形態の第１のギヤ５２の表面形状を略鞍型形状とすることにより、第２のギヤ５５の表面形状と第１のギヤ５２の表面形状との対向面積を大きくすることができ、確実にモータ４４の動力を伝達することができる。
【００５１】
また、上記公報に記載の搬送装置では、永久磁石を回転方向に並設しただけの構成であるので、回転中に永久磁石の吸引力に大小の「波」が生じることにより搬送ローラの回転動作の滑らかさが得られず、基板の搬送に悪影響を与えるおそれがあったが、本実施形態では、第１のギヤにおける永久磁石４８及び第２のギヤ５５における永久磁石４９を螺旋状に配置する構成としたことにより、ギヤ同士の回転動作を滑らかにすることができる。
【００５２】
また、本実施形態では、保持部材４１に切り欠き部４１ａを設けることにより軸部材５３をベアリング４５、第１のギヤ５２、搬送ローラ４３及び支持ローラ６４とともに容易に取り外せる構成としたので、例えば、ベアリング４５や第１のギヤ５２、あるいは上記受け渡しピン４６を備える受け渡し装置等のメンテナンスを容易に行うことができる。特に、搬送装置５０、５１をスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０及び現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８に適用する場合には、洗浄処理に使用する洗浄液、あるいは現像処理に使用する現像液等が付着する場合があり定期的なメンテナンスが必要とされるのでより効果的である。
【００５３】
図９及び図１０は、第１のギヤ及び第２のギヤの他の実施形態を示す正面図である。この第１のギヤ９１は、図９に示すように磁石９３をそのＮ極とＳ極を交互に隙間なく配置させて構成されている。また、図１０に示すように、第２のギヤ９２は、軸部材５４に磁石９４を螺旋状に隙間なく配置させている。このような構成によってもギヤ同士の回転動作を滑らかにすることができる。
【００５４】
次に、以上説明した搬送装置５０、５１を使用したスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０及び現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８の構成について説明する。
【００５５】
図１１は上記スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０の側面図であり、図１２、図１３及び図１４はそれぞれ図１１におけるＡ−Ａ線、Ｂ−Ｂ線及びＣ−Ｃ線方向の断面図である。搬送装置５０の上部には外カバー７１が設けられ、この外カバー７１には、ガラス基板Ｇが搬送されてくる上流側から順にロールブラシ７２、高圧リンスノズル７４及びエアナイフ７５がそれぞれ取付部材７７を介して取り付けられている。これらロールブラシ７２、高圧リンスノズル７４及びエアナイフ７５を含む処理空間は内カバー７６で覆われている。
【００５６】
ロールブラシ７２は、例えば基板Ｇに洗浄液を供給しながら基板Ｇに回転接触して比較的大きなゴミ等や汚れが除去されるように構成されている。高圧リンスノズル７４は、例えばノズルに設けられた図示しない微小孔から高圧洗浄液が噴出されることにより、基板Ｇの微小なゴミ等が除去されるように構成されている。エアナイフ７５は、基板Ｇに対して高圧のエアを吹き付けることにより基板Ｇを即座に乾燥させるように構成されている。
【００５７】
なお、本実施形態において、高圧リンスノズル７４に代えて超音波振動を与えた洗浄液により洗浄処理を行うようにすることも可能である。
【００５８】
図１２〜図１４に示すように、外カバー７１は基板Ｇの方向に延設されたレール８２に沿ってローラ８１により移動可能に構成されている。この移動機構としては、例えば図示しないが、モータによるベルト駆動を使用するようにしてもよいし、あるいはボイスコイルモータ（ＶＣＭ）等のリニアモータ式の移動機構を使用するようにしてもよい。このモータの回転数、あるいはリニアモータのコイルの周波数は可変に制御されるようになっており、基板Ｇの搬送方向に対して相対的に速度を可変として移動するように構成されている。
【００５９】
図１５は上記現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８の側面図であり、図１６、図１７及び図１８はそれぞれ図１５におけるＡ−Ａ線、Ｂ−Ｂ線及びＣ−Ｃ線方向の断面図である。なお、図１５〜１８において、図１１〜図１４における構成要素と同一のものについては同一の符号を付すものとする。
【００６０】
この現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８の外カバー７１には、ガラス基板Ｇが搬送されてくる上流側から順に現像液ノズル８３、リンスノズル８４及びエアナイフ７５がそれぞれ取付部材７７を介して取り付けられている。これら現像液ノズル８３、リンスノズル８４及びエアナイフ７５を含む処理空間は内カバー７６で覆われている。
【００６１】
現像液ノズル８３は、基板Ｇ表面に現像液を供給し現像処理を行うためのノズルである。リンスノズル８４は、リンス液を基板Ｇに供給し基板Ｇ上の現像液を洗い流すためのノズルである。また、エアナイフ７５は、上記スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０におけるエアナイフ７５と同一のものである。
【００６２】
図１６〜図１８に示すように、スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０と同様に外カバー７１は基板Ｇの方向に延設されたレール８２に沿ってローラ８１により移動可能に構成されており、この移動機構としては、例えば図示しないが、モータによるベルト駆動を使用するようにしてもよいし、あるいはボイスコイルモータ（ＶＣＭ）等のリニアモータ式の移動機構を使用するようにしてもよい。このモータの回転数、あるいはリニアモータのコイルの周波数は可変に制御されるようになっており、基板Ｇの搬送方向に対して相対的に速度を可変として移動するように構成されている。
【００６３】
以上のように構成された塗布現像処理システム１の処理工程については、先ずカセットＣ内の基板Ｇが処理部３部における上流部３ｂに搬送される。上流部３ｂでは、エキシマＵＶ処理ユニット（ｅ−ＵＶ）１９において表面改質・有機物除去処理が行われる。
【００６４】
次にスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０において、搬送装置５０により基板Ｇが略水平に搬送されながら、先ずロールブラシ７２による洗浄処理が行われ、続いて高圧リンス７４による高圧洗浄が行われ、最後にエアナイフ７５による乾燥処理が行われる。ここで、外カバー７１が基板Ｇの搬送方向に対して相対的に移動可能とされ、この移動速度が可変とされているので、搬送装置５０による基板Ｇの搬送速度を一定の速度に定めた場合であっても、多種の基板Ｇの処理内容に応じて移動速度を定め処理を行うことができる。
【００６５】
続いて熱処理系ブロック２４の最下段部で垂直搬送ユニットにおける搬送アーム５ａにより基板Ｇが取り出され、同熱処理系ブロック２４のベーキングユニット（ＢＥＫＥ）にて加熱処理、アドヒージョンユニット（ＡＤ）にて疎水化処理が行われ、熱処理系ブロック２５のクーリングユニット（ＣＯＬ）による冷却処理が行われる。
【００６６】
次に、基板Ｇは搬送アーム５ａから搬送シャトル２３に受け渡される。そしてレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）に搬送され、レジストの塗布処理が行われた後、減圧乾燥処理ユニット（ＶＤ）にて減圧乾燥処理、エッジリムーバ（ＥＲ）にて基板周縁のレジスト除去処理が順次行われる。
【００６７】
次に、基板Ｇは搬送シャトル２３から垂直搬送ユニット７の搬送アームに受け渡され、熱処理系ブロック２６におけるプリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）にて加熱処理が行われた後、熱処理系ブロック２９におけるクーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却処理が行われる。続いて基板Ｇはエクステンションクーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）３５にて冷却処理されるとともに露光装置にて露光処理される。
【００６８】
次に、基板Ｇは垂直搬送ユニット８及び７の搬送アームを介して熱処理系ブロック２９のポストエクスポージャーベーキングユニット（ＰＥＢＡＫＥ）に搬送され、ここで加熱処理が行われた後、クーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却処理が行われる。そして基板Ｇは垂直搬送ユニット７の搬送アームを介して熱処理系ブロック２９の最下段において搬送装置５１の受け渡しピン４６に受け渡される。
【００６９】
そして基板Ｇは現像処理ユニット（ＤＥＶ）において、搬送装置５１により基板Ｇが略水平に搬送されながら、先ず基板Ｇに現像液ノズル８３による現像液供給が行われ、続いてリンスノズル８４によるリンス処理が行われ、最後にエアナイフ７５による乾燥処理が行われる。ここでも外カバー７１が基板Ｇの搬送方向に対して相対的に移動可能とされ、この移動速度が可変とされているので、搬送装置５１による基板Ｇの搬送速度を一定の速度に定めた場合であっても、多種の基板Ｇの処理内容に応じて移動速度を定め処理を行うことができる。
【００７０】
次に、基板Ｇは熱処理系ブロック２８における最下段から垂直搬送ユニット６の搬送アーム６ａにより受け渡され、熱処理系ブロック２８又は２７におけるポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）にて加熱処理が行われ、クーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却処理が行われる。そして基板Ｇは搬送機構１０に受け渡されカセットＣに収容される。
【００７１】
次に、図１９及び図２０を参照して搬送装置５０、５１の他の実施形態について説明する。なお、図１９及び図２０において、上記実施形態における搬送装置５０、５１の構成要素と同一のものについては同一の符号を付すものとする。
【００７２】
図１９は、第１のギヤ５２近傍の平面図であり、図２０はその断面図である。本実施形態では、保持部材４１の側面に固定された支持体６９には可動部６７が軸６８を中心として回動可能に設けられており、可動部６７の一端には例えば磁性体として鉄でなる部材６５が固定されている。
【００７３】
今、例えばメンテナンスのために軸部材５３が保持部材４１に装着されていない状態では、図示しないバネ等の弾性体により図１９の破線で示す位置に付勢されて配置されるが、図示するように軸部材５３が保持部材４１に装着されると第１のギヤ５２の永久磁石４８の吸引力により鉄部材６５が引きつけられて所定の第１のギヤ５２に接しない位置に配置される。これにより可動部６７が回動して、例えば、軸部材５３が保持部材４１に装着されて第１のギヤ５２が所定の位置に配置されていることをオペレーティング用のディスプレイ等に表示させるためのスイッチＳに、可動部の６７の他端６７ａが当接してスイッチが入るような構成になっている。
【００７４】
このような構成により、例えば、メンテナンスが終了し軸部材５３を保持部材４１に装着したときに第１のギヤ５２が所定の位置に配置されていればスイッチＳが接続され、第１のギヤ５２が所定の位置に配置されていなければ、スイッチＳが接続されず警告を発するようにすることができる。従って、第１のギヤが所定の正常位置に配置されずにギヤ部が機能していないという事態を防止できる。
【００７５】
図２１は、上記スイッチＳに代えて、例えばフォトダイオード等の発光部及び受光部を有する光センサＲを設けられている。そして受光部による所定の受光量が得られれば、第１のギヤ５２が所定の位置に配置されたものとし、所定の受光量が得られなければ、第１のギヤ５２が所定の位置に配置されていないものと判断し警告を発するようにすることができる。
【００７６】
また、この光センサＲに代えて、第１のギヤ５２が所定の位置に配置されたときに、永久磁石４８による磁場を検出する磁気センサを設ける構成とし第１のギヤ５２が所定の位置に配置されているかどうかの判断を行うようにすることも可能である。
【００７７】
本発明は以上説明した実施形態には限定されるものではなく、種々の変形が可能であり、例えば、上記実施形態では第１のギヤを５２を略鞍型形状としたが、この第１のギヤを第２のギヤと同様に円筒状とし簡単な構成でギヤを構成するようにしてもよい。
【００７８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、着脱可能な軸部材に、永久磁石の吸引力により伝達されるギヤを設けたことにより、発塵を防止でき、メンテナンス等を容易に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明が適用される塗布現像処理システムの全体構成を示す平面図である。
【図２】図１に示す塗布現像処理システムの正面図である。
【図３】図１に示す塗布現像処理システムの背面図である。
【図４】本発明の第１の実施形態に係る搬送装置の平面図である。
【図５】図４に示す搬送装置の側面図である。
【図６】同搬送装置の保持部材及びギヤ部を示す拡大斜視図である。
【図７】同搬送装置の第１のギヤ部を示す模式図である。
【図８】同搬送装置の第２のギヤ部を示す模式図である。
【図９】第１のギヤの他の実施形態を示す模式図である。
【図１０】第２のギヤの他の実施形態を示す模式図である。
【図１１】一実施形態に係る洗浄処理ユニットの側面図である。
【図１２】図１１におけるＡ−Ａ線方向の断面図である。
【図１３】図１１におけるＢ−Ｂ線方向の断面図である。
【図１４】図１１におけるＣ−Ｃ線方向の断面図である。
【図１５】一実施形態に係る現像処理ユニットの側面図である。
【図１６】図１５におけるＡ−Ａ線方向の断面図である。
【図１７】図１５におけるＢ−Ｂ線方向の断面図である。
【図１８】図１５におけるＣ−Ｃ線方向の断面図である。
【図１９】他の実施形態に係る搬送装置における検知手段を示す平面図である。
【図２０】図１９に示す検知手段の側面図である。
【図２１】上記検知手段として光センサを使用した場合を示す平面図である。
【符号の説明】
Ｇ…ガラス基板
Ｓ…スイッチ
Ｒ…光センサ
１８…現像処理ユニット
２０…スクラバ洗浄処理ユニット
４１…保持部材
４１ａ…切り欠き部
４３…搬送ローラ
４４…モータ
４８、４９…永久磁石
５０．５１…搬送装置
５２…第１のギヤ
５３…軸部材
５５…第２のギア
６７…可動部
７１…外カバー
７２…ロールブラシ
７４…高圧リンスノズル
７５…エアナイフ
８１…ローラ
８２…レール
８３…現像液ノズル
８４…リンスノズル
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶製造工程において液晶ディスプレイ（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）等に使用されるガラス基板を搬送する搬送装置、基板の洗浄を行う洗浄装置及び現像処理を行う現像装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＬＣＤの製造工程において、ＬＣＤ用のガラス基板上にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の薄膜や電極パターンを形成するために、半導体デバイスの製造に用いられるものと同様のフォトリソグラフィ技術が利用される。フォトリソグラフィ技術では、フォトレジストをガラス基板に塗布し、これを露光し、さらに現像する。
【０００３】
これらレジスト塗布、露光及び現像の一連の処理は、従来から、塗布、現像あるいはベーキング等の各処理を行う塗布現像処理システムによって行われており、処理ユニットへガラス基板を搬送する手段として、例えばガラス基板を真空吸着により保持する搬送アームを使用したり、あるいは回転軸を有する複数の搬送ローラ上にガラス基板を載置させ、この搬送ローラの回転により基板を搬送するコロ搬送を使用したりしている。
【０００４】
そこで、このようなコロ搬送装置として、例えば特開平１１−２０８８３９号公報には、非接触状態に近接対向する永久磁石を介して駆動軸の回転を搬送ローラのローラ軸に伝えるようにし、これにより、従来のようなギヤ同士の噛合部分や、ベルトとプーリとの接触部分といった複雑な構成を単純化でき、発塵を防止できる搬送装置が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記公報に開示された搬送装置では、搬送ローラ３０両端のローラ軸３１は支持枠材２０に軸受２１を介して挿通されているのみであり、例えば、搬送ローラ３０を取り外すことができない構造となっているので、軸受２１部分や搬送ローラ３０、永久磁石３３等のメンテナンス、あるいは搬送ローラ３０より下方にある機械類のメンテナンスが困難である。
【０００６】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、発塵を防止でき、メンテナンス等を容易に行うことができる搬送装置を提供することにあり、また、この搬送装置を用いた洗浄装置及び現像装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の第１の観点は、回転可能な軸部材に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対のローラと、上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第１の磁石が配置された第１のギヤと、前記第１のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第１のギヤの表面形状に対向して第２の磁石が配置された第２のギヤと、前記第２のギヤを回転駆動させる駆動部と、前記第１のギヤの近傍に配置され、該第１のギヤが所定の位置に配置されたことを検知する手段とを具備し、前記検知手段は前記第１の磁石による磁場を検出する磁気センサであることを特徴とする。
【０００８】
このような構成によれば、第１のギヤと第２のギヤとが隙間を空けて配置され、それぞれの各ギヤに設けられた第１の磁石と第２の磁石の間の吸引力により駆動部の駆動力が１対のローラに伝達されるように構成されているので、ギヤ同士が接触することはなく発塵を防止することができる。
【０００９】
また、切り欠き部で軸部材を着脱自在に軸支する構成としたので、メンテナンスの際に軸部材を容易に取り外しでき、メンテナンスを容易に行うことができる。
さらに、このような構成によれば、第１のギヤが正常位置に配置されたことを確認することができ、第１のギヤが所定の正常位置に配置されずにギヤ部が機能しないという事態を防止できる。
本発明の第２の観点は、回転可能な軸部材に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対のローラと、上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第１の磁石が配置された第１のギヤと、前記第１のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第１のギヤの表面形状に対向して第２の磁石が配置された第２のギヤと、前記第２のギヤを回転駆動させる駆動部と、前記第１のギヤの近傍に配置され、該第１のギヤが所定の位置に配置されたことを検知する手段とを具備し、前記検知手段は、前記第１のギヤが所定の位置に配置されたときに、前記第１の磁石の近傍位置に引きつけられる可動部を備え、前記可動部が前記第１の磁石の近傍位置に引きつけられることにより、前記第１のギヤが正常位置に配置されたことを確認するスイッチが接続されること特徴とする。
このような構成によれば、第１のギヤと第２のギヤとが隙間を空けて配置され、それぞれの各ギヤに設けられた第１の磁石と第２の磁石の間の吸引力により駆動部の駆動力が１対のローラに伝達されるように構成されているので、ギヤ同士が接触することはなく発塵を防止することができる。
また、切り欠き部で軸部材を着脱自在に軸支する構成としたので、メンテナンスの際に軸部材を容易に取り外しでき、メンテナンスを容易に行うことができる。
このような構成によれば、第１の磁石の磁力を利用した簡単な構成で、第１のギヤが正常位置に配置されたことを確認することができる。
【００１９】
本発明の第３の観点は、回転可能な軸部材に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対のローラと、上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第１の磁石が配置された第１のギヤと、前記第１のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第１のギヤの表面形状に対向して第２の磁石が配置された第２のギヤと、前記第２のギヤを回転駆動させる駆動部と、前記第１のギヤの近傍に配置され、該第１のギヤが所定の位置に配置されたことを検知する手段とを備える搬送装置と、前記１対のローラにより搬送される基板の上部にそれぞれ配置され、基板に対して回転しながら基板を洗浄するブラシと、前記ブラシにより洗浄された基板上に洗浄液を供給する手段と、基板上にエアを吹きつけて乾燥させる手段とを具備し、前記検知手段は前記第１の磁石による磁場を検出する磁気センサであることを特徴とする。
本発明の第４の観点は、回転可能な軸部材に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対のローラと、上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第１の磁石が配置された第１のギヤと、前記第１のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第１のギヤの表面形状に対向して第２の磁石が配置された第２のギヤと、前記第２のギヤを回転駆動させる駆動部と、前記第１のギヤの近傍に配置され、該第１のギヤが所定の位置に配置されたことを検知する手段とを備える搬送装置と、前記１対のローラにより搬送される基板の上部にそれぞれ配置され、基板に対して回転しながら基板を洗浄するブラシと、前記ブラシにより洗浄された基板上に洗浄液を供給する手段と、基板上にエアを吹きつけて乾燥させる手段とを具備し、前記検知手段は、前記第１のギヤが所定の位置に配置されたときに、前記第１の磁石の近傍位置に引きつけられる可動部を備え、前記可動部が前記第１の磁石の近傍位置に引きつけられることにより、前記第１のギヤが正常位置に配置されたことを確認するスイッチが接続されること特徴とする。
【００２０】
このような構成によれば、保持部材に切り欠き部を設けることにより軸部材を第１のギヤ、１対のローラ及とともに、着脱自在に容易に取り外せる構成としたので、例えば、軸部材の軸受け部分や第１のギヤ、あるいは装置下部の機械類のメンテナンスを容易に行うことができる。特に、本洗浄装置においては、洗浄処理に使用する洗浄液等が上記搬送装置に付着する場合があり定期的なメンテナンスが必要とされるのでより効果的である。
また、第１のギヤと第２のギヤとが隙間を空けて配置され、それぞれの各ギヤに設けられた第１の磁石と第２の磁石の間の吸引力により駆動部の駆動力が１対のローラに伝達されるように構成されているので、ギヤ同士が接触することはなく発塵を防止することができる。
さらに、切り欠き部で軸部材を着脱自在に軸支する構成としたので、メンテナンスの際に軸部材を容易に取り外しでき、メンテナンスを容易に行うことができる。
そして、第１の磁石の磁力を利用した簡単な構成で、第１のギヤが正常位置に配置されたことを確認することができる。
【００２１】
本発明の一の形態によれば、前記ブラシ、前記洗浄液供給手段及び前記乾燥手段を基板の搬送方向に対して相対的に移動させる移動手段と、前記移動手段の移動速度を可変にする手段とを更に具備する。
【００２２】
このような構成によれば、ブラシ、洗浄液供給手段及び前記乾燥手段の移動速度が可変とされているので、搬送装置による基板の搬送速度を一定の速度に定めた場合であっても、多種の基板の処理内容に応じて移動速度を定め洗浄処理を行うことができる。
【００２３】
本発明の第５の観点は、回転可能な軸部材に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対のローラと、上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第１の磁石が配置された第１のギヤと、前記第１のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第１のギヤの表面形状に対向して第２の磁石が配置された第２のギヤと、前記第２のギヤを回転駆動させる駆動部と、前記第１のギヤの近傍に配置され、該第１のギヤが所定の位置に配置されたことを検知する手段とを備える搬送装置と、前記１対のローラにより搬送される基板の上部にそれぞれ配置され、基板上に現像液を供給する手段と、前記現像液が供給された基板上にリンス液を供給する手段と、基板上にエアを吹きつけて乾燥させる手段とを具備し、前記検知手段は前記第１の磁石による磁場を検出する磁気センサであることを特徴とする。
本発明の第６の観点は、回転可能な軸部材に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対のローラと、上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第１の磁石が配置された第１のギヤと、前記第１のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第１のギヤの表面形状に対向して第２の磁石が配置された第２のギヤと、前記第２のギヤを回転駆動させる駆動部と、前記第１のギヤの近傍に配置され、該第１のギヤが所定の位置に配置されたことを検知する手段とを備える搬送装置と、前記１対のローラにより搬送される基板の上部にそれぞれ配置され、基板上に現像液を供給する手段と、前記現像液が供給された基板上にリンス液を供給する手段と、基板上にエアを吹きつけて乾燥させる手段とを具備し、前記検知手段は、前記第１のギヤが所定の位置に配置されたときに、前記第１の磁石の近傍位置に引きつけられる可動部を備え、前記可動部が前記第１の磁石の近傍位置に引きつけられることにより、前記第１のギヤが正常位置に配置されたことを確認するスイッチが接続されること特徴とする。
【００２４】
このような構成によれば、保持部材に切り欠き部を設けることにより軸部材を第１のギヤ、１対のローラ及とともに容易に取り外せる構成としたので、例えば、軸部材の軸受け部分や第１のギヤのメンテナンスを容易に行うことができる。特に、本現像装置においては、現像処理に使用する現像液等が上記搬送装置に付着する場合があり定期的なメンテナンスが必要とされるのでより効果的である。
また、第１のギヤと第２のギヤとが隙間を空けて配置され、それぞれの各ギヤに設けられた第１の磁石と第２の磁石の間の吸引力により駆動部の駆動力が１対のローラに伝達されるように構成されているので、ギヤ同士が接触することはなく発塵を防止することができる。
さらに、切り欠き部で軸部材を着脱自在に軸支する構成としたので、メンテナンスの際に軸部材を容易に取り外しでき、メンテナンスを容易に行うことができる。
そして、第１の磁石の磁力を利用した簡単な構成で、第１のギヤが正常位置に配置されたことを確認することができる。
【００２５】
本発明の一の形態によれば、前記現像液供給手段、前記リンス液供給手段及び前記乾燥手段を基板の搬送方向に対して相対的に移動させる移動手段と、前記移動手段の移動速度を可変にする手段とを更に具備する。
【００２６】
このような構成によれば、現像液供給手段、前記リンス液供給手段及び前記乾燥手段の移動速度が可変とされているので、搬送装置による基板の搬送速度を一定の速度に定めた場合であっても、多種の基板の処理内容に応じて移動速度を定め現像処理を行うことができる。
本発明の一の形態によれば、前記第１のギヤ又は第２のギヤのうち少なくとも一方は、前記磁石が螺旋状に配置されていることを特徴とする。
このような構成によれば、例えば上記公報に記載の搬送装置では、永久磁石を回転方向に並設しただけの構成であるので、回転中に永久磁石の吸引力に大小の「波」が生じることにより搬送ローラの回転動作の滑らかさが得られず、基板の搬送に悪影響を与えるおそれがあったが、本実施形態では、第１のギヤにおける第１の磁石及び第２のギヤにおける第２の磁石を螺旋状に配置する構成としたことにより、ギヤ同士の回転動作を滑らかにすることができる。従って基板に悪影響を与えることなく搬送できる。
本発明の一の形態によれば、前記ローラ、前記保持部、前記第１のギヤ、前記第２のギヤ及び前記検知手段を覆うカバー部材を更に具備することを特徴とする。
なお、前記第１のギヤの表面は略鞍型形状であり、前記第２のギヤの表面は、前記第１のギヤの略鞍型形状に対応した曲面であるようにしてもよい。
このような構成によれば、第１のギヤの表面と第２のギヤの表面との対向面積を大きくすることができ、確実に駆動部の動力を伝達することができる。
【００２７】
本発明の更なる特徴と利点は、添付した図面及び発明の実施の形態の説明を参酌することによりより一層明らかになる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
【００２９】
図１は本発明の搬送装置が適用されるＬＣＤ基板の塗布現像処理システムを示す平面図であり、図２はその正面図、また図３はその背面図である。
【００３０】
この塗布現像処理システム１は、複数のガラス基板Ｇを収容するカセットＣを載置するカセットステーション２と、基板Ｇにレジスト塗布および現像を含む一連の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部３と、露光装置３２との間で基板Ｇの受け渡しを行うためのインターフェース部４とを備えており、処理部３の両端にそれぞれカセットステーション２及びインターフェース部４が配置されている。
【００３１】
カセットステーション２は、カセットＣと処理部３との間でＬＣＤ基板の搬送を行うための搬送機構１０を備えている。そして、カセットステーション２においてカセットＣの搬入出が行われる。また、搬送機構１０はカセットの配列方向に沿って設けられた搬送路１２上を移動可能な搬送アーム１１を備え、この搬送アーム１１によりカセットＣと処理部３との間で基板Ｇの搬送が行われる。
【００３２】
処理部３には、カセットステーション２におけるカセットＣの配列方向（Ｙ方向）に垂直方向（Ｘ方向）に延設された主搬送部３ａと、この主搬送部３ａに沿って、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）を含む各処理ユニットが並設された上流部３ｂ及び現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８を含む各処理ユニットが並設された下流部３ｃとが設けられている。
【００３３】
主搬送部３ａには、Ｘ方向に延設された搬送路３１と、この搬送路３１に沿って移動可能に構成されガラス基板ＧをＸ方向に搬送する搬送シャトル２３とが設けられている。この搬送シャトル２３は、例えば支持ピンにより基板Ｇを保持して搬送するようになっている。また、主搬送部３ａのインターフェース部４側端部には、処理部３とインターフェース部４との間で基板Ｇの受け渡しを行う垂直搬送ユニット７が設けられている。
【００３４】
上流部３ｂにおいて、カセットステーション２側端部には、基板Ｇに洗浄処理を施すスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０が設けられ、このスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０の上段に基板Ｇ上の有機物を除去するためのエキシマＵＶ処理ユニット（ｅ−ＵＶ）１９が配設されている。スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０には、本発明に係るコロ搬送型の搬送装置５０が設けられており、これについては後述する。
【００３５】
スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０の隣には、ガラス基板Ｇに対して熱的処理を行うユニットが多段に積み上げられた熱処理系ブロック２４及び２５が配置されている。これら熱処理系ブロック２４と２５との間には、垂直搬送ユニット５が配置され、搬送アーム５ａがＺ方向及び水平方向に移動可能とされ、かつθ方向に回動可能とされているので、両ブロック２４及び２５における各熱処理系ユニットにアクセスして基板Ｇの搬送が行われるようになっている。なお、上記処理部３における垂直搬送ユニット７についてもこの垂直搬送ユニット５と同一の構成を有している。
【００３６】
図２に示すように、熱処理系ブロック２４には、基板Ｇにレジスト塗布前の加熱処理を施すベーキングユニット（ＢＥＫＥ）が２段、ＨＭＤＳガスにより疎水化処理を施すアドヒージョンユニット（ＡＤ）が下から順に積層されている。一方、熱処理系ブロック２５には、基板Ｇに冷却処理を施すクーリングユニット（ＣＯＬ）が２段、アドヒージョンユニット（ＡＤ）が下から順に積層されている。
【００３７】
熱処理系ブロック２５に隣接してレジスト処理ブロック１５がＸ方向に延設されている。このレジスト処理ブロック１５は、基板Ｇにレジストを塗布するレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）と、減圧により前記塗布されたレジストを乾燥させる減圧乾燥ユニット（ＶＤ）と、基板Ｇの周縁部のレジストを除去するエッジリムーバ（ＥＲ）とが一体的に設けられて構成されている。このレジスト処理ブロック１５には、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）からエッジリムーバ（ＥＲ）にかけて移動する図示しないサブアームが設けられており、このサブアームによりレジスト処理ブロック１５内で基板Ｇが搬送されるようになっている。
【００３８】
レジスト処理ブロック１５に隣接して多段構成の熱処理系ブロック２６が配設されており、この熱処理系ブロック２６には、基板Ｇにレジスト塗布後の加熱処理を行うプリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）が３段積層されている。
【００３９】
下流部３ｃにおいては、図３に示すように、インターフェース部４側端部に熱処理系ブロック２９が設けられており、これには、クーリングユニット（ＣＯＬ）、露光後現像処理前の加熱処理を行うポストエクスポージャーベーキングユニット（ＰＥＢＡＫＥ）が２段、下から順に積層されている。。
【００４０】
熱処理系ブロック２９に隣接して現像処理を行う現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８がＸ方向に延設されている。この現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８の隣には熱処理系ブロック２８及び２７が配置され、これら熱処理系ブロック２８と２７との間には、上記垂直搬送ユニット５と同一の構成を有し、両ブロック２８及び２７における各熱処理系ユニットにアクセス可能な垂直搬送ユニット６が設けられている。また、現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８端部の上には、ｉ線処理ユニット（ｉ―ＵＶ）３３が設けられている。現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８には、上記コロ搬送型の搬送装置５０と同一の構成を有する搬送装置５１が設けられている。
【００４１】
熱処理系ブロック２８には、クーリングユニット（ＣＯＬ）、基板Ｇに現像後の加熱処理を行うポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）が２段、下から順に積層されている。一方、熱処理系ブロック２７も同様に、クーリングユニット（ＣＯＬ）、ポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）が２段、下から順に積層されている。
【００４２】
インターフェース部４には、正面側にタイトラー及び周辺露光ユニット（Ｔｉｔｌｅｒ／ＥＥ）２２が設けられ、垂直搬送ユニット７に隣接してエクステンションクーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）３５が、また背面側にはバッファカセット３４が配置されており、これらタイトラー及び周辺露光ユニット（Ｔｉｔｌｅｒ／ＥＥ）２２とエクステンションクーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）３５とバッファカセット３４と隣接した露光装置３２との間で基板Ｇの受け渡しを行う垂直搬送ユニット８が配置されている。この垂直搬送ユニット８も上記垂直搬送ユニット５と同一の構成を有している。
【００４３】
図４及び図５は第１の実施形態に係る搬送装置５０、５１のそれぞれ平面図及び側面図を示す。なお、このスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０における搬送装置５０と現像処理ユニット（ＤＥＶ）における搬送装置５１とは、その長手方向の長さが異なる他、その構成は同一である。
【００４４】
この搬送装置５０、５１の架台６０の側部にはモータ４４が取り付けられ、このモータ４４によりシャフト５４が回転可能にガラス基板Ｇの搬送方向（Ｘ方向）に沿って軸架されている。架台６０の上部左右には、保持部材４１が搬送方向に延設されており、これら保持部材４１間には、上端に形成された切り欠き部４１ａで１対のベアリング４５により軸支された複数の軸部材５３が掛け渡され、これら軸部材５３にはガラス基板Ｇの両端を支持するとともに回転により搬送する１対の搬送ローラ４３が取り付けられている。
【００４５】
１対の搬送ローラ４３にはそれぞれ凸部４３ａが設けられており、この凸部４３ａ上にガラス基板Ｇが載置されるようになっている。また、凸部４３ａにはその基板Ｇの載置面に沿って図示しないＯリングが装着され基板Ｇの搬送時における衝撃が吸収されるようになっている。
【００４６】
また、ガラス基板Ｇの搬送の際に基板Ｇの撓みを防止するために、軸部材５３には１対の搬送ローラ４３の間に基板Ｇの裏面側を支持する支持ローラ６４が設けられている。
【００４７】
図５を参照して、この搬送装置５０、５１の両端部には、上述したように外部との間で基板Ｇの受け渡しを行うための複数の受け渡しピン４６が配置され、図６に示すように、これら複数の受け渡しピン４６は駆動部５８の昇降駆動により連結部材４７を介して一体的に、基板Ｇの裏面側から昇降駆動されるようになっている。
【００４８】
図６に示すように、上記ベアリング４５は切り欠き部４１ａにおける溝部４１ｂに軸部材５３とともに着脱自在に嵌合している。軸部材５３の一端には、略鞍型形状の第１のギヤ５２が設けられており、図７に示すように、この第１のギヤ５２の略鞍型形状部分の表面には、複数の永久磁石４８が軸部材５３の軸方向（Ｙ方向）に螺旋状に配置されている。そしてこの第１のギヤ５２との間に隙間を設けて、略鞍型形状に対応して断面が円形状の上記シャフト５４が設けられている。図８に示すように、このシャフト５４の表面部分には、第２のギア５５として複数の永久磁石４９が第１のギヤ５２における複数の永久磁石４８に対応する位置及び大きさで螺旋状に配置されている。このような構成によってモータ４４の駆動により第２のギヤ５５が回転し、磁石４８と磁石４９とが引きつけられて第１のギヤ５２が回転することで基板Ｇが搬送されるようになっている。
【００４９】
以上のように、第１のギヤ５２と第２のギヤ５５とが隙間を空けて配置され、それぞれのギヤ５２及び５５に設けられた永久磁石４８と４９との吸引力によりモータ４４の駆動力が搬送ローラ４３に伝達されるように構成されているので、ギヤ同士が接触することはなく発塵を防止することができる。
【００５０】
また、本実施形態の第１のギヤ５２の表面形状を略鞍型形状とすることにより、第２のギヤ５５の表面形状と第１のギヤ５２の表面形状との対向面積を大きくすることができ、確実にモータ４４の動力を伝達することができる。
【００５１】
また、上記公報に記載の搬送装置では、永久磁石を回転方向に並設しただけの構成であるので、回転中に永久磁石の吸引力に大小の「波」が生じることにより搬送ローラの回転動作の滑らかさが得られず、基板の搬送に悪影響を与えるおそれがあったが、本実施形態では、第１のギヤにおける永久磁石４８及び第２のギヤ５５における永久磁石４９を螺旋状に配置する構成としたことにより、ギヤ同士の回転動作を滑らかにすることができる。
【００５２】
また、本実施形態では、保持部材４１に切り欠き部４１ａを設けることにより軸部材５３をベアリング４５、第１のギヤ５２、搬送ローラ４３及び支持ローラ６４とともに容易に取り外せる構成としたので、例えば、ベアリング４５や第１のギヤ５２、あるいは上記受け渡しピン４６を備える受け渡し装置等のメンテナンスを容易に行うことができる。特に、搬送装置５０、５１をスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０及び現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８に適用する場合には、洗浄処理に使用する洗浄液、あるいは現像処理に使用する現像液等が付着する場合があり定期的なメンテナンスが必要とされるのでより効果的である。
【００５３】
図９及び図１０は、第１のギヤ及び第２のギヤの他の実施形態を示す正面図である。この第１のギヤ９１は、図９に示すように磁石９３をそのＮ極とＳ極を交互に隙間なく配置させて構成されている。また、図１０に示すように、第２のギヤ９２は、軸部材５４に磁石９４を螺旋状に隙間なく配置させている。このような構成によってもギヤ同士の回転動作を滑らかにすることができる。
【００５４】
次に、以上説明した搬送装置５０、５１を使用したスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０及び現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８の構成について説明する。
【００５５】
図１１は上記スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０の側面図であり、図１２、図１３及び図１４はそれぞれ図１１におけるＡ−Ａ線、Ｂ−Ｂ線及びＣ−Ｃ線方向の断面図である。搬送装置５０の上部には外カバー７１が設けられ、この外カバー７１には、ガラス基板Ｇが搬送されてくる上流側から順にロールブラシ７２、高圧リンスノズル７４及びエアナイフ７５がそれぞれ取付部材７７を介して取り付けられている。これらロールブラシ７２、高圧リンスノズル７４及びエアナイフ７５を含む処理空間は内カバー７６で覆われている。
【００５６】
ロールブラシ７２は、例えば基板Ｇに洗浄液を供給しながら基板Ｇに回転接触して比較的大きなゴミ等や汚れが除去されるように構成されている。高圧リンスノズル７４は、例えばノズルに設けられた図示しない微小孔から高圧洗浄液が噴出されることにより、基板Ｇの微小なゴミ等が除去されるように構成されている。エアナイフ７５は、基板Ｇに対して高圧のエアを吹き付けることにより基板Ｇを即座に乾燥させるように構成されている。
【００５７】
なお、本実施形態において、高圧リンスノズル７４に代えて超音波振動を与えた洗浄液により洗浄処理を行うようにすることも可能である。
【００５８】
図１２〜図１４に示すように、外カバー７１は基板Ｇの方向に延設されたレール８２に沿ってローラ８１により移動可能に構成されている。この移動機構としては、例えば図示しないが、モータによるベルト駆動を使用するようにしてもよいし、あるいはボイスコイルモータ（ＶＣＭ）等のリニアモータ式の移動機構を使用するようにしてもよい。このモータの回転数、あるいはリニアモータのコイルの周波数は可変に制御されるようになっており、基板Ｇの搬送方向に対して相対的に速度を可変として移動するように構成されている。
【００５９】
図１５は上記現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８の側面図であり、図１６、図１７及び図１８はそれぞれ図１５におけるＡ−Ａ線、Ｂ−Ｂ線及びＣ−Ｃ線方向の断面図である。なお、図１５〜１８において、図１１〜図１４における構成要素と同一のものについては同一の符号を付すものとする。
【００６０】
この現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８の外カバー７１には、ガラス基板Ｇが搬送されてくる上流側から順に現像液ノズル８３、リンスノズル８４及びエアナイフ７５がそれぞれ取付部材７７を介して取り付けられている。これら現像液ノズル８３、リンスノズル８４及びエアナイフ７５を含む処理空間は内カバー７６で覆われている。
【００６１】
現像液ノズル８３は、基板Ｇ表面に現像液を供給し現像処理を行うためのノズルである。リンスノズル８４は、リンス液を基板Ｇに供給し基板Ｇ上の現像液を洗い流すためのノズルである。また、エアナイフ７５は、上記スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０におけるエアナイフ７５と同一のものである。
【００６２】
図１６〜図１８に示すように、スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０と同様に外カバー７１は基板Ｇの方向に延設されたレール８２に沿ってローラ８１により移動可能に構成されており、この移動機構としては、例えば図示しないが、モータによるベルト駆動を使用するようにしてもよいし、あるいはボイスコイルモータ（ＶＣＭ）等のリニアモータ式の移動機構を使用するようにしてもよい。このモータの回転数、あるいはリニアモータのコイルの周波数は可変に制御されるようになっており、基板Ｇの搬送方向に対して相対的に速度を可変として移動するように構成されている。
【００６３】
以上のように構成された塗布現像処理システム１の処理工程については、先ずカセットＣ内の基板Ｇが処理部３部における上流部３ｂに搬送される。上流部３ｂでは、エキシマＵＶ処理ユニット（ｅ−ＵＶ）１９において表面改質・有機物除去処理が行われる。
【００６４】
次にスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０において、搬送装置５０により基板Ｇが略水平に搬送されながら、先ずロールブラシ７２による洗浄処理が行われ、続いて高圧リンス７４による高圧洗浄が行われ、最後にエアナイフ７５による乾燥処理が行われる。ここで、外カバー７１が基板Ｇの搬送方向に対して相対的に移動可能とされ、この移動速度が可変とされているので、搬送装置５０による基板Ｇの搬送速度を一定の速度に定めた場合であっても、多種の基板Ｇの処理内容に応じて移動速度を定め処理を行うことができる。
【００６５】
続いて熱処理系ブロック２４の最下段部で垂直搬送ユニットにおける搬送アーム５ａにより基板Ｇが取り出され、同熱処理系ブロック２４のベーキングユニット（ＢＥＫＥ）にて加熱処理、アドヒージョンユニット（ＡＤ）にて疎水化処理が行われ、熱処理系ブロック２５のクーリングユニット（ＣＯＬ）による冷却処理が行われる。
【００６６】
次に、基板Ｇは搬送アーム５ａから搬送シャトル２３に受け渡される。そしてレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）に搬送され、レジストの塗布処理が行われた後、減圧乾燥処理ユニット（ＶＤ）にて減圧乾燥処理、エッジリムーバ（ＥＲ）にて基板周縁のレジスト除去処理が順次行われる。
【００６７】
次に、基板Ｇは搬送シャトル２３から垂直搬送ユニット７の搬送アームに受け渡され、熱処理系ブロック２６におけるプリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）にて加熱処理が行われた後、熱処理系ブロック２９におけるクーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却処理が行われる。続いて基板Ｇはエクステンションクーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）３５にて冷却処理されるとともに露光装置にて露光処理される。
【００６８】
次に、基板Ｇは垂直搬送ユニット８及び７の搬送アームを介して熱処理系ブロック２９のポストエクスポージャーベーキングユニット（ＰＥＢＡＫＥ）に搬送され、ここで加熱処理が行われた後、クーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却処理が行われる。そして基板Ｇは垂直搬送ユニット７の搬送アームを介して熱処理系ブロック２９の最下段において搬送装置５１の受け渡しピン４６に受け渡される。
【００６９】
そして基板Ｇは現像処理ユニット（ＤＥＶ）において、搬送装置５１により基板Ｇが略水平に搬送されながら、先ず基板Ｇに現像液ノズル８３による現像液供給が行われ、続いてリンスノズル８４によるリンス処理が行われ、最後にエアナイフ７５による乾燥処理が行われる。ここでも外カバー７１が基板Ｇの搬送方向に対して相対的に移動可能とされ、この移動速度が可変とされているので、搬送装置５１による基板Ｇの搬送速度を一定の速度に定めた場合であっても、多種の基板Ｇの処理内容に応じて移動速度を定め処理を行うことができる。
【００７０】
次に、基板Ｇは熱処理系ブロック２８における最下段から垂直搬送ユニット６の搬送アーム６ａにより受け渡され、熱処理系ブロック２８又は２７におけるポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）にて加熱処理が行われ、クーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却処理が行われる。そして基板Ｇは搬送機構１０に受け渡されカセットＣに収容される。
【００７１】
次に、図１９及び図２０を参照して搬送装置５０、５１の他の実施形態について説明する。なお、図１９及び図２０において、上記実施形態における搬送装置５０、５１の構成要素と同一のものについては同一の符号を付すものとする。
【００７２】
図１９は、第１のギヤ５２近傍の平面図であり、図２０はその断面図である。本実施形態では、保持部材４１の側面に固定された支持体６９には可動部６７が軸６８を中心として回動可能に設けられており、可動部６７の一端には例えば磁性体として鉄でなる部材６５が固定されている。
【００７３】
今、例えばメンテナンスのために軸部材５３が保持部材４１に装着されていない状態では、図示しないバネ等の弾性体により図１９の破線で示す位置に付勢されて配置されるが、図示するように軸部材５３が保持部材４１に装着されると第１のギヤ５２の永久磁石４８の吸引力により鉄部材６５が引きつけられて所定の第１のギヤ５２に接しない位置に配置される。これにより可動部６７が回動して、例えば、軸部材５３が保持部材４１に装着されて第１のギヤ５２が所定の位置に配置されていることをオペレーティング用のディスプレイ等に表示させるためのスイッチＳに、可動部の６７の他端６７ａが当接してスイッチが入るような構成になっている。
【００７４】
このような構成により、例えば、メンテナンスが終了し軸部材５３を保持部材４１に装着したときに第１のギヤ５２が所定の位置に配置されていればスイッチＳが接続され、第１のギヤ５２が所定の位置に配置されていなければ、スイッチＳが接続されず警告を発するようにすることができる。従って、第１のギヤが所定の正常位置に配置されずにギヤ部が機能していないという事態を防止できる。
【００７５】
図２１は、上記スイッチＳに代えて、例えばフォトダイオード等の発光部及び受光部を有する光センサＲを設けられている。そして受光部による所定の受光量が得られれば、第１のギヤ５２が所定の位置に配置されたものとし、所定の受光量が得られなければ、第１のギヤ５２が所定の位置に配置されていないものと判断し警告を発するようにすることができる。
【００７６】
また、この光センサＲに代えて、第１のギヤ５２が所定の位置に配置されたときに、永久磁石４８による磁場を検出する磁気センサを設ける構成とし第１のギヤ５２が所定の位置に配置されているかどうかの判断を行うようにすることも可能である。
【００７７】
本発明は以上説明した実施形態には限定されるものではなく、種々の変形が可能であり、例えば、上記実施形態では第１のギヤを５２を略鞍型形状としたが、この第１のギヤを第２のギヤと同様に円筒状とし簡単な構成でギヤを構成するようにしてもよい。
【００７８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、着脱可能な軸部材に、永久磁石の吸引力により伝達されるギヤを設けたことにより、発塵を防止でき、メンテナンス等を容易に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明が適用される塗布現像処理システムの全体構成を示す平面図である。
【図２】図１に示す塗布現像処理システムの正面図である。
【図３】図１に示す塗布現像処理システムの背面図である。
【図４】本発明の第１の実施形態に係る搬送装置の平面図である。
【図５】図４に示す搬送装置の側面図である。
【図６】同搬送装置の保持部材及びギヤ部を示す拡大斜視図である。
【図７】同搬送装置の第１のギヤ部を示す模式図である。
【図８】同搬送装置の第２のギヤ部を示す模式図である。
【図９】第１のギヤの他の実施形態を示す模式図である。
【図１０】第２のギヤの他の実施形態を示す模式図である。
【図１１】一実施形態に係る洗浄処理ユニットの側面図である。
【図１２】図１１におけるＡ−Ａ線方向の断面図である。
【図１３】図１１におけるＢ−Ｂ線方向の断面図である。
【図１４】図１１におけるＣ−Ｃ線方向の断面図である。
【図１５】一実施形態に係る現像処理ユニットの側面図である。
【図１６】図１５におけるＡ−Ａ線方向の断面図である。
【図１７】図１５におけるＢ−Ｂ線方向の断面図である。
【図１８】図１５におけるＣ−Ｃ線方向の断面図である。
【図１９】他の実施形態に係る搬送装置における検知手段を示す平面図である。
【図２０】図１９に示す検知手段の側面図である。
【図２１】上記検知手段として光センサを使用した場合を示す平面図である。
【符号の説明】
Ｇ…ガラス基板
Ｓ…スイッチ
Ｒ…光センサ
１８…現像処理ユニット
２０…スクラバ洗浄処理ユニット
４１…保持部材
４１ａ…切り欠き部
４３…搬送ローラ
４４…モータ
４８、４９…永久磁石
５０．５１…搬送装置
５２…第１のギヤ
５３…軸部材
５５…第２のギア
６７…可動部
７１…外カバー
７２…ロールブラシ
７４…高圧リンスノズル
７５…エアナイフ
８１…ローラ
８２…レール
８３…現像液ノズル
８４…リンスノズル
Claims (13)
- 回転可能な軸部材に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対のローラと、
上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、
前記軸部材に接続され、表面に第１の磁石が配置された第１のギヤと、
前記第１のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第１のギヤの表面形状に対向して第２の磁石が配置された第２のギヤと、
前記第２のギヤを回転駆動させる駆動部と、
前記第１のギヤの近傍に配置され、該第１のギヤが所定の位置に配置されたことを検知する手段とを具備し、
前記検知手段は前記第１の磁石による磁場を検出する磁気センサであることを特徴とする搬送装置。 - 回転可能な軸部材に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対のローラと、
上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、
前記軸部材に接続され、表面に第１の磁石が配置された第１のギヤと、
前記第１のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第１のギヤの表面形状に対向して第２の磁石が配置された第２のギヤと、
前記第２のギヤを回転駆動させる駆動部と、
前記第１のギヤの近傍に配置され、該第１のギヤが所定の位置に配置されたことを検知する手段とを具備し、
前記検知手段は、前記第１のギヤが所定の位置に配置されたときに、前記第１の磁石の近傍位置に引きつけられる可動部を備え、
前記可動部が前記第１の磁石の近傍位置に引きつけられることにより、前記第１のギヤが正常位置に配置されたことを確認するスイッチが接続されること特徴とする搬送装置。 - 回転可能な軸部材に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対のローラと、上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第１の磁石が配置された第１のギヤと、前記第１のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第１のギヤの表面形状に対向して第２の磁石が配置された第２のギヤと、前記第２のギヤを回転駆動させる駆動部と、前記第１のギヤの近傍に配置され、該第１のギヤが所定の位置に配置されたことを検知する手段とを備える搬送装置と、
前記１対のローラにより搬送される基板の上部にそれぞれ配置され、
基板に対して回転しながら基板を洗浄するブラシと、
前記ブラシにより洗浄された基板上に洗浄液を供給する手段と、
基板上にエアを吹きつけて乾燥させる手段と
を具備し、
前記検知手段は前記第１の磁石による磁場を検出する磁気センサであることを特徴とする洗浄装置。 - 回転可能な軸部材に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対のローラと、上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第１の磁石が配置された第１のギヤと、前記第１のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第１のギヤの表面形状に対向して第２の磁石が配置された第２のギヤと、前記第２のギヤを回転駆動させる駆動部と、前記第１のギヤの近傍に配置され、該第１のギヤが所定の位置に配置されたことを検知する手段とを備える搬送装置と、
前記１対のローラにより搬送される基板の上部にそれぞれ配置され、
基板に対して回転しながら基板を洗浄するブラシと、
前記ブラシにより洗浄された基板上に洗浄液を供給する手段と、
基板上にエアを吹きつけて乾燥させる手段と
を具備し、
前記検知手段は、前記第１のギヤが所定の位置に配置されたときに、前記第１の磁石の近傍位置に引きつけられる可動部を備え、
前記可動部が前記第１の磁石の近傍位置に引きつけられることにより、前記第１のギヤが正常位置に配置されたことを確認するスイッチが接続されること特徴とする洗浄装置。 - 請求項３または請求項４に記載の洗浄装置において、
前記ブラシ、前記洗浄液供給手段及び前記乾燥手段を基板の搬送方向に対して相対的に移動させる移動手段と、
前記移動手段の移動速度を可変にする手段と
を更に具備することを特徴とする洗浄装置。 - 回転可能な軸部材に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対のローラと、上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第１の磁石が配置された第１のギヤと、前記第１のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第１のギヤの表面形状に対向して第２の磁石が配置された第２のギヤと、前記第２のギヤを回転駆動させる駆動部と、前記第１のギヤの近傍に配置され、該第１のギヤが所定の位置に配置されたことを検知する手段とを備える搬送装置と、
前記１対のローラにより搬送される基板の上部にそれぞれ配置され、
基板上に現像液を供給する手段と、
前記現像液が供給された基板上にリンス液を供給する手段と、
基板上にエアを吹きつけて乾燥させる手段と
を具備し、
前記検知手段は前記第１の磁石による磁場を検出する磁気センサであることを特徴とする現像装置。 - 回転可能な軸部材に設けられ、基板の両端を支持するとともに回転により基板を搬送させる少なくとも１対のローラと、上端に切り欠き部を有し、該切り欠き部で前記軸部材を着脱自在に軸支する保持部と、前記軸部材に接続され、表面に第１の磁石が配置された第１のギヤと、前記第１のギヤに対して隙間を空けて設けられ、前記第１のギヤの表面形状に対向して第２の磁石が配置された第２のギヤと、前記第２のギヤを回転駆動させる駆動部と、前記第１のギヤの近傍に配置され、該第１のギヤが所定の位置に配置されたことを検知する手段とを備える搬送装置と、
前記１対のローラにより搬送される基板の上部にそれぞれ配置され、
基板上に現像液を供給する手段と、
前記現像液が供給された基板上にリンス液を供給する手段と、
基板上にエアを吹きつけて乾燥させる手段と
を具備し、
前記検知手段は、前記第１のギヤが所定の位置に配置されたときに、前記第１の磁石の近傍位置に引きつけられる可動部を備え、
前記可動部が前記第１の磁石の近傍位置に引きつけられることにより、前記第１のギヤが正常位置に配置されたことを確認するスイッチが接続されること特徴とする現像装置。 - 請求項６または請求項７に記載の現像装置において、
前記現像液供給手段、前記リンス液供給手段及び前記乾燥手段を基板の搬送方向に対して相対的に移動させる移動手段と、
前記移動手段の移動速度を可変にする手段と
を更に具備することを特徴とする現像装置。 - 請求項１または請求項２に記載の搬送装置において、
前記第１のギヤ又は第２のギヤのうち少なくとも一方は、前記磁石が螺旋状に配置されていることを特徴とする搬送装置。 - 請求項３から請求項５のうちのいずれか一項に記載の洗浄装置において、
前記第１のギヤ又は第２のギヤのうち少なくとも一方は、前記磁石が螺旋状に配置されていることを特徴とする洗浄装置。 - 請求項６から請求項８のうちのいずれか一項に記載の現像装置において、
前記第１のギヤ又は第２のギヤのうち少なくとも一方は、前記磁石が螺旋状に配置されていることを特徴とする現像装置。 - 請求項３から請求項５のうちのいずれか一項に記載の洗浄装置において、
前記ローラ、前記保持部、前記第１のギヤ、前記第２のギヤ及び前記検知手段を覆うカバー部材を更に具備することを特徴とする洗浄装置。 - 請求項６から請求項８のうちのいずれか一項に記載の現像装置において、
前記ローラ、前記保持部、前記第１のギヤ、前記第２のギヤ及び前記検知手段を覆うカバー部材を更に具備することを特徴とする現像装置。
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