JP3977948B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は、各種基板の処理装置、特に、液晶表示器用基板等のFPD(Flat Panel Display)用基板、フォトマスク用基板、プリント基板、および半導体基板を処理チャンバーにおいて処理を施す基板処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に基板処理装置は、基板に薬液を供給して薬液処理を施す薬液処理チャンバー、薬液処理後の薬液が付着した基板を水洗する水洗処理チャンバー、水洗処理後の液滴が付着した基板を乾燥させる乾燥処理チャンバー等を有する。そして、これら処理チャンバー間には開口を有する隔壁が設けられ、開口を通じてこれらの処理チャンバーに基板を搬送して順に一連の処理を行わせる。
【0003】
また、前記開口には該開口を開閉するシャッター機構が配備され、各処理チャンバー内の雰囲気が隣接する処理チャンバーに流れることが抑えられる。
【0004】
本出願人は先に特願平10−108355号にて上記の様なシャッター機構を提案している。図10に該出願に係るシャッター機構120を示す。
【0005】
シャッター機構120は二つの処理チャンバを隔てる隔壁121に開いている開口122を開閉するための蓋部材123と、矢印AR1のように回動する丸軸部材124と、蓋部材123と丸軸部材124とを連結する複数の固定部材125とを有する。
【0006】
図11、図12はシャッター機構120の動作を表す断面図である。
【0007】
ここでは図11のように、複数の処理チャンバー127、128が連設されている。そして、開口122を通じて基板Wを搬送すべく複数の搬送ローラ126が設けられている。
【0008】
複数の搬送ローラ126はそれぞれ回転軸126aにコロ126bが固定された構造で紙面において回転軸126aを中心に時計回りに回転する。これにより基板Wは搬送経路P上を紙面おいて左方向から右方向へ搬送される。なお、図11、図12において、紙面左方向を搬送方向の上流といい、右方向を同、下流という。
【0009】
処理チャンバー127から処理チャンバー128に開口122を通じて基板Wを搬送する場合は、図11のように蓋部材123が開口122を閉じている状態において、図示せぬ駆動手段から丸軸部材124に駆動力が加えられ、丸軸部材が回動することによって蓋部材123が丸軸部材124を中心に紙面において時計回りに回動する。こうすることによって、図12に示すように開口122が開放され、基板Wが通過可能になる。
【0010】
そして、基板Wが通過するときのみ、シャッター機構120が開口122を開放することによって、処理チャンバー127と処理チャンバー128との間で一方から他方へ、または互いに内部の雰囲気が流入することが抑えられる。
【0011】
これによって、例えば、処理チャンバーの一方が薬液を使用する場合、薬液を含んだ雰囲気が他方の処理チャンバーに侵入して、他方の処理チャンバーを侵食したり、基板に付着して、不要な化学変化を発生させることを防止することができる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、基板Wは薄板状部材であるので図12に示すように搬送方向における先端が搬送経路Pよりも垂れ下がる場合がある。このような場合、基板Wが搬送ローラ126にうまく乗らなかったり、蓋部材123と接触したりすることが考えられる。そうすると基板が正常に搬送できなくなる恐れがある。
【0013】
本発明の目的は基板が正常に搬送できなくなることを防止することである。
【0014】
【課題を解決するための手段】
請求項1に係る基板処理装置は、処理液を基板に接触させて処理を行う基板処理装置であって、水平または傾斜状態で略水平方向に搬送される基板を通過させる開口を、その側壁に有するチャンバーと、チャンバー内に設けられ、開口よりも大きい面積を有した蓋部材を、その一端側を支持し、水平面内において基板搬送方向と直交する方向に配置される軸部材周りに回動させることで、前記開口に対して開放状態と閉止状態に位置させるシャッター機構と、前記チャンバー内に固定配置され、シャッター機構が蓋部材を回動させるために必要な空間と平面視で重なり、かつ前記蓋部材が開放状態の位置にあるとき、基板を支持するシャッター部支持手段とを備え、前記シャッター部支持手段は、前記シャッター機構に設けられ、前記シャッター機構の蓋部材は、開口下方において、基板の搬送方向と直交する方向に軸方向を配した回転軸を中心として回動し、前記シャッター部支持手段は、前記回転軸と同じ回転中心にて回転可能で、蓋部材が開口を開放したとき、基板の一部を支持する回転体を有しているものである。
【0015】
ここでは、開口を開閉するシャッター機構が存在し、シャッター機構が蓋部材を移動させるために必要な空間と平面視で重なる部分において、基板を支持するシャッター部支持手段が設けられている。このため、開口を通じて基板を搬送するとき、該シャッター部支持手段が基板を支持する。従って、基板の端部がシャッター機構近傍で垂れ下がることを防止できる。
【0016】
また、シャッター部支持手段が前記シャッター機構に設けられているため、装置の占有面積を広げることを極力少なくすることができる。
【0017】
また、前記シャッター機構の蓋部材は、開口下方において、基板の搬送方向と直交する方向に軸方向を配した回転軸を中心として回動し、前記シャッター部支持手段は前記回転軸と同じ回転中心にて回転可能で、蓋部材が開口を開放したとき、基板の一部を支持する回転体を有しているため、回転体が基板の移動に伴って回転しながら基板を支持するので基板との摺動を抑制でき、汚染物質の発生を抑制できる。
【0018】
また、請求項2に係る基板処理装置は、請求項1に記載の基板処理装置において、前記回転体を回転させる回転体駆動手段を備えているものである。
【0019】
このため、開口を通じて基板が搬送されるとき、基板に搬送する力を加えることができるので、基板が安定して搬送される。
【0020】
また、請求項2に係る基板処理装置は、請求項1又は2に記載の基板処理装置において、前記チャンバーに前記開口を介して連接されるとともに、その内部で基板に薬液を供給して薬液処理を施す薬液処理チャンバーをさらに有することを特徴とする。
【0021】
【発明の実施の形態】
図1に本発明の一実施形態である基板処理装置1を示す。基板処理装置1は、液晶表示器用のガラスの基板W上に形成された薄膜にエッチング処理を施す装置であって、主として、水平方向に連設された入口コンベアチャンバー2、エッチング処理チャンバー3、水洗処理チャンバー4、乾燥搬出チャンバー5と、各チャンバー2〜5に配備される搬送ローラ6とから構成されている。
【0022】
各チャンバー2〜5に配される複数の搬送ローラ6は、それぞれ、その回転軸を同一水平面内において基板Wの搬送方向Dに直交する方向に配して配置されており、基板Wを水平状態に保持しながら搬送する。こうして、搬送ローラ6の上方に基板Wが通過する搬送経路Pが形成される。そして、基板Wは複数の搬送ローラ6によって入口コンベアチャンバー2から乾燥搬出チャンバー5に向かう搬送方向Dに沿って搬送される。なお、以下、図1において紙面左方向を搬送方向の上流、同右方向を搬送方向の下流という。
【0023】
また、図1において2点鎖線で囲まれた部分P1,P2にはシャッター機構および、シャッター部支持手段が設けられているが、当該シャッター機構およびシャッター部支持手段については後述する。
【0024】
基板処理装置1の機能について説明する。
【0025】
表面に薄膜が形成された基板Wが基板処理装置1に運ばれてくると、まず基板Wは入口コンベアチャンバー2に搬入される。その後、基板Wは搬送ローラ6によってエッチング処理チャンバー3に移動する。エッチング処理チャンバー3では、エッチング用の薬液が基板Wに噴射され、基板表面上の薄膜が所定の厚さだけ食刻される。このようにエッチングされた基板Wは、次に水洗処理チャンバー4に送られて、基板Wに付着した薬液が洗い流される。そして、水洗処理を終えた基板Wは、乾燥搬出チャンバー5でエアー吹き付けによる乾燥処理が行われた後に搬出される。
【0026】
次に各チャンバーについて説明する。
【0027】
入口コンベアチャンバー2には、部分P1にエッチング処理チャンバー3側の隔壁2aに設けられた基板Wの搬送経路Pの確保のための開口2bを開閉するシャッター機構および、シャッター部支持手段が配備されている(シャッター機構および、シャッター部支持手段については後述する。)
【0028】
エッチング処理チャンバー3には基板Wに薬液を噴射する上部スプレー31、基板Wを搬送ローラ6によって搬送経路Pに沿って揺動させるときに使用する位置センサー33,34、およびエッチングの終点を検出する光学透過式のEPS(エンド・ポイント・センサー)35が配置されている。このエッチング処理チャンバー3内では、EPS35によってエッチングの終了が自動的に検出されるが、それまでの間、基板Wは両位置センサー33,34の間を往復動することによって揺動しながら上部スプレー31から薬液の噴射を受ける。
【0029】
水洗処理チャンバー4には、主として、上部洗浄スプレー41、下部洗浄スプレー42、位置センサー43,44が配置されている。上部および下部洗浄スプレー41,42は、基板Wに対して水洗の処理液である純水を噴射する。位置センサー43,44は、水洗処理チャンバー4内における基板Wの基板搬送方向Dに沿った位置を検出する接触式のセンサーである。また、部分P2には入口コンベアチャンバー2に設けられているものと同様の構造であるシャッター機構および、シャッター部支持手段が設けられており、該シャッター機構がエッチング処理チャンバー3側の隔壁4aに設けられた基板Wの搬送経路Pの確保のための開口4bを開閉する。エッチング処理チャンバー3において薬液によるエッチング処理が施され薬液が付着した状態の基板Wが、搬送ローラ6によって水洗処理チャンバー4に送られてくると、基板Wは所定の時間だけ両位置センサー43,44の間を行ったり来たりの揺動を繰り返すが、このときに上部および下部洗浄スプレー41,42から基板Wに対して純水が噴射される。この純水が基板Wに接触衝突して、基板Wに付着している薬液を基板Wから洗い流す。基板Wを洗浄し薬液と混じり合って汚染された純水は、水洗処理チャンバー4の下部から排出される。
【0030】
乾燥搬出チャンバー5には、基板Wにドライエアーを噴射する上部および下部エアーナイフ51,52が設けられている。この乾燥搬出チャンバー5内では、水洗処理チャンバー4での水洗処理後に基板Wに残留した純水を上部および下部エアーナイフ51,52から噴射されるドライエアーにより吹き飛ばし、基板Wを乾燥させる。
【0031】
次に入口コンベアチャンバー2および水洗処理チャンバー4に配備されたシャッター機構および、シャッター部支持手段について説明する。
【0032】
入口コンベアチャンバー2および水洗処理チャンバー4に配備されたシャッター機構および、シャッター部支持手段は同様のものなのでここでは水洗処理チャンバー4に配備されたシャッター機構および、シャッター部支持手段を例にとり説明する。
【0033】
<第1実施形態>
図2は図1におけるS−S断面図である。この図2に従い第1実施形態に係るシャッター機構70A、および、シャッター部支持手段80Aについて説明する。
【0034】
図2のように、エッチング処理チャンバ本体3cと水洗処理チャンバ本体4cとが連設されている。エッチング処理チャンバ本体3cと水洗処理チャンバ本体4cの外部にはそれぞれ、モータ37、47が設けられ、各々複数の歯車37a、47aを介して各搬送ローラ6の固定歯車6aに駆動力が伝えられている。固定歯車6aはエッチング処理チャンバ本体3cまたは水洗処理チャンバ本体4cの内部を通って軸支されているローラ回転軸6bに固設されており、ローラ回転軸6bには固定コロ6cが固設されている。そして、該モータ37、47を回転させることにより、各搬送ローラ6が同一方向に回転する。
【0035】
シャッター機構70Aは水洗処理チャンバー本体4c内に配備される。
【0036】
シャッター機構70Aは図2に示すように水洗処理チャンバ本体4c外にて固定されたシャッター駆動モータ71aを有する。そしてシャッター駆動モータ71aの回転軸には水洗処理チャンバ本体4c内部に向かって伸びる丸軸部材72が接続されている。この丸軸部材72の回転軸は水平面内において搬送方向Dに直交する方向に配して配置されている。前記丸軸部材72には固定部材74が固定されており、固定部材74には蓋部材73が固定されている。
【0037】
さらに、固定部材74の間において、丸軸部材72には自由回転コロ75が複数設けられている。自由回転コロ75は内部に図示せぬベアリングを有し、丸軸部材72に対して自由に回転する。
【0038】
このようなシャッター機構70Aはシャッター駆動モータ71aの回転により丸軸部材72を軸として蓋部材73を約180度回動させることで、蓋部材73を実線で表す状態と仮想線で表す状態との間で移動させる。これによって、蓋部材73が開口4bを閉止する状態と開放する状態とをとることができる。
【0039】
図3に蓋部材73が開口4bを閉止した状態、図4に蓋部材73が開口4bを開放した状態とをそれぞれ示す。
【0040】
そして、図3のように開口4bを閉じることで、エッチング処理チャンバー3内の薬液及び雰囲気が水洗処理チャンバー4に侵入することを防止できる。
【0041】
次にシャッター機構70Aに設けられたシャッター部支持手段80Aについて説明する。
【0042】
図2のように、シャッター部支持手段80Aは自由回転コロ75によって構成され、エッチング処理チャンバ3の最も搬送方向の下流にある搬送ローラ61と水洗処理チャンバ4内の最も搬送方向の上流にある搬送ローラ62との間に設けられている。
【0043】
また、図2において開口4bを開閉するために蓋部材73が移動する空間を平面視で表す領域M内にシャッター部支持手段80Aの自由回転コロ75が設けられており、前記領域Mと自由回転コロ75とは平面視で重なっている。
【0044】
なお、図を分かりやすくするために前記図2の領域Mは若干大きく描いてある。
【0045】
図5は図2のV−V断面図である。
【0046】
ただし、図2とは逆に、蓋部73について、開口4bを開放したときの蓋部73を実線で、開口4bを閉止したときの蓋部73を仮想線でそれぞれ表示している。
【0047】
自由回転コロ75の周面の最上部は搬送ローラ61、62それぞれが有する固定コロ6cの周面の最上部と同じ高さである。こうすることによって、自由回転コロ75の周面の最上部が搬送経路Pに一致するので、自由回転コロ75で基板を支持することができる。
【0048】
従って、エッチング処理チャンバ3から水洗処理チャンバ4に向かって基板Wが搬送されてきたとき、基板の進行方向先端がエッチング処理チャンバ3の最も搬送方向の下流にある搬送ローラ61を越えて、水洗処理チャンバ4内の最も搬送方向の上流にある搬送ローラ62に向かったとき、基板Wは搬送ローラ61と搬送ローラ62との間において、シャッター部支持手段80Aの自由回転コロ75によって支持される。
【0049】
このため、基板Wの搬送方向における先端が搬送ローラ61と62との間で搬送経路Pより下に垂れ下がることを防止でき、基板Wの搬送方向における先端は確実に搬送ローラ62上に到達するので搬送不良を防止することができる。
【0050】
また、自由回転コロ75は丸軸部材72を軸として回転可能なので、基板Wを支持する際、搬送方向Dに沿って回転可能である。このため、自由回転コロ75と基板Wとの摺動が最低限に抑えられるので、摺動による汚染物質の発生を最低限にすることができる。
【0051】
また、基板Wが搬送経路Pよりも下に垂れ下がることを防止できるので、開口4bの下端部の位置を従来より高くして搬送経路Pに近づけても基板Wと開口4bの下端部とが接触する恐れが少ない。こうすることによって、開口4bの高さ方向の寸法を小さくすることができるので、開口4bの開口面積を小さくすることができる。この結果、エッチング処理チャンバ3内の薬液や雰囲気が水洗処理チャンバ4に侵入することをさらに効果的に防止することができる。
【0052】
<第2実施形態>
図6は図1の基板処理装置1において第2実施形態に係るシャッター機構70Bおよび、シャッター部支持手段80Bを適用した場合のS−S断面図である。
【0053】
なお、図2の第1実施形態に係るシャッター機構70Aと共通する部分については同一の参照番号を付して説明を省略する。
【0054】
シャッター機構70Bは図6に示すように水洗処理チャンバ本体4c外にて固定されたシャッター駆動モータ71bを有する。そしてシャッター駆動モータ71bの回転軸には水洗処理チャンバ本体4cに設けられたベアリング75aに軸支され、かつ、該水洗処理チャンバ本体4内部に向かって伸びるシャッター駆動軸76が接続されている。
【0055】
シャッター駆動軸76には固定部材77が固設され、固定部材77には蓋部材73が固定されている。
【0056】
蓋部材73には複数の軸支部材78が固定されている。複数の軸支部材78は各々ベアリング78aを有する。
【0057】
一方、水洗処理チャンバ本体4cを挟んで、シャッター駆動モータ71bが設けられた側と反対側の水洗処理チャンバ本体4c外にはモータ47が設けられ、モータ47の駆動力は歯車47a、6aを介して駆動歯車79に伝達される。
【0058】
駆動歯車79には丸軸部材72bの一端が固定されている。この丸軸部材72bは水洗処理チャンバ本体4cに設けられたベアリング75bに軸支され、かつ、該水洗処理チャンバ本体4cを貫いて内部に向かって伸びている。そして、丸軸部材72bは複数の軸支部材78のベアリング78aに軸支され、他端は固定部材77に設けられているベアリング77aに支持されている。
【0059】
そしてさらに、丸軸部材72bには固定部材77および、複数の軸支部材78の間において、駆動コロ81が固設されている。
【0060】
上記のようなシャッター機構70Bでは、シャッター駆動モータ71bを回転させることにより、シャッター駆動軸76および、固定部材77を介して蓋部材73を回動させる。
【0061】
このとき、蓋部材73は複数の軸支部材78によっても支持されているので、当該軸支部材78も回動する。しかし、軸支部材78はベアリング78aを介して丸軸部材72bと係合しているので、軸支部材78が回動する力は丸軸部材72bには伝達されない。
【0062】
次にシャッター機構70Bに設けられたシャッター部支持手段80Bの構成について説明する。
【0063】
シャッター部支持手段80Bは駆動コロ81で構成される。
【0064】
なお、図示は省略するが駆動コロ81の周面の最上部は第1実施形態のシャッター部支持手段80Aの自由回転コロ75と同様、搬送ローラ61、62それぞれが有する固定コロ6cの周面の最上部と同じ高さである。こうすることによって、駆動コロ81の周面の最上部が搬送経路Pに一致するので、駆動コロ81で基板を支持することができる。
【0065】
丸軸部材72bはモータ47によって駆動力が与えられ回転する。これによって、駆動コロ81も搬送ローラ6と同じ方向に回転する。このとき、丸軸部材72bは軸支部材78や、固定部材77と係合しているが、ベアリング77aや、ベアリング78bを介して係合しているので、丸軸部材72bの回転する力は軸支部材78や、固定部材77に伝達されない。
【0066】
シャッター部支持手段80Bの機能について説明する。
【0067】
蓋部材73が開口4bを開けた状態で、エッチング処理チャンバ3から基板Wが搬送されてくると、基板Wの先端は搬送ローラ61を越えて、駆動コロ81の上に乗る。
【0068】
駆動コロ81は回転しているので基板Wは搬送方向Dに搬送される。そして、さらに、基板Wの先端はシャッター部支持手段80Bを越えて、搬送ローラ62に乗り、基板Wは搬送方向Dに向かって搬送されていく。
【0069】
ここでは駆動コロ81が搬送ローラ6と同じ方向に回転しているので、基板Wが駆動コロ81に乗りさえすれば確実に基板Wを搬送することができる。
【0070】
また、搬送ローラ61と62との間においてモータ47の駆動力によって回転する駆動コロ81が存在しているので、基板Wが駆動コロ81に乗ったとき、すなわち、搬送ローラ61と62との間で基板に搬送する力を加えることができるので、安定した搬送を行うことができる。
【0071】
なお、本実施形態のシャッター部支持手段80Bも第1実施形態のシャッター部支持手段80Aと同様、蓋部材73が移動する空間と平面視で重なっている。
【0072】
<第3実施形態>
図7は図1の基板処理装置1において第3実施形態に係るシャッター機構70Cおよび、シャッター部支持手段80Cを適用した場合の斜視図である。
【0073】
なお、図2の第1実施形態に係るシャッター機構70Aと共通する部分については同一の参照番号を付して説明を省略する。
【0074】
シャッター機構70Cは図7に示すように第1実施形態に係るシャッター機構70Aと同様に、シャッター駆動モータ71a、シャッター駆動モータ71aの回転軸に接続された丸軸部材72、丸軸部材に固定された複数の固定部材74、固定部材74に固定された蓋部材73とを有する。
【0075】
さらに、蓋部材73が開口4bを閉じる際に開口4bに面する面には蓋上固定部材82が間隔を空けて複数設けられ、複数の蓋上固定部材82によって蓋上丸軸部材84が支持されている。この蓋上丸軸部材84の軸方向は基板の搬送方向Dと水平面内において直交している。
【0076】
そして、蓋上固定部材82の間において蓋上自由回転コロ83が蓋上丸軸部材84に対して回転自在に設けられており、この蓋上自由回転コロ83がシャッター部支持手段80Cを構成する。
【0077】
これら、蓋上固定部材82、蓋上丸軸部材84、蓋上自由回転コロ83は蓋部材73が開口4bを閉じたとき、開口4bと対応する部分よりも小さい部分において設けられている。
【0078】
図8は図7のシャッター機構70Cが開口4bを閉じた状態のVII−VII断面図、図9は同じくシャッター機構70Cが開口4bを開いた状態のVII−VII断面図である。
【0079】
図8のようにシャッター機構70Cが開口4bを閉じた状態では、蓋部材73が開口4bを塞いでいる。このとき、蓋上固定部材82、蓋上丸軸部材84、蓋上自由回転コロ83は蓋部材73が開口4bを閉じたとき、開口4bと対応する部分よりも小さい部分において設けられているので、蓋部材73が開口4bを確実に閉じることができる。
【0080】
図9のようにシャッター機構70Cが開口4bを開けた状態では、蓋上自由回転コロ83の周面の最上部は搬送ローラ61、62それぞれが有する固定コロ6cの周面の最上部と同じ高さである。こうすることによって、蓋上自由回転コロ83の周面の最上部が搬送経路Pに一致するので、蓋上自由回転コロ83で基板を支持することができる。
【0081】
また、シャッター部支持手段80Cが搬送ローラ61、62の間で基板Wを支持するので基板Wの搬送方向における先端が搬送ローラ61と62との間で搬送経路Pより下に垂れ下がることを防止できる。従って、基板Wの搬送方向における先端は確実に搬送ローラ62上に到達するので搬送不良を防止することができる。
【0082】
また、蓋上自由回転コロ83は蓋上丸軸部材84を軸として回転可能なので、基板Wを支持する際、搬送方向Dと平行に回転可能である。このため、蓋上自由回転コロ83と基板Wとの摺動が最低限に抑えられるので、摺動による汚染物質の発生を最低限にすることができる。
【0083】
なお、本実施形態のシャッター部支持手段80Cも第1実施形態のシャッター部支持手段80Aと同様、蓋部材73が移動する空間と平面視で重なっている。
【0084】
以上の実施形態では基板を水平に搬送する基板処理装置1について説明したが、各搬送ローラ6の回転軸の方向を、搬送方向Dと直交する方向において水平面に対して傾斜させることにより、基板Wを傾斜状態で搬送させてもよい。
【0085】
なお、エッチング処理チャンバー3内は腐食性の薬液雰囲気が充満しているのでシャッター機構はエッチング処理チャンバー3内にではなく、エッチング処理チャンバー3外の入口コンベアチャンバー2および、水洗処理チャンバー4に設ける必要がある。
【0086】
この内、入口コンベアチャンバー2内では搬送方向下流側の開口2bを開閉するシャッター機構と平面視で重なる位置にシャッター部支持手段を設けている。
【0087】
このため、入口コンベアチャンバー6内の最下流で基板を支持できる位置が水平方向において従来に比べて開口2bに近くなる。よって、開口2bを通過するときの基板の先端部の垂れ下がり量が従来に比べて格段に小さくなる。
【0088】
従って、開口2bの下端部の位置を従来よりも高くして、より、搬送経路Pに近づける
ことができ、開口2bの開口面積を小さくすることができる。その結果、エッチング処理チャンバー3内の薬液や雰囲気が入口コンベアチャンバー6に侵入することをさらに効果的に防止することができる。
【0089】
このように、搬送方向下流の開口にシャッター機構を設けなければならない場合は本発明のようにシャッター機構と平面視で重なる位置にシャッター部支持手段を設けると、効果的に基板先端部の垂れ下がりを防止できる。
【0090】
また、上記実施形態では蓋部材73の回動について駆動源として、シャッター駆動モータ71a等のモータを用いたが、圧縮空気でシャフトを回動させるロータリーアクチュエーターを用いてもよい。
【0091】
【発明の効果】
請求項1に係る発明では、シャッター機構が蓋部材を移動させるために必要な空間と平面視で重なる部分において、基板を支持するシャッター部支持手段が設けられているので、基板の端部がシャッター機構近傍で垂れ下がることを防止できる。このため、基板が正常に搬送できなくなることを防止できる。
【0092】
また、シャッター部支持手段が前記シャッター機構に設けられているので、装置の占有面積を広げることを極力少なくすることができる。
【0093】
また、シャッター部支持手段は蓋部材の回転軸と同じ回転中心にて回転可能で、蓋部材が開口を開放したとき、基板の一部を支持する回転体を有しているため、回転体が基板の移動に伴って回転しながら基板を支持するので基板との摺動を抑制でき、汚染物質の発生を抑制できる。
【0094】
請求項2に係る発明では回転体を回転させる回転体駆動手段を備えるため、開口を通じて基板が搬送されるとき、基板に搬送する力を加えることができるので基板を安定して搬送させることができる。
【0095】
請求項3に係る発明ではシャッター部支持手段は蓋部材の開口に面する面において、開口と対応する領域内に設けられている。このため、蓋部材は良好に開口を閉止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施形態における基板処理装置の概略図。
【図2】 第1実施形態における図1のS−S断面図。
【図3】 シャッター機構近傍の斜視図。
【図4】 シャッター機構近傍の斜視図。
【図5】 図2のV−V断面図。
【図6】 第2実施形態における図1のS−S断面図。
【図7】 シャッター機構近傍の斜視図。
【図8】 シャッター機構70Cが開口4bを閉止したときの図7におけるVII−VII断面図。
【図9】 シャッター機構70Cが開口4bを開放したときの図7におけるVII−VII断面図。
【図10】 従来のシャッター機構を示す斜視図。
【図11】 従来のシャッター機構の動作を示す断面図。
【図12】 従来のシャッター機構の動作を示す断面図。
【符号の説明】
1 基板処理装置
2b,4b 開口
3 エッチング処理チャンバ
4 水洗処理チャンバ
6 搬送ローラ
70A,70B,70C シャッター機構
80A,80B,80C シャッター部支持手段
Claims (3)
- 処理液を基板に接触させて処理を行う基板処理装置であって、
水平または傾斜状態で略水平方向に搬送される基板を通過させる開口を、その側壁に有するチャンバーと、
チャンバー内に設けられ、開口よりも大きい面積を有した蓋部材を、その一端側を支持し、水平面内において基板搬送方向と直交する方向に配置される軸部材周りに回動させることで、前記開口に対して開放状態と閉止状態に位置させるシャッター機構と、
前記チャンバー内に固定配置され、シャッター機構が蓋部材を回動させるために必要な空間と平面視で重なり、かつ前記蓋部材が開放状態の位置にあるとき、基板を支持するシャッター部支持手段とを備え、
前記シャッター部支持手段は、前記シャッター機構に設けられ、
前記シャッター機構の蓋部材は、開口下方において、基板の搬送方向と直交する方向に軸方向を配した回転軸を中心として回動し、
前記シャッター部支持手段は、前記回転軸と同じ回転中心にて回転可能で、蓋部材が開口を開放したとき、基板の一部を支持する回転体を有している基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、前記回転体を回転させる回転体駆動手段を備えた基板処理装置。
- 請求項1又は2に記載の基板処理装置において、前記チャンバーに前記開口を介して連接されるとともに、その内部で基板に薬液を供給して薬液処理を施す薬液処理チャンバーをさらに有することを特徴とする基板処理装置。
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