JP3977948B2

JP3977948B2 - 基板処理装置

Info

Publication number: JP3977948B2
Application number: JP35229698A
Authority: JP
Inventors: 竹志谷口; 光雄小笠原
Original assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1998-12-11
Filing date: 1998-12-11
Publication date: 2007-09-19
Anticipated expiration: 2018-12-11
Also published as: JP2000177841A

Description

【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、各種基板の処理装置、特に、液晶表示器用基板等のＦＰＤ（ＦｌａｔＰａｎｅｌＤｉｓｐｌａｙ）用基板、フォトマスク用基板、プリント基板、および半導体基板を処理チャンバーにおいて処理を施す基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に基板処理装置は、基板に薬液を供給して薬液処理を施す薬液処理チャンバー、薬液処理後の薬液が付着した基板を水洗する水洗処理チャンバー、水洗処理後の液滴が付着した基板を乾燥させる乾燥処理チャンバー等を有する。そして、これら処理チャンバー間には開口を有する隔壁が設けられ、開口を通じてこれらの処理チャンバーに基板を搬送して順に一連の処理を行わせる。
【０００３】
また、前記開口には該開口を開閉するシャッター機構が配備され、各処理チャンバー内の雰囲気が隣接する処理チャンバーに流れることが抑えられる。
【０００４】
本出願人は先に特願平１０−１０８３５５号にて上記の様なシャッター機構を提案している。図１０に該出願に係るシャッター機構１２０を示す。
【０００５】
シャッター機構１２０は二つの処理チャンバを隔てる隔壁１２１に開いている開口１２２を開閉するための蓋部材１２３と、矢印ＡＲ１のように回動する丸軸部材１２４と、蓋部材１２３と丸軸部材１２４とを連結する複数の固定部材１２５とを有する。
【０００６】
図１１、図１２はシャッター機構１２０の動作を表す断面図である。
【０００７】
ここでは図１１のように、複数の処理チャンバー１２７、１２８が連設されている。そして、開口１２２を通じて基板Ｗを搬送すべく複数の搬送ローラ１２６が設けられている。
【０００８】
複数の搬送ローラ１２６はそれぞれ回転軸１２６ａにコロ１２６ｂが固定された構造で紙面において回転軸１２６ａを中心に時計回りに回転する。これにより基板Ｗは搬送経路Ｐ上を紙面おいて左方向から右方向へ搬送される。なお、図１１、図１２において、紙面左方向を搬送方向の上流といい、右方向を同、下流という。
【０００９】
処理チャンバー１２７から処理チャンバー１２８に開口１２２を通じて基板Ｗを搬送する場合は、図１１のように蓋部材１２３が開口１２２を閉じている状態において、図示せぬ駆動手段から丸軸部材１２４に駆動力が加えられ、丸軸部材が回動することによって蓋部材１２３が丸軸部材１２４を中心に紙面において時計回りに回動する。こうすることによって、図１２に示すように開口１２２が開放され、基板Ｗが通過可能になる。
【００１０】
そして、基板Ｗが通過するときのみ、シャッター機構１２０が開口１２２を開放することによって、処理チャンバー１２７と処理チャンバー１２８との間で一方から他方へ、または互いに内部の雰囲気が流入することが抑えられる。
【００１１】
これによって、例えば、処理チャンバーの一方が薬液を使用する場合、薬液を含んだ雰囲気が他方の処理チャンバーに侵入して、他方の処理チャンバーを侵食したり、基板に付着して、不要な化学変化を発生させることを防止することができる。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、基板Ｗは薄板状部材であるので図１２に示すように搬送方向における先端が搬送経路Ｐよりも垂れ下がる場合がある。このような場合、基板Ｗが搬送ローラ１２６にうまく乗らなかったり、蓋部材１２３と接触したりすることが考えられる。そうすると基板が正常に搬送できなくなる恐れがある。
【００１３】
本発明の目的は基板が正常に搬送できなくなることを防止することである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る基板処理装置は、処理液を基板に接触させて処理を行う基板処理装置であって、水平または傾斜状態で略水平方向に搬送される基板を通過させる開口を、その側壁に有するチャンバーと、チャンバー内に設けられ、開口よりも大きい面積を有した蓋部材を、その一端側を支持し、水平面内において基板搬送方向と直交する方向に配置される軸部材周りに回動させることで、前記開口に対して開放状態と閉止状態に位置させるシャッター機構と、前記チャンバー内に固定配置され、シャッター機構が蓋部材を回動させるために必要な空間と平面視で重なり、かつ前記蓋部材が開放状態の位置にあるとき、基板を支持するシャッター部支持手段とを備え、前記シャッター部支持手段は、前記シャッター機構に設けられ、前記シャッター機構の蓋部材は、開口下方において、基板の搬送方向と直交する方向に軸方向を配した回転軸を中心として回動し、前記シャッター部支持手段は、前記回転軸と同じ回転中心にて回転可能で、蓋部材が開口を開放したとき、基板の一部を支持する回転体を有しているものである。
【００１５】
ここでは、開口を開閉するシャッター機構が存在し、シャッター機構が蓋部材を移動させるために必要な空間と平面視で重なる部分において、基板を支持するシャッター部支持手段が設けられている。このため、開口を通じて基板を搬送するとき、該シャッター部支持手段が基板を支持する。従って、基板の端部がシャッター機構近傍で垂れ下がることを防止できる。
【００１６】
また、シャッター部支持手段が前記シャッター機構に設けられているため、装置の占有面積を広げることを極力少なくすることができる。
【００１７】
また、前記シャッター機構の蓋部材は、開口下方において、基板の搬送方向と直交する方向に軸方向を配した回転軸を中心として回動し、前記シャッター部支持手段は前記回転軸と同じ回転中心にて回転可能で、蓋部材が開口を開放したとき、基板の一部を支持する回転体を有しているため、回転体が基板の移動に伴って回転しながら基板を支持するので基板との摺動を抑制でき、汚染物質の発生を抑制できる。
【００１８】
また、請求項２に係る基板処理装置は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記回転体を回転させる回転体駆動手段を備えているものである。
【００１９】
このため、開口を通じて基板が搬送されるとき、基板に搬送する力を加えることができるので、基板が安定して搬送される。
【００２０】
また、請求項２に係る基板処理装置は、請求項１又は２に記載の基板処理装置において、前記チャンバーに前記開口を介して連接されるとともに、その内部で基板に薬液を供給して薬液処理を施す薬液処理チャンバーをさらに有することを特徴とする。
【００２１】
【発明の実施の形態】
図１に本発明の一実施形態である基板処理装置１を示す。基板処理装置１は、液晶表示器用のガラスの基板Ｗ上に形成された薄膜にエッチング処理を施す装置であって、主として、水平方向に連設された入口コンベアチャンバー２、エッチング処理チャンバー３、水洗処理チャンバー４、乾燥搬出チャンバー５と、各チャンバー２〜５に配備される搬送ローラ６とから構成されている。
【００２２】
各チャンバー２〜５に配される複数の搬送ローラ６は、それぞれ、その回転軸を同一水平面内において基板Ｗの搬送方向Ｄに直交する方向に配して配置されており、基板Ｗを水平状態に保持しながら搬送する。こうして、搬送ローラ６の上方に基板Ｗが通過する搬送経路Ｐが形成される。そして、基板Ｗは複数の搬送ローラ６によって入口コンベアチャンバー２から乾燥搬出チャンバー５に向かう搬送方向Ｄに沿って搬送される。なお、以下、図１において紙面左方向を搬送方向の上流、同右方向を搬送方向の下流という。
【００２３】
また、図１において２点鎖線で囲まれた部分Ｐ１，Ｐ２にはシャッター機構および、シャッター部支持手段が設けられているが、当該シャッター機構およびシャッター部支持手段については後述する。
【００２４】
基板処理装置１の機能について説明する。
【００２５】
表面に薄膜が形成された基板Ｗが基板処理装置１に運ばれてくると、まず基板Ｗは入口コンベアチャンバー２に搬入される。その後、基板Ｗは搬送ローラ６によってエッチング処理チャンバー３に移動する。エッチング処理チャンバー３では、エッチング用の薬液が基板Ｗに噴射され、基板表面上の薄膜が所定の厚さだけ食刻される。このようにエッチングされた基板Ｗは、次に水洗処理チャンバー４に送られて、基板Ｗに付着した薬液が洗い流される。そして、水洗処理を終えた基板Ｗは、乾燥搬出チャンバー５でエアー吹き付けによる乾燥処理が行われた後に搬出される。
【００２６】
次に各チャンバーについて説明する。
【００２７】
入口コンベアチャンバー２には、部分Ｐ１にエッチング処理チャンバー３側の隔壁２ａに設けられた基板Ｗの搬送経路Ｐの確保のための開口２ｂを開閉するシャッター機構および、シャッター部支持手段が配備されている（シャッター機構および、シャッター部支持手段については後述する。）
【００２８】
エッチング処理チャンバー３には基板Ｗに薬液を噴射する上部スプレー３１、基板Ｗを搬送ローラ６によって搬送経路Ｐに沿って揺動させるときに使用する位置センサー３３，３４、およびエッチングの終点を検出する光学透過式のＥＰＳ（エンド・ポイント・センサー）３５が配置されている。このエッチング処理チャンバー３内では、ＥＰＳ３５によってエッチングの終了が自動的に検出されるが、それまでの間、基板Ｗは両位置センサー３３，３４の間を往復動することによって揺動しながら上部スプレー３１から薬液の噴射を受ける。
【００２９】
水洗処理チャンバー４には、主として、上部洗浄スプレー４１、下部洗浄スプレー４２、位置センサー４３，４４が配置されている。上部および下部洗浄スプレー４１，４２は、基板Ｗに対して水洗の処理液である純水を噴射する。位置センサー４３，４４は、水洗処理チャンバー４内における基板Ｗの基板搬送方向Ｄに沿った位置を検出する接触式のセンサーである。また、部分Ｐ２には入口コンベアチャンバー２に設けられているものと同様の構造であるシャッター機構および、シャッター部支持手段が設けられており、該シャッター機構がエッチング処理チャンバー３側の隔壁４ａに設けられた基板Ｗの搬送経路Ｐの確保のための開口４ｂを開閉する。エッチング処理チャンバー３において薬液によるエッチング処理が施され薬液が付着した状態の基板Ｗが、搬送ローラ６によって水洗処理チャンバー４に送られてくると、基板Ｗは所定の時間だけ両位置センサー４３，４４の間を行ったり来たりの揺動を繰り返すが、このときに上部および下部洗浄スプレー４１，４２から基板Ｗに対して純水が噴射される。この純水が基板Ｗに接触衝突して、基板Ｗに付着している薬液を基板Ｗから洗い流す。基板Ｗを洗浄し薬液と混じり合って汚染された純水は、水洗処理チャンバー４の下部から排出される。
【００３０】
乾燥搬出チャンバー５には、基板Ｗにドライエアーを噴射する上部および下部エアーナイフ５１，５２が設けられている。この乾燥搬出チャンバー５内では、水洗処理チャンバー４での水洗処理後に基板Ｗに残留した純水を上部および下部エアーナイフ５１，５２から噴射されるドライエアーにより吹き飛ばし、基板Ｗを乾燥させる。
【００３１】
次に入口コンベアチャンバー２および水洗処理チャンバー４に配備されたシャッター機構および、シャッター部支持手段について説明する。
【００３２】
入口コンベアチャンバー２および水洗処理チャンバー４に配備されたシャッター機構および、シャッター部支持手段は同様のものなのでここでは水洗処理チャンバー４に配備されたシャッター機構および、シャッター部支持手段を例にとり説明する。
【００３３】
＜第１実施形態＞
図２は図１におけるＳ−Ｓ断面図である。この図２に従い第１実施形態に係るシャッター機構７０Ａ、および、シャッター部支持手段８０Ａについて説明する。
【００３４】
図２のように、エッチング処理チャンバ本体３ｃと水洗処理チャンバ本体４ｃとが連設されている。エッチング処理チャンバ本体３ｃと水洗処理チャンバ本体４ｃの外部にはそれぞれ、モータ３７、４７が設けられ、各々複数の歯車３７ａ、４７ａを介して各搬送ローラ６の固定歯車６ａに駆動力が伝えられている。固定歯車６ａはエッチング処理チャンバ本体３ｃまたは水洗処理チャンバ本体４ｃの内部を通って軸支されているローラ回転軸６ｂに固設されており、ローラ回転軸６ｂには固定コロ６ｃが固設されている。そして、該モータ３７、４７を回転させることにより、各搬送ローラ６が同一方向に回転する。
【００３５】
シャッター機構７０Ａは水洗処理チャンバー本体４ｃ内に配備される。
【００３６】
シャッター機構７０Ａは図２に示すように水洗処理チャンバ本体４ｃ外にて固定されたシャッター駆動モータ７１ａを有する。そしてシャッター駆動モータ７１ａの回転軸には水洗処理チャンバ本体４ｃ内部に向かって伸びる丸軸部材７２が接続されている。この丸軸部材７２の回転軸は水平面内において搬送方向Ｄに直交する方向に配して配置されている。前記丸軸部材７２には固定部材７４が固定されており、固定部材７４には蓋部材７３が固定されている。
【００３７】
さらに、固定部材７４の間において、丸軸部材７２には自由回転コロ７５が複数設けられている。自由回転コロ７５は内部に図示せぬベアリングを有し、丸軸部材７２に対して自由に回転する。
【００３８】
このようなシャッター機構７０Ａはシャッター駆動モータ７１ａの回転により丸軸部材７２を軸として蓋部材７３を約１８０度回動させることで、蓋部材７３を実線で表す状態と仮想線で表す状態との間で移動させる。これによって、蓋部材７３が開口４ｂを閉止する状態と開放する状態とをとることができる。
【００３９】
図３に蓋部材７３が開口４ｂを閉止した状態、図４に蓋部材７３が開口４ｂを開放した状態とをそれぞれ示す。
【００４０】
そして、図３のように開口４ｂを閉じることで、エッチング処理チャンバー３内の薬液及び雰囲気が水洗処理チャンバー４に侵入することを防止できる。
【００４１】
次にシャッター機構７０Ａに設けられたシャッター部支持手段８０Ａについて説明する。
【００４２】
図２のように、シャッター部支持手段８０Ａは自由回転コロ７５によって構成され、エッチング処理チャンバ３の最も搬送方向の下流にある搬送ローラ６１と水洗処理チャンバ４内の最も搬送方向の上流にある搬送ローラ６２との間に設けられている。
【００４３】
また、図２において開口４ｂを開閉するために蓋部材７３が移動する空間を平面視で表す領域Ｍ内にシャッター部支持手段８０Ａの自由回転コロ７５が設けられており、前記領域Ｍと自由回転コロ７５とは平面視で重なっている。
【００４４】
なお、図を分かりやすくするために前記図２の領域Ｍは若干大きく描いてある。
【００４５】
図５は図２のＶ−Ｖ断面図である。
【００４６】
ただし、図２とは逆に、蓋部７３について、開口４ｂを開放したときの蓋部７３を実線で、開口４ｂを閉止したときの蓋部７３を仮想線でそれぞれ表示している。
【００４７】
自由回転コロ７５の周面の最上部は搬送ローラ６１、６２それぞれが有する固定コロ６ｃの周面の最上部と同じ高さである。こうすることによって、自由回転コロ７５の周面の最上部が搬送経路Ｐに一致するので、自由回転コロ７５で基板を支持することができる。
【００４８】
従って、エッチング処理チャンバ３から水洗処理チャンバ４に向かって基板Ｗが搬送されてきたとき、基板の進行方向先端がエッチング処理チャンバ３の最も搬送方向の下流にある搬送ローラ６１を越えて、水洗処理チャンバ４内の最も搬送方向の上流にある搬送ローラ６２に向かったとき、基板Ｗは搬送ローラ６１と搬送ローラ６２との間において、シャッター部支持手段８０Ａの自由回転コロ７５によって支持される。
【００４９】
このため、基板Ｗの搬送方向における先端が搬送ローラ６１と６２との間で搬送経路Ｐより下に垂れ下がることを防止でき、基板Ｗの搬送方向における先端は確実に搬送ローラ６２上に到達するので搬送不良を防止することができる。
【００５０】
また、自由回転コロ７５は丸軸部材７２を軸として回転可能なので、基板Ｗを支持する際、搬送方向Ｄに沿って回転可能である。このため、自由回転コロ７５と基板Ｗとの摺動が最低限に抑えられるので、摺動による汚染物質の発生を最低限にすることができる。
【００５１】
また、基板Ｗが搬送経路Ｐよりも下に垂れ下がることを防止できるので、開口４ｂの下端部の位置を従来より高くして搬送経路Ｐに近づけても基板Ｗと開口４ｂの下端部とが接触する恐れが少ない。こうすることによって、開口４ｂの高さ方向の寸法を小さくすることができるので、開口４ｂの開口面積を小さくすることができる。この結果、エッチング処理チャンバ３内の薬液や雰囲気が水洗処理チャンバ４に侵入することをさらに効果的に防止することができる。
【００５２】
＜第２実施形態＞
図６は図１の基板処理装置１において第２実施形態に係るシャッター機構７０Ｂおよび、シャッター部支持手段８０Ｂを適用した場合のＳ−Ｓ断面図である。
【００５３】
なお、図２の第１実施形態に係るシャッター機構７０Ａと共通する部分については同一の参照番号を付して説明を省略する。
【００５４】
シャッター機構７０Ｂは図６に示すように水洗処理チャンバ本体４ｃ外にて固定されたシャッター駆動モータ７１ｂを有する。そしてシャッター駆動モータ７１ｂの回転軸には水洗処理チャンバ本体４ｃに設けられたベアリング７５ａに軸支され、かつ、該水洗処理チャンバ本体４内部に向かって伸びるシャッター駆動軸７６が接続されている。
【００５５】
シャッター駆動軸７６には固定部材７７が固設され、固定部材７７には蓋部材７３が固定されている。
【００５６】
蓋部材７３には複数の軸支部材７８が固定されている。複数の軸支部材７８は各々ベアリング７８ａを有する。
【００５７】
一方、水洗処理チャンバ本体４ｃを挟んで、シャッター駆動モータ７１ｂが設けられた側と反対側の水洗処理チャンバ本体４ｃ外にはモータ４７が設けられ、モータ４７の駆動力は歯車４７ａ、６ａを介して駆動歯車７９に伝達される。
【００５８】
駆動歯車７９には丸軸部材７２ｂの一端が固定されている。この丸軸部材７２ｂは水洗処理チャンバ本体４ｃに設けられたベアリング７５ｂに軸支され、かつ、該水洗処理チャンバ本体４ｃを貫いて内部に向かって伸びている。そして、丸軸部材７２ｂは複数の軸支部材７８のベアリング７８ａに軸支され、他端は固定部材７７に設けられているベアリング７７ａに支持されている。
【００５９】
そしてさらに、丸軸部材７２ｂには固定部材７７および、複数の軸支部材７８の間において、駆動コロ８１が固設されている。
【００６０】
上記のようなシャッター機構７０Ｂでは、シャッター駆動モータ７１ｂを回転させることにより、シャッター駆動軸７６および、固定部材７７を介して蓋部材７３を回動させる。
【００６１】
このとき、蓋部材７３は複数の軸支部材７８によっても支持されているので、当該軸支部材７８も回動する。しかし、軸支部材７８はベアリング７８ａを介して丸軸部材７２ｂと係合しているので、軸支部材７８が回動する力は丸軸部材７２ｂには伝達されない。
【００６２】
次にシャッター機構７０Ｂに設けられたシャッター部支持手段８０Ｂの構成について説明する。
【００６３】
シャッター部支持手段８０Ｂは駆動コロ８１で構成される。
【００６４】
なお、図示は省略するが駆動コロ８１の周面の最上部は第１実施形態のシャッター部支持手段８０Ａの自由回転コロ７５と同様、搬送ローラ６１、６２それぞれが有する固定コロ６ｃの周面の最上部と同じ高さである。こうすることによって、駆動コロ８１の周面の最上部が搬送経路Ｐに一致するので、駆動コロ８１で基板を支持することができる。
【００６５】
丸軸部材７２ｂはモータ４７によって駆動力が与えられ回転する。これによって、駆動コロ８１も搬送ローラ６と同じ方向に回転する。このとき、丸軸部材７２ｂは軸支部材７８や、固定部材７７と係合しているが、ベアリング７７ａや、ベアリング７８ｂを介して係合しているので、丸軸部材７２ｂの回転する力は軸支部材７８や、固定部材７７に伝達されない。
【００６６】
シャッター部支持手段８０Ｂの機能について説明する。
【００６７】
蓋部材７３が開口４ｂを開けた状態で、エッチング処理チャンバ３から基板Ｗが搬送されてくると、基板Ｗの先端は搬送ローラ６１を越えて、駆動コロ８１の上に乗る。
【００６８】
駆動コロ８１は回転しているので基板Ｗは搬送方向Ｄに搬送される。そして、さらに、基板Ｗの先端はシャッター部支持手段８０Ｂを越えて、搬送ローラ６２に乗り、基板Ｗは搬送方向Ｄに向かって搬送されていく。
【００６９】
ここでは駆動コロ８１が搬送ローラ６と同じ方向に回転しているので、基板Ｗが駆動コロ８１に乗りさえすれば確実に基板Ｗを搬送することができる。
【００７０】
また、搬送ローラ６１と６２との間においてモータ４７の駆動力によって回転する駆動コロ８１が存在しているので、基板Ｗが駆動コロ８１に乗ったとき、すなわち、搬送ローラ６１と６２との間で基板に搬送する力を加えることができるので、安定した搬送を行うことができる。
【００７１】
なお、本実施形態のシャッター部支持手段８０Ｂも第１実施形態のシャッター部支持手段８０Ａと同様、蓋部材７３が移動する空間と平面視で重なっている。
【００７２】
＜第３実施形態＞
図７は図１の基板処理装置１において第３実施形態に係るシャッター機構７０Ｃおよび、シャッター部支持手段８０Ｃを適用した場合の斜視図である。
【００７３】
なお、図２の第１実施形態に係るシャッター機構７０Ａと共通する部分については同一の参照番号を付して説明を省略する。
【００７４】
シャッター機構７０Ｃは図７に示すように第１実施形態に係るシャッター機構７０Ａと同様に、シャッター駆動モータ７１ａ、シャッター駆動モータ７１ａの回転軸に接続された丸軸部材７２、丸軸部材に固定された複数の固定部材７４、固定部材７４に固定された蓋部材７３とを有する。
【００７５】
さらに、蓋部材７３が開口４ｂを閉じる際に開口４ｂに面する面には蓋上固定部材８２が間隔を空けて複数設けられ、複数の蓋上固定部材８２によって蓋上丸軸部材８４が支持されている。この蓋上丸軸部材８４の軸方向は基板の搬送方向Ｄと水平面内において直交している。
【００７６】
そして、蓋上固定部材８２の間において蓋上自由回転コロ８３が蓋上丸軸部材８４に対して回転自在に設けられており、この蓋上自由回転コロ８３がシャッター部支持手段８０Ｃを構成する。
【００７７】
これら、蓋上固定部材８２、蓋上丸軸部材８４、蓋上自由回転コロ８３は蓋部材７３が開口４ｂを閉じたとき、開口４ｂと対応する部分よりも小さい部分において設けられている。
【００７８】
図８は図７のシャッター機構７０Ｃが開口４ｂを閉じた状態のＶＩＩ−ＶＩＩ断面図、図９は同じくシャッター機構７０Ｃが開口４ｂを開いた状態のＶＩＩ−ＶＩＩ断面図である。
【００７９】
図８のようにシャッター機構７０Ｃが開口４ｂを閉じた状態では、蓋部材７３が開口４ｂを塞いでいる。このとき、蓋上固定部材８２、蓋上丸軸部材８４、蓋上自由回転コロ８３は蓋部材７３が開口４ｂを閉じたとき、開口４ｂと対応する部分よりも小さい部分において設けられているので、蓋部材７３が開口４ｂを確実に閉じることができる。
【００８０】
図９のようにシャッター機構７０Ｃが開口４ｂを開けた状態では、蓋上自由回転コロ８３の周面の最上部は搬送ローラ６１、６２それぞれが有する固定コロ６ｃの周面の最上部と同じ高さである。こうすることによって、蓋上自由回転コロ８３の周面の最上部が搬送経路Ｐに一致するので、蓋上自由回転コロ８３で基板を支持することができる。
【００８１】
また、シャッター部支持手段８０Ｃが搬送ローラ６１、６２の間で基板Ｗを支持するので基板Ｗの搬送方向における先端が搬送ローラ６１と６２との間で搬送経路Ｐより下に垂れ下がることを防止できる。従って、基板Ｗの搬送方向における先端は確実に搬送ローラ６２上に到達するので搬送不良を防止することができる。
【００８２】
また、蓋上自由回転コロ８３は蓋上丸軸部材８４を軸として回転可能なので、基板Ｗを支持する際、搬送方向Ｄと平行に回転可能である。このため、蓋上自由回転コロ８３と基板Ｗとの摺動が最低限に抑えられるので、摺動による汚染物質の発生を最低限にすることができる。
【００８３】
なお、本実施形態のシャッター部支持手段８０Ｃも第１実施形態のシャッター部支持手段８０Ａと同様、蓋部材７３が移動する空間と平面視で重なっている。
【００８４】
以上の実施形態では基板を水平に搬送する基板処理装置１について説明したが、各搬送ローラ６の回転軸の方向を、搬送方向Ｄと直交する方向において水平面に対して傾斜させることにより、基板Ｗを傾斜状態で搬送させてもよい。
【００８５】
なお、エッチング処理チャンバー３内は腐食性の薬液雰囲気が充満しているのでシャッター機構はエッチング処理チャンバー３内にではなく、エッチング処理チャンバー３外の入口コンベアチャンバー２および、水洗処理チャンバー４に設ける必要がある。
【００８６】
この内、入口コンベアチャンバー２内では搬送方向下流側の開口２ｂを開閉するシャッター機構と平面視で重なる位置にシャッター部支持手段を設けている。
【００８７】
このため、入口コンベアチャンバー６内の最下流で基板を支持できる位置が水平方向において従来に比べて開口２ｂに近くなる。よって、開口２ｂを通過するときの基板の先端部の垂れ下がり量が従来に比べて格段に小さくなる。
【００８８】
従って、開口２ｂの下端部の位置を従来よりも高くして、より、搬送経路Pに近づける
ことができ、開口２ｂの開口面積を小さくすることができる。その結果、エッチング処理チャンバー３内の薬液や雰囲気が入口コンベアチャンバー６に侵入することをさらに効果的に防止することができる。
【００８９】
このように、搬送方向下流の開口にシャッター機構を設けなければならない場合は本発明のようにシャッター機構と平面視で重なる位置にシャッター部支持手段を設けると、効果的に基板先端部の垂れ下がりを防止できる。
【００９０】
また、上記実施形態では蓋部材７３の回動について駆動源として、シャッター駆動モータ７１ａ等のモータを用いたが、圧縮空気でシャフトを回動させるロータリーアクチュエーターを用いてもよい。
【００９１】
【発明の効果】
請求項１に係る発明では、シャッター機構が蓋部材を移動させるために必要な空間と平面視で重なる部分において、基板を支持するシャッター部支持手段が設けられているので、基板の端部がシャッター機構近傍で垂れ下がることを防止できる。このため、基板が正常に搬送できなくなることを防止できる。
【００９２】
また、シャッター部支持手段が前記シャッター機構に設けられているので、装置の占有面積を広げることを極力少なくすることができる。
【００９３】
また、シャッター部支持手段は蓋部材の回転軸と同じ回転中心にて回転可能で、蓋部材が開口を開放したとき、基板の一部を支持する回転体を有しているため、回転体が基板の移動に伴って回転しながら基板を支持するので基板との摺動を抑制でき、汚染物質の発生を抑制できる。
【００９４】
請求項２に係る発明では回転体を回転させる回転体駆動手段を備えるため、開口を通じて基板が搬送されるとき、基板に搬送する力を加えることができるので基板を安定して搬送させることができる。
【００９５】
請求項３に係る発明ではシャッター部支持手段は蓋部材の開口に面する面において、開口と対応する領域内に設けられている。このため、蓋部材は良好に開口を閉止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態における基板処理装置の概略図。
【図２】第１実施形態における図１のＳ−Ｓ断面図。
【図３】シャッター機構近傍の斜視図。
【図４】シャッター機構近傍の斜視図。
【図５】図２のＶ−Ｖ断面図。
【図６】第２実施形態における図１のＳ−Ｓ断面図。
【図７】シャッター機構近傍の斜視図。
【図８】シャッター機構７０Ｃが開口４ｂを閉止したときの図７におけるＶＩＩ−ＶＩＩ断面図。
【図９】シャッター機構７０Ｃが開口４ｂを開放したときの図７におけるＶＩＩ−ＶＩＩ断面図。
【図１０】従来のシャッター機構を示す斜視図。
【図１１】従来のシャッター機構の動作を示す断面図。
【図１２】従来のシャッター機構の動作を示す断面図。
【符号の説明】
１基板処理装置
２ｂ，４ｂ開口
３エッチング処理チャンバ
４水洗処理チャンバ
６搬送ローラ
７０Ａ，７０Ｂ，７０Ｃシャッター機構
８０Ａ，８０Ｂ，８０Ｃシャッター部支持手段

Claims

処理液を基板に接触させて処理を行う基板処理装置であって、
水平または傾斜状態で略水平方向に搬送される基板を通過させる開口を、その側壁に有するチャンバーと、
チャンバー内に設けられ、開口よりも大きい面積を有した蓋部材を、その一端側を支持し、水平面内において基板搬送方向と直交する方向に配置される軸部材周りに回動させることで、前記開口に対して開放状態と閉止状態に位置させるシャッター機構と、
前記チャンバー内に固定配置され、シャッター機構が蓋部材を回動させるために必要な空間と平面視で重なり、かつ前記蓋部材が開放状態の位置にあるとき、基板を支持するシャッター部支持手段とを備え、
前記シャッター部支持手段は、前記シャッター機構に設けられ、
前記シャッター機構の蓋部材は、開口下方において、基板の搬送方向と直交する方向に軸方向を配した回転軸を中心として回動し、
前記シャッター部支持手段は、前記回転軸と同じ回転中心にて回転可能で、蓋部材が開口を開放したとき、基板の一部を支持する回転体を有している基板処理装置。
請求項１に記載の基板処理装置において、前記回転体を回転させる回転体駆動手段を備えた基板処理装置。
請求項１又は２に記載の基板処理装置において、前記チャンバーに前記開口を介して連接されるとともに、その内部で基板に薬液を供給して薬液処理を施す薬液処理チャンバーをさらに有することを特徴とする基板処理装置。