JP4624915B2 - 回転ロールの洗浄機構及び回転ロールの洗浄方法 - Google Patents
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- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
Description
24 レジスト塗布処理ユニット
90 回転ロール
110 筐体
111 蓋体
111a 開口部
112 通気口
120 洗浄液貯留容器
130 洗浄液供給口
150 排気口
D 隙間
H 洗浄液
G ガラス基板
Claims (14)
- ノズルから基板に塗布液が吐出される前に,ノズルから塗布液が供給される回転ロールの洗浄機構であって,
回転ロールの下面をその下面の形状に沿って覆い,当該回転ロールの下面との間に洗浄液を貯留する洗浄液貯留部材と,
前記洗浄液貯留部材と回転ロールとの間に洗浄液を供給する洗浄液供給口と,
前記洗浄液貯留部材を前記回転ロールの表面に沿った円周方向に移動させて傾ける移動機構と,を有し,
前記回転ロールは,筺体に収容され,前記筺体の上面には,蓋体が形成され,
前記蓋体には,前記ノズルを回転ロールの上部の表面に近接するための開口部が形成され,前記回転ロールと前記蓋体との間には,前記筺体の外部の気体を前記開口部から筺体の内部に導入するための通気口が形成され,
前記筺体には,筺体の内部の気体を排気する排気口が形成され,
前記洗浄液貯留部材の前記回転ロールの表面に対向する面は,円弧状に湾曲しており,その円弧状の面に,前記洗浄液供給口が形成され,
前記移動機構は,前記筺体内において洗浄液貯留部材を回転ロールの下面側から一の方向側に移動させて傾けることができ,
前記排気口は,前記洗浄液貯留部材の前記一の方向と反対側の筺体の側壁に形成され,
前記移動機構により,前記洗浄液貯留部材が前記円周方向に移動した際に,前記洗浄液貯留部材と回転ロールとの間の隙間と,前記通気口とが接続されることを特徴とする,回転ロールの洗浄機構。 - 前記洗浄液供給口は,前記洗浄液貯留部材を傾ける方向の前記円弧状の面の端部に形成されていることを特徴とする,請求項1に記載の回転ロールの洗浄機構。
- 前記通気口を形成する前記蓋体の回転ロール側の面は,回転ロールの表面の形状に沿って湾曲していることを特徴とする,請求項1または2に記載の回転ロールの洗浄機構。
- 前記洗浄液貯留部材を傾ける前記一の方向側にある前記蓋体と前記回転ロールとの間の通気口は,その反対側にある蓋体と回転ロールとの間の通気口よりも広く形成されていることを特徴とする,請求項1〜3のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構。
- 前記筺体の下面には,洗浄液の排出口が形成されていることを特徴とする,請求項1〜4のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構。
- 前記洗浄液貯留部材は,撥水性材料により形成されていることを特徴とする,請求項1〜5のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構を用いた回転ロールの洗浄方法であって,
洗浄液貯留部材を回転ロールの下面側に配置し,洗浄液貯留部材と回転ロールの表面との間に洗浄液を貯留する第1の工程と,
前記洗浄液貯留部材の洗浄液と前記回転ロールの表面とを接触させながら,前記回転ロールを回転させる第2の工程と,
前記洗浄液貯留部材を回転ロールの表面に沿って円周方向に移動させ傾けて,洗浄液貯留部材から洗浄液を落下させる第3の工程と,
前記回転ロールの表面に気流を形成し,前記回転ロールを乾燥する第4の工程と,を有することを特徴とする,回転ロールの洗浄方法。 - 前記第1の工程において,前記洗浄液貯留部材の中心位置が回転ロールの最下点からずれるように,前記洗浄液貯留部材を傾けて配置し,
前記第2の工程において,前記洗浄液貯留部材と回転ロールとの間に洗浄液を供給し続けることを特徴とする,請求項7に記載の回転ロールの洗浄方法。 - 前記第2の工程において,前記洗浄液貯留部材を前記回転ロールに対して揺動させることを特徴とする,請求項7または8のいずれかに記載の回転ロールの洗浄方法。
- 前記第3の工程において,前記洗浄液貯留部材と回転ロールの表面との間に洗浄液を供給することを特徴とする,請求項7〜9のいずれかに記載の回転ロールの洗浄方法。
- 前記第3の工程において,前記洗浄液貯留部材と回転ロールの表面との間に下降気流を形成することを特徴とする,請求項7〜10のいずれかに記載の回転ロールの洗浄方法。
- 前記第3の工程において,回転ロールの回転方向側に前記洗浄液貯留部材を傾けることを特徴とする,請求項7〜11のいずれかに記載の回転ロールの洗浄方法。
- 前記第4の工程において,前記第3の工程の洗浄液貯留部材の傾き状態を維持し,その洗浄液貯留部材の傾き方向と反対側から回転ロールの周辺雰囲気を排気して,回転ロールの表面に気流を形成することを特徴とする,請求項7〜12のいずれかに記載の回転ロールの洗浄方法。
- 前記第4の工程において,前記回転ロールを回転させることを特徴とする,請求項7〜13のいずれかに記載の回転ロールの洗浄方法。
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