JP3727162B2 - 付着液除去装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、各種基板の付着液除去装置、特に、液晶表示器用基板等のＦＰＤ（Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）用基板、フォトマスク用基板、プリント基板、及び半導体基板に付着した処理液を除去する付着液除去装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示器、カラーフィルタ、フォトマスク等の製造工程では、基板洗浄処理等の各種の湿式表面処理が行われる。そして、これらの基板の処理後に基板の表面に付着した液滴を除去する作業が行われる。
【０００３】
従来の基板の付着液除去装置として、例えば、搬送ローラとエアーナイフとから構成されるものが知られている。ここでは、表面に洗浄液などの処理液が付着した基板を複数の搬送ローラによってほぼ水平に支持しつつ所定の方向に搬送させる。そして、その長手方向が基板搬送方向と直交する方向（以下、川幅方向という。）に概ね沿った上下１対のエアーナイフ（気体を吹き付ける気体吹付手段）に設けられたスリット状の吐出口から、層状の気体を基板の表面に吹き付ける。すると、吹き付けられた気体が基板に付着している処理液を基板の搬送方向上流側に移動させ、処理液が基板の搬送方向上流側の後端縁から基板の後方に吹き飛ばされる。これにより、基板から処理液が除去される。
【０００４】
ここでは、処理液除去の効率を上げるためにエアーナイフと基板とを接近させる必要があり、エアーナイフと基板との間に搬送ローラを配置することはできない。したがって、エアーナイフは、所定の２つの搬送ローラの基板搬送方向の間に、搬送ローラと重ならないように配置される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような付着液除去装置では、搬送ローラは川幅方向に延設されるのに対し、エアーナイフは、水はねの抑制及び基板後端での液滴の効果的な除去等のために、川幅方向に対して所定の角度だけ傾かせて配置されている。このため、処理する基板が大型化してエアーナイフの川幅方向に沿った長さが長くなると、エアーナイフの基板搬送方向の長さも長くなり、エアーナイフを挟んで隣接する搬送ローラの基板搬送方向の設置スパンが大きくなる。このように搬送ローラの設置スパンが大きくなると、搬送ローラに下面を支持されながら搬送される基板は搬送ローラ間で大きく垂れる。
【０００６】
一方、一般に基板は上下１対のエアーナイフのまん中を通過させることが望ましいが、基板が大きく垂れたのではエアーナイフのまん中を通過させることは困難である。この結果、基板の上下面に対する気体吹き付けのバランスが崩れて、処理液の除去効率が悪化する。
【０００７】
本発明の課題は、基板に気体を吹き付けることにより基板に付着した処理液を除去する付着液除去装置において、基板の垂れを抑えて基板に付着している処理液の除去の効率を向上させることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る付着液除去装置は、処理液が付着した基板に気体を吹き付けることにより処理液を基板から吹き飛ばして基板に付着した処理液を除去する付着液除去装置において、複数の搬送手段と、気体吹付手段と、支持体と、補助支持手段とを備えている。搬送手段は、基板搬送方向と実質的に直交する方向に沿って延設されており、処理液が付着した基板の下面を支持しながら基板を搬送する。気体吹付手段は、少なくともある２つの搬送手段の基板搬送方向の間に延設されるもので、基板搬送方向と交差する方向に沿って延設されている。この気体吹付手段は、処理液が付着した基板に対して、上下両側から気体を吹き付ける。支持体は、搬送手段の両端部を支持するとともに、気体吹付手段の両端部を支持する。補助支持手段は、気体吹付手段とその気体吹付手段に隣接する搬送手段との基板搬送方向の間に配置されており、搬送される基板の下面を部分的に支持する。そして、搬送手段は、基板搬送方向に直交する方向に延びる搬送ローラである。気体吹付手段は、上側気体吹付部と、下側気体吹付部とを有している。上側気体吹付部は基板の上面に気体を吹き付け、下側気体吹付部は基板の下面に気体を吹き付ける。補助支持手段は、補助ローラ支持部材と、補助ローラ組立体とを有している。補助ローラ支持部材は、下側気体吹付部の下部に配置されており、両端部が支持体に支持されている。補助ローラ組立体は、補助ローラを含んでいる組立体であって、補助ローラ支持部材から上方に延びている。補助ローラは、基板の下面に接触して回転する。
【０００９】
搬送されている基板に対して気体吹付手段により気体が吹き付けられると、基板に付着していた処理液が基板搬送方向上流側に押し流されて基板の後端から後方へ吹き飛ばされる。このようにして基板に付着した処理液が除去されるが、気体吹付手段と基板との距離が所定の寸法に保たれていなければ処理液の除去効率が低下する。しかし、基板の川幅方向の寸法が大きくなると、基板に気体を吹き付ける気体吹付手段も川幅方向及び基板搬送方向に長くなり、気体吹付手段を挟んで配置される２つの搬送手段間の基板搬送方向の距離が長くなる。すなわち、基板の支持スパンが大きくなり基板の垂れが大きくなる。
【００１０】
ここでは、気体吹付手段に隣接させて補助支持手段を設け、これにより基板の下面を部分的に支持させているため、気体吹付手段により気体が吹き付けられる基板の部分の垂れを抑えている。これにより、基板サイズが大きくなって気体吹付手段の近傍で搬送手段により基板を支持できない場合にも、基板と気体吹付手段との間の距離を所定の範囲に収めることができ、補助支持手段がない場合に較べて基板からの処理液の除去効率が向上する。また、補助支持手段は、基板の下面を川幅方向に渡って支持しているのではなく基板の下面を部分的に支持しているため、メンテナンス性の良さが確保される。また、両支持体に補助ローラ支持部材を渡して、それに補助ローラ組立体を固定している。したがって、補助ローラ支持部材を基板に近づけることにより、基板からの荷重による補助ローラ組立体の変形を小さく抑え、基板をより精度よく支持することが可能である。また、補助ローラ支持部材は、両支持体に両端が支持されており、片持ちの状態に較べて補助ローラ支持部材自身の変形も抑えられている。
【００１１】
請求項２に係る付着液除去装置は、処理液が付着した基板に気体を吹き付けることにより処理液を基板から吹き飛ばして基板に付着した処理液を除去する付着液除去装置において、複数の搬送手段と、気体吹付手段と、支持体と、補助支持手段とを備えている。搬送手段は、基板搬送方向と実質的に直交する方向に沿って延設されており、処理液が付着した基板の下面を支持しながら基板を搬送する。気体吹付手段は、少なくともある２つの搬送手段の基板搬送方向の間に延設されるもので、基板搬送方向と交差する方向に沿って延設されている。この気体吹付手段は、処理液が付着した基板に対して、上下両側から気体を吹き付ける。支持体は、搬送手段の両端部を支持するとともに、気体吹付手段の両端部を支持する。補助支持手段は、気体吹付手段とその気体吹付手段に隣接する搬送手段との基板搬送方向の間に配置されており、搬送される基板の下面を部分的に支持する。そして、搬送手段は、基板搬送方向に直交する方向に延びる搬送ローラである。気体吹付手段は、基板の上面に気体を吹き付ける上側気体吹付部と、基板の下面に気体を吹き付ける下側気体吹付部とを有している。補助支持手段は、補助ローラと、アームとを有している。補助ローラは、基板の下面に接触して回転する。アームは、上部が補助ローラを回転自在に支持しており、下部が下側気体吹付部に装着されている。
【００１２】
ここでは、前記同様に、気体吹付手段に隣接させて補助支持手段を設け、これにより基板の下面を部分的に支持させているため、気体吹付手段により気体が吹き付けられる基板の部分の垂れを抑えている。これにより、基板サイズが大きくなって気体吹付手段の近傍で搬送手段により基板を支持できない場合にも、基板と気体吹付手段との間の距離を所定の範囲に収めることができ、補助支持手段がない場合に較べて基板からの処理液の除去効率が向上する。また、補助支持手段は、基板の下面を川幅方向に渡って支持しているのではなく基板の下面を部分的に支持しているため、メンテナンス性の良さが確保される。また、気体吹付手段の下側気体吹付部にアームを装着し、そのアームに補助ローラを支持させている。補助支持手段は気体吹付手段の近隣に配置されるため、補助支持手段を気体吹付手段に装着することは容易であり、アームの長さも小さく抑えることができる。さらに、補助支持手段の補助ローラと気体吹付手段とがアームによって直接結ばれているため、両者間の距離の寸法精度がよくなり、それにしたがって補助ローラに支持される基板と気体吹付手段との距離も精度が上がる。これにより、基板からの処理液の除去効率が向上する。
【００１３】
請求項３に係る付着液除去装置は、請求項１又は２に記載の付着液除去装置において、気体吹付手段は基板搬送方向と直交する方向に対して所定角度傾斜している。
【００１４】
【発明の実施の形態】
［第１実施形態］
本発明の一実施形態である付着液除去装置２０を含む洗浄装置１を、図１に示す。洗浄装置１は、搬入されてきた基板に対して洗浄及び付着する洗浄液（処理液）の除去を施して搬出する装置であり、搬送ローラ５と、洗浄ノズル１５が収容されている洗浄チャンバー２と、付着液除去装置２０が収容されている液切りチャンバー３とから構成されている。
【００１５】
基板Ｗは、洗浄チャンバー２の搬入口１２から搬入され、搬送ローラ５によって水平姿勢で保持されつつ洗浄チャンバー２内を図１の矢印Ａの方向（以下、基板搬送方向という。）に搬送される。洗浄チャンバー２内を搬送されている基板Ｗに対しては、複数の洗浄ノズル１５から洗浄液が噴射され、上下両面の洗浄が行われる。この後、基板Ｗは搬送ローラ５によって両チャンバー２，３の連結口２２を通って液切りチャンバー３に送られる。液切りチャンバー３では、搬送ローラ５によって搬送されている基板Ｗに対して、エアーナイフ２５，２６から気体が吹き付けられる。これにより、基板Ｗに付着していた洗浄液が吹き飛ばされて、基板Ｗが乾燥する。このように洗浄及び液切り処理が行われた基板Ｗは、搬出口２３から搬出される。
【００１６】
搬送ローラ５は、基板Ｗの川幅方向両端部及び中央部を支持して水平に基板Ｗを保持するとともに図１の矢印Ａの方向へ所定の速度で搬送する搬送手段であり、図示しないチェーン等を介してモータに連結されている。また、図２に示すように、搬送ローラ５の両端は、液切りチャンバー３の両側壁（支持体）２１に支持されている。
【００１７】
洗浄チャンバー２内に配備された洗浄ノズル１５は、搬送ローラ５により搬送される基板Ｗの上方及び下方にそれぞれ複数設けられ、基板Ｗの上下両面に向けて純水等の洗浄液を吹き付ける。洗浄チャンバー２は、洗浄ノズル１５から吹き付けられた洗浄液が外に飛散することを防止し、また外から洗浄チャンバー２内にパーティクルが侵入することを防止する。また、洗浄チャンバー２には、洗浄チャンバー２内の空気を図示しない排気手段により排気するとともに洗浄チャンバー２内を流下する洗浄液を排水するための第１排気口１４が下部に設けられている。
【００１８】
液切りチャンバー３内の付着液除去装置２０は、液切りチャンバー３内の搬送ローラ５と、エアーナイフ（気体吹付手段）２５，２６と、補助ローラ支持ベース（補助支持部材の補助ローラ支持部材）３１及び補助ローラ組立体３２〜３５とから構成されている。また、液切りチャンバー３には、液切りチャンバー３内の空気を図示しない排気手段により排気するとともに液切りチャンバー３内で吹き飛ばされた洗浄液を排水するための第２排気口２４が下部に設けられている。
【００１９】
エアーナイフ２５，２６は、上側エアーナイフ（上側気体吹付部）２５と下側エアーナイフ（下側気体吹付部）２６とから成るもので、搬送される基板Ｗに対して、上側エアーナイフ２５は上方に、下側エアーナイフ２６は下方に配置されている。このエアーナイフ２５，２６は、基板Ｗの上面及び下面に向けて、図示しない気体供給源から供給された空気、窒素等の気体を先端のスリット状の吐出口から帯状に噴射して、この気体の圧力により基板Ｗに付着している洗浄液を吹き飛ばすものである。また、エアーナイフ２５，２６は、図２に示すように、基板搬送方向（図２の矢印Ａ）に直交する方向に対して、平面的に傾斜を有している。また、図２及び図３に示すように、エアーナイフ２５，２６の両端は、液切りチャンバー３の両側壁２１に支持されている。
【００２０】
補助ローラ支持ベース３１は、基板搬送方向に直交する方向に延びる部材であって、図３に示すように、下側エアーナイフ２６の下部に配置され、その両端が液切りチャンバー３の両側壁２１に固定されている。
【００２１】
補助ローラ組立体３２は、基板の川幅方向の中央付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方向上流側の位置に配置されている。この補助ローラ組立体３２は、図１に示すように、第１，第２，及び第３支持部材３２ａ，３２ｂ，３２ｃと補助ローラ３２ｄとから構成されている。第１支持部材３２ａは補助ローラ支持ベース３１に固定され、第２支持部材３２ｂは第１支持部材３２ａに固定され、第３支持部材３２ｃは第２支持部材３２ｂに固定される。第１支持部材３２ａに対する第２支持部材３２ｂの固定位置は水平方向に調整可能であり、第２支持部材３２ｂに対する第３支持部材３２ｃの固定位置は垂直方向に調整可能である。補助ローラ３２ｄは、第３支持部材３２ｃに回転自在に支持されており、その上面の高さは上側エアーナイフ２５と下側エアーナイフ２６との中間位置と基板Ｗの厚みの中心とが一致するように合わされる。
【００２２】
補助ローラ組立体３３は、基板の川幅方向の中央付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方向下流側の位置に配置されている。この補助ローラ組立体３３は、図１に示すように、第１，第２，及び第３支持部材３３ａ，３３ｂ，３３ｃと補助ローラ３３ｄとから構成されている。第１支持部材３３ａは補助ローラ支持ベース３１に固定され、第２支持部材３３ｂは第１支持部材３３ａに固定され、第３支持部材３３ｃは第２支持部材３３ｂに固定される。第１支持部材３３ａに対する第２支持部材３３ｂの固定位置は水平方向に調整可能であり、第２支持部材３３ｂに対する第３支持部材３３ｃの固定位置は垂直方向に調整可能である。補助ローラ３３ｄは、第３支持部材３３ｃに回転自在に支持されており、その上面の高さは上側エアーナイフ２５と下側エアーナイフ２６との中間位置と基板Ｗの厚みの中心とが一致するように合わされる。
【００２３】
補助ローラ組立体３４は、基板の川幅方向の一端部付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方向下流側の位置に配置されている。補助ローラ組立体３４の構成については、上記補助ローラ組立体３３と同様である。
【００２４】
補助ローラ組立体３５は、基板Ｗの川幅方向の他端部付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方向上流側の位置に配置されている。補助ローラ組立体３５の構成については、上記補助ローラ組立体３２と同様である。
【００２５】
次に、付着液除去装置２０による基板Ｗからの洗浄液の除去について説明する。搬送ローラ５により搬送されている基板Ｗに対してエアーナイフ２５，２６によって気体が吹き付けられると、基板Ｗに付着していた洗浄液が基板搬送方向上流側に押し流されて基板Ｗの後端から後方へ吹き飛ばされる。このようにして基板Ｗに付着した洗浄液が除去されるが、エアーナイフ２５，２６と基板Ｗとの各隙間寸法が所定の範囲内に保たれていなければ洗浄液の除去効率が低下する。
【００２６】
ここで、もし補助ローラ３２ｄ〜３５ｄが存在していなければ、下側エアーナイフ２６をかわすために下側エアーナイフ２６に隣接する両搬送ローラ５間の基板搬送方向の設置スパンが大きくなっているため（図１及び図２参照）、エアーナイフ２５，２６による気体吹き付け位置を通過する基板Ｗの部分は大きな変形を起こして垂れる。このような変形が生じていたのでは、上側エアーナイフ２５からの気流と下側エアーナイフ２６からの気流のバランスが乱れ、特に基板Ｗの後端における洗浄液の除去効率が悪化する。
【００２７】
しかし、ここでは、エアーナイフ２５，２６に隣接させて補助ローラ３２ｄ〜３５ｄを設け、これにより基板Ｗの下面を部分的に支持させている。このため、エアーナイフ２５，２６により気体が吹き付けられる基板Ｗの部分の垂れが抑えられる。したがって、基板Ｗとエアーナイフ２５，２６との各隙間寸法を所定の範囲に収めることができ、補助ローラ３２ｄ〜３５ｄがない場合に較べて基板Ｗからの洗浄液の除去効率が向上する。なお、補助ローラ組立体３２〜３５は、川幅方向に点在しているため、メンテナンス性の良さが確保されている。
【００２８】
また、ここでは、液切りチャンバー３の両側壁２１に補助ローラ支持ベース３１を渡して、それに補助ローラ組立体３２〜３５を固定している。したがって、液切りチャンバー３の側壁２１や底板等に補助ローラ組立体３２〜３５を直接固定させる場合に較べて、補助ローラ組立体３２〜３５の支持が安定する。これにより、基板Ｗからの荷重による補助ローラ組立体３２〜３５の変形が小さくなり、基板Ｗをより精度よく支持することができる。
【００２９】
また、ここでは、補助ローラ組立体３２，３３がエアーナイフ２５，２６の基板搬送方向両側に配置されているため、より基板Ｗの垂れを抑えることができ、特に基板Ｗの前端部及び後端部がエアーナイフ２５，２６による気体吹き付け位置を通過する時にも基板Ｗとエアーナイフ２５，２６との各隙間寸法を適当な範囲に保つことができる。なお、基板Ｗの川幅方向端部付近においては基板搬送方向片側にのみ補助ローラ組立体３４あるいは補助ローラ組立体３５を配置しているが、これらの補助ローラ組立体３４，３５の位置は下側エアーナイフ２６に隣接する両搬送ローラ５のほぼ中間位置であるため、基板Ｗの垂れは許容範囲に収まる。
【００３０】
［第２実施形態］
本発明の第２実施形態である付着液除去装置１２０を含む洗浄装置１０１を、図４に示す。洗浄装置１０１は、搬入されてきた基板に対して洗浄及び付着する洗浄液（処理液）の除去を施して搬出する装置である。なお、以降の説明において第１実施形態と同一又は同様な部材の符号は同一符号を付すものとする。
【００３１】
洗浄装置１０１は、搬送ローラ５と、洗浄ノズル１５が収容されている洗浄チャンバー２と、付着液除去装置１２０が収容されている液切りチャンバー３とから構成されている。
【００３２】
基板Ｗは、洗浄チャンバー２の搬入口１２から搬入され、搬送ローラ５によって水平姿勢で保持されつつ洗浄チャンバー２内を図４の矢印Ａの方向（以下、基板搬送方向という。）に搬送される。洗浄チャンバー２内を搬送されている基板Ｗに対しては、複数の洗浄ノズル１５から洗浄液が噴射され、上下両面の洗浄が行われる。この後、基板Ｗは搬送ローラ５によって両チャンバー２，３の連結口２２を通って液切りチャンバー３に送られる。液切りチャンバー３では、搬送ローラ５によって搬送されている基板Ｗに対して、エアーナイフ２５，２６から気体が吹き付けられる。これにより、基板Ｗに付着していた洗浄液が吹き飛ばされて、基板Ｗが乾燥する。このように洗浄及び液切り処理が行われた基板Ｗは、搬出口２３から搬出される。
【００３３】
搬送ローラ５は、基板Ｗの川幅方向両端部及び中央部を支持して水平に基板Ｗを保持するとともに図４の矢印Ａの方向へ所定の速度で搬送する搬送手段であり、図示しないチェーン等を介してモータに連結されている。また、図５に示すように、搬送ローラ５の両端は、液切りチャンバー３の両側壁２１に支持されている。
【００３４】
洗浄チャンバー２内に配備された洗浄ノズル１５は、搬送ローラ５により搬送される基板Ｗの上方及び下方にそれぞれ複数設けられ、基板Ｗの上下両面に向けて純水等の洗浄液を吹き付ける。洗浄チャンバー２は、洗浄ノズル１５から吹き付けられた洗浄液が外に飛散することを防止し、また外から洗浄チャンバー２内にパーティクルが侵入することを防止する。また、洗浄チャンバー２には、洗浄チャンバー２内の空気を図示しない排気手段により排気するとともに洗浄チャンバー２内を流下する洗浄液を排水するための第１排気口１４が下部に設けられている。
【００３５】
液切りチャンバー３内の付着液除去装置１２０は、液切りチャンバー３内の搬送ローラ５と、エアーナイフ（気体吹付手段）２５，２６と、補助ローラ組立体４１〜４４とから構成されている。また、液切りチャンバー３には、液切りチャンバー３内の空気を図示しない排気手段により排気するとともに液切りチャンバー３内で吹き飛ばされた洗浄液を排水するための第２排気口２４が下部に設けられている。
【００３６】
エアーナイフ２５，２６は、上側エアーナイフ（上側気体吹付部）２５と下側エアーナイフ（下側気体吹付部）２６とから成るもので、搬送される基板Ｗに対して、上側エアーナイフ２５は上方に、下側エアーナイフ２６は下方に配置されている。このエアーナイフ２５，２６は、基板Ｗの上面及び下面に向けて、図示しない気体供給源から供給された空気、窒素等の気体を先端のスリット状の吐出口から帯状に噴射して、この気体の圧力により基板Ｗに付着している洗浄液を吹き飛ばすものである。また、エアーナイフ２５，２６は、図５に示すように、基板搬送方向（図５の矢印Ａ）に直交する方向に対して、平面的に傾斜を有している。また、図５及び図６に示すように、エアーナイフ２５，２６の両端は、液切りチャンバー３の両側壁２１に支持されている。
【００３７】
補助ローラ組立体４１は、基板の川幅方向の中央付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方向上流側の位置に配置されている。この補助ローラ組立体４１は、図４に示すように、アーム４１ａと補助ローラ４１ｂとから構成されている。アーム４１ａの下部は、下側エアーナイフ２６の基板搬送方向上流側の面に固定され、アーム４１ａの上部は、補助ローラ４１ｂを回転自在に支持する。また、アーム４１ａは、補助ローラ４１ｂの位置を水平方向及び垂直方向に調整することができるような調節機能を備えている。補助ローラ４１ｂの上面の高さは、上側エアーナイフ２５と下側エアーナイフ２６との中間位置と基板Ｗの厚みの中心とが一致するように合わされている。
【００３８】
補助ローラ組立体４２は、基板の川幅方向の中央付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方向下流側の位置に配置されている。この補助ローラ組立体４２は、図４に示すように、アーム４２ａと補助ローラ４２ｂとから構成されている。アーム４２ａは、下側エアーナイフ２６の基板搬送方向下流側の面に固定される。アーム４２ａの上端部は、補助ローラ４２ｂを回転自在に支持する。また、アーム４２ａは、補助ローラ４２ｂの位置を水平方向及び垂直方向に調整することができるような調節機能を備えている。補助ローラ４２ｂの上面の高さは、上側エアーナイフ２５と下側エアーナイフ２６との中間位置と基板Ｗの厚みの中心とが一致するように合わされている。
【００３９】
補助ローラ組立体４３は、基板の川幅方向の一端部付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方向下流側の位置に配置されている。補助ローラ組立体４３の構成については、上記補助ローラ組立体４２と同様である。
【００４０】
補助ローラ組立体４４は、基板Ｗの川幅方向の他端部付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方向上流側の位置に配置されている。補助ローラ組立体４４の構成については、上記補助ローラ組立体４１と同様である。
【００４１】
次に、付着液除去装置１２０による基板Ｗからの洗浄液の除去について説明する。搬送ローラ５により搬送されている基板Ｗに対してエアーナイフ２５，２６によって気体が吹き付けられると、基板Ｗに付着していた洗浄液が基板搬送方向上流側に押し流されて基板Ｗの後端から後方へ吹き飛ばされる。このようにして基板Ｗに付着した洗浄液が除去されるが、エアーナイフ２５，２６と基板Ｗとの各隙間寸法が所定の範囲内に保たれていなければ洗浄液の除去効率が低下する。
【００４２】
ここで、もし補助ローラ４１ｂ〜４４ｂが存在していなければ、下側エアーナイフ２６をかわすために下側エアーナイフ２６に隣接する両搬送ローラ５間の基板搬送方向の設置スパンが大きくなっているため（図４及び図５参照）、エアーナイフ２５，２６による気体吹き付け位置を通過する基板Ｗの部分は大きな変形を起こして垂れる。このような変形が生じていたのでは、上側エアーナイフ２５からの気流と下側エアーナイフ２６からの気流のバランスが乱れ、特に基板Ｗの後端における洗浄液の除去効率が悪化する。
【００４３】
しかし、ここでは、エアーナイフ２５，２６に隣接させて補助ローラ４１ｂ〜４４ｂを設け、これにより基板Ｗの下面を部分的に支持させている。このため、エアーナイフ２５，２６により気体が吹き付けられる基板Ｗの部分の垂れが抑えられる。したがって、基板Ｗとエアーナイフ２５，２６との各隙間寸法を所定の範囲に収めることができ、補助ローラ４１ｂ〜４４ｂがない場合に較べて基板Ｗからの洗浄液の除去効率が向上する。なお、補助ローラ組立体４１〜４４は、川幅方向に点在しているため、メンテナンス性の良さが確保されている。
【００４４】
また、ここでは、補助ローラ組立体４１，４２がエアーナイフ２５，２６の基板搬送方向両側に配置されているため、より基板Ｗの垂れを抑えることができ、特に基板Ｗの前端部及び後端部がエアーナイフ２５，２６による気体吹き付け位置を通過する時にも基板Ｗとエアーナイフ２５，２６との隙間寸法を適当な範囲に保つことができる。なお、基板Ｗの川幅方向端部付近においては基板搬送方向片側にのみ補助ローラ組立体４３あるいは補助ローラ組立体４４を配置しているが、これらの補助ローラ組立体４３，４４の位置は下側エアーナイフ２６に隣接する両搬送ローラ５のほぼ中間位置であるため、基板Ｗの垂れは許容範囲に収まる。
【００４５】
また、ここでは、下側エアーナイフ２６にアーム４１ａ〜４４ａを装着し、そのアーム４１ａ〜４４ａに補助ローラ４１ｂ〜４４ｂを支持させている。補助ローラ組立体４１〜４４はエアーナイフ２５，２６の近隣に配置する必要があることから、補助ローラ組立体４１〜４４を下側エアーナイフ２６に装着することは容易であり、アーム４１ａ〜４４ａの長さも小さく抑えられている。さらに、補助ローラ４１ｂ〜４４ｂと下側エアーナイフ２６とがアーム４１ａ〜４４ａによって直接結ばれているため、両者（補助ローラ４１ｂ〜４４ｂと下側エアーナイフ２６）間の距離の寸法精度がよくなり、それにしたがって補助ローラ４１ｂ〜４４ｂに支持される基板Ｗとエアーナイフ２５，２６との隙間寸法も精度が上がっている。これにより、装置の組立や調整が容易になり、また、基板Ｗからの洗浄液の除去効率が向上している。
【００４６】
なお、この実施形態では、補助ローラ４１ｂ〜４４ｂと下側エアーナイフ２６と間の寸法精度が向上するので、アーム４１ａ，４２ａ等が持っている補助ローラ４１ｂ〜４４ｂの位置調整機能を省略することも可能であり、その場合には装置の構造をより簡素化できる。
【００４７】
【発明の効果】
本発明では、気体吹付手段に隣接させて補助支持手段を設けて気体吹付手段により気体が吹き付けられる基板の部分の垂れを抑えているため、基板と気体吹付手段との間の距離を所定の範囲に収めることができ、補助支持手段がない場合に較べて基板からの処理液の除去効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態による付着液除去装置を含む洗浄装置の縦断面図。
【図２】液切りチャンバーの上面図。
【図３】図２のIII −III 矢視図。
【図４】本発明の第２実施形態による付着液除去装置を含む洗浄装置の縦断面図。
【図５】第２実施形態の液切りチャンバーの上面図。
【図６】図５のVI−VI矢視図。
【符号の説明】
５ 搬送ローラ（搬送手段）
２０，１２０， 付着液除去装置
２１ 側壁（支持体）
２５ 上側エアーナイフ（気体吹付手段の上側気体吹付部）
２６ 下側エアーナイフ（気体吹付手段の下側気体吹付部）
３１ 補助ローラ支持ベース
３２〜３５ 補助ローラ組立体
３２ｄ〜３５ｄ 補助ローラ
４１〜４４ 補助ローラ組立体
４１ａ〜４４ａ アーム
４１ｂ〜４４ｂ 補助ローラ
【発明の属する技術分野】
本発明は、各種基板の付着液除去装置、特に、液晶表示器用基板等のＦＰＤ（Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）用基板、フォトマスク用基板、プリント基板、及び半導体基板に付着した処理液を除去する付着液除去装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示器、カラーフィルタ、フォトマスク等の製造工程では、基板洗浄処理等の各種の湿式表面処理が行われる。そして、これらの基板の処理後に基板の表面に付着した液滴を除去する作業が行われる。
【０００３】
従来の基板の付着液除去装置として、例えば、搬送ローラとエアーナイフとから構成されるものが知られている。ここでは、表面に洗浄液などの処理液が付着した基板を複数の搬送ローラによってほぼ水平に支持しつつ所定の方向に搬送させる。そして、その長手方向が基板搬送方向と直交する方向（以下、川幅方向という。）に概ね沿った上下１対のエアーナイフ（気体を吹き付ける気体吹付手段）に設けられたスリット状の吐出口から、層状の気体を基板の表面に吹き付ける。すると、吹き付けられた気体が基板に付着している処理液を基板の搬送方向上流側に移動させ、処理液が基板の搬送方向上流側の後端縁から基板の後方に吹き飛ばされる。これにより、基板から処理液が除去される。
【０００４】
ここでは、処理液除去の効率を上げるためにエアーナイフと基板とを接近させる必要があり、エアーナイフと基板との間に搬送ローラを配置することはできない。したがって、エアーナイフは、所定の２つの搬送ローラの基板搬送方向の間に、搬送ローラと重ならないように配置される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような付着液除去装置では、搬送ローラは川幅方向に延設されるのに対し、エアーナイフは、水はねの抑制及び基板後端での液滴の効果的な除去等のために、川幅方向に対して所定の角度だけ傾かせて配置されている。このため、処理する基板が大型化してエアーナイフの川幅方向に沿った長さが長くなると、エアーナイフの基板搬送方向の長さも長くなり、エアーナイフを挟んで隣接する搬送ローラの基板搬送方向の設置スパンが大きくなる。このように搬送ローラの設置スパンが大きくなると、搬送ローラに下面を支持されながら搬送される基板は搬送ローラ間で大きく垂れる。
【０００６】
一方、一般に基板は上下１対のエアーナイフのまん中を通過させることが望ましいが、基板が大きく垂れたのではエアーナイフのまん中を通過させることは困難である。この結果、基板の上下面に対する気体吹き付けのバランスが崩れて、処理液の除去効率が悪化する。
【０００７】
本発明の課題は、基板に気体を吹き付けることにより基板に付着した処理液を除去する付着液除去装置において、基板の垂れを抑えて基板に付着している処理液の除去の効率を向上させることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る付着液除去装置は、処理液が付着した基板に気体を吹き付けることにより処理液を基板から吹き飛ばして基板に付着した処理液を除去する付着液除去装置において、複数の搬送手段と、気体吹付手段と、支持体と、補助支持手段とを備えている。搬送手段は、基板搬送方向と実質的に直交する方向に沿って延設されており、処理液が付着した基板の下面を支持しながら基板を搬送する。気体吹付手段は、少なくともある２つの搬送手段の基板搬送方向の間に延設されるもので、基板搬送方向と交差する方向に沿って延設されている。この気体吹付手段は、処理液が付着した基板に対して、上下両側から気体を吹き付ける。支持体は、搬送手段の両端部を支持するとともに、気体吹付手段の両端部を支持する。補助支持手段は、気体吹付手段とその気体吹付手段に隣接する搬送手段との基板搬送方向の間に配置されており、搬送される基板の下面を部分的に支持する。そして、搬送手段は、基板搬送方向に直交する方向に延びる搬送ローラである。気体吹付手段は、上側気体吹付部と、下側気体吹付部とを有している。上側気体吹付部は基板の上面に気体を吹き付け、下側気体吹付部は基板の下面に気体を吹き付ける。補助支持手段は、補助ローラ支持部材と、補助ローラ組立体とを有している。補助ローラ支持部材は、下側気体吹付部の下部に配置されており、両端部が支持体に支持されている。補助ローラ組立体は、補助ローラを含んでいる組立体であって、補助ローラ支持部材から上方に延びている。補助ローラは、基板の下面に接触して回転する。
【０００９】
搬送されている基板に対して気体吹付手段により気体が吹き付けられると、基板に付着していた処理液が基板搬送方向上流側に押し流されて基板の後端から後方へ吹き飛ばされる。このようにして基板に付着した処理液が除去されるが、気体吹付手段と基板との距離が所定の寸法に保たれていなければ処理液の除去効率が低下する。しかし、基板の川幅方向の寸法が大きくなると、基板に気体を吹き付ける気体吹付手段も川幅方向及び基板搬送方向に長くなり、気体吹付手段を挟んで配置される２つの搬送手段間の基板搬送方向の距離が長くなる。すなわち、基板の支持スパンが大きくなり基板の垂れが大きくなる。
【００１０】
ここでは、気体吹付手段に隣接させて補助支持手段を設け、これにより基板の下面を部分的に支持させているため、気体吹付手段により気体が吹き付けられる基板の部分の垂れを抑えている。これにより、基板サイズが大きくなって気体吹付手段の近傍で搬送手段により基板を支持できない場合にも、基板と気体吹付手段との間の距離を所定の範囲に収めることができ、補助支持手段がない場合に較べて基板からの処理液の除去効率が向上する。また、補助支持手段は、基板の下面を川幅方向に渡って支持しているのではなく基板の下面を部分的に支持しているため、メンテナンス性の良さが確保される。また、両支持体に補助ローラ支持部材を渡して、それに補助ローラ組立体を固定している。したがって、補助ローラ支持部材を基板に近づけることにより、基板からの荷重による補助ローラ組立体の変形を小さく抑え、基板をより精度よく支持することが可能である。また、補助ローラ支持部材は、両支持体に両端が支持されており、片持ちの状態に較べて補助ローラ支持部材自身の変形も抑えられている。
【００１１】
請求項２に係る付着液除去装置は、処理液が付着した基板に気体を吹き付けることにより処理液を基板から吹き飛ばして基板に付着した処理液を除去する付着液除去装置において、複数の搬送手段と、気体吹付手段と、支持体と、補助支持手段とを備えている。搬送手段は、基板搬送方向と実質的に直交する方向に沿って延設されており、処理液が付着した基板の下面を支持しながら基板を搬送する。気体吹付手段は、少なくともある２つの搬送手段の基板搬送方向の間に延設されるもので、基板搬送方向と交差する方向に沿って延設されている。この気体吹付手段は、処理液が付着した基板に対して、上下両側から気体を吹き付ける。支持体は、搬送手段の両端部を支持するとともに、気体吹付手段の両端部を支持する。補助支持手段は、気体吹付手段とその気体吹付手段に隣接する搬送手段との基板搬送方向の間に配置されており、搬送される基板の下面を部分的に支持する。そして、搬送手段は、基板搬送方向に直交する方向に延びる搬送ローラである。気体吹付手段は、基板の上面に気体を吹き付ける上側気体吹付部と、基板の下面に気体を吹き付ける下側気体吹付部とを有している。補助支持手段は、補助ローラと、アームとを有している。補助ローラは、基板の下面に接触して回転する。アームは、上部が補助ローラを回転自在に支持しており、下部が下側気体吹付部に装着されている。
【００１２】
ここでは、前記同様に、気体吹付手段に隣接させて補助支持手段を設け、これにより基板の下面を部分的に支持させているため、気体吹付手段により気体が吹き付けられる基板の部分の垂れを抑えている。これにより、基板サイズが大きくなって気体吹付手段の近傍で搬送手段により基板を支持できない場合にも、基板と気体吹付手段との間の距離を所定の範囲に収めることができ、補助支持手段がない場合に較べて基板からの処理液の除去効率が向上する。また、補助支持手段は、基板の下面を川幅方向に渡って支持しているのではなく基板の下面を部分的に支持しているため、メンテナンス性の良さが確保される。また、気体吹付手段の下側気体吹付部にアームを装着し、そのアームに補助ローラを支持させている。補助支持手段は気体吹付手段の近隣に配置されるため、補助支持手段を気体吹付手段に装着することは容易であり、アームの長さも小さく抑えることができる。さらに、補助支持手段の補助ローラと気体吹付手段とがアームによって直接結ばれているため、両者間の距離の寸法精度がよくなり、それにしたがって補助ローラに支持される基板と気体吹付手段との距離も精度が上がる。これにより、基板からの処理液の除去効率が向上する。
【００１３】
請求項３に係る付着液除去装置は、請求項１又は２に記載の付着液除去装置において、気体吹付手段は基板搬送方向と直交する方向に対して所定角度傾斜している。
【００１４】
【発明の実施の形態】
［第１実施形態］
本発明の一実施形態である付着液除去装置２０を含む洗浄装置１を、図１に示す。洗浄装置１は、搬入されてきた基板に対して洗浄及び付着する洗浄液（処理液）の除去を施して搬出する装置であり、搬送ローラ５と、洗浄ノズル１５が収容されている洗浄チャンバー２と、付着液除去装置２０が収容されている液切りチャンバー３とから構成されている。
【００１５】
基板Ｗは、洗浄チャンバー２の搬入口１２から搬入され、搬送ローラ５によって水平姿勢で保持されつつ洗浄チャンバー２内を図１の矢印Ａの方向（以下、基板搬送方向という。）に搬送される。洗浄チャンバー２内を搬送されている基板Ｗに対しては、複数の洗浄ノズル１５から洗浄液が噴射され、上下両面の洗浄が行われる。この後、基板Ｗは搬送ローラ５によって両チャンバー２，３の連結口２２を通って液切りチャンバー３に送られる。液切りチャンバー３では、搬送ローラ５によって搬送されている基板Ｗに対して、エアーナイフ２５，２６から気体が吹き付けられる。これにより、基板Ｗに付着していた洗浄液が吹き飛ばされて、基板Ｗが乾燥する。このように洗浄及び液切り処理が行われた基板Ｗは、搬出口２３から搬出される。
【００１６】
搬送ローラ５は、基板Ｗの川幅方向両端部及び中央部を支持して水平に基板Ｗを保持するとともに図１の矢印Ａの方向へ所定の速度で搬送する搬送手段であり、図示しないチェーン等を介してモータに連結されている。また、図２に示すように、搬送ローラ５の両端は、液切りチャンバー３の両側壁（支持体）２１に支持されている。
【００１７】
洗浄チャンバー２内に配備された洗浄ノズル１５は、搬送ローラ５により搬送される基板Ｗの上方及び下方にそれぞれ複数設けられ、基板Ｗの上下両面に向けて純水等の洗浄液を吹き付ける。洗浄チャンバー２は、洗浄ノズル１５から吹き付けられた洗浄液が外に飛散することを防止し、また外から洗浄チャンバー２内にパーティクルが侵入することを防止する。また、洗浄チャンバー２には、洗浄チャンバー２内の空気を図示しない排気手段により排気するとともに洗浄チャンバー２内を流下する洗浄液を排水するための第１排気口１４が下部に設けられている。
【００１８】
液切りチャンバー３内の付着液除去装置２０は、液切りチャンバー３内の搬送ローラ５と、エアーナイフ（気体吹付手段）２５，２６と、補助ローラ支持ベース（補助支持部材の補助ローラ支持部材）３１及び補助ローラ組立体３２〜３５とから構成されている。また、液切りチャンバー３には、液切りチャンバー３内の空気を図示しない排気手段により排気するとともに液切りチャンバー３内で吹き飛ばされた洗浄液を排水するための第２排気口２４が下部に設けられている。
【００１９】
エアーナイフ２５，２６は、上側エアーナイフ（上側気体吹付部）２５と下側エアーナイフ（下側気体吹付部）２６とから成るもので、搬送される基板Ｗに対して、上側エアーナイフ２５は上方に、下側エアーナイフ２６は下方に配置されている。このエアーナイフ２５，２６は、基板Ｗの上面及び下面に向けて、図示しない気体供給源から供給された空気、窒素等の気体を先端のスリット状の吐出口から帯状に噴射して、この気体の圧力により基板Ｗに付着している洗浄液を吹き飛ばすものである。また、エアーナイフ２５，２６は、図２に示すように、基板搬送方向（図２の矢印Ａ）に直交する方向に対して、平面的に傾斜を有している。また、図２及び図３に示すように、エアーナイフ２５，２６の両端は、液切りチャンバー３の両側壁２１に支持されている。
【００２０】
補助ローラ支持ベース３１は、基板搬送方向に直交する方向に延びる部材であって、図３に示すように、下側エアーナイフ２６の下部に配置され、その両端が液切りチャンバー３の両側壁２１に固定されている。
【００２１】
補助ローラ組立体３２は、基板の川幅方向の中央付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方向上流側の位置に配置されている。この補助ローラ組立体３２は、図１に示すように、第１，第２，及び第３支持部材３２ａ，３２ｂ，３２ｃと補助ローラ３２ｄとから構成されている。第１支持部材３２ａは補助ローラ支持ベース３１に固定され、第２支持部材３２ｂは第１支持部材３２ａに固定され、第３支持部材３２ｃは第２支持部材３２ｂに固定される。第１支持部材３２ａに対する第２支持部材３２ｂの固定位置は水平方向に調整可能であり、第２支持部材３２ｂに対する第３支持部材３２ｃの固定位置は垂直方向に調整可能である。補助ローラ３２ｄは、第３支持部材３２ｃに回転自在に支持されており、その上面の高さは上側エアーナイフ２５と下側エアーナイフ２６との中間位置と基板Ｗの厚みの中心とが一致するように合わされる。
【００２２】
補助ローラ組立体３３は、基板の川幅方向の中央付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方向下流側の位置に配置されている。この補助ローラ組立体３３は、図１に示すように、第１，第２，及び第３支持部材３３ａ，３３ｂ，３３ｃと補助ローラ３３ｄとから構成されている。第１支持部材３３ａは補助ローラ支持ベース３１に固定され、第２支持部材３３ｂは第１支持部材３３ａに固定され、第３支持部材３３ｃは第２支持部材３３ｂに固定される。第１支持部材３３ａに対する第２支持部材３３ｂの固定位置は水平方向に調整可能であり、第２支持部材３３ｂに対する第３支持部材３３ｃの固定位置は垂直方向に調整可能である。補助ローラ３３ｄは、第３支持部材３３ｃに回転自在に支持されており、その上面の高さは上側エアーナイフ２５と下側エアーナイフ２６との中間位置と基板Ｗの厚みの中心とが一致するように合わされる。
【００２３】
補助ローラ組立体３４は、基板の川幅方向の一端部付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方向下流側の位置に配置されている。補助ローラ組立体３４の構成については、上記補助ローラ組立体３３と同様である。
【００２４】
補助ローラ組立体３５は、基板Ｗの川幅方向の他端部付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方向上流側の位置に配置されている。補助ローラ組立体３５の構成については、上記補助ローラ組立体３２と同様である。
【００２５】
次に、付着液除去装置２０による基板Ｗからの洗浄液の除去について説明する。搬送ローラ５により搬送されている基板Ｗに対してエアーナイフ２５，２６によって気体が吹き付けられると、基板Ｗに付着していた洗浄液が基板搬送方向上流側に押し流されて基板Ｗの後端から後方へ吹き飛ばされる。このようにして基板Ｗに付着した洗浄液が除去されるが、エアーナイフ２５，２６と基板Ｗとの各隙間寸法が所定の範囲内に保たれていなければ洗浄液の除去効率が低下する。
【００２６】
ここで、もし補助ローラ３２ｄ〜３５ｄが存在していなければ、下側エアーナイフ２６をかわすために下側エアーナイフ２６に隣接する両搬送ローラ５間の基板搬送方向の設置スパンが大きくなっているため（図１及び図２参照）、エアーナイフ２５，２６による気体吹き付け位置を通過する基板Ｗの部分は大きな変形を起こして垂れる。このような変形が生じていたのでは、上側エアーナイフ２５からの気流と下側エアーナイフ２６からの気流のバランスが乱れ、特に基板Ｗの後端における洗浄液の除去効率が悪化する。
【００２７】
しかし、ここでは、エアーナイフ２５，２６に隣接させて補助ローラ３２ｄ〜３５ｄを設け、これにより基板Ｗの下面を部分的に支持させている。このため、エアーナイフ２５，２６により気体が吹き付けられる基板Ｗの部分の垂れが抑えられる。したがって、基板Ｗとエアーナイフ２５，２６との各隙間寸法を所定の範囲に収めることができ、補助ローラ３２ｄ〜３５ｄがない場合に較べて基板Ｗからの洗浄液の除去効率が向上する。なお、補助ローラ組立体３２〜３５は、川幅方向に点在しているため、メンテナンス性の良さが確保されている。
【００２８】
また、ここでは、液切りチャンバー３の両側壁２１に補助ローラ支持ベース３１を渡して、それに補助ローラ組立体３２〜３５を固定している。したがって、液切りチャンバー３の側壁２１や底板等に補助ローラ組立体３２〜３５を直接固定させる場合に較べて、補助ローラ組立体３２〜３５の支持が安定する。これにより、基板Ｗからの荷重による補助ローラ組立体３２〜３５の変形が小さくなり、基板Ｗをより精度よく支持することができる。
【００２９】
また、ここでは、補助ローラ組立体３２，３３がエアーナイフ２５，２６の基板搬送方向両側に配置されているため、より基板Ｗの垂れを抑えることができ、特に基板Ｗの前端部及び後端部がエアーナイフ２５，２６による気体吹き付け位置を通過する時にも基板Ｗとエアーナイフ２５，２６との各隙間寸法を適当な範囲に保つことができる。なお、基板Ｗの川幅方向端部付近においては基板搬送方向片側にのみ補助ローラ組立体３４あるいは補助ローラ組立体３５を配置しているが、これらの補助ローラ組立体３４，３５の位置は下側エアーナイフ２６に隣接する両搬送ローラ５のほぼ中間位置であるため、基板Ｗの垂れは許容範囲に収まる。
【００３０】
［第２実施形態］
本発明の第２実施形態である付着液除去装置１２０を含む洗浄装置１０１を、図４に示す。洗浄装置１０１は、搬入されてきた基板に対して洗浄及び付着する洗浄液（処理液）の除去を施して搬出する装置である。なお、以降の説明において第１実施形態と同一又は同様な部材の符号は同一符号を付すものとする。
【００３１】
洗浄装置１０１は、搬送ローラ５と、洗浄ノズル１５が収容されている洗浄チャンバー２と、付着液除去装置１２０が収容されている液切りチャンバー３とから構成されている。
【００３２】
基板Ｗは、洗浄チャンバー２の搬入口１２から搬入され、搬送ローラ５によって水平姿勢で保持されつつ洗浄チャンバー２内を図４の矢印Ａの方向（以下、基板搬送方向という。）に搬送される。洗浄チャンバー２内を搬送されている基板Ｗに対しては、複数の洗浄ノズル１５から洗浄液が噴射され、上下両面の洗浄が行われる。この後、基板Ｗは搬送ローラ５によって両チャンバー２，３の連結口２２を通って液切りチャンバー３に送られる。液切りチャンバー３では、搬送ローラ５によって搬送されている基板Ｗに対して、エアーナイフ２５，２６から気体が吹き付けられる。これにより、基板Ｗに付着していた洗浄液が吹き飛ばされて、基板Ｗが乾燥する。このように洗浄及び液切り処理が行われた基板Ｗは、搬出口２３から搬出される。
【００３３】
搬送ローラ５は、基板Ｗの川幅方向両端部及び中央部を支持して水平に基板Ｗを保持するとともに図４の矢印Ａの方向へ所定の速度で搬送する搬送手段であり、図示しないチェーン等を介してモータに連結されている。また、図５に示すように、搬送ローラ５の両端は、液切りチャンバー３の両側壁２１に支持されている。
【００３４】
洗浄チャンバー２内に配備された洗浄ノズル１５は、搬送ローラ５により搬送される基板Ｗの上方及び下方にそれぞれ複数設けられ、基板Ｗの上下両面に向けて純水等の洗浄液を吹き付ける。洗浄チャンバー２は、洗浄ノズル１５から吹き付けられた洗浄液が外に飛散することを防止し、また外から洗浄チャンバー２内にパーティクルが侵入することを防止する。また、洗浄チャンバー２には、洗浄チャンバー２内の空気を図示しない排気手段により排気するとともに洗浄チャンバー２内を流下する洗浄液を排水するための第１排気口１４が下部に設けられている。
【００３５】
液切りチャンバー３内の付着液除去装置１２０は、液切りチャンバー３内の搬送ローラ５と、エアーナイフ（気体吹付手段）２５，２６と、補助ローラ組立体４１〜４４とから構成されている。また、液切りチャンバー３には、液切りチャンバー３内の空気を図示しない排気手段により排気するとともに液切りチャンバー３内で吹き飛ばされた洗浄液を排水するための第２排気口２４が下部に設けられている。
【００３６】
エアーナイフ２５，２６は、上側エアーナイフ（上側気体吹付部）２５と下側エアーナイフ（下側気体吹付部）２６とから成るもので、搬送される基板Ｗに対して、上側エアーナイフ２５は上方に、下側エアーナイフ２６は下方に配置されている。このエアーナイフ２５，２６は、基板Ｗの上面及び下面に向けて、図示しない気体供給源から供給された空気、窒素等の気体を先端のスリット状の吐出口から帯状に噴射して、この気体の圧力により基板Ｗに付着している洗浄液を吹き飛ばすものである。また、エアーナイフ２５，２６は、図５に示すように、基板搬送方向（図５の矢印Ａ）に直交する方向に対して、平面的に傾斜を有している。また、図５及び図６に示すように、エアーナイフ２５，２６の両端は、液切りチャンバー３の両側壁２１に支持されている。
【００３７】
補助ローラ組立体４１は、基板の川幅方向の中央付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方向上流側の位置に配置されている。この補助ローラ組立体４１は、図４に示すように、アーム４１ａと補助ローラ４１ｂとから構成されている。アーム４１ａの下部は、下側エアーナイフ２６の基板搬送方向上流側の面に固定され、アーム４１ａの上部は、補助ローラ４１ｂを回転自在に支持する。また、アーム４１ａは、補助ローラ４１ｂの位置を水平方向及び垂直方向に調整することができるような調節機能を備えている。補助ローラ４１ｂの上面の高さは、上側エアーナイフ２５と下側エアーナイフ２６との中間位置と基板Ｗの厚みの中心とが一致するように合わされている。
【００３８】
補助ローラ組立体４２は、基板の川幅方向の中央付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方向下流側の位置に配置されている。この補助ローラ組立体４２は、図４に示すように、アーム４２ａと補助ローラ４２ｂとから構成されている。アーム４２ａは、下側エアーナイフ２６の基板搬送方向下流側の面に固定される。アーム４２ａの上端部は、補助ローラ４２ｂを回転自在に支持する。また、アーム４２ａは、補助ローラ４２ｂの位置を水平方向及び垂直方向に調整することができるような調節機能を備えている。補助ローラ４２ｂの上面の高さは、上側エアーナイフ２５と下側エアーナイフ２６との中間位置と基板Ｗの厚みの中心とが一致するように合わされている。
【００３９】
補助ローラ組立体４３は、基板の川幅方向の一端部付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方向下流側の位置に配置されている。補助ローラ組立体４３の構成については、上記補助ローラ組立体４２と同様である。
【００４０】
補助ローラ組立体４４は、基板Ｗの川幅方向の他端部付近であって下側エアーナイフ２６の基板搬送方向上流側の位置に配置されている。補助ローラ組立体４４の構成については、上記補助ローラ組立体４１と同様である。
【００４１】
次に、付着液除去装置１２０による基板Ｗからの洗浄液の除去について説明する。搬送ローラ５により搬送されている基板Ｗに対してエアーナイフ２５，２６によって気体が吹き付けられると、基板Ｗに付着していた洗浄液が基板搬送方向上流側に押し流されて基板Ｗの後端から後方へ吹き飛ばされる。このようにして基板Ｗに付着した洗浄液が除去されるが、エアーナイフ２５，２６と基板Ｗとの各隙間寸法が所定の範囲内に保たれていなければ洗浄液の除去効率が低下する。
【００４２】
ここで、もし補助ローラ４１ｂ〜４４ｂが存在していなければ、下側エアーナイフ２６をかわすために下側エアーナイフ２６に隣接する両搬送ローラ５間の基板搬送方向の設置スパンが大きくなっているため（図４及び図５参照）、エアーナイフ２５，２６による気体吹き付け位置を通過する基板Ｗの部分は大きな変形を起こして垂れる。このような変形が生じていたのでは、上側エアーナイフ２５からの気流と下側エアーナイフ２６からの気流のバランスが乱れ、特に基板Ｗの後端における洗浄液の除去効率が悪化する。
【００４３】
しかし、ここでは、エアーナイフ２５，２６に隣接させて補助ローラ４１ｂ〜４４ｂを設け、これにより基板Ｗの下面を部分的に支持させている。このため、エアーナイフ２５，２６により気体が吹き付けられる基板Ｗの部分の垂れが抑えられる。したがって、基板Ｗとエアーナイフ２５，２６との各隙間寸法を所定の範囲に収めることができ、補助ローラ４１ｂ〜４４ｂがない場合に較べて基板Ｗからの洗浄液の除去効率が向上する。なお、補助ローラ組立体４１〜４４は、川幅方向に点在しているため、メンテナンス性の良さが確保されている。
【００４４】
また、ここでは、補助ローラ組立体４１，４２がエアーナイフ２５，２６の基板搬送方向両側に配置されているため、より基板Ｗの垂れを抑えることができ、特に基板Ｗの前端部及び後端部がエアーナイフ２５，２６による気体吹き付け位置を通過する時にも基板Ｗとエアーナイフ２５，２６との隙間寸法を適当な範囲に保つことができる。なお、基板Ｗの川幅方向端部付近においては基板搬送方向片側にのみ補助ローラ組立体４３あるいは補助ローラ組立体４４を配置しているが、これらの補助ローラ組立体４３，４４の位置は下側エアーナイフ２６に隣接する両搬送ローラ５のほぼ中間位置であるため、基板Ｗの垂れは許容範囲に収まる。
【００４５】
また、ここでは、下側エアーナイフ２６にアーム４１ａ〜４４ａを装着し、そのアーム４１ａ〜４４ａに補助ローラ４１ｂ〜４４ｂを支持させている。補助ローラ組立体４１〜４４はエアーナイフ２５，２６の近隣に配置する必要があることから、補助ローラ組立体４１〜４４を下側エアーナイフ２６に装着することは容易であり、アーム４１ａ〜４４ａの長さも小さく抑えられている。さらに、補助ローラ４１ｂ〜４４ｂと下側エアーナイフ２６とがアーム４１ａ〜４４ａによって直接結ばれているため、両者（補助ローラ４１ｂ〜４４ｂと下側エアーナイフ２６）間の距離の寸法精度がよくなり、それにしたがって補助ローラ４１ｂ〜４４ｂに支持される基板Ｗとエアーナイフ２５，２６との隙間寸法も精度が上がっている。これにより、装置の組立や調整が容易になり、また、基板Ｗからの洗浄液の除去効率が向上している。
【００４６】
なお、この実施形態では、補助ローラ４１ｂ〜４４ｂと下側エアーナイフ２６と間の寸法精度が向上するので、アーム４１ａ，４２ａ等が持っている補助ローラ４１ｂ〜４４ｂの位置調整機能を省略することも可能であり、その場合には装置の構造をより簡素化できる。
【００４７】
【発明の効果】
本発明では、気体吹付手段に隣接させて補助支持手段を設けて気体吹付手段により気体が吹き付けられる基板の部分の垂れを抑えているため、基板と気体吹付手段との間の距離を所定の範囲に収めることができ、補助支持手段がない場合に較べて基板からの処理液の除去効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態による付着液除去装置を含む洗浄装置の縦断面図。
【図２】液切りチャンバーの上面図。
【図３】図２のIII −III 矢視図。
【図４】本発明の第２実施形態による付着液除去装置を含む洗浄装置の縦断面図。
【図５】第２実施形態の液切りチャンバーの上面図。
【図６】図５のVI−VI矢視図。
【符号の説明】
５ 搬送ローラ（搬送手段）
２０，１２０， 付着液除去装置
２１ 側壁（支持体）
２５ 上側エアーナイフ（気体吹付手段の上側気体吹付部）
２６ 下側エアーナイフ（気体吹付手段の下側気体吹付部）
３１ 補助ローラ支持ベース
３２〜３５ 補助ローラ組立体
３２ｄ〜３５ｄ 補助ローラ
４１〜４４ 補助ローラ組立体
４１ａ〜４４ａ アーム
４１ｂ〜４４ｂ 補助ローラ
Claims (3)
- 処理液が付着した基板に気体を吹き付けることにより処理液を基板から吹き飛ばして基板に付着した処理液を除去する付着液除去装置において、
基板搬送方向と実質的に直交する方向に沿って延設され、処理液が付着した基板の下面を支持しつつ搬送する複数の搬送手段と、
少なくともある２つの前記搬送手段の基板搬送方向の間に基板搬送方向と交差する方向に沿って延設され、処理液が付着した基板に上下両側から気体を吹き付ける気体吹付手段と、
前記搬送手段の両端部、及び前記気体吹付手段の両端部を支持する支持体と、
前記気体吹付手段と前記気体吹付手段に隣接する前記搬送手段との基板搬送方向の間に配置され、搬送される基板の下面を部分的に支持する補助支持手段とを備え、
前記搬送手段は、基板搬送方向に直交する方向に延びる搬送ローラであり、
前記気体吹付手段は、基板の上面に気体を吹き付ける上側気体吹付部と、基板の下面に気体を吹き付ける下側気体吹付部とを有しており、
前記補助支持手段は、前記下側気体吹付部の下部に配置され両端部が前記支持体に支持される補助ローラ支持部材と、基板の下面に接触して回転する補助ローラを含み前記補助ローラ支持部材から上方に延びる補助ローラ組立体とを有している、
付着液除去装置。 - 処理液が付着した基板に気体を吹き付けることにより処理液を基板から吹き飛ばして基板に付着した処理液を除去する付着液除去装置において、
基板搬送方向と実質的に直交する方向に沿って延設され、処理液が付着した基板の下面を支持しつつ搬送する複数の搬送手段と、
少なくともある２つの前記搬送手段の基板搬送方向の間に基板搬送方向と交差する方向に沿って延設され、処理液が付着した基板に上下両側から気体を吹き付ける気体吹付手段と、
前記搬送手段の両端部、及び前記気体吹付手段の両端部を支持する支持体と、
前記気体吹付手段と前記気体吹付手段に隣接する前記搬送手段との基板搬送方向の間に配置され、搬送される基板の下面を部分的に支持する補助支持手段とを備え、
前記搬送手段は、基板搬送方向に直交する方向に延びる搬送ローラであり、
前記気体吹付手段は、基板の上面に気体を吹き付ける上側気体吹付部と、基板の下面に気体を吹き付ける下側気体吹付部とを有しており、
前記補助支持手段は、基板の下面に接触して回転する補助ローラと、上部が前記補助ローラを回転自在に支持し下部が前記下側気体吹付部に装着されるアームとを有している、
付着液除去装置。 - 前記気体吹付手段は基板搬送方向と直交する方向に対して所定角度傾斜している、請求項１又は２に記載の付着液除去装置。
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