JPH08338686A - 基板乾燥方法及びその装置 - Google Patents
基板乾燥方法及びその装置Info
- Publication number
- JPH08338686A JPH08338686A JP14773695A JP14773695A JPH08338686A JP H08338686 A JPH08338686 A JP H08338686A JP 14773695 A JP14773695 A JP 14773695A JP 14773695 A JP14773695 A JP 14773695A JP H08338686 A JPH08338686 A JP H08338686A
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- JP
- Japan
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- substrate
- air
- air knife
- drying
- spraying
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- Pending
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- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 エアーナイフによる基板表裏面の液切りの乾
燥処理において、基板の周辺角部及び端面部に水滴残り
などの汚染が残るのを防止する。 【構成】 ウエット処理された基板４の液切り乾燥にお
いて、第１エアーナイフ２のエアー５に対し第２エアー
ナイフ３のエアー５の方向を変えるように、エアーナイ
フ２，３を設置している。このため、第１エアーナイフ
２からのエアー５で残った基板４の表裏両角部４ａ及び
端面部４ｂでの水滴残り９を第２エアーナイフ３で除去
することが可能となる。
燥処理において、基板の周辺角部及び端面部に水滴残り
などの汚染が残るのを防止する。 【構成】 ウエット処理された基板４の液切り乾燥にお
いて、第１エアーナイフ２のエアー５に対し第２エアー
ナイフ３のエアー５の方向を変えるように、エアーナイ
フ２，３を設置している。このため、第１エアーナイフ
２からのエアー５で残った基板４の表裏両角部４ａ及び
端面部４ｂでの水滴残り９を第２エアーナイフ３で除去
することが可能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は基板乾燥方法及びその装
置に関し、基板表裏面に付着した液体をエアーナイフに
より精密に乾燥させる方法及び装置に関する。
置に関し、基板表裏面に付着した液体をエアーナイフに
より精密に乾燥させる方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来この種の基板乾燥方法には、基板の
真下で吸引口から水滴を吸引する方式（特開平３−１４
７３２４号公報），エアーナイフのエアー吐出口を調整
して乾燥させる方式（特開平３−２８３４２９号公
報），エアーナイフ前に螺旋ローラーを設けて水を周辺
角部に追い込んで吸引する方式（特開平４−６５１２７
号公報），基板を斜めに搬出して乾燥させる方式（特開
平４−３３７６３７号公報）等があり、そのいずれもが
液切り後に基板に残留する水滴をなくすことを目的とし
て用いられている。
真下で吸引口から水滴を吸引する方式（特開平３−１４
７３２４号公報），エアーナイフのエアー吐出口を調整
して乾燥させる方式（特開平３−２８３４２９号公
報），エアーナイフ前に螺旋ローラーを設けて水を周辺
角部に追い込んで吸引する方式（特開平４−６５１２７
号公報），基板を斜めに搬出して乾燥させる方式（特開
平４−３３７６３７号公報）等があり、そのいずれもが
液切り後に基板に残留する水滴をなくすことを目的とし
て用いられている。
【０００３】図３はウエット処理ユニット・乾燥処理ユ
ニットの構成図である。図３に示されるようにウエット
処理ユニット１２の後段に乾燥ユニット１が接続され、
ウエット処理ユニット１２の内部にスプレーノズル１１
が基板４に対して上下に設置されている。また乾燥ユニ
ット１２の内部にエアーナイフ２，３が基板４に対して
上下に配置されている。
ニットの構成図である。図３に示されるようにウエット
処理ユニット１２の後段に乾燥ユニット１が接続され、
ウエット処理ユニット１２の内部にスプレーノズル１１
が基板４に対して上下に設置されている。また乾燥ユニ
ット１２の内部にエアーナイフ２，３が基板４に対して
上下に配置されている。
【０００４】図４は従来の乾燥ユニットを示す平面図、
図２はエアーナイフによる基板に対する液切りを示す側
面図である。図４において、乾燥ユニット１の外部側面
にモータ７が設けられ、モータ７は乾燥ユニット１内の
搬送ローラ６と図示しないギヤ又はベルトなどにより間
接的に連結されている。乾燥ユニット１の内部において
基板４の搬送方向１０から順に第１エアーナイフ２，第
２エアーナイフ３を配置している。第１エアーナイフ
２，第２エアーナイフ３は、相互に平行をなし、かつ乾
燥ユニット１の側面に対して斜めに傾斜して設置され、
基板４に対してそれぞれ上下に設置されている。
図２はエアーナイフによる基板に対する液切りを示す側
面図である。図４において、乾燥ユニット１の外部側面
にモータ７が設けられ、モータ７は乾燥ユニット１内の
搬送ローラ６と図示しないギヤ又はベルトなどにより間
接的に連結されている。乾燥ユニット１の内部において
基板４の搬送方向１０から順に第１エアーナイフ２，第
２エアーナイフ３を配置している。第１エアーナイフ
２，第２エアーナイフ３は、相互に平行をなし、かつ乾
燥ユニット１の側面に対して斜めに傾斜して設置され、
基板４に対してそれぞれ上下に設置されている。
【０００５】次に図３，図４を用いて動作を説明する。
ウエット処理ユニット１２で基板４の表裏面にスプレー
ノズル１１より液体８を噴き付けてスプレー処理し、乾
燥ユニット１のモータ７で搬送ローラ６が回転させて基
板４を乾燥ユニット１内に高速搬入する。
ウエット処理ユニット１２で基板４の表裏面にスプレー
ノズル１１より液体８を噴き付けてスプレー処理し、乾
燥ユニット１のモータ７で搬送ローラ６が回転させて基
板４を乾燥ユニット１内に高速搬入する。
【０００６】基板４は乾燥ユニット１内部で搬送方向１
０に低速搬送し、搬送方向１０の前方から後方へ向かっ
て、基板４の表裏面に第１エアーナイフ２，第２エアー
ナイフ３から図２に示すごとくエアー５を噴き付けて搬
送方向１０へ移動するに従って液体８を吹き飛ばし、基
板４を乾燥させる。
０に低速搬送し、搬送方向１０の前方から後方へ向かっ
て、基板４の表裏面に第１エアーナイフ２，第２エアー
ナイフ３から図２に示すごとくエアー５を噴き付けて搬
送方向１０へ移動するに従って液体８を吹き飛ばし、基
板４を乾燥させる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の乾
燥方式では図４に示すようにウエット処理された基板４
の表裏面にエアー５を吹き付けても、第１エアーナイフ
２，第２エアーナイフ３の向きが同方向であるため、基
板４に対するエアー５の方向が一定となり、特に基板４
の周辺角部４ａ及び端面部４ｂに付着した水滴を精密に
吹き飛ばすことが困難となる。この結果、基板４におい
て水滴残り９によるゴミの付着，シミが発生することと
なり、基板４を汚染して製品の品質を低下させる。また
基板４に水滴残り９が減少するようにエアー５を高圧に
すると、エアー５の消費量が多くなるという問題があっ
た。
燥方式では図４に示すようにウエット処理された基板４
の表裏面にエアー５を吹き付けても、第１エアーナイフ
２，第２エアーナイフ３の向きが同方向であるため、基
板４に対するエアー５の方向が一定となり、特に基板４
の周辺角部４ａ及び端面部４ｂに付着した水滴を精密に
吹き飛ばすことが困難となる。この結果、基板４におい
て水滴残り９によるゴミの付着，シミが発生することと
なり、基板４を汚染して製品の品質を低下させる。また
基板４に水滴残り９が減少するようにエアー５を高圧に
すると、エアー５の消費量が多くなるという問題があっ
た。
【０００８】本発明の目的は、基板の周辺角部及び端面
部での水滴残りを防止する基板の乾燥方法及びその装置
を提供することにある。
部での水滴残りを防止する基板の乾燥方法及びその装置
を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る基板の乾燥方法は、液体が付着した基
板にエアーを噴き付け、液滴を飛散させて基板を乾燥さ
せる基板乾燥方法であって、基板に対するエアーの噴き
付け方向を異ならせて液滴を飛散させるものである。
め、本発明に係る基板の乾燥方法は、液体が付着した基
板にエアーを噴き付け、液滴を飛散させて基板を乾燥さ
せる基板乾燥方法であって、基板に対するエアーの噴き
付け方向を異ならせて液滴を飛散させるものである。
【００１０】また前記エアーの噴き付けは、時間差をも
って行うものである。
って行うものである。
【００１１】また前記エアーの噴き付けは、少なくとも
２本のエアーナイフを用いて行うものである。
２本のエアーナイフを用いて行うものである。
【００１２】また前記エアーの噴き付けは、基板を水平
方向に搬送させて行うものである。
方向に搬送させて行うものである。
【００１３】また本発明に係る基板乾燥装置は、少なく
とも２本のエアーナイフを有し、液体が付着した基板に
エアーナイフからエアーを噴き付け、液滴を飛散させて
基板を乾燥させる基板乾燥装置であって、前記エアーナ
イフは、基板の搬送方向に対するエアー噴出口を異なる
方向に向けて配置されたものである。
とも２本のエアーナイフを有し、液体が付着した基板に
エアーナイフからエアーを噴き付け、液滴を飛散させて
基板を乾燥させる基板乾燥装置であって、前記エアーナ
イフは、基板の搬送方向に対するエアー噴出口を異なる
方向に向けて配置されたものである。
【００１４】また前記エアーナイフは、基板の搬送方向
に設置位置をずらせて配置されたものである。
に設置位置をずらせて配置されたものである。
【００１５】
【作用】基板の周辺角部及び端面部に向けてエアーナイ
フからエアーの噴き付け方向を異ならせて噴き付け、基
板の周辺角部及び端面部の水滴残りをなくす。
フからエアーの噴き付け方向を異ならせて噴き付け、基
板の周辺角部及び端面部の水滴残りをなくす。
【００１６】
【実施例】以下、本発明の実施例を図により説明する。
図１は本発明の一実施例を示す平面構成図である。
図１は本発明の一実施例を示す平面構成図である。
【００１７】図において本発明に係る基板乾燥装置は基
本的構成として、少なくとも２本のエアーナイフ２，３
を有し、液体が付着した基板４にエアーナイフ２，３か
らエアー５を噴き付け、液滴を飛散させて基板４を乾燥
させるようにしたものである。
本的構成として、少なくとも２本のエアーナイフ２，３
を有し、液体が付着した基板４にエアーナイフ２，３か
らエアー５を噴き付け、液滴を飛散させて基板４を乾燥
させるようにしたものである。
【００１８】さらにエアーナイフ２，３からのエアー５
の噴き付けは、基板４の搬送方向に対して異なる方向か
ら行い、またエアー５の噴き付けは、時間差をもって行
うようになっている。
の噴き付けは、基板４の搬送方向に対して異なる方向か
ら行い、またエアー５の噴き付けは、時間差をもって行
うようになっている。
【００１９】次に本発明を具体例を用いて説明する。図
１に示すように図３のウエット処理ユニット１２に接続
される乾燥ユニット１の外部側面には、モータ７が取付
けられている。モータ７で回転駆動される搬送ローラ６
は、基板４の搬送方向１０に沿って複数配列され、基板
４の両側縁を支えて搬送方向１０に送りを与えるように
なっている。
１に示すように図３のウエット処理ユニット１２に接続
される乾燥ユニット１の外部側面には、モータ７が取付
けられている。モータ７で回転駆動される搬送ローラ６
は、基板４の搬送方向１０に沿って複数配列され、基板
４の両側縁を支えて搬送方向１０に送りを与えるように
なっている。
【００２０】さらに乾燥ユニット１内に搬送ローラ６で
支えられた基板４に対してその上下に第１エアーナイフ
２，第２エアーナイフ３を設けている。第１エアーナイ
フ２と第２エアーナイフ３とは、基板４の搬送方向１０
に設置位置をずらせて配置し、かつ搬送方向１０に対し
て＋θ1，−θ2の角度をもち異なる方向に噴出口２ａ，
３ａを向けて設置してある。また各エアーナイフ２，３
の噴出口２ａ，３ａは、基板４の裏面側では基板４の搬
入方向に上傾して設置され、基板の表面側では基板の搬
入方向に下傾して設置されており、直線状に配列した複
数の孔、或いはスリットから構成してある。
支えられた基板４に対してその上下に第１エアーナイフ
２，第２エアーナイフ３を設けている。第１エアーナイ
フ２と第２エアーナイフ３とは、基板４の搬送方向１０
に設置位置をずらせて配置し、かつ搬送方向１０に対し
て＋θ1，−θ2の角度をもち異なる方向に噴出口２ａ，
３ａを向けて設置してある。また各エアーナイフ２，３
の噴出口２ａ，３ａは、基板４の裏面側では基板４の搬
入方向に上傾して設置され、基板の表面側では基板の搬
入方向に下傾して設置されており、直線状に配列した複
数の孔、或いはスリットから構成してある。
【００２１】次に動作について説明すると、モータ７が
回転し搬送ローラ６が回転されて基板４は乾燥ユニット
１内に高速に搬入される。乾燥ユニット１内では基板４
は搬送ローラ６により低速に搬送方向１０に搬送され
る。
回転し搬送ローラ６が回転されて基板４は乾燥ユニット
１内に高速に搬入される。乾燥ユニット１内では基板４
は搬送ローラ６により低速に搬送方向１０に搬送され
る。
【００２２】そして搬送方向１０の前方から後方へ向か
って、基板４の表裏面及び端面に第１エアーナイフ２か
らエアー５を基板４の端面部より対角線方向へ低圧で吹
き付けて搬送方向１０へ移動するに従って液体８を吹き
飛ばす。
って、基板４の表裏面及び端面に第１エアーナイフ２か
らエアー５を基板４の端面部より対角線方向へ低圧で吹
き付けて搬送方向１０へ移動するに従って液体８を吹き
飛ばす。
【００２３】その後、基板４の表裏面及び端面に第１エ
アーナイフ２と反対の端面部より対角線方向へ第２エア
ーナイフ３からのエアー５を低圧で吹き付けて搬送方向
１０へ移動するに従って水滴残り９を吹き飛ばし、基板
４の周辺角部及び端面側を含めて表裏面から液滴を飛散
させ、基板４に水滴残りを生ずることなく基板４を乾燥
させる。
アーナイフ２と反対の端面部より対角線方向へ第２エア
ーナイフ３からのエアー５を低圧で吹き付けて搬送方向
１０へ移動するに従って水滴残り９を吹き飛ばし、基板
４の周辺角部及び端面側を含めて表裏面から液滴を飛散
させ、基板４に水滴残りを生ずることなく基板４を乾燥
させる。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、一
方のエアーナイフのエアーの噴き出し方向に対し他方の
エアーナイフのエアーの方向を変えて液切り乾燥するた
め、基板の周辺部及び端面部に未乾燥部分がなく、水滴
残りの発生率を１００パーセントから０パーセントへと
大幅に改善することができる。
方のエアーナイフのエアーの噴き出し方向に対し他方の
エアーナイフのエアーの方向を変えて液切り乾燥するた
め、基板の周辺部及び端面部に未乾燥部分がなく、水滴
残りの発生率を１００パーセントから０パーセントへと
大幅に改善することができる。
【００２５】またエアーの方向を変えて液切りすること
で、水滴残りが容易に吹き飛ばされるため、低圧での使
用が可能となり、エアーの消費量を５０パーセント削減
できる。
で、水滴残りが容易に吹き飛ばされるため、低圧での使
用が可能となり、エアーの消費量を５０パーセント削減
できる。
【図１】本発明の一実施例を示す平面図である。
【図２】エアーナイフによる液切りを示す側面図であ
る。
る。
【図３】ウエット処理ユニット・乾燥ユニットを示す構
成図である。
成図である。
【図４】従来例を示す平面図である。
１ 乾燥ユニット ２ 第１エアーナイフ ２ａ エアー噴出口 ３ 第２エアーナイフ ３ａ エアー噴出口 ４ 基板 ５ エアー ６ 搬送ローラ ７ モータ ８ 液体 ９ 水滴残り １０ 搬送方向 １１ スプレーノズル １２ ウエット処理ユニット
Claims (6)
- 【請求項１】 液体が付着した基板にエアーを噴き付
け、液滴を飛散させて基板を乾燥させる基板乾燥方法で
あって、 基板に対するエアーの噴き付け方向を異ならせて液滴を
飛散させることを特徴とする基板乾燥方法。 - 【請求項２】 前記エアーの噴き付けは、時間差をもっ
て行うことを特徴とする請求項１に記載の基板乾燥方
法。 - 【請求項３】 前記エアーの噴き付けは、少なくとも２
本のエアーナイフを用いて行うことを特徴とする請求項
１に記載の基板乾燥方法。 - 【請求項４】 前記エアーの噴き付けは、基板を水平方
向に搬送させて行うことを特徴とする請求項１に記載の
基板乾燥方法。 - 【請求項５】 少なくとも２本のエアーナイフを有し、
液体が付着した基板にエアーナイフからエアーを噴き付
け、液滴を飛散させて基板を乾燥させる基板乾燥装置で
あって、 前記エアーナイフは、基板の搬送方向に対するエアー噴
出口を異なる方向に向けて配置されたものであることを
特徴とする基板乾燥装置。 - 【請求項６】 前記エアーナイフは、基板の搬送方向に
設置位置をずらせて配置されたものであることを特徴す
る請求項５に記載の基板乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14773695A JPH08338686A (ja) | 1995-06-14 | 1995-06-14 | 基板乾燥方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14773695A JPH08338686A (ja) | 1995-06-14 | 1995-06-14 | 基板乾燥方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08338686A true JPH08338686A (ja) | 1996-12-24 |
Family
ID=15436988
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14773695A Pending JPH08338686A (ja) | 1995-06-14 | 1995-06-14 | 基板乾燥方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08338686A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010131485A (ja) * | 2008-12-03 | 2010-06-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の液切り装置および液切り方法 |
| CN103411416A (zh) * | 2013-08-23 | 2013-11-27 | 宝钢工程技术集团有限公司 | 蒸汽烘干设备 |
| WO2019011382A1 (de) * | 2017-07-14 | 2019-01-17 | RENA Technologies GmbH | Trocknungsvorrichtung und verfahren zur trocknung eines substrats |
| CN116026126A (zh) * | 2023-02-10 | 2023-04-28 | 浙江迈格发机械有限公司 | 一种轴承套圈的烘干装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07302779A (ja) * | 1994-05-06 | 1995-11-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の液切り乾燥装置 |
-
1995
- 1995-06-14 JP JP14773695A patent/JPH08338686A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07302779A (ja) * | 1994-05-06 | 1995-11-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の液切り乾燥装置 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010131485A (ja) * | 2008-12-03 | 2010-06-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の液切り装置および液切り方法 |
| CN103411416A (zh) * | 2013-08-23 | 2013-11-27 | 宝钢工程技术集团有限公司 | 蒸汽烘干设备 |
| WO2019011382A1 (de) * | 2017-07-14 | 2019-01-17 | RENA Technologies GmbH | Trocknungsvorrichtung und verfahren zur trocknung eines substrats |
| CN116026126A (zh) * | 2023-02-10 | 2023-04-28 | 浙江迈格发机械有限公司 | 一种轴承套圈的烘干装置 |
| CN116026126B (zh) * | 2023-02-10 | 2023-09-29 | 浙江博雄机械有限公司 | 一种轴承套圈的烘干装置 |
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