JP3918401B2

JP3918401B2 - 基板乾燥装置及び乾燥方法、並びに基板の製造方法

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Publication number: JP3918401B2
Application number: JP2000139007A
Authority: JP
Inventors: 浩福田; 良友安池; 和彦権守; 国夫油田
Original assignee: Hitachi High Technologies Corp
Current assignee: Hitachi High Tech Corp
Priority date: 1999-05-31
Filing date: 2000-05-11
Publication date: 2007-05-23
Anticipated expiration: 2020-05-11
Also published as: JP2001050660A; US6418640B1

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば液晶基板等の基板をエアナイフ効果による乾燥するための装置及び方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、ＴＦＴ型の液晶パネルはＴＦＴ基板とカラーフィルタとからなる２枚の四角形のガラス基板で構成される。このＴＦＴ基板を製造するに当っては、レジスト膜の形成、露光、現像、エッチング、レジスト膜の剥離等からなる工程を１プロセスとして、このプロセスが複数回繰り返されることになる。これらの工程において、処理の前や後に繰り返し洗浄が行われ、また基板洗浄後にはその乾燥が行われる。一方、カラーフィルタはフォトリソグラフィ法等により製造されるが、その前工程及び工程間等において、基板の洗浄及び乾燥がなされる。さらに、ＴＦＴ型以外の液晶パネル、その他四角形状のガラス，樹脂等からなる基板に対して所定の処理を行う際に、その洗浄及び乾燥が行われる。
【０００３】
基板の洗浄後に行われる乾燥方法は様々なものが知られているが、処理乃至加工におけるライン上を搬送する間に連続的に洗浄及び乾燥を行う場合には、エアナイフ効果を利用した乾燥を行うのが一般的である。エアナイフによる乾燥は次のようにして行われる。
【０００４】
基板を基板搬送手段により水平または僅かに搬送方向と直交する方向に傾けた状態にして搬送するようになし、この搬送経路の途中位置に、この基板の表面に対向するようにして細長いスリット状の通路からなるノズル口を有するエアナイフノズルを配置する構成とする。基板搬送手段により搬送される基板がこのエアナイフと対面すると、エアナイフノズルからクリーンエアを基板の搬送方向に対して直交する方向における全長に及ぶように高い噴射圧をもって吹き付けられることになる。この高圧のエアは基板に突入後にこの基板の表面に沿って流れることから、このエアの圧力によって基板の表面に付着している液滴や液膜が基板表面から剥離されるようにして乾燥される。
【０００５】
ここで、エアナイフノズルから噴射されるエアの方向は基板搬送手段による基板の搬送方向とは反対方向であり、また入射角は比較的浅い角度とし、かつエアナイフノズルのノズル口は基板表面に近接した位置とする。これによって、エアナイフノズルからは極めて細い帯状のエアが基板の表面に入射され、その結果、エアの圧力で基板表面の液は、この基板の搬送方向における後方側に向けて移動し、この基板のエッジ部分から排出されることになる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、基板搬送手段により搬送される基板が、例えば長方形のものである場合には、その長手方向を搬送方向に向けるようにして搬送させる。このように搬送される基板の表面に付着している液をより円滑かつ確実に除去するには、エアナイフノズルを、基板搬送手段上の基板と平行な面内で、その搬送方向と直交する方向に対して所定の角度傾けるように配置するのが望ましく、その傾き角は具体的には４５°の角度とするのが最も望ましいとされている。これによって、エアの圧力により基板表面に沿って液が移動する方向は、基板の搬送方向ではなく、エアナイフノズルを傾けた分だけ斜め方向に向けて移動することになる。その結果、基板の搬送方向における後端部だけでなく、その側部からも液が除去されるので、液の移動距離が短くなり、もって基板表面から円滑かつ迅速に除去できる。
【０００７】
エアナイフノズルをこのように斜めに配置すると、基板表面に付着している液は最後の液切り位置となる角隅部に向けて集中することになる。ここで、エアナイフノズルから噴射されるエアの圧力は一定であるから、特に基板表面における液の付着量が多い場合等にあっては、角隅部に集中した液を完全に除去できない場合がある。そして、基板表面の角隅部に液が残留して完全な液切れが行われないまま次の工程に向けて搬送されると、この搬送途中での振動等に起因して、液が基板表面に向けて流れ出すおそれがあり、その結果一度乾燥した基板表面が再度汚損されて、しみ等が発生するという不都合が生じる。また、基板の角隅部に残留した液は基板搬送手段に付着することもある。基板搬送手段において、エアナイフノズルを通過した後の搬送経路は完全にドライな状態に保持されなければならず、搬送中の基板から液が基板搬送手段に付着していると、この液が後続の基板に触れて、やはり基板表面にしみ等が発生する可能性もある。
【０００８】
一方、基板を乾燥させるに当っては、この基板から排除した液が再度付着したり、ミストが発生して基板に付着したりするのを防止するために、エアナイフノズルは乾燥ステージを構成するチャンバの内部に設置される。しかも、エアナイフノズルによるエアの吹き付け領域に２枚の基板が同時に位置しないようにする必要がある。液の除去を促進するために、前述したように、エアナイフノズルの傾き角を大きくすると、基板搬送手段による基板の搬送間隔を広くしなければならず、また乾燥ステージを構成するチャンバも大型化する。
【０００９】
以上のことから、乾燥効率の点からは、エアナイフノズルの傾き角は４５°が望ましいが、乾燥チャンバの小型化、基板の搬送ピッチ間隔の短縮等を図るためには、エアナイフノズルの基板に対する傾き角を小さく、つまり基板の搬送方向に対して直角に近い角度とせざるを得ない。その結果、基板の搬送方向における側部側のエッジを伝って液が移動することになり、この液が最後の液切れ位置となる角隅部に益々集中することになって、この角隅部からの液の排除がより困難になる。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
前述した目的を達成するために、本発明による基板乾燥装置は、薄板の基板を水平または所定の角度傾斜した状態で搬送する基板搬送手段と、この基板搬送手段の搬送方向の途中に配置されて、この基板搬送手段で搬送される基板の表面に付着する液を剥離するようにして乾燥させるエアナイフノズルと、このエアナイフノズルに形成され、基板表面からほぼ均一な間隔だけ離間した位置から基板の搬送方向と直交する方向に対して所定角度で、この基板搬送方向に対向する方向に向けて所定の入射角をもって前記基板の幅方向の全長にわたってエアを噴射させて、その表面に付着している液を剥離するようにして乾燥させるスリット状のノズル口と、前記基板搬送手段上を搬送される前記基板のうち、前記エアナイフノズルが最後に離脱する位置の角隅部に対面するように設けられ、このエアナイフノズルが基板通過後にこの角隅部及びその近傍に滞留する液を角隅部からそぎ落とすようにパージする液パージ用のエアを噴射する補助噴射ノズルとを備え、前記補助噴射ノズルからのエアの前記基板への入射角は、前記エアナイフノズルのノズル口からのエアの前記基板への入射角より大きくなるように設定する構成としたことをその特徴とするものである。
【００１１】
基板に対してエアナイフノズルが通過した後に、この基板の角隅部から液をそぎ落とすようにパージするエアを噴射する補助噴射ノズルは連続的にエアを噴出させるようにしても良いが、基板に対して角隅部が対面する位置まで搬送された時に液パージ用のエアを噴射するように構成する方が乾燥精度が高くなる。また、この補助噴射ノズルは角隅部にのみエアを噴射する短い寸法のもので良いので、基板の搬送方向と直交する方向に対して大きな角度を持たせたとしても、乾燥チャンバの大きさ及び基板搬送手段により搬送される基板の間隔に対して影響を与えることはない。従って、基板の搬送方向と直交する方向に対するエアナイフノズルの傾き角と補助噴射ノズルの傾き角とでは、補助噴射ノズルの方を大きく設定するのが望ましい。また、エアナイフノズルの基板への噴射エアの入射角と補助噴射ノズルの基板への噴射エアの入射角とでは、補助噴射ノズルの方が大きくなるように設定する方が角隅部からの液切りをより確実に行える。
【００１２】
基板は、例えばガラス，合成樹脂，金属等の薄板からなり、その形状としては正方形または長方形である。長方形の基板の場合には、その長辺が搬送方向の前後方向に向けて延在させるようにして基板搬送手段に設置する。ここで、基板搬送手段としては、ローラコンベアやベルトコンベア等が用いられる。基板搬送手段により基板を水平状態にして搬送しても良いが、傾斜状態にして搬送するように構成することもできる。傾斜搬送は、その搬送方向の一方側の側部から他方側の側部に向けて傾斜させるようにする。これによって、基板の表面に付着する液はこの傾斜に沿って流れるようになり、エアナイフノズルによる液パージに先立って液滴等を除去できるから、乾燥効率はさらに向上する。
【００１３】
また、本発明の基板乾燥方法としては、基板搬送手段により基板を搬送する間に、この基板の表面に対して加圧エアを所定の角度をもって噴射することにより乾燥させるものであって、前記基板を搬送する間に、エアナイフノズルによりこの基板の幅方向の全長にわたって均一な間隔だけ離間させ、かつこの基板搬送方向に対向する方向に所定の入射角をもってエアを基板に噴射させて、その表面に付着している液を剥離するようにして乾燥するようになし、前記エアナイフノズルの前記基板へのエアの噴射位置を通過した後、前記基板に対するエアの噴射が最後に行われた角隅部に対して、このエアナイフノズルによるエアの入射角より大きい角度をもって、この角隅部及びその近傍に滞留する液を角隅部からそぎ落とすようにパージすることをその特徴とするものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態について説明する。なお、本発明は以下に示す実施の形態に限定されるものでないことは言うまでもない。
【００１５】
而して、図１及び図２において、１は基板であり、この基板１は、例えば長方形のガラス基板で構成される。２は基板搬送手段としてのローラコンベアであり、このローラコンベア２は所定のピッチ間隔をもって設けた回転軸３にその長手方向に複数のローラ４を装着したものからなり、両端のローラ４ａ，４ａには鍔部５が連設されている。基板１は長方形の薄板からなり、その長辺を両鍔部５，５に当接するようにして位置決めされ、その表面を水平にした状態で図１の矢印方向に搬送されることになる。このために、各回転軸３の一端にはギア６が連結して設けられ、これら各回転軸３のギア６は伝達ギア７を介して順次係合しており、従って１本の回転軸３のギア６を回転駆動することによって、全ての回転軸３が回転する。そして、この基板１の搬送方向における手前側では、図示は省略するが、シャワーや洗浄ノズル等を用いて洗浄液を基板１に供給して、その表面または表裏両面が洗浄される洗浄ステージとなっており、また洗浄後の基板１はそのままローラコンベア２により搬送されて乾燥ステージに至る。
【００１６】
乾燥ステージには、ローラコンベア２による基板１の搬送方向と交差するように、長尺のエアナイフノズル１０が設けられている。図２に示したように、エアナイフノズル１０は基板１の表裏両面に対向するように配設され、基板１の表裏両面が同時に乾燥される。これら上下のエアナイフノズル１０はローラコンベア２による基板１の搬送と干渉しない位置に設けたブラケット１１に支持されている。エアナイフノズル１０は、図２に示したように、内部に加圧エアチャンバ１０ａが形成されると共に、この加圧エアチャンバ１０ａに通じる細いスリット状通路１０ｂが形成されており、このスリット状通路１０ｂの先端がノズル口１０ｃとなっている。そして、このエアナイフノズル１０にはエア配管１２が接続されており、このエア配管１２から加圧したクリーンエアが加圧エアチャンバ１０ａ内に供給されるようになっている。
【００１７】
以上のように構成されるエアナイフノズル１０からは、基板１の表裏両面に向けて所定の入射角をもってエアが噴出されることになる。ここで、エアナイフノズル１０のノズル口１０ｃは、基板１の表裏両面の幅方向、つまり基板１の搬送方向と直交する方向の全長に及ぶものであり、かつノズル口１０ｃの基板１に対する離間距離Ｄはその全長にわたって均一になっている。そして、エアナイフノズル１０からはスリット状通路１０ｂにより整流されて細いスリット状となったノズル口１０ｃから噴射される。従って、エアナイフノズル１０の基板１に対するエアの入射角はこのスリット状通路１０ｂの基板１に対する角度と一致する。このエアの入射方向は、基板１の搬送方向に対向する方向であり、入射角Ｓは鋭角になっている。そして、この入射角Ｓは、エアナイフノズル１０の基板１に対する仰角を調整することにより適宜設定することができる。このように、エアナイフノズル１０の仰角を調整した状態にしてブラケット１１に支持させることによって、エアが基板１の表面に確実に作用して、基板１に付着している液が跳ね上がったりすることなく、安定した状態で基板１の表面に沿って押し流すことができる角度とする。
【００１８】
エアナイフノズル１０は、前述したように、基板１に対して平行に配置されているが、この基板１と平行な面内で、基板１の搬送方向と直交する方向に対して所定角度傾いている。つまり、エアナイフノズル１０は基板１の搬送方向に対して所定の傾き角Ｔ（図１）を持たせている。これによって、図３に示したように、基板１の表面に沿って流れるエアの方向は、この基板１の搬送方向に対して斜め方向となる。その結果、基板１がローラコンベア２により搬送された時に、エアナイフノズル１０からのエアが最初に及ぶ領域は角隅部Ｃ₁ であり、これがエアの基板１への突入位置である。また、エアナイフノズル１０からのエアが最後に及ぶ領域は角隅部Ｃ₁ と対角の位置にある角隅部Ｃ₂ となり、この角隅部Ｃ₂ がエアの離脱位置となる。
【００１９】
２０は補助噴射ノズルを示し、この補助噴射ノズル２０は、エアナイフノズル１０とは別個のブラケット２１に取り付けられ、かつエア供給チューブ２２が連結されている。この補助噴射ノズル２０は、加圧エアチャンバ２０ａ，スリット状通路２０ｂ及びノズル口２０ｃを有するものであり、かつエア配管２２が接続されており、従って実質的にエアナイフノズル１０と同じ構成となっている。ただし、この補助噴射ノズル２０はエア増量手段を構成するものであり、この補助噴射ノズル２０は、エアナイフノズル１０によるエアの離脱位置である基板１の角隅部Ｃ₂ に向けて集中的にエアを噴射するためのものである。従って、ローラコンベア２による基板１の搬送方向において、その角隅部Ｃ₂ 及びその近傍位置が通る軌跡を含む位置に配置されており、エアナイフノズル１０と比較して極めて短い寸法のものである。
【００２０】
ここで、エアナイフノズル１０と補助噴射ノズル２０とにおける基板１に対する離間距離、入射角及び傾き角は同じであっても良いが、それぞれ独立に設定するのが望ましい。まず、エアナイフノズル１０から噴射されるエアによって、基板１の表面に付着している液を排除するためのものである。従って、基板１の表面に沿って液が流れる距離はできるだけ短い方が望ましい。
【００２１】
今、図３において、基板１の角隅部Ｃ₁ から突入したエアにより液が基板１の表面に沿って押し流されるとして、この液が流れる方向は、基板１の搬送方向であり、液が排出されるのは後端部Ｌ₁ からである。エアナイフノズル１０に傾き角を与えると、液の流れる方向は基板１に対して斜め方向であるから、液が排出されるのは、後端部Ｌ₁ 及び側部Ｌ₂ となる。ここで、エアナイフノズル１０の傾き角Ｔを大きくすると、エアナイフノズル１０のノズル口１０ｃの全長が長くなる。また、エアナイフノズル１０は前後に位置する基板１，１に対して同時にエアが作用しないように保持しなければならない。これは、先行基板に対してなおエアが作用している間に、後続基板の乾燥が始まると、後続の基板における乾燥した領域に先行基板から飛散する液が付着するおそれがあるからである。従って、エアナイフノズル１０の傾き角Ｔを大きくすると、基板１の搬送ピッチ間隔Ｐを大きくしなければならない。さらに、基板１の搬送方向におけるエアの噴射領域の幅Ｅはできるだけ短くする方が、乾燥ステージのコンパクト化を図る上で有利である。
【００２２】
以上の点で、エアナイフノズル１０の傾き角が制約される。従って、乾燥効率と、エアナイフノズル１０の小型化、乾燥ステージのコンパクト化等を総合勘案して、エアナイフノズル１０の傾き角Ｔを設定するが、その範囲としては１５〜３０°前後とし、好ましくは２０°程度とする。このように、エアナイフノズル１０の傾き角Ｔを所定の値とした上で、基板１を完全に乾燥させるために、エアナイフノズル１０と基板１との間の離間距離Ｄ及び基板１に対する入射角Ｓを適宜設定する。従って、これら離間距離Ｄ及び入射角Ｓは、エアナイフノズル１０の傾き角Ｔが所定の値として設定した状態で、エアの噴射による基板１の乾燥を確実に行えるように設定する。ここで、離間距離Ｄ及び入射角Ｓは、エアの噴射量及び基板１の表面状態等により異なるが、例えば、離間距離Ｄは数ｍｍ程度、入射角Ｓは３０〜５０°程度とするのが望ましい。
【００２３】
一方、補助噴射ノズル２０については、基板１の角隅部Ｃ₂ 乃至その近傍に寄せ集められた液を振り切るようにパージするためのものであり、この補助噴射ノズル２０から噴射されるエアは基板１の表面に沿って押し出す方向に力を作用させるものではない。また、ノズル口２０ｃの長さはエアナイフノズル１０のそれより極めて短いものとなるので、その傾き角ｔをどのように設定したとしても、装置構成上、格別の制約を受けることはない。そこで、補助噴射ノズル２０の傾き角ｔはより効果的に液をパージできる角度とする。このために、補助噴射ノズル２０の傾き角ｔの方をエアナイフノズル１０の傾き角Ｔより大きくする。具体的に言えば、例えば３０〜４５°程度とする。しかも、図４に示したように、エアナイフノズル１０からのエアは、点線で示したように、基板１の表面に沿って液を押し出す方向に作用するのに対して、補助噴射ノズル２０から噴射されるエアは、同図に実線で示したように、基板１の角隅部Ｃ₂ のエッジから液をそぎ落とすように作用させるようにする。つまり、補助噴射ノズル２０から基板１へのエアの入射角ｓはエアナイフノズル１０によるエアの入射角Ｓより大きくする。この入射角ｓは４５°以上であって、６０°〜８０°とするのが望ましい。さらに、補助噴射ノズル２０の基板１に対する離間距離ｄは、エアナイフノズル１０の離間距離Ｄと格別の差を持たせなくても良い。
【００２４】
基板乾燥装置は以上のように構成されるものであって、次にこの基板乾燥装置を用いて基板１を乾燥する方法について説明する。而して、基板１はローラコンベア２により搬送される間に、シャワーやノズル等から噴射乃至滴下される洗浄液により洗浄されて乾燥ステージに至る。この乾燥ステージにはエアナイフノズル１０が配置されており、このエアナイフノズル１０からは洗浄液を基板１の表面から剥離するようにして除去するために、高圧のエアが噴射される。
【００２５】
而して、図３において、基板１がＭ方向に搬送されているとすると、基板１の搬送により、エアナイフノズル１０から噴射されるエアは、まず最初にその角隅部Ｃ₁ に突入することになる。そして、基板１の進行と共に基板１の表面全体にエアが噴射される。エアナイフノズル１０からのエア圧によって、基板１の表面に付着している洗浄液は、基板１の搬送方向とは反対方向に向けて移動するが、エアナイフノズル１０は傾き角Ｔを有することから、液の移動方向は図３に矢印で示したように、斜め方向となり、洗浄液は基板１の後端部Ｌ₁ 及び一方側の長辺側の側部Ｌ₂ の方向に向けて排出される。これによって、基板１の表面から洗浄液が極めて迅速かつ効率的に除去されて、エアナイフノズル１０が通過した部分から順次乾燥されることになる。
【００２６】
基板１の進行によって、この基板１は、その表面に付着している洗浄液が除かれながらエアナイフノズル１０から離脱することになるが、最後にエアナイフノズル１０から離脱する位置は、この基板１の角隅部Ｃ₂ である。この時には、エアナイフノズル１０からのエア圧の作用で洗浄液がこの角隅部Ｃ₂ に向けて移動して、この角隅部Ｃ₂ に集中することになる。従って、エアナイフノズル１０から一定の圧力でエアを噴出させたままでは、エアナイフノズル１０がこの角隅部Ｃ₂ から離脱する際に、この角隅部Ｃ₂ に集中した洗浄液を完全には除去できないことがある。しかしながら、基板１の角隅部Ｃ₂ に対しては、補助噴射ノズル２０が対面するように配置されているから、補助噴射ノズル２０が角隅部Ｃ₂ と対面する至る直前の位置から角隅部Ｃ₂ からもエアが噴射され、エアナイフノズル１０がこの角隅部Ｃ₂ から離脱した後でもエアを作用させることができる。従って、洗浄液の排出が最も困難である角隅部Ｃ₂ に対して噴射されるエアが増量される。しかも、補助噴射ノズル２０は、エアナイフノズル１０とは独立に、最後の液切れを確実に行わせることができるように、傾き角，入射角，離間距離等が設定されているので、角隅部Ｃ₂ に滞留する洗浄液が完全にパージされて、基板１には全く洗浄液が残らず、完全に乾燥できるようになる。
【００２７】
ここで、補助噴射ノズル２０からのエアの噴射は連続的に行っても良いが、より高度に乾燥させるには、この補助噴射ノズル２０が基板１の角隅部Ｃ₂ に対面する直前の位置から基板１が完全に離脱するまでの間だけエアを噴射させるように制御するのが望ましい。勿論、補助噴射ノズル２０より先行するエアナイフノズル１０により既に基板１は乾燥しているが、補助噴射ノズル２０は基板１に対して一部分しかエアを作用させないことから、乾燥直後の基板１に部分的にエアが吹き付けられると、極僅かではあるが、乾燥むらが生じる可能性もある。とりわけ、近年における液晶パネルのファインピッチ化の観点等からは、この程度の乾燥むらをも許されない。
【００２８】
従って、補助噴射ノズル２０が基板１の角隅部Ｃ₂ に対面する位置になった時に、エアを噴射させるように制御する場合には、ローラコンベア２上での基板１の位置を検出しなければならない。このためには、図１に示したように、ローラコンベア２における基板１の搬送方向の所定の位置に、例えば光センサ，磁気センサ，超音波センサ等の非接触センサを設けるか、またはローラ，触角等を用いた変位センサや荷重センサ等の接触式センサからなる通過センサ２３を配置しておき、この位置を基板１が通過した時に補助噴射ノズル２０からエアを吹き付けるように構成すれば良い。
【００２９】
なお、ローラコンベア２は基板１を水平搬送するのではなく、図５に示したように、側方に傾斜させて搬送するように構成することもできる。このためには、ローラコンベア２を構成する回転軸３をその軸線方向に向けて所定角度θ、例えば５〜１０°程度傾斜させるように構成する。これによって、基板１の傾斜方向は側部Ｌ₂ 側が下方に向くように傾斜した状態で搬送される。そして、この場合には、エアナイフノズル１０及び補助噴射ノズル２０はローラコンベア２の傾斜角度と一致するように傾斜させて、基板１と平行に配置する。
【００３０】
【発明の効果】
本発明は以上のように構成したので、所定の傾き角をもって装着したエアナイフノズルにより基板を乾燥する際に、その角隅部を含めた全体を完全に乾燥でき、基板の角隅部等への液の残留を確実に防止できる等の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態を示す基板乾燥装置の平面図である。
【図２】エアナイフノズルと補助噴射ノズルとの断面図である。
【図３】エアナイフノズルによる基板の表面に対する噴射エアの作用方向を示す作用説明図である。
【図４】エアナイフノズルによる基板表面の乾燥を行う状態と、補助噴射ノズルによる基板の角隅部の液のパージを行う状態とを示す作用説明図である。
【図５】基板の搬送方式の他の例を示す構成説明図である。
【符号の説明】
１基板２ローラコンベア
１０エアナイフノズル１０ａエア流入部
１０ｂスリット状通路１０ｃノズル口
２０補助噴射ノズル２０ａエア流入部
２０ｂスリット状通路２０ｃノズル口
１１，２１ブラケット１２，２２エア配管
２３通過センサ
Ｃ₁ ，Ｃ₂ 角隅部Ｌ₁ ，Ｌ₂ 側部エッジ
Ｄ，ｄ離間距離Ｓ，ｓ入射角
Ｔ，ｔ傾き角

Claims

薄板の基板を水平または所定の角度傾斜した状態で搬送する基板搬送手段と、
この基板搬送手段の搬送方向の途中に配置されて、この基板搬送手段で搬送される基板の表面に付着する液を剥離するようにして乾燥させるエアナイフノズルと、
このエアナイフノズルに形成され、基板表面からほぼ均一な間隔だけ離間した位置から基板の搬送方向と直交する方向に対して所定角度で、この基板搬送方向に対向する方向に向けて所定の入射角をもって前記基板の幅方向の全長にわたってエアを噴射させて、その表面に付着している液を剥離するようにして乾燥させるスリット状のノズル口と、
前記基板搬送手段上を搬送される前記基板のうち、前記エアナイフノズルが最後に離脱する位置の角隅部に対面するように設けられ、このエアナイフノズルが基板通過後にこの角隅部及びその近傍に滞留する液を角隅部からそぎ落とすようにパージする液パージ用のエアを噴射する補助噴射ノズルとを備え、
前記補助噴射ノズルからのエアの前記基板への入射角は、前記エアナイフノズルのノズル口からのエアの前記基板への入射角より大きくなるように設定する
構成としたことを特徴とする基板乾燥装置。
前記補助噴射ノズルは、前記角隅部が対面する位置まで搬送された時に前記基板に対して液パージ用のエアを噴射するものであることを特徴とする請求項１記載の基板乾燥装置。
前記基板搬送手段により搬送される前記基板の位置を検出する基板位置検出手段が設けられ、この基板位置検出手段により前記角隅部が前記エアナイフノズルと対面する直前の位置にまで搬送されたことを検出した時に、前記補助噴射ノズルからエアを吹き付ける構成としたことを特徴とする請求項１または２に記載の基板乾燥装置。
前記補助噴射ノズルは、前記基板の搬送方向と直交する方向に対して傾けて配置し、前記エアナイフノズルの傾き角より前記補助噴射ノズルの傾き角の方が大きくなるようにしたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の基板乾燥装置。
前記基板搬送手段は、その搬送方向に向けて、水平面から５〜１０°傾斜させる構成となし、前記エアナイフノズル及び前記補助噴射ノズルも同じ角度傾斜させるように装着したことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の基板乾燥装置。
基板搬送手段により基板を搬送する間に、この基板の表面に対して加圧エアを所定の角度をもって噴射することにより乾燥させるものにおいて、
前記基板を搬送する間に、エアナイフノズルによりこの基板の幅方向の全長にわたって均一な間隔だけ離間させ、かつこの基板搬送方向に対向する方向に所定の入射角をもってエアを基板に噴射させて、その表面に付着している液を剥離するようにして乾燥するようになし、
前記エアナイフノズルの前記基板へのエアの噴射位置を通過した後、前記基板に対するエアの噴射が最後に行われた角隅部に対して、このエアナイフノズルによるエアの入射角より大きい角度をもって、この角隅部及びその近傍に滞留する液を角隅部からそぎ落とすようにパージすることを
特徴とする基板乾燥方法。
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の基板乾燥装置を用いて、または請求項６に記載の基板乾燥方法を用いて、基板を乾燥させることを特徴とする基板の製造方法。