JP2001255503A - 液晶表示器用基板の乾燥装置 - Google Patents

液晶表示器用基板の乾燥装置

Info

Publication number
JP2001255503A
JP2001255503A JP2000066674A JP2000066674A JP2001255503A JP 2001255503 A JP2001255503 A JP 2001255503A JP 2000066674 A JP2000066674 A JP 2000066674A JP 2000066674 A JP2000066674 A JP 2000066674A JP 2001255503 A JP2001255503 A JP 2001255503A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
pressure gas
crystal display
liquid crystal
suction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000066674A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaru Kobayashi
勝 小林
Eiji Koyama
英司 小山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2000066674A priority Critical patent/JP2001255503A/ja
Publication of JP2001255503A publication Critical patent/JP2001255503A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】液晶表示器用基板に対し不良発生を防止しなが
ら良好な乾燥処理を行うことができる液晶表示器用基板
の乾燥装置を提供する。 【解決手段】液処理された液晶表示器用基板1が基板搬
送機構19によって搬入される乾燥室11の内部に、基
板1に高圧気体30を吹き付けて基板1に付着している
処理液を基板搬送方向の上流側に向け吹き飛ばす一対の
高圧気体噴射部12,13を、基板搬送路20の上下位
置で相対向させて配置する。高圧気体噴射部12,13
に対し搬送方向上流側における高圧気体30が吹き付け
られる箇所に近接した基板搬送路20の上下位置に、高
圧ガス30で処理液が吹き飛ばされて発生した液滴を吸
引して排気する一対の吸引排気部17,18を、相対向
した配置で設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示器用基板
の製造工程に設置される枚葉式洗浄装置、枚葉式エッチ
ング装置あるいは枚葉式レジスト剥離装置などに適用で
きる乾燥装置であって、液処理などの湿式表面処理を施
された基板に付着残存している処理液を強制的に除去し
て基板を乾燥させるための液晶表示器用基板の乾燥装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、液晶表示器用基板の製造工程で
は、基板に対し薬液を用いて洗浄処理を行う洗浄装置
や、基板に対しフォトリソグラフィによって形成された
所定のパターンのエッチング処理を行うエッチング装置
あるいはパターンニングのためにフォトリソグラフィに
よって被エッチング部をカバーリングしたレジストをエ
ッチングによりパターンニング処理した後に基板上のレ
ジストを除去するためのレジスト剥離装置などが設置さ
れて、上記の各種の液処理が連続的に行われる。
【0003】上記各種の液処理がそれぞれ終了したとき
には、何れの液処理終了時においても基板に付着残存し
ている処理液を強制的に除去するための乾燥処理が施さ
れる。この乾燥処理は、上記の洗浄装置、エッチング装
置およびレジスト剥離装置の何れにおいても基本的に同
様の工程で行われ、そのような乾燥装置を設けた基板処
理システムの一例の概略構成を図4に示す。同図には、
液晶表示器用基板1を一枚ずつ順次搬送する枚葉式の基
板処理システムを例示している。被処理物である液晶表
示器用基板1は、ニュートラル室2から1枚ずつ所定の
間隔で第1の薬液処理室3内に送り込まれて、この第1
の薬液処理室3および第2の薬液処理室4内を搬送され
るときに、薬液による洗浄、エッチングまたはレジスト
剥離などの所要の液処理が施される。
【0004】上記の液処理が施された液晶表示器用基板
1は、薬液除去処理室7内に搬送されて、表面に付着し
ている薬液の除去処理を施されたのち、第1の水洗処理
室8およひ第2の水洗処理室9内に順次搬送されて、表
面に残存付着している薬液を水で洗い流される。最後
に、基板1は、乾燥装置10における乾燥室11内に搬
入されたときに、一般に液切りナイフと称せられている
上下一対の高圧気体噴射部12,13によって表面およ
び裏面が乾燥される。すなわち、基板1の表面および裏
面には、高圧気体噴射部12,13の先端のスリット状
の吐出口から層状の高圧ガスが吹き付けられることによ
り、基板1の両面に付着残存している処理液が、基板1
の矢印で示す搬送方向に対し上流側に向け移動されたの
ちに、基板1の搬送方向上流側の後端から基板1の後方
に吹き飛ばされる。これにより、基板1は、表面および
裏面から処理液が強制的に除去されることによって乾燥
される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、乾燥室
10に設置されている図示しない排気機構は、上下の高
圧気体噴射部12,13から噴射された高圧ガスによっ
て基板1に付着残存していた処理液が吹き飛ばされて発
生する液滴を迅速に室外に排出するのに十分な排気能力
を備えていないので、液滴の一部分が基板における乾燥
済みの表面または裏面に再付着することがある。この基
板1に再付着した液滴は、基板1の表面に形成されてい
る薄膜と化学反応を引き起こすおそれがあり、この化学
反応が生じたときには上記薄膜を腐食あるいは変質させ
てしまう。このような薄膜の腐食または変質は、処理後
の液晶表示器用基板1を用いて液晶表示器を構成したと
きに、表示の画像むらや薄膜トランジスタ部の動作不良
といった不具合を生じさせて、画質の低下を招いたり、
表示の信頼性が低下するといった問題を発生させる原因
になっている。このように、従来の乾燥装置10を用い
て乾燥処理した場合には、基板1の不良発生率が比較的
高く、歩留りの低下を招くといった欠点がある。
【0006】そこで、本発明は、上記従来の課題に鑑み
てなされたもので、液晶表示器用基板の不良発生を防止
しながら良好な乾燥処理を行うことのできる液晶表示器
用基板の乾燥装置を提供することを目的とするものであ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の液晶表示器用基板の乾燥装置は、液処理さ
れた液晶表示器用基板が基板搬送機構によって搬入され
る乾燥室と、前記乾燥室の内部における基板搬送路の上
下位置に相対向して配置され、搬送中の前記基板の両面
にそれぞれ高圧気体を吹き付けることによって前記基板
に付着している処理液を基板搬送方向の上流側に向け吹
き飛ばす一対の高圧気体噴射部と、前記高圧気体噴射部
に対し搬送方向上流側における高圧気体が吹き付けられ
る箇所に近接した基板搬送路の上下位置に相対向して配
置され、処理液が高圧ガスで吹き飛ばされて発生した液
滴を吸引して排気する一対の吸引排気部とを備えている
ことを特徴としている。
【0008】この液晶表示器用基板の乾燥装置では、上
下一対の高圧気体噴射部から噴射された高圧気体によっ
て基板の両面に付着している処理液が吹き飛ばされて、
基板が乾燥され、この基板から処理液が基板搬送方向上
流側に吹き飛ばされて発生した液滴が、その吹き飛ばさ
れる箇所に近接した位置に配置されている上下一対の吸
引排気部に迅速、且つ効率的に吸引されたのち、乾燥室
の外部に排出される。したがって、液滴が乾燥済みの基
板に再付着するのを確実に防止することができるので、
液滴の再付着に伴う薄膜の腐食、劣化または損傷などが
生じることがなくなり、基板の不良発生率が格段に低下
して歩留りが大幅に向上する。そのため、この乾燥装置
を用いれば、特性が安定化された良好な基板を得ること
ができ、その基板を用いた液晶表示器は、長期にわたっ
て画像むらやトランジスタ部の動作不良の発生が抑制さ
れて、信頼性の高いものとなる。
【0009】上記発明において、吸引排気部の吸気圧力
は高圧気体噴射部からの高圧気体の噴出圧力よりも低く
設定されていることが好ましい。これにより、高圧気体
噴射部からの高圧気体による処理液の除去能力が、吸引
排気部による吸引力の影響で低下するのを防止すること
ができ、基板の両面に付着している処理液の除去効果と
液滴の乾燥室外部への排出効果とを共に確実に得ること
ができる。
【0010】上記発明において、一対の高圧気体噴射部
と一対の吸引排気部とが、液晶表示器用基板の搬入口と
搬出口とを有する箱状のカバーケースの内部に配設され
ている構成とすることが好ましい。
【0011】これにより、高圧気体によって吹き飛ばさ
れて発生した液滴は、乾燥室の内部で飛散するのが防止
されて、極めて効率的に吸引排気部内に吸引されるの
で、液滴の排出能力が一層向上する。
【0012】上記発明において、液晶表示器用基板の搬
入口と搬出口とを有し、内部に一対の高圧気体噴射部と
一対の吸引排気部とが配設されたカバーケースが、乾燥
室の内部における基板搬送路に沿った位置に複数連設さ
れている構成とすることもできる。これにより、基板に
対する高圧気体の吹き付けによる乾燥と吸引排気部によ
る液滴の除去とを連続的に複数回行えるとともに、個々
に設けたカバーケースにより、これらの内部に発生した
液滴が互いに影響を及ぼすことが確実に防止されるの
で、基板の乾燥を一層効果的に行えるとともに、液滴の
基板への再付着を一層確実に防止することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態について図面を参照しながら説明する。図1は本発明
の第1の実施の形態に係る乾燥装置14を適用した基板
処理システムを示す概略構成図であり、同図において、
図4と同一若しくは同等のものには同一の符号を付して
ある。上記乾燥装置14が図4の従来の乾燥装置10と
相違する点は、上下一対の高圧気体噴射部12,13に
対し基板1の搬送方向上流側の位置に、一対の吸引排気
部17,18を基板搬送路の上方および下方に配置して
設けた構成のみである。
【0014】上記吸引排気部17,18を設けた乾燥装
置14の説明に先立って、乾燥装置14以外の構成につ
いての補足説明をする。液晶表示器用基板1は、複数個
の駆動搬送ローラ19によって構成された基板搬送路2
0に沿って矢印で示す基板搬送方向に向け水平姿勢を保
持しながら搬送される。各駆動搬送ローラ19は、基板
搬送方向に対し直交方向に配置されて、図示しないモー
タの回転をチェーンなどを介し伝達されて、一定速度で
回転する。第1および第2の薬液処理室3,4では、基
板搬送路20に対し上方位置において平行に配列して設
けられた複数の薬液噴射ノズル21から薬液が搬送中の
基板1の表面に噴射されて、所要の薬液処理が施され
る。第1および第2の水洗処理室8,9では、所要の薬
液処理を施されたのちに搬送中の基板1に対して、複数
の洗浄ノズル22から洗浄液(例えば純水)が表面およ
び裏面にそれぞれスプレー状に吹き付けられ、基板1の
両面に付着している不要物などを洗い流される。
【0015】図2は乾燥装置14の要部を詳細に示した
拡大図である。乾燥室11内部における基板搬入口23
の近傍箇所には、箱体における基板搬送路20に対向す
る箇所に基板1が挿通できる形状の基板搬入口27と基
板搬出口28とが開口されたカバーケース24が設置さ
れている。このカバーケース24の内部には、既存の上
下一対の高圧気体噴射部12,13と、これら高圧気体
噴射部12,13に対し基板搬送方向の上流側に配置さ
れた上下一対の吸引排気部17,18とが設けられてい
る。
【0016】高圧気体噴射部12,13は、先細り形状
となった先端部にスリット状に形成された吐出口12
a,13aを有し、高圧ガスホース29を介して図示し
ない気体供給源に連結され、気体供給源から供給された
窒素または空気などの高圧ガス30を、吐出口12a,
13aから基板搬送方向の上流側に向けて斜め方向に噴
射する。この吐出口12a,13aは、基板搬送方向に
対し直交方向に基板1の幅よりも僅かに長いスリット状
に形成されて、高圧ガス30を帯状に噴射する。したが
って、基板1が基板搬送路20における高圧ガス30が
吹き付けられている位置まで進入すると、基板1の両面
に付着している洗浄液は、基板1の後部へと押し流され
たのちに、基板1の後端から吹き飛ばされる。これによ
り、基板1は、洗浄液が強制的に除去されて乾燥され
る。
【0017】上下一対の吸引排気部17,18は、共に
同一のものであって、排気ダクト31の先端に液滴吸引
用ノズル32が取り付けられた構成になっている。この
吸引排気部17,18は、液滴吸引用ノズル32,32
の吸引口32a,32aを、高圧ガス30が吹き付けら
れる位置よりも基板搬送方向の上流側に僅かに寄った位
置に配置されて、カバーケース24に気密に固着されて
いる。吸引口32aは、基板搬送方向に対し直交方向に
高圧気体噴射部12,13の吐出口12a,13aと同
等の長さ、或いはそれ以上の長さを有している。また、
排気ダクト31には、図示しない液抜きドレイン機構が
適所に設けられている。
【0018】上記乾燥装置14では、基板1の両面に付
着残存している洗浄液が、高圧気体噴射部12,13か
ら噴射された高圧ガス30によって搬送方向上流側に押
し流されたのちに基板1の後端から吹き飛ばされて、そ
れにより発生した液滴が、その吹き飛ばされる箇所に吸
引口32a,32aを向けて上下に配置された液滴吸引
用ノズル32に迅速、且つ効率的に吸引されたのち、排
気ダクト31,31を通じて乾燥室11の外部の液抜き
ドレイン機構に排出される。
【0019】しかも、一対の高圧気体噴射部12,13
および一対の液滴吸引用ノズル32,32は共にカバー
ケース24内に配置されているので、高圧ガス30によ
って処理液が吹き飛ばされて発生した液滴は、乾燥室1
1の内部で四方に飛散するのが防止されて、極めて効率
的に液滴吸引用ノズル32内に吸引されるので、液滴の
排出能力が一層向上する。
【0020】さらに、液滴吸引用ノズル32の吸気圧力
は、高圧気体噴射部12,13の高圧ガス30のガス圧
力よりも低く設定されている。これにより、高圧気体噴
射部12,13からの高圧ガス30による液滴の除去能
力が液滴吸引用ノズル32による吸引力の影響で低下す
るのを防止されており、基板1の両面に付着している処
理液を効果的に除去することができる。
【0021】したがって、この乾燥装置14では、基板
1に残存する洗浄液を高圧ガス30によって効果的に除
去できるとともに、処理液が吹き飛ばされて発生した液
滴が基板1における乾燥済みの表面または裏面に再付着
するのを確実に防止することができるので、液滴の再付
着に伴う薄膜の腐食、劣化または損傷などが生じること
がなくなり、基板1の不良発生率が格段に低下して歩留
りが大幅に向上する。そのため、この乾燥装置14を用
いれば、特性が安定化された良好な基板1を得ることが
でき、その基板1を用いた液晶表示器は、長期にわたっ
て画像むらやトランジスタ部の動作不良の発生が抑制さ
れて、信頼性の高いものとなる。
【0022】なお、上記実施の形態では、一対の高圧気
体噴射部12,13と一対の吸引排気部17,18とを
カバーケース24内に取り付けて液滴の排出能力の一層
の向上を図った構成を例示しているが、図1に図示を省
略しているようにカバーケース24を設けずに、一対の
高圧気体噴射部12,13と一対の吸引排気部17,1
8とを図2の配置で乾燥室11内に配設するだけでも、
液滴の排出能力が上記実施の形態に比較して若干低下す
るものの、上述とほぼ同等の効果を得ることができる。
【0023】図3は本発明の第2の実施の形態に係る乾
燥装置33を示す要部の拡大図であり、同図において、
図2と同一若しくは同等のものには同一の符号を付して
ある。この実施の形態では、第1の実施の形態で設けた
一対の高圧気体噴射部12,13と一対の吸引排気部1
7,18とをカバーケース24内に取り付けた構成を1
組として、これを2組並置した構成になっている。
【0024】この乾燥装置33では、基板1に対する高
圧ガス30の吹き付けによる乾燥と一対の吸引排気部1
7,18による液滴の除去とを連続的に2回行うことが
できるとともに、個々に設けたカバーケース24,24
により、これらの内部に発生した液滴が互いに影響を及
ぼすことが確実に防止されるので、基板1の乾燥を一層
効果的に行えるとともに、液滴の基板1への再付着を一
層確実に防止することができる。
【0025】なお、上下一対の高圧気体噴射部12,1
3に対して二対またはそれ以上の複数対の吸引排気部1
7,18を組み合わせた構成としてもよい。このような
構成とした場合には、基板1の乾燥効果と液滴の除去効
果とがより一層向上して、液滴の付着が全く無い良好な
基板1を極めて高い歩留りで得ることができる。
【0026】
【発明の効果】以上のように、本発明の液晶表示器用基
板の乾燥装置によれば、基板に残存付着していた処理液
が高圧気体噴射部からの高圧ガスで吹き飛ばされて発生
した液滴を吸引して排気する一対の吸引排気部を、高圧
気体噴射部に対し搬送方向上流側における高圧気体が吹
き付けられる箇所に近接した基板搬送路の上下位置に相
対向して配置した構成としたので、高圧気体の吹き付け
により発生した液滴を、その吹き飛ばされる箇所に近接
した位置に配置されている上下一対の吸引排気部によっ
て迅速、且つ効率的に吸引して乾燥室の外部に排出する
ことができ、液滴が基板における乾燥済みの面に再付着
するのを確実に防止することができる。そのため、液滴
の基板への再付着に伴う薄膜の腐食、劣化または損傷な
どが生じることがなくなり、基板の不良発生率が格段に
低下して歩留りが大幅に向上するので、この乾燥装置を
用いれば、特性が安定化された良好な基板を得ることが
でき、その基板を用いた液晶表示器は、長期にわたって
画像むらやトランジスタ部の動作不良の発生が抑制され
て、信頼性の高いものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る乾燥装置を適
用した基板処理システムを示す概略構成図。
【図2】同上の乾燥装置を詳細に示す要部の拡大図。
【図3】本発明の第2の実施の形態に係る乾燥装置を示
す要部の拡大図。
【図4】従来の液晶表示器用基板の乾燥装置を備えた基
板処理システムを示す概略構成図。
【符号の説明】
1 液晶表示器用基板 11 乾燥室 12,13 高圧気体噴射部 14,33 乾燥装置 17,18 吸引排気部 19 駆動搬送ローラ(基板搬送機構) 20 基板搬送路 24 カバーケース 23,27 基板搬入口 28 基板搬出口 30 高圧ガス(高圧気体)

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 液処理された液晶表示器用基板が基板搬
    送機構によって搬入される乾燥室と、 前記乾燥室の内部における基板搬送路の上下位置に相対
    向して配置され、搬送中の前記基板の両面にそれぞれ高
    圧気体を吹き付けることによって前記基板に付着してい
    る処理液を基板搬送方向の上流側に向け吹き飛ばす一対
    の高圧気体噴射部と、 前記高圧気体噴射部に対し搬送方向上流側における高圧
    気体が吹き付けられる箇所に近接した基板搬送路の上下
    位置に相対向して配置され、処理液が高圧ガスで吹き飛
    ばされて発生した液滴を吸引して排気する一対の吸引排
    気部とを備えていることを特徴とする液晶表示器用基板
    の乾燥装置。
  2. 【請求項2】 吸引排気部の吸気圧力は高圧気体噴射部
    からの高圧気体の噴出圧力よりも低く設定されている請
    求項1に記載の液晶表示器用基板の乾燥装置。
  3. 【請求項3】 一対の高圧気体噴射部と一対の吸引排気
    部とが、液晶表示器用基板の搬入口と搬出口とを有する
    箱状のカバーケースの内部に配設されている請求項1ま
    たは2に記載の液晶表示器用基板の乾燥装置。
  4. 【請求項4】 液晶表示器用基板の搬入口と搬出口とを
    有し、内部に一対の高圧気体噴射部と一対の吸引排気部
    とが配設されたカバーケースが、乾燥室の内部における
    基板搬送路に沿った位置に複数連設されている請求項1
    ないし3の何れかに記載の液晶表示器用基板の乾燥装
    置。
JP2000066674A 2000-03-10 2000-03-10 液晶表示器用基板の乾燥装置 Pending JP2001255503A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000066674A JP2001255503A (ja) 2000-03-10 2000-03-10 液晶表示器用基板の乾燥装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000066674A JP2001255503A (ja) 2000-03-10 2000-03-10 液晶表示器用基板の乾燥装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001255503A true JP2001255503A (ja) 2001-09-21

Family

ID=18585996

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000066674A Pending JP2001255503A (ja) 2000-03-10 2000-03-10 液晶表示器用基板の乾燥装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001255503A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003107480A (ja) * 2001-09-28 2003-04-09 Toshiba Corp 液晶表示装置の製造方法
KR20030066210A (ko) * 2002-02-05 2003-08-09 엘지전자 주식회사 습식장치
KR101042537B1 (ko) * 2008-11-26 2011-06-17 세메스 주식회사 기판 건조 장치
KR101187882B1 (ko) 2010-09-30 2012-10-04 주식회사 디엠에스 기판의 건조장치
KR200463180Y1 (ko) * 2012-06-15 2012-10-19 한복우 기판 클리닝 장치
CN106734011A (zh) * 2016-11-24 2017-05-31 湖南亿泰启智能电子科技有限公司 一种用于电容触摸屏传感器玻璃清洗的自动化生产线

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003107480A (ja) * 2001-09-28 2003-04-09 Toshiba Corp 液晶表示装置の製造方法
JP4625601B2 (ja) * 2001-09-28 2011-02-02 東芝モバイルディスプレイ株式会社 液晶表示装置の製造方法
KR20030066210A (ko) * 2002-02-05 2003-08-09 엘지전자 주식회사 습식장치
KR101042537B1 (ko) * 2008-11-26 2011-06-17 세메스 주식회사 기판 건조 장치
KR101187882B1 (ko) 2010-09-30 2012-10-04 주식회사 디엠에스 기판의 건조장치
KR200463180Y1 (ko) * 2012-06-15 2012-10-19 한복우 기판 클리닝 장치
CN106734011A (zh) * 2016-11-24 2017-05-31 湖南亿泰启智能电子科技有限公司 一种用于电容触摸屏传感器玻璃清洗的自动化生产线

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100629767B1 (ko) 기판 처리장치 및 기판 세정유닛
KR100212074B1 (ko) 기판의 액제거장치
JP3918401B2 (ja) 基板乾燥装置及び乾燥方法、並びに基板の製造方法
JPH10275792A (ja) 基板乾燥装置
JP2006278606A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP2007194490A (ja) 処理装置及び処理方法
JP4352194B2 (ja) 基板乾燥装置及び基板乾燥方法
JP2001255503A (ja) 液晶表示器用基板の乾燥装置
JPWO2003071594A1 (ja) 搬送式基板処理装置
JP2002022359A (ja) 基板の乾燥装置
KR20030003235A (ko) 기판처리장치
JP4064729B2 (ja) 基板処理装置
JPH11204489A (ja) 基板乾燥装置及び基板乾燥方法
JP2002113430A (ja) 基板処理装置
TW201005854A (en) Device and method for treating substrate
JP2007317802A (ja) 基板の乾燥処理装置及び乾燥処理方法
WO2019043947A1 (ja) エッチング装置、および表示装置の製造方法
JP2874659B2 (ja) 基板表面処理装置
JPH0994546A (ja) 基板の液切り装置
JP3851370B2 (ja) 基板の液切り装置
JP4346967B2 (ja) レジスト剥離装置
JP2003282525A (ja) 基板処理装置
JP2988828B2 (ja) 基板の液切り乾燥装置
JP3659526B2 (ja) 基板の液切り装置
JPH11300300A (ja) 基板処理方法および同装置