JP2002022359A - 基板の乾燥装置 - Google Patents
基板の乾燥装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 気体を噴射させて基板に付着した付着液を除
去して乾燥させるとき、気体の噴射圧力によって基板に
撓みが生じないようにした乾燥装置を提供する。 【解決手段】 搬送ローラ６が列設された搬送路上を搬
送される基板１の下面に気体を噴射する下側エアーナイ
フ７に基板１の搬送を回転支持する補助ローラ５ａ〜５
ｄを取り付け、搬送ローラ６の列設間隔が広がって撓み
を生じやすい基板１を支持する。気体が噴射される位置
の至近位置で基板１の下面が支持されるので、基板１に
撓みが生じにくく、撓みによる乾燥むらの発生を抑制す
ることができる。
去して乾燥させるとき、気体の噴射圧力によって基板に
撓みが生じないようにした乾燥装置を提供する。 【解決手段】 搬送ローラ６が列設された搬送路上を搬
送される基板１の下面に気体を噴射する下側エアーナイ
フ７に基板１の搬送を回転支持する補助ローラ５ａ〜５
ｄを取り付け、搬送ローラ６の列設間隔が広がって撓み
を生じやすい基板１を支持する。気体が噴射される位置
の至近位置で基板１の下面が支持されるので、基板１に
撓みが生じにくく、撓みによる乾燥むらの発生を抑制す
ることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
用基板や回路基板等の製造工程中において、薬液処理さ
れた後、洗浄されて乾燥工程に搬送されてきた基板に気
体を噴射させて基板に付着した洗浄液を除去して乾燥さ
せる乾燥装置に関する。
用基板や回路基板等の製造工程中において、薬液処理さ
れた後、洗浄されて乾燥工程に搬送されてきた基板に気
体を噴射させて基板に付着した洗浄液を除去して乾燥さ
せる乾燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図６は、基板の一例である液晶ディスプ
レイ用基板の製造工程における乾燥装置の配設例を示す
もので、ウェットエッチング装置に設けられた例を示す
ものである。基板１は１枚ずつ図示矢印方向に搬送路２
上に搬入され、第１のニュートラル室１１から第１の薬
液処理室１２、第２の薬液処理室１３に搬送されて薬液
処理され、薬液処理後に第２のニュートラル室１４から
第１の水洗処理室１５、第２の水洗処理室１６に搬送さ
れて水洗処理される。水洗処理された基板１は乾燥処理
室１７に搬送されて付着した洗浄液が除去されて乾燥処
理される。
レイ用基板の製造工程における乾燥装置の配設例を示す
もので、ウェットエッチング装置に設けられた例を示す
ものである。基板１は１枚ずつ図示矢印方向に搬送路２
上に搬入され、第１のニュートラル室１１から第１の薬
液処理室１２、第２の薬液処理室１３に搬送されて薬液
処理され、薬液処理後に第２のニュートラル室１４から
第１の水洗処理室１５、第２の水洗処理室１６に搬送さ
れて水洗処理される。水洗処理された基板１は乾燥処理
室１７に搬送されて付着した洗浄液が除去されて乾燥処
理される。
【０００３】図８は、乾燥処理室１７内に配設された乾
燥装置の構成を示すもので、搬送ローラ６上を搬送され
る基板１に対し、搬送ローラ６の上方及び下方に斜めに
配設された上側エアーナイフ８及び下側エアーナイフ７
から気体を噴射させるように構成されている。上側及び
下側の各エアーナイフ８、７は、図７に示すように、配
管９から送給される気体を先端のスリット８ａ（７ａ）
から噴出させるように構成され、狭いスリット８ａから
圧縮気体を噴出させることによって基板１の表面に付着
した洗浄液が吹き飛ばされ、基板１を乾燥させることが
できる。また、上側エアーナイフ８及び下側エアーナイ
フ７がぞれぞれ基板１の搬送方向に傾けて配設されてい
るので、気体の噴射により洗浄液は基板１の端に向かっ
て流れ、効率的に洗浄液を除去することができる。
燥装置の構成を示すもので、搬送ローラ６上を搬送され
る基板１に対し、搬送ローラ６の上方及び下方に斜めに
配設された上側エアーナイフ８及び下側エアーナイフ７
から気体を噴射させるように構成されている。上側及び
下側の各エアーナイフ８、７は、図７に示すように、配
管９から送給される気体を先端のスリット８ａ（７ａ）
から噴出させるように構成され、狭いスリット８ａから
圧縮気体を噴出させることによって基板１の表面に付着
した洗浄液が吹き飛ばされ、基板１を乾燥させることが
できる。また、上側エアーナイフ８及び下側エアーナイ
フ７がぞれぞれ基板１の搬送方向に傾けて配設されてい
るので、気体の噴射により洗浄液は基板１の端に向かっ
て流れ、効率的に洗浄液を除去することができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、下側エ
アーナイフ７が配設された位置では、下側エアーナイフ
７が斜めに配設されていることもあって、搬送ローラ６
の列設間隔が広くなり、基板１の端が次の搬送ローラ６
に達するまでの距離が大きく、基板１の端部が搬送ロー
ラ６に支持されない状態で上側エアーナイフ８及び下側
エアーナイフ７から噴射される気体の圧力を受けると撓
みが生じる問題点があった。
アーナイフ７が配設された位置では、下側エアーナイフ
７が斜めに配設されていることもあって、搬送ローラ６
の列設間隔が広くなり、基板１の端が次の搬送ローラ６
に達するまでの距離が大きく、基板１の端部が搬送ロー
ラ６に支持されない状態で上側エアーナイフ８及び下側
エアーナイフ７から噴射される気体の圧力を受けると撓
みが生じる問題点があった。
【０００５】また、搬送ローラ６は基板１の下面を開放
させて接触面積を小さくするため、基板１の搬送方向に
直交する方向に幅の狭い複数のローラを配して構成され
ているので、基板１のローラで支持されない部位は上側
エアーナイフ８及び下側エアーナイフ７から噴射される
気体の圧力を受けると撓みが生じやすくなる問題点があ
った。
させて接触面積を小さくするため、基板１の搬送方向に
直交する方向に幅の狭い複数のローラを配して構成され
ているので、基板１のローラで支持されない部位は上側
エアーナイフ８及び下側エアーナイフ７から噴射される
気体の圧力を受けると撓みが生じやすくなる問題点があ
った。
【０００６】基板１の撓みは、上側エアーナイフ８と下
側エアーナイフ７とによる気体噴射のバランスを崩し、
基板１に付着した洗浄液の除去が不充分となり、これが
乾燥むらとなり、この基板１を使用した液晶ディスプレ
イに画像むらや動作不良を発生させる。
側エアーナイフ７とによる気体噴射のバランスを崩し、
基板１に付着した洗浄液の除去が不充分となり、これが
乾燥むらとなり、この基板１を使用した液晶ディスプレ
イに画像むらや動作不良を発生させる。
【０００７】本発明が目的とするところは、気体噴射手
段（エアーナイフ）に直接搬送ローラを取り付けること
によって、基板の撓みを防止して乾燥むらを生じさせな
いようにした基板の乾燥装置を提供することにある。
段（エアーナイフ）に直接搬送ローラを取り付けること
によって、基板の撓みを防止して乾燥むらを生じさせな
いようにした基板の乾燥装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本願の第１発明は、搬送方向に搬送ローラが列設され
た搬送路上を搬送される基板に対し、搬送路の上方に搬
送方向に傾斜させて配設された上側気体噴射手段と、搬
送路の下方に搬送方向に傾斜させて配設された下側気体
噴射手段とから基板の上面及び下面に斜め方向から気体
を噴射させ、基板に付着した付着液を除去して乾燥させ
る基板の乾燥装置において、前記下側気体噴射手段に、
基板の搬送を回転支持する補助ローラが取り付けられて
なることを特徴とするものである。
の本願の第１発明は、搬送方向に搬送ローラが列設され
た搬送路上を搬送される基板に対し、搬送路の上方に搬
送方向に傾斜させて配設された上側気体噴射手段と、搬
送路の下方に搬送方向に傾斜させて配設された下側気体
噴射手段とから基板の上面及び下面に斜め方向から気体
を噴射させ、基板に付着した付着液を除去して乾燥させ
る基板の乾燥装置において、前記下側気体噴射手段に、
基板の搬送を回転支持する補助ローラが取り付けられて
なることを特徴とするものである。
【０００９】この第１発明の構成によれば、下側気体噴
射手段が配設される位置では、下側気体噴射手段が基板
の搬送方向に傾斜して配設されていることもあって搬送
ローラの列設間隔が広くなる状態が、下側気体噴射手段
に補助ローラが取り付けられていることにより解消され
る。搬送ローラの列設間隔が広がった状態では、基板の
搬送方向端部が搬送ローラによって支持されない状態と
なり、ここに気体噴射手段から気体が噴射されたとき基
板に撓みが生じて付着液の除去が不充分となって乾燥む
らが生じ、この基板を用いて製造される装置に不良を発
生させる原因となるが、下側気体噴射手段に取り付けら
れた補助ローラにより基板の撓みが抑制され、乾燥不良
の発生が防止される。
射手段が配設される位置では、下側気体噴射手段が基板
の搬送方向に傾斜して配設されていることもあって搬送
ローラの列設間隔が広くなる状態が、下側気体噴射手段
に補助ローラが取り付けられていることにより解消され
る。搬送ローラの列設間隔が広がった状態では、基板の
搬送方向端部が搬送ローラによって支持されない状態と
なり、ここに気体噴射手段から気体が噴射されたとき基
板に撓みが生じて付着液の除去が不充分となって乾燥む
らが生じ、この基板を用いて製造される装置に不良を発
生させる原因となるが、下側気体噴射手段に取り付けら
れた補助ローラにより基板の撓みが抑制され、乾燥不良
の発生が防止される。
【００１０】また、上記目的を達成するための本願の第
２発明は、基板を搬送する搬送路が搬送方向と直交する
方向に複数のローラを配置した搬送ローラを搬送方向に
列設して構成され、この搬送路上を搬送される基板に対
し、搬送路の上方に搬送方向に傾斜させて配設された上
側気体噴射手段と、搬送路の下方に搬送方向に傾斜させ
て配設された下側気体噴射手段とから基板の上面及び下
面に斜め方向から気体を噴射させ、基板に付着した付着
液を除去して乾燥させる基板の乾燥装置において、前記
下側気体噴射手段に、基板の搬送を回転支持する補助ロ
ーラが基板の搬送方向と直交する方向に取付け位置変更
可能に取り付けられてなることを特徴とする。
２発明は、基板を搬送する搬送路が搬送方向と直交する
方向に複数のローラを配置した搬送ローラを搬送方向に
列設して構成され、この搬送路上を搬送される基板に対
し、搬送路の上方に搬送方向に傾斜させて配設された上
側気体噴射手段と、搬送路の下方に搬送方向に傾斜させ
て配設された下側気体噴射手段とから基板の上面及び下
面に斜め方向から気体を噴射させ、基板に付着した付着
液を除去して乾燥させる基板の乾燥装置において、前記
下側気体噴射手段に、基板の搬送を回転支持する補助ロ
ーラが基板の搬送方向と直交する方向に取付け位置変更
可能に取り付けられてなることを特徴とする。
【００１１】この第２発明の構成によれば、下側気体噴
射手段に補助ローラが取り付けられると共に、補助ロー
ラは基板の搬送方向と直交する方向に取付け位置変更可
能なので、補助ローラの取り付け位置を搬送ローラのロ
ーラ間でローラが配置されない部位に設定すると、基板
は搬送ローラによって支持されない位置も補助ローラに
よって支持され、噴射気体による基板の撓みを抑制する
ことができる。また、下側気体噴射手段が配設される位
置では、下側気体噴射手段が基板の搬送方向に傾斜して
配設されていることもあって搬送ローラの列設間隔が広
くなる状態が、下側気体噴射手段に補助ローラが取り付
けられていることにより解消される。
射手段に補助ローラが取り付けられると共に、補助ロー
ラは基板の搬送方向と直交する方向に取付け位置変更可
能なので、補助ローラの取り付け位置を搬送ローラのロ
ーラ間でローラが配置されない部位に設定すると、基板
は搬送ローラによって支持されない位置も補助ローラに
よって支持され、噴射気体による基板の撓みを抑制する
ことができる。また、下側気体噴射手段が配設される位
置では、下側気体噴射手段が基板の搬送方向に傾斜して
配設されていることもあって搬送ローラの列設間隔が広
くなる状態が、下側気体噴射手段に補助ローラが取り付
けられていることにより解消される。
【００１２】上記各構成において、補助ローラは、下側
気体噴射手段の基板搬送方向の両側に取り付けることに
より、基板の支持をより効果的になすことができる。
気体噴射手段の基板搬送方向の両側に取り付けることに
より、基板の支持をより効果的になすことができる。
【００１３】また、補助ローラは、搬送ローラのローラ
が配置されていない搬送方向と直交する方向位置に配置
することにより、基板は搬送ローラによって支持されな
い位置も補助ローラによって支持され、噴射気体による
基板の撓みを抑制することができる。
が配置されていない搬送方向と直交する方向位置に配置
することにより、基板は搬送ローラによって支持されな
い位置も補助ローラによって支持され、噴射気体による
基板の撓みを抑制することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施形態について説明し、本発明の理解に供する。
尚、以下に示す実施形態は本発明を具体化した一例であ
って、本発明の技術的範囲を限定するものではない。
尚、従来構成と共通する要素には同一の符号を付して、
その説明は省略する。
の実施形態について説明し、本発明の理解に供する。
尚、以下に示す実施形態は本発明を具体化した一例であ
って、本発明の技術的範囲を限定するものではない。
尚、従来構成と共通する要素には同一の符号を付して、
その説明は省略する。
【００１５】本実施形態に係る基板の乾燥装置は、液晶
ディスプレイ用基板の製造工程に適用した例を示すもの
で、図１に示すように、乾燥処理室１０内に配設され
る。
ディスプレイ用基板の製造工程に適用した例を示すもの
で、図１に示すように、乾燥処理室１０内に配設され
る。
【００１６】図１において、液晶ディスプレイ用基板
（以下、基板と略記する）１は、搬送ローラを列設した
搬送路２上を搬送され、第１のニュートラル室１１から
第１及び第２の各薬液処理室１２、１３に搬送されて薬
液処理された後、第２のニュートラル室１４から第１及
び第２の各洗浄処理室１５、１６に搬送されて洗浄処理
され、洗浄された基板１は乾燥処理室１０に搬送され、
基板１に付着した洗浄液を除去して乾燥処理される。乾
燥処理は、基板１の上面側に気体を噴射する上側エアー
ナイフ（上側気体噴射手段）８と、基板１の下面に気体
を噴射するローラ付きエアーナイフ（下側気体噴射手
段）３とから噴射される気体により基板１に付着してい
る洗浄液（付着液）を吹き飛ばして乾燥させる。
（以下、基板と略記する）１は、搬送ローラを列設した
搬送路２上を搬送され、第１のニュートラル室１１から
第１及び第２の各薬液処理室１２、１３に搬送されて薬
液処理された後、第２のニュートラル室１４から第１及
び第２の各洗浄処理室１５、１６に搬送されて洗浄処理
され、洗浄された基板１は乾燥処理室１０に搬送され、
基板１に付着した洗浄液を除去して乾燥処理される。乾
燥処理は、基板１の上面側に気体を噴射する上側エアー
ナイフ（上側気体噴射手段）８と、基板１の下面に気体
を噴射するローラ付きエアーナイフ（下側気体噴射手
段）３とから噴射される気体により基板１に付着してい
る洗浄液（付着液）を吹き飛ばして乾燥させる。
【００１７】図２は、乾燥処理室１０内に配設された乾
燥装置２０の構成を示すもので、基板１の搬送方向に、
上側エアーナイフ８とローラ付きエアーナイフ３とを組
み合わせた上下エアーナイフ２１ａ、２１ｂとして２組
配設され、２段階で乾燥処理がなされるように構成され
ている。
燥装置２０の構成を示すもので、基板１の搬送方向に、
上側エアーナイフ８とローラ付きエアーナイフ３とを組
み合わせた上下エアーナイフ２１ａ、２１ｂとして２組
配設され、２段階で乾燥処理がなされるように構成され
ている。
【００１８】上側エアーナイフ８は従来構成に示したも
のと同一の構成で、図７に示すように、配管９から送給
される気体をスリット状の吐出口８ａから噴射させるこ
とにより、基板１の上面を幅方向にカバーする帯状の噴
射気体で基板１の上面に付着した洗浄液を吹き飛ばして
乾燥させる。また、ローラ付きエアーナイフ３は、図３
に示すように、補助ローラ５を回転自在に保持する補助
ローラ保持部材１８、１９により、下側エアーナイフ７
の基板搬送方向の両側に補助ローラ５ａ、５ｂ（５ｃ、
５ｄ）を一体に取り付けて構成されている。下側エアー
ナイフ７は配管９から送給される気体をスリット状の吐
出口７ａから噴射させることにより、基板１の下面を幅
方向にカバーする帯状の噴射気体で基板１の下面に付着
した洗浄液を吹き飛ばして乾燥させる。このローラ付き
エアーナイフ３に取り付けられた補助ローラ５ａ〜５ｄ
の構成作用について以下に説明する。
のと同一の構成で、図７に示すように、配管９から送給
される気体をスリット状の吐出口８ａから噴射させるこ
とにより、基板１の上面を幅方向にカバーする帯状の噴
射気体で基板１の上面に付着した洗浄液を吹き飛ばして
乾燥させる。また、ローラ付きエアーナイフ３は、図３
に示すように、補助ローラ５を回転自在に保持する補助
ローラ保持部材１８、１９により、下側エアーナイフ７
の基板搬送方向の両側に補助ローラ５ａ、５ｂ（５ｃ、
５ｄ）を一体に取り付けて構成されている。下側エアー
ナイフ７は配管９から送給される気体をスリット状の吐
出口７ａから噴射させることにより、基板１の下面を幅
方向にカバーする帯状の噴射気体で基板１の下面に付着
した洗浄液を吹き飛ばして乾燥させる。このローラ付き
エアーナイフ３に取り付けられた補助ローラ５ａ〜５ｄ
の構成作用について以下に説明する。
【００１９】上側エアーナイフ８及びローラ付きエアー
ナイフ３は、基板１に付着した洗浄液を効率よく除去す
るために、噴射気体が基板１に対して基板１の搬送方向
の上流側に向けて斜めに噴射されるように傾斜させて配
設される。従って、このローラ付きエアーナイフ３の配
設位置における搬送ローラ６の列設間隔が広くなる。搬
送ローラ６の列設間隔が広がると、基板１の搬送方向先
端または後端が搬送ローラ６上から外れる長さが大きく
なり、噴射気体の圧力により撓みが生じやすくなり、上
側エアーナイフ８及び下側エアーナイフ７から噴射され
る気体が基板１に当たる圧力バランスが崩れ洗浄液の除
去が不充分となり、乾燥むらが生じて基板１を用いた液
晶ディスプレイの画像むらや動作不良を発生させる。
ナイフ３は、基板１に付着した洗浄液を効率よく除去す
るために、噴射気体が基板１に対して基板１の搬送方向
の上流側に向けて斜めに噴射されるように傾斜させて配
設される。従って、このローラ付きエアーナイフ３の配
設位置における搬送ローラ６の列設間隔が広くなる。搬
送ローラ６の列設間隔が広がると、基板１の搬送方向先
端または後端が搬送ローラ６上から外れる長さが大きく
なり、噴射気体の圧力により撓みが生じやすくなり、上
側エアーナイフ８及び下側エアーナイフ７から噴射され
る気体が基板１に当たる圧力バランスが崩れ洗浄液の除
去が不充分となり、乾燥むらが生じて基板１を用いた液
晶ディスプレイの画像むらや動作不良を発生させる。
【００２０】また、搬送ローラ６は、図４の基板１の搬
送方向から見た側面図に示すように、基板１の搬送方向
に直交する方向（以下、幅方向）に配設された幅の狭い
複数のローラ６ａ（ここでは、３個）により基板１を支
持すると共に、回転駆動されて基板１を搬送する。この
搬送ローラ６による基板１の搬送により、基板１に接触
する搬送面積を極力小さくして基板１の下面を開放し、
薬液処理や洗浄処理、乾燥処理の際に基板１の下面が搬
送ローラ６によって隠れてしまうことが避けられると共
に、搬送ローラ６からの異物の付着を防止している。こ
のように基板１は部分的な支持状態にあるので、ローラ
６ａにより支持されていない部位で基板１は撓みやすく
なり、やはり洗浄液の除去が不充分となる。
送方向から見た側面図に示すように、基板１の搬送方向
に直交する方向（以下、幅方向）に配設された幅の狭い
複数のローラ６ａ（ここでは、３個）により基板１を支
持すると共に、回転駆動されて基板１を搬送する。この
搬送ローラ６による基板１の搬送により、基板１に接触
する搬送面積を極力小さくして基板１の下面を開放し、
薬液処理や洗浄処理、乾燥処理の際に基板１の下面が搬
送ローラ６によって隠れてしまうことが避けられると共
に、搬送ローラ６からの異物の付着を防止している。こ
のように基板１は部分的な支持状態にあるので、ローラ
６ａにより支持されていない部位で基板１は撓みやすく
なり、やはり洗浄液の除去が不充分となる。
【００２１】そこで、図２に示すように、基板１の下面
側をローラ付きエアーナイフ３で支持するように構成す
ると、下側エアーナイフ７の両側で補助ローラ５ａ、５
ｂ（５ｃ、５ｄ）により基板１を支持することができる
ので、搬送ローラ６の列設間隔を密にしたと同様の効果
により基板１の撓みを抑えることができる。更に、補助
ローラ５ａの取付け位置は、図５に示すように、搬送ロ
ーラ６のローラ６ａの配置位置の間になるようにする
と、基板１の撓みをより効果的に抑制することができ
る。
側をローラ付きエアーナイフ３で支持するように構成す
ると、下側エアーナイフ７の両側で補助ローラ５ａ、５
ｂ（５ｃ、５ｄ）により基板１を支持することができる
ので、搬送ローラ６の列設間隔を密にしたと同様の効果
により基板１の撓みを抑えることができる。更に、補助
ローラ５ａの取付け位置は、図５に示すように、搬送ロ
ーラ６のローラ６ａの配置位置の間になるようにする
と、基板１の撓みをより効果的に抑制することができ
る。
【００２２】本実施形態の乾燥装置２０のように、上下
エアーナイフ２１ａ、２１ｂを２段階に構成している場
合には、各上下エアーナイフ２１ａ、２１ｂのローラ付
きエアーナイフ３にそれぞれ補助ローラ５ａ〜５ｄが取
り付けられるので、図５の平面図に示すように、各保持
ローラ５ａ〜５ｄそれぞれの配置を列毎に変えるように
すると、基板１の支持範囲が拡大して、その撓みをより
効果的に抑制することができる。即ち、図２、図５に示
すように、搬送方向上流側の搬送ローラ６の次に位置す
る補助ローラ５ａは搬送ローラ６のローラ６ａの間に位
置させ、次の補助ローラ５ｂは搬送ローラ６のローラ６
ａの配置と同様位置とし、更に次の補助ローラ５ｃは搬
送ローラ６のローラ６ａの間に位置させ、更に最後の補
助ローラ５ｄは搬送ローラ６のローラ６ａの配置と同様
位置とする配列が可能である。
エアーナイフ２１ａ、２１ｂを２段階に構成している場
合には、各上下エアーナイフ２１ａ、２１ｂのローラ付
きエアーナイフ３にそれぞれ補助ローラ５ａ〜５ｄが取
り付けられるので、図５の平面図に示すように、各保持
ローラ５ａ〜５ｄそれぞれの配置を列毎に変えるように
すると、基板１の支持範囲が拡大して、その撓みをより
効果的に抑制することができる。即ち、図２、図５に示
すように、搬送方向上流側の搬送ローラ６の次に位置す
る補助ローラ５ａは搬送ローラ６のローラ６ａの間に位
置させ、次の補助ローラ５ｂは搬送ローラ６のローラ６
ａの配置と同様位置とし、更に次の補助ローラ５ｃは搬
送ローラ６のローラ６ａの間に位置させ、更に最後の補
助ローラ５ｄは搬送ローラ６のローラ６ａの配置と同様
位置とする配列が可能である。
【００２３】この各補助ローラ５ａ〜５ｄの配置位置は
下側エアーナイフ７への取付け位置を変えることによっ
て容易に実施できるので、最も基板１の撓みが少ない位
置に各補助ローラ５ａ〜５ｄを配置することも可能であ
る。
下側エアーナイフ７への取付け位置を変えることによっ
て容易に実施できるので、最も基板１の撓みが少ない位
置に各補助ローラ５ａ〜５ｄを配置することも可能であ
る。
【００２４】以上の説明は液晶ディスプレイ用基板の洗
浄処理後に、その洗浄液を除去して乾燥させる場合に適
用した例を示したが、回路基板等の乾燥等にも同様に適
用することができる。
浄処理後に、その洗浄液を除去して乾燥させる場合に適
用した例を示したが、回路基板等の乾燥等にも同様に適
用することができる。
【００２５】
【発明の効果】以上の説明の通り本発明によれば、気体
噴射手段に基板の下面を回転支持する補助ローラを設け
ることができるので、気体が噴射される位置で基板を支
持することができ、気体の噴射圧力によって基板に撓み
が生じることが抑制され、基板の撓みによる乾燥むらの
発生が防止できる。
噴射手段に基板の下面を回転支持する補助ローラを設け
ることができるので、気体が噴射される位置で基板を支
持することができ、気体の噴射圧力によって基板に撓み
が生じることが抑制され、基板の撓みによる乾燥むらの
発生が防止できる。
【図１】実施形態に係る乾燥装置を適用した基板の製造
工程の構成を示す概略構成図
工程の構成を示す概略構成図
【図２】基板の乾燥装置の構成を示す側面図
【図３】ローラ付きエアーナイフの構成を示す斜視図
【図４】搬送ローラの構成を示す基板搬送方向の側面図
【図５】補助ローラの配列例を示す平面図
【図６】従来構成になる乾燥装置を適用した基板の製造
工程の構成を示す概略構成図
工程の構成を示す概略構成図
【図７】上側エアーナイフの構成を示す斜視図
【図８】従来構成になる乾燥装置の構成を示す側面図
１ 基板 ２ 搬送路 ３ ローラ付きエアーナイフ ５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄ 補助ローラ ６ 搬送ローラ ７ 下側エアーナイフ ８ 上側エアーナイフ ２０ 乾燥装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ａ // Ｈ０１Ｌ 21/304 ６５１ 21/304 ６５１Ｇ (72)発明者 小柳津 和義 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 箱田 修三 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H088 FA17 FA30 MA20 2H090 JC19 3L113 AA02 AB10 AC31 AC48 AC69 BA34 DA04 DA24 5F031 CA02 CA05 GA53 MA23 NA02
Claims (4)
- 【請求項１】 搬送方向に搬送ローラが列設された搬送
路上を搬送される基板に対し、搬送路の上方に搬送方向
に傾斜させて配設された上側気体噴射手段と、搬送路の
下方に搬送方向に傾斜させて配設された下側気体噴射手
段とから基板の上面及び下面に斜め方向から気体を噴射
させ、基板に付着した付着液を除去して乾燥させる基板
の乾燥装置において、 前記下側気体噴射手段に、基板の搬送を回転支持する補
助ローラが取り付けられてなることを特徴とする基板の
乾燥装置。 - 【請求項２】 基板を搬送する搬送路が搬送方向と直交
する方向に複数のローラを配置した搬送ローラを搬送方
向に列設して構成され、この搬送路上を搬送される基板
に対し、搬送路の上方に搬送方向に傾斜させて配設され
た上側気体噴射手段と、搬送路の下方に搬送方向に傾斜
させて配設された下側気体噴射手段とから基板の上面及
び下面に斜め方向から気体を噴射させ、基板に付着した
付着液を除去して乾燥させる基板の乾燥装置において、 前記下側気体噴射手段に、基板の搬送を回転支持する補
助ローラが基板の搬送方向と直交する方向に取付け位置
変更可能に取り付けられてなることを特徴とする基板の
乾燥装置。 - 【請求項３】 補助ローラが、下側気体噴射手段の基板
搬送方向の両側に取り付けられてなる請求項１または２
記載の基板の乾燥装置。 - 【請求項４】 補助ローラが、搬送ローラのローラが配
置されていない搬送方向と直交する方向位置に配置され
てなる請求項２または３記載の基板の乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000206297A JP2002022359A (ja) | 2000-07-07 | 2000-07-07 | 基板の乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000206297A JP2002022359A (ja) | 2000-07-07 | 2000-07-07 | 基板の乾燥装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002022359A true JP2002022359A (ja) | 2002-01-23 |
Family
ID=18703246
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000206297A Pending JP2002022359A (ja) | 2000-07-07 | 2000-07-07 | 基板の乾燥装置 |
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| JP (1) | JP2002022359A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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