JP2006278859A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 処理チャンバ10の、基板Wの搬送路に対しエアナイフ20aが配設された空間側に、かつ、エアナイフ20aの配設位置より基板搬送方向における上流側に排気口16aを設け、処理チャンバ10の内部に、エアナイフ20aの噴出口から噴出されて基板Wに吹き付けられた気体を排気口16aに向かって流動させる複数枚の整流板22を鉛直方向に立設した。
【選択図】 図1
Description
したがって、請求項1に係る発明の基板処理装置を使用すると、基板の主面から除去された処理液がミストとなって基板の主面に再付着することを防止することができ、エアナイフからの気体噴出量を大きくしなくても、基板の主面に付着した処理液を効率良く除去することができる。そして、この基板処理装置は、大型化する必要が無く、製作も比較的に容易である。
図1ないし図3は、この発明の実施形態の1例を示し、図1は、基板処理装置である液切り装置の概略構成を示す側面断面図であり、図2は、図1に示した液切り装置の処理チャンバの内部を、基板搬送面から下向きに見た概略平面図であり、図3は、図1に示した液切り装置の処理チャンバの内部を示す概略側面図である。
16a、16b 排気口
18 搬送ローラ
20a、20b エアナイフ
22、36 整流板
24、32、38 補助ローラ
34 内部仕切り壁
40、44 内部ダクト
42、46 吸い込み口
W 基板
Claims (5)
- 主面に処理液が付着した基板を支持して水平方向へ搬送する基板搬送手段と、
この基板搬送手段によって搬送される基板の周囲を閉鎖的に包囲する処理チャンバと、
この処理チャンバの内部に、基板搬送方向と交差するように配設され、前記基板搬送手段によって搬送される基板の主面に対しその幅方向全体にわたり基板搬送方向における上流側に向けて気体を噴出する噴出口を有するエアナイフと、
を備えた基板処理装置において、
前記処理チャンバの、基板搬送路に対し前記エアナイフが配設された空間側に、かつ、エアナイフの配設位置より基板搬送方向における上流側に排気口を設けるとともに、前記処理チャンバの内部に、前記エアナイフの噴出口から噴出されて基板の主面に吹き付けられた気体を前記排気口に向かって流動させる複数枚の整流板を鉛直方向に立設し、前記排気口を通して排気する排気手段を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記エアナイフが、平面視で基板搬送方向に対し斜め方向に配置されるとともに、前記複数枚の整流板が、平面視で前記エアナイフに対しほぼ直交する方向にそれぞれ配置されたことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板処理装置において、
前記エアナイフが、基板搬送路を挟んでその上・下両側に一対配設され、前記排気口が、前記処理チャンバの、基板搬送路の上方空間側および下方空間側にそれぞれ設けられるとともに、前記複数枚の整流板が、前記処理チャンバの、基板搬送路の下方側空間に配設されたことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項3に記載の基板処理装置において、
前記処理チャンバの、基板搬送路の上方側空間を、前記エアナイフの配設位置で基板搬送方向における上流側と下流側とに仕切るように内部仕切り壁を配設したことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項3または請求項4に記載の基板処理装置において、
前記各整流板の上端部に、前記基板搬送手段によって搬送される基板の下面に当接して基板を支持する補助ローラがそれぞれ取着されたことを特徴とする基板処理装置。
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