CN211828692U - 基板处理装置以及吐出喷嘴 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种基板处理装置以及吐出喷嘴，利用气体吹送及第二处理液供给来将附着于基板的表面的第一处理液除去。在进行清洗时，从覆盖基板的宽度方向上的一端部至另一端部并呈狭缝状地开口的吐出口向基板表面的方向吐出第二处理液，使从吐出口吐出来的第二处理液沿平滑的倾斜面流下，该倾斜面以与吐出口的开口部整体对置的方式设于吐出口的下方并以从搬运方向的上游侧朝向下游侧下降的方式倾斜，从而在倾斜面上形成具有朝向搬运方向的下游侧的方向的成分的薄层状的液流，并从倾斜面的下游侧端部向基板表面流下。倾斜面的下游侧端部与基板表面在搬运方向上的距离比由液流形成于基板表面的液膜的厚度大。

Description

基板处理装置以及吐出喷嘴

技术领域

本实用新型涉及一种清洗表面附着有处理液的基板的基板处理装置以及能够适用于该装置的吐出喷嘴。此外，上述基板包括半导体基板、光掩模用基板、液晶显示用基板、有机EL显示用基板、等离子体显示用基板、FED(Field Emission Display：电子发射)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板等。

背景技术

在半导体装置、显示装置等电子器件等的制造工序中，常用如下处理：通过使例如用于加工的处理液作用于基板表面来加工基板、之后用清洗液进行清洗。作为该情况下的处理液，例如可以举出显影液、蚀刻液等。在该情况下，为了在基板表面中获得均匀且良好的处理结果，在利用处理液进行的处理中，需要严格地遵守规定的处理时间。因这一目的，需求在利用处理液进行的处理继续规定时间后立即且可靠地除去处理液并停止处理。

例如在日本特开2015-192980号公报(专利文献1)所记载的技术中，在相当于上述的“处理液”的显影液装满在表面的状态下水平搬运基板。对该基板，首先通过吹送帘状的空气来除去显影液，再在其下游侧，向基板表面朝向下游方向地吹送冲洗液并由液膜覆盖基板，从而停止显影的进行。在该技术中，通过利用冲洗液封堵吐出冲洗液的喷嘴的下表面与基板表面之间而成为液密状态，来防止吹送到基板的空气向下游侧侵入而扰乱冲洗液的液膜。

实用新型内容

实用新型要解决的课题

在上述技术中，在形成于基板的液膜中，尤其在液膜中的基板的搬运方向的上游侧端部附近，在处理液体中不可避免地含有融入或者浮游的杂质。在上述现有技术中，使喷嘴下表面与基板表面之间成为液密状态，这样的液体中的杂质会附着于喷嘴或者再析出。尤其若喷嘴的吐出口被附着物局部地堵塞，则在该部分无法向基板供给清洗液，其结果，有在显影等加工处理中产生不均的担忧。

本实用新型是鉴于上述课题而完成的，其目的在于，提供能够适当地清洗表面由处理液处理后的基板并能够抑制产生处理不均的技术。

用于解决课题的方案

本实用新型的基板处理装置具备：搬运机构，其将表面附着有第一处理液的基板以上述表面向上的方式在沿水平方向的搬运方向上进行搬运；气体吐出部，其遍及在与上述搬运方向正交的宽度方向上的上述基板的整个区域地向上述表面吹送气体，来从上述表面除去上述第一处理液；以及液体吐出部，其对比吹送来自上述气体吐出部的上述气体的位置更靠上述搬运方向的下游侧的上述表面供给第二处理液。

为了实现上述目的，在本实用新型的基板处理装置的一个方案中，上述液体吐出部具有：吐出口，其覆盖上述基板的从上述宽度方向上的一端部至另一端部并呈狭缝状地开口，向上述表面的方向吐出上述第二处理液；和平滑的倾斜面，其以与上述吐出口的开口部整体对置的方式设于上述吐出口的下方，并以从上述搬运方向的上游侧朝向下游侧下降的方式倾斜，通过使从上述吐出口吐出的上述第二处理液沿上述倾斜面流下，从而在上述倾斜面上形成具有朝向上述搬运方向的下游侧的方向的成分的薄层状的液流，并使该液流从上述倾斜面的上述下游侧端部向上述表面流下，在上述搬运方向上的上述倾斜面的下游侧端部与上述表面的距离比由上述液流形成于上述表面的液膜的厚度大。

并且，在另一个方案中，上述液体吐出部具有：吐出口，其覆盖上述基板的从上述宽度方向上的一端部至另一端部并呈狭缝状地开口，向上述表面的方向吐出上述第二处理液；和平滑的倾斜面，其以与上述吐出口的开口部整体对置的方式设于上述吐出口的下方，并以从上述搬运方向的上游侧朝向下游侧下降的方式倾斜，在上述搬运方向上的上述倾斜面的下游侧端部与上述表面的距离比上述吐出口的在与上述宽度方向正交的方向上的开口尺寸大。

此外，以下的说明中，为了避免说明变得繁琐，有时将“基板的搬运方向的上游、上游侧、上游方向”分别简称为“上游、上游侧、上游方向”，并且将“基板的搬运方向的下游、下游侧、下游方向”分别简称为“下游、下游侧、下游方向”。

在本实用新型中，以倾斜面中的第二处理液将要供给至基板并通过前的最下游侧的端部比由供给至基板表面的液流而形成于基板表面的液膜的上表面靠上方的方式设定倾斜面的下游侧端部与基板表面的距离。这样，倾斜面的下游侧端部从基板表面离开，并且对从倾斜面向基板表面流下的液流赋予朝向基板的搬运方向的下游侧的方向的成分，因而供给的第二处理液所形成的液膜比倾斜面的下游侧端部靠下游侧且在比其靠下方的位置形成于基板表面。

因此，可避免利用第一处理液进行基板处理后的残渣附着于液体吐出部的周边。并且即使第一处理液(或者第一处理液与第二处理液的混合物)的飞沫飞至倾斜面，也会被流下的液流引入而排出。另外，即使从吐出口吐出的第二处理液的宽度方向上的均匀性因附着于吐出口的附着物而降低，也在沿倾斜面流下的期间得以消除。因此，能够使由附着物引起的向基板表面的第二处理液的供给变得均匀，能够抑制基板的处理不均。

并且，向基板表面供给时的液流的方向由倾斜面的倾斜规定，因而能够比较自由地设定至吐出口为止的第二处理液的流路。因此，不需要使流路本身从上游侧朝向下游侧，能够使包含流路的液体吐出部构成为小型。由此，能够减小气体吐出部的气体的吹送位置与第二处理液的供给位置的距离，能够向利用气体吹送进行第一处理液除去后的基板表面迅速地供给第二处理液。这也有利于抑制产生处理不均的效果。

并且，该实用新型的吐出喷嘴是吐出处理液的吐出喷嘴，为了实现上述目的，具备：吐出口形成部，其形成沿水平的一个方向呈狭缝状且向下开口并吐出上述处理液的吐出口；和倾斜面形成部，其在上述吐出口的下方形成与上述吐出口的开口部整体对置的倾斜面，上述倾斜面是面的法线矢量与上述一个方向正交并具有铅垂方向向上的成分并使从上述吐出口吐出的上述处理液向与上述一个方向正交的方向流下的平滑的面，上述倾斜面的最下端部是上述倾斜面形成部中的最下端部。这样的结构的吐出喷嘴具有能够特别适用于上述的基板处理装置的构造。

具体地，本实用新型的方案分别如下。

方案一是一种基板处理装置，其特征在于，具备：搬运机构，其将表面附着有第一处理液的基板以上述表面向上的方式在沿水平方向的搬运方向上进行搬运；气体吐出部，其遍及在与上述搬运方向正交的宽度方向上的上述基板的整个区域地向上述表面吹送气体，来从上述表面除去上述第一处理液；以及液体吐出部，其对比吹送来自上述气体吐出部的上述气体的位置更靠上述搬运方向的下游侧的上述表面供给第二处理液，上述液体吐出部具有：吐出口，其呈狭缝状地开口，覆盖上述基板的从上述宽度方向上的一端部至另一端部，并向上述表面的方向吐出上述第二处理液；和平滑的倾斜面，其以与上述吐出口的开口部整体对置的方式设于上述吐出口的下方，并以从上述搬运方向的上游侧朝向下游侧下降的方式倾斜，通过使从上述吐出口吐出来的上述第二处理液沿上述倾斜面流下，来在上述倾斜面上形成具有朝向上述搬运方向的下游侧的方向的成分的薄层状的液流，并使该液流从上述倾斜面的上述下游侧端部向上述表面流下，上述倾斜面的下游侧端部与上述表面在上述搬运方向上的距离比由上述液流形成于上述表面的液膜的厚度大。

方案二是一种基板处理装置，其特征在于，具备：搬运机构，其将表面附着有第一处理液的基板以上述表面向上的方式在沿水平方向的搬运方向上进行搬运；气体吐出部，其遍及在与上述搬运方向正交的宽度方向上的上述基板的整个区域地向上述表面吹送气体，来从上述表面除去上述第一处理液；以及

液体吐出部，其对比吹送来自上述气体吐出部的上述气体的位置更靠上述搬运方向的下游侧的上述表面供给第二处理液，上述液体吐出部具有：吐出口，其呈狭缝状地开口，覆盖上述基板的从上述宽度方向上的一端部至另一端部，并向上述表面的方向吐出上述第二处理液；和平滑的倾斜面，其以与上述吐出口的开口部整体对置的方式设于上述吐出口的下方，并以从上述搬运方向的上游侧朝向下游侧下降的方式倾斜，上述倾斜面的下游侧端部与上述表面在上述搬运方向上的距离比在与上述宽度方向正交的方向上的上述吐出口的开口尺寸大。

方案三是在方案一或方案二的基板处理装置的基础上，其特征在于，

上述吐出口在比上述倾斜面的上述下游侧端部靠上方的位置开口。

方案四是在方案一或方案二的基板处理装置的基础上，其特征在于，

与上述倾斜面的上述下游侧端部连接并与上述表面对置的上述液体吐出部的下表面与上述表面之间的距离越趋向上述搬运方向的上游侧越变大。

方案五是在方案一或方案二的基板处理装置的基础上，其特征在于，

与上述表面对置的上述液体吐出部的下表面与上述表面之间的距离在上述下表面中的与上述倾斜面的上述下游侧端部连接的连接部分为最小。

方案六是在方案一或方案二的基板处理装置的基础上，其特征在于，

上述液流落液到上述表面的落液位置中的上述搬运方向上的最上游侧端部在上述搬运方向上相比上述倾斜面的上述下游侧端部位于下游侧。

方案七是在方案一或方案二的基板处理装置的基础上，其特征在于，

与上述表面对置的上述液体吐出部的下表面不与形成于上述表面的液膜接触。

方案八是在方案一或方案二的基板处理装置的基础上，其特征在于，

上述液体吐出部具有流路，该流路的截面形状与上述吐出口的开口形状相同并与上述吐出口连通，使上述第二处理液朝向上述吐出口流通，上述流路中的上述第二处理液的流通方向是铅垂向下。

方案九是在方案一或方案二的基板处理装置的基础上，其特征在于，

在上述搬运方向上，设有用于在上述气体吐出部与上述液体吐出部之间排出上述气体的排气路径。

方案十是一种吐出喷嘴，是吐出处理液的吐出喷嘴，其特征在于，具备：吐出口形成部，其形成吐出口，该吐出口沿水平的一个方向呈狭缝状且向下开口来吐出上述处理液；和倾斜面形成部，其形成在上述吐出口的下方与上述吐出口的开口部整体对置的倾斜面，上述倾斜面是面的法线矢量与上述一个方向正交并具有铅垂方向向上的成分且使从上述吐出口吐出来的上述处理液向与上述一个方向正交的方向流下的平滑的面，上述倾斜面的最下端部是上述倾斜面形成部中的最下端部。

实用新型的效果

综上所述，根据本实用新型，对表面由第一处理液处理后的基板，通过气体的吹送来除去第一处理液，再利用均匀地供给的第二处理液进行清洗，因而能够适当地清洗基板，抑制处理不均的产生。

附图说明

图1是示出本实施方式的基板处理装置的简要结构的侧视剖视图。

图2是示出基板处理装置的动作的流程图。

图3是放大地示出显影部与冲洗部的边界部分的简要侧视图。

图4是示出冲洗液喷嘴的外形及内部构造的分解立体图。

图5是示出冲洗液喷嘴与基板的尺寸关系的图。

图6A是示出冲洗液喷嘴的内部构造的局部剖视图。

图6B是示出冲洗液喷嘴的内部构造的局部剖视图。

图7A是示出冲洗液喷嘴下表面的位置及形状的比较例的图。

图7B是示出冲洗液喷嘴下表面的位置及形状的比较例的图。

图7C是示出冲洗液喷嘴下表面的位置及形状的比较例的图。

图8A是示出冲洗液喷嘴的变形例的图。

图8B是示出冲洗液喷嘴的变形例的图。

图8C是示出冲洗液喷嘴的变形例的图。

图8D是示出冲洗液喷嘴的变形例的图。

图9是示出冲洗液喷嘴的变形例的图。

符号的说明

1—基板处理装置，20—显影部，24—空气喷嘴(气体吐出部)，30—冲洗部，32—冲洗液喷嘴(吐出喷嘴、液体吐出部)，50—搬运辊(搬运机构)，321—第一部件，321c—倾斜面，322—第二部件，GS—间隙空间(流路)，S—基板，Sa—基板上表面。

具体实施方式

以下，对本实用新型的一个实施方式的基板处理装置进行说明。此处说明的基板处理装置1例如作为制造液晶显示装置等显示装置中的显示用画面面板的基板处理系统的一部分发挥功能。在上述的专利文献1(日本特开2015-192980号公报)中公开了这样的基板处理系统的整体结构。基板处理系统执行以下一系列的制造工序：例如在成为画面面板的方形玻璃基板上形成抗蚀剂膜，使其曝光并显影，从而在基板上形成预定的电路图案。本实施方式的基板处理装置1能够应用于使曝光后的基板显影并清洗的处理。

并且，本实施方式的基板处理装置1的主要特征在于，下述的冲洗液喷嘴的构造及动作。另一方面，除此以外的基本结构及动作与专利文献1(例如图2)所记载的基板处理装置是共同的。这样，关于共同的结构，能够参照专利文献1的记载，因而此处仅作简单的说明。

图1是示出本实施方式的基板处理装置的简要结构的侧视剖视图。此外，图1及以后的各图中，为了明确其方向关系，适当地标注以Z方向作为铅垂方向并以XY平面作为水平面的XYZ正交坐标系。并且，为了容易理解，根据需要而夸张或简化地描绘出各部分的尺寸、个数。

该基板处理装置1是用于接受在表面形成有抗蚀剂膜并根据预定的图案形状使其曝光后的玻璃基板(以下仅称作“基板”)S、对其进行显影、清洗以及烘干的装置。基于该目的，在基板处理装置1设有显影部20、冲洗部30以及烘干部300。显影部20接受曝光后的基板S并供给显影液L1，将不需要的抗蚀剂膜除去。冲洗部30用冲洗液L2对显影处理后的基板S进行冲洗处理来使显影停止，并清洗基板S。烘干部300除去基板S上的冲洗液并使基板S烘干。

显影部20、冲洗部30以及烘干部300沿X方向依次排列。通过沿(+X)方向搬运基板S，来依次经过显影部20、冲洗部30以及烘干部300，接受处理。以下的说明中，在没有特别限定的情况下，将基板S的搬运方向的上游侧、即(－X)方向侧简称为“上游侧”，并将基板S的搬运方向的下游侧、即(+X)方向侧简称为“下游侧”。并且，将与作为搬运方向的X方向正交、即作为图1中垂直于纸面的方向的Y方向称为基板S的“宽度方向”。

显影部20、冲洗部30以及烘干部300收纳于箱体40内。箱体40具备划分显影部20和冲洗部30的分隔板41、以及划分冲洗部30和烘干部300的分隔板42。在分隔板41设有用于使基板S通过的通路口411，并且在分隔板42设有用于使基板S通过的通路口421。并且，在箱体40的上游侧侧面设有搬入口401，该搬入口401用于接纳来自执行前工序(例如曝光工序)的装置的基板S。另一方面，在下游侧侧面设有搬出口402，该搬出口402用于向执行后工序(例如后烘焙工序)的装置交付基板S。

在基板处理装置1中，基板S沿X方向排列，由多个搬运辊50搬运，该多个搬运辊50由未图示的驱动机构旋转驱动。更具体而言，经由搬入口401向基板处理装置1的显影部20搬入从前工序交付的基板S。而且，通过搬运辊50的旋转动作，基板S从显影部20依次送入冲洗部30及烘干部300，最终从搬出口402交付到后工序。

在显影部20设有向基板S的上表面供给显影液L1的显影液喷嘴22、和向基板S的上表面吹送空气的空气喷嘴24。显影液喷嘴22设于显影部20的上游侧端部附近、即箱体40的内侧的搬入口401的附近。另一方面，空气喷嘴24安装于显影部20的下游侧端部附近、具体为分隔板411的上游侧的侧面。

在显影液喷嘴22的下表面设有吐出显影液L1的吐出口，并且在空气喷嘴24的下表面设有吐出空气的吐出口。上述吐出口分别具有在宽度方向上细长且呈狭缝状的开口，该开口设置为覆盖基板S的宽度方向上的两端部之间的整体。

因此，从显影液喷嘴22吐出的显影液L1在基板S的整个宽度方向(Y方向)上大致均匀地吐出。通过沿搬运方向(X方向)搬运基板S，向基板S供给显影液的显影液供给位置在X方向上依次变化，最终，基板S整体成为被显影液L1装满并由浆状的液膜覆盖的状态。

空气喷嘴24对在下方被搬运的基板S，从上方吹送比基板S的宽度充分长的帘状(薄膜状或带状)的空气。由此，防止进一步向下游搬运在基板S的上表面上装满的显影液L1。即，空气喷嘴24具有作为利用帘状空气来切断沿基板S的显影液L1的扩散的气刀装置的功能。在显影部20的下部设有显影液回收部26。从基板S的边缘溢出而向下方落下的显影液L1由显影液回收部26回收。对于回收后的显影液，根据需要实施将通过显影处理而溶解并从基板除去的抗蚀剂膜的溶解生成物、异物除去、或者进行浓度调整等再生处理，从而能够再利用于显影处理。或者，也可以处理为废液。

在冲洗部30设有向被搬运的基板S的上表面供给冲洗液L2的冲洗液喷嘴32。冲洗液喷嘴32设于箱体40中的分隔板41的下游侧附近位置。因此，会对刚由气刀除去显影液L1后的基板S供给冲洗液。在下文中详细说明冲洗液喷嘴32的构造。并且，在比冲洗液喷嘴32靠下游侧的位置设有从基板S的上方供给冲洗液的多个喷淋喷嘴34。由此，由冲洗液L2的液膜覆盖并清洗基板S的上表面。

在烘干部300设有一对空气喷嘴35a、35b。空气喷嘴35a、35b通过向基板S的上表面及下表面供给帘状的空气，来将装满在基板S上的冲洗液L2除去，并将基板S烘干。空气喷嘴35a、35b设于烘干部300中的搬出口402的附近。在冲洗部30及烘干部300的下部设有冲洗液回收部36。从基板S向下方落下的冲洗液L2由冲洗液回收部36回收。

这样，由分隔板411、421分别划分处理显影液L1的显影部20、处理冲洗液L2的冲洗部30以及烘干部300。并且，分别独立地回收各自所排出的显影液L1和冲洗液L2。由此，能够实现显影液的再利用等回收后的液体的有效利用、抑制废液处理的成本。

图2是示出基板处理装置的动作的流程图。如上所述，基板处理装置1执行以下一系列的处理：沿水平方向搬运在前工序中被曝光处理并被搬入的基板S(步骤S101)；向该基板S供给显影液L1进行的显影处理(步骤S102)；用气刀除去显影液(步骤S103)；由冲洗液L2的液膜进行的冲洗处理(步骤S104)；以及除去、烘干冲洗液的液膜(步骤S105)。

在如上构成的基板处理装置1及其动作中，为了在基板S整体中获得均匀且良好的显影结果，与显影液接触的时间(以下称作“显影时间”)需要在基板S整体中相等。基板S的各部分最初与显影液L1接触并开始显影是在显影液喷嘴22的正下方位置通过时。另一方面，除去显影液并停止显影原则上是在作为气刀发挥功能的空气喷嘴24的正下方位置通过时。因此，若显影液喷嘴22与空气喷嘴24的距离固定，且基板S的搬运速度恒定，则基板S的显影时间应该与位置无关而恒定。

但是，在通过利用气刀除去显影液的位置后，在基板S的上表面还会残留附着显影液。由于因这样的局部残存的显影液而进行显影，所以显影时间因位置不同而产生差异，有显影不均、即显影结果产生偏差的担忧。通过向除去显影液后的基板S供给冲洗液L2来可靠地停止显影。然而，若冲洗液供给的时机在宽度方向上有偏差，则显影停止的时机不一致，结果成为显影不均的原因。以下，详细说明用于消除该问题的本实施方式的冲洗液喷嘴32的构造及其功能。

图3是放大地示出显影部与冲洗部的边界部分的简要侧视图。并且，图4、图5、图6A及图6B是更详细地示出冲洗液喷嘴的构造的图。更具体而言，图4是示出冲洗液喷嘴32的外形及内部构造的分解立体图，图5是示出冲洗液喷嘴32与基板S的尺寸关系的图。并且，图6A是示出冲洗液喷嘴32的内部构造的局部剖视图，图6B是示出从冲洗液喷嘴32吐出的冲洗液的状态的图。

如图3所示，空气喷嘴24与冲洗液喷嘴32隔着分隔板41而接近配置。空气喷嘴24安装于分隔板41的上游侧侧面。从压缩空气供给部29向空气喷嘴24供给压缩空气，并且在下端设有吐出口241。因此，空气喷嘴24从上方向在上表面形成显影液L1的液膜并通过搬运辊50的旋转而沿(+X)方向搬运的基板S的上表面喷出帘状的空气A。由此，阻止进一步向下游侧搬运显影液L1的液膜，比空气吹送位置靠下游侧(图中右侧)的基板S的上表面成为显影液被除去后的状态。从基板S向下方落下的显影液L1由显影液回收部26回收。

另一方面，冲洗液喷嘴32由未图示的支撑部件以从分隔板41的下游侧侧面隔开预定距离的方式支撑。因此，在分隔板41的下游侧侧面与冲洗液喷嘴32的上游侧侧面之间设有空隙G。从冲洗液供给部39向冲洗液喷嘴32供给例如纯水、去离子水(DIW)等液体作为冲洗液L2。利用在下文中详细说明的构造，冲洗液喷嘴32具有将冲洗液L2作为具有下游方向和向下的方向成分的液流向基板S供给的功能。由此，在基板S的上表面形成冲洗液L2的液膜。从基板S向下方落下的冲洗液L2由冲洗液回收部36回收。

为了防止冲洗液L2的液流因从空气喷嘴24吹出的空气而紊乱，在分隔板41与冲洗液喷嘴32之间设有空隙G。即，若没有该空隙G，则从空气喷嘴24吹出来的空气流入冲洗液喷嘴32与基板S之间的缝隙，扰乱从冲洗液喷嘴32供给至基板S的冲洗液L2的流动。通过设置空隙G，空气流过该空隙G向上方逸出，从而冲洗液L2的流动不会紊乱。也就是说，空隙G具有使从空气喷嘴24吹出的空气从冲洗液喷嘴32的周边排出的功能。

如图4及图6A所示，冲洗液喷嘴32具有第一部件321及第二部件322经由隔离件323在X方向上层叠而成的构造。第一部件321及第二部件322能够由可承受从冲洗液供给部39供给的冲洗液的压力的材料、例如具有适度的硬度的树脂或者金属制成。

第一部件321具有平坦部321a和倾斜部321b。平坦部321a是在从X方向观察时具有以Y方向作为长度方向的大致长方形的外形的平板状的构造体。倾斜部321b与平坦部321a的下端连接并向(+X)方向及(－Z)方向倾斜向下地延伸。倾斜部321b的截面形状呈楔形，其厚度随着接近前端而变薄。倾斜部321b的上表面成为平滑的平面状倾斜面321c，该倾斜面321c的法线矢量N具有(+X)方向及(+Z)方向的成分。

并且，第二部件322是从X方向观察到的平面尺寸与第一部件321的平坦部321a大致相同且大致呈长方体的块体。设有在其(－X)侧侧面与(+X)侧侧面之间贯通并用于接受从冲洗液供给部39供给的冲洗液的贯通孔322a。如图5中虚线所示，贯通孔322a也可以在Y方向上位置不同地设有多个。

隔离件323是沿从X方向观察第一部件321的平坦部321a时的长方形中除下边之外的三边倒U字形的部件。第一部件321与第二部件322经由隔离件323层叠。由此，第一部件321的(+X)侧侧面与第二部件322的(－X)侧侧面隔开相当于隔离件323的厚度的间隔而对置。由此，在两者之间形成恒定宽度的间隙空间GS。隔离件323能够使用将第一部件321与第二部件322的间隔保持为微小并恒定且能够防止来自缝隙的漏液的材料、例如具有适度的弹性的树脂材料。如下述，间隙空间GS作为冲洗液的流路的一部分发挥功能。

间隙空间GS的下端不由隔离件323封堵而与外部空间连通，并且贯通孔322a设于与间隙空间GS连通的位置。因此，从冲洗液供给部39供给至贯通孔322a的冲洗液充满间隙空间GS，最终从间隙空间GS的下端向外部空间吐出。在这个意义上，在间隙空间GS的下端，由第一部件321、第二部件322以及隔离件323形成开口部，该开口部构成冲洗液喷嘴32中的冲洗液的吐出口324。因此，在与宽度方向正交的方向(X方向)上的吐出口324的开口尺寸与间隙空间GS的间隙间隔(图6B中符号Dg所示)相同。而且，作为倾斜部321b的上表面的倾斜面321c位于吐出口324的正下方，可以说该倾斜面321c设于与吐出口324的开口对置的位置。

从吐出口324向下吐出的液体碰撞到倾斜部321b的倾斜面321c，形成沿倾斜面321c流下的薄层状的液流。该液流最终从倾斜面321c的下端向下方流下。如图5所示，在X方向上观察时，吐出口324的开口宽度Yd比基板S的宽度Ys大，而且吐出口324具有覆盖包含基板S的Y方向上的两端部的整体的开口。并且，倾斜面321c的宽度Yc比吐出口324的开口宽度Yd大，而且倾斜面321c设置为覆盖包含吐出口324的Y方向上的两端部的整体。因此，遍及基板S的宽度方向(Y方向)的整个区域同样地供给从吐出口324吐出并沿倾斜面321c流下的液体。

从冲洗液供给部39向像这样构成的冲洗液喷嘴32加压输送冲洗液L2。由此，如图6B所示，从吐出口324吐出的冲洗液L2沿倾斜面321c流下并从其下端部向基板S的上表面Sa供给。若适当地设定液体的供给量、加压力、间隙间隔Dg等，则从倾斜面321c落下的冲洗液L2的液流能够伴随朝向下游侧的势头而喷射，也就是说能够包含较多的(+X)方向的速度成分。例如，从倾斜面321c流下的冲洗液L2的流速能够比基板S的搬运速度大。

这样一来，在比倾斜面321c的下游侧端部靠下游侧的位置，能够使冲洗液L2落液到基板S的上表面Sa。也就是说，能够使X方向上的落液位置P2相比倾斜面321c的下游侧端部的位置P1为(+X)侧的位置。由此，防止冲洗液L2附着于冲洗液喷嘴32的下表面320。若冲洗液附着于喷嘴下表面320，则因冲洗液L2从喷嘴下表面320向基板S的落下、喷嘴下表面320与基板上表面Sa之间局部以因冲洗液L2成为液密状态的情况等，基板S最初与冲洗液L2接触的位置比原本的落液位置P2向上游侧偏离。这样的偏离局部地产生，从而产生显影不均。通过使冲洗液L2在比喷嘴的最下游侧端部(即倾斜面321c的前端321d)靠下游侧的位置落液到基板S上，能够抑制冲洗液回流而附着于喷嘴下表面320。

并且，向基板S供给的冲洗液L2以具有朝向下游侧的速度成分的状态落液到基板S上。因此，从落液位置朝向上游侧逆流的可能性极低。由此，容易使基板S最初与冲洗液L2接触的位置在宽度方向(Y方向)的整个区域恒定。并且，也能够抑制从空气喷嘴24吹出并流入冲洗液喷嘴32与基板S的缝隙的空气的影响。

在继续从冲洗液供给部39供给一定量的冲洗液L2时，作为其流路的间隙空间GS的间隔Dg(吐出口324的开口尺寸也与其相等)、沿倾斜面321c流下的液流的厚度Tc、以及在刚落液到基板S后形成于基板S的液膜的厚度Tp大致相同。关于上述尺寸，以倾斜面321c的下端与基板上表面Sa的间隔Ds变大的方式，即以倾斜面321c的下端位于比基板上的液膜的上表面靠上方的方式设定冲洗液喷嘴32在Z方向上的配设位置。因此，吐出口324的铅垂方向位置也相比液膜上表面的高度位于上方。并且，冲洗液喷嘴32的下表面中的位于离基板S的上表面Sa最近的位置的是喷嘴下表面320与倾斜面321c的连接部分、亦即倾斜部321b的最下游侧端部321d。这样做的目的还在于防止冲洗液L2向喷嘴下表面320的附着。即，喷嘴下表面320中的最下游侧的端部321d位于最低的位置，通过从该位置释放冲洗液，能够抑制液体向喷嘴下表面320的其它位置回流。

图7A至图7C是示出冲洗液喷嘴下表面的位置及形状的另一例作为比较例的图。在图7A所示的比较例中，冲洗液喷嘴32的下表面320与基板上表面Sa的距离比基板S上的液膜的厚度小。在这样的情况下，倾斜部321b的前端部分实际上包含在液膜中。并且，在图7B所示的比较例的冲洗液喷嘴N1中，下表面与基板S的上表面平行。再者，在图7C所示的比较例的冲洗液喷嘴N2中，在喷嘴底面具有比倾斜部的最下游侧端部接近基板S的部分。在这些结构中，分别在由点线包围的部分中容易产生冲洗液的停留，由此容易产生显影不均。在图7B、图7C所示的例子中，尤其在喷嘴下表面与基板上表面Sa的距离较小时，容易产生问题。

如图6B所示，在本实施方式的冲洗液喷嘴32中，喷嘴下表面320朝向下游侧降低，其中倾斜部321b的最下游侧端部321d最低，即位于离基板上表面Sa较近的位置。而且，该最下游侧端部与基板上表面Sa的间隔Ds比基板S上的液膜的厚度Tp大。再有，从冲洗液喷嘴32供给至基板S的冲洗液L2的液流具有向(+X)方向的较大的速度成分。利用上述结构，能够有效地抑制冲洗液停留在喷嘴下表面320与基板上表面Sa之间。因此，能够抑制因冲洗液的停留而产生显影不均。

并且，在供给至基板S的冲洗液中混入有残留在基板S上的显影液所包含的从基板S剥落或者溶解在液体中的抗蚀剂膜的成分。在使吐出口的周围、喷嘴下表面成为液密状态的结构中，这样的成分再析出而附着于吐出口、喷嘴下表面，妨碍液体的流动，从而会产生显影不均。

在本实施方式中，由于不使喷嘴下表面320与冲洗液接触，所以在喷嘴下表面320不会产生这样的附着物，而且即使附着，也不会影响冲洗处理。并且，总是向倾斜面321c供给新的冲洗液L2。因此，即使飞来含有抗蚀剂膜的成分的液体的飞沫，也被液流引入而向下游侧流动，因而防止附着于倾斜面321c、更上游的吐出口324。并且，即使在吐出口324产生附着物而吐出量不均匀，由于液流在沿倾斜面321c流下的期间也会变得均匀，因而防止因这样的原因而产生的显影不均。

并且，在该实施方式的冲洗液喷嘴32中，使倾斜面321c与向下开口的吐出口324的下方对置。通过使从吐出口324向下吐出的冲洗液L2沿倾斜面321c流下，来对其赋予朝向下游侧的速度成分。因此，不需要在比吐出口324靠上游侧的位置设置冲洗液的流路。这是指：比吐出口324靠上游侧的冲洗液喷嘴32的形状不会受到流路的制约，具有较高的自由度。例如，能够适当地设定基板S中的空气的供给位置与冲洗液的供给位置的间隔，能够调整从除去显影液至供给冲洗液为止的时间。

如上所述，在上述实施方式中，显影液L1及冲洗液L2分别相当于本实用新型的“第一处理液”及“第二处理液”。并且，在上述实施方式中，搬运辊50、空气喷嘴24以及冲洗液喷嘴32分别作为本实用新型的“搬运机构”、“气体吐出部”以及“液体吐出部”发挥功能。再者，在上述实施方式中，冲洗液喷嘴32的间隙空间GS相当于本实用新型的“流路”，冲洗液喷嘴32与分隔板411的空隙G相当于本实用新型的“排气路径”。另外，图2的步骤S103、S104分别相当于本实用新型的“第一处理工序”、“第二处理工序”。

并且，本实施方式的冲洗液喷嘴32相当于本实用新型的“吐出喷嘴”的一个实施方式。在该情况下，第一部件321的平坦部321a和第二部件322作为一体并作为本实用新型的“吐出口形成部”发挥功能。并且，第一部件321的倾斜部321b作为本实用新型的“倾斜面形成部”发挥功能。

此外，本实用新型不限定于上述的实施方式，在不脱离其主旨的范围内，除上述实施方式以外，能够进行各种变更。例如，也能够应用以下构造的喷嘴来代替上述实施方式的冲洗液喷嘴32。

图8A至图8D、图9是示出冲洗液喷嘴的几个变形例的图。在图8A所示的变形例的冲洗液喷嘴61中，第一部件611通过将平板状部件的下端向下游侧折弯而设有平坦部611a和倾斜部611b。第二部件612及隔离件613能够设为与上述实施方式相同。这样构造的冲洗液喷嘴61能够代替上述实施方式的冲洗液喷嘴32而搭载于基板处理装置。

并且，在图8B至图8D所示的变形例中，设为冲洗液喷嘴也兼具空气喷嘴的功能的复合喷嘴。即，在图8B所示的变形例的复合喷嘴62中，第一部件621与第二部件622经由隔离件624对置配置，这一点与上述实施方式相同。另一方面，在与第二部件622相反一侧的第一部件621的侧面(基板搬运方向的上游侧)经由隔离件625安装有第三部件623。

在这样的结构中，向第一部件621与第三部件623之间的空隙送入空气，并从空隙的下端的开口部626吹出空气，由此冲洗液喷嘴还具有作为空气喷嘴的功能。因此，作为在上述实施方式中设置的空气喷嘴24及冲洗液喷嘴32的代替品，能够应用复合喷嘴62。在该情况下，将复合喷嘴62安装于分隔板41即可，但期望注意能够分别回收从基板落下的显影液和冲洗液。在以下的各变形例中也相同。

图8C所示的变形例的复合喷嘴63将上述的复合喷嘴62的一部分变更而成。即，经由隔离件634对置配置的第一部件631和第二部件632形成冲洗液的流路，这一点与上述变形例的复合喷嘴62相同。另一方面，由经由隔离件635对置的第一部件631和第三部件633构成的空气的流路在其下端向上游侧(图中左侧)弯曲。

在这样的结构中，所吹出的空气具有向上游方向的速度成分。因此，通过将附着于基板的显影液推压回上游侧，能够更可靠地防止显影液与冲洗液混合。

图8D所示的变形例的复合喷嘴64具有以下构造：构成为包含经由隔离件645对置的第一部件641及第二部件642的冲洗液喷嘴64a、和构成为包含经由隔离件646对置的第三部件643及第四部件644的空气喷嘴64b以隔开成为排气路径647的一定空隙而对置的方式由未图示的适当的支撑部件支撑。排气路径647的上端部分可以向箱体40内的空间敞开，并且也可以与适当的排气机构连接。

根据这样的结构，从空气喷嘴64a吹出的空气经由排气路径647排气，因而防止空气回流到冲洗液喷嘴64a的下表面与基板之间而扰乱冲洗液的液流。并且，不会产生液流因空气所致的扰乱便能够接近地配置空气喷嘴和冲洗液喷嘴。因此，能够缩短从除去显影液后至供给冲洗液为止的基板表面露出的时间。

并且，图9所示的变形例的冲洗液喷嘴65具有组合第一部件651、第二部件652以及第三部件653这三个块体而成的构造。第一部件651与第二部件652隔着间隙空间GS对置，在第一部件651的下部安装有第三部件653。第一部件651及第三部件653成为一体而相当于上述实施方式的第一部件321，主要从容易制作的观点看，分割成两个部分。

第三部件653的上表面655作为“倾斜面”发挥功能。上表面655的下游侧前端部呈将在上述实施方式中呈尖锐的截面形状的前端部稍微切掉而成的形状。因此，上表面655的下游侧端部655a与下表面650的下游侧端部650a不一致。即，下表面650的下游侧端部650a比下游侧端部655a位于下方且上游侧。这样的形状是基于与上述相同的易制作性、和减少因尖锐的前端部与其它部件的接触等产生的变形、缺损的担忧的实用性理由而设计的。

在该情况下，同样，通过预先使上表面655的下游侧端部655a的高度比形成于基板上表面Sa的液膜的上表面的位置高，能够防止液体向喷嘴下部回流。为了更加提高该效果，更优选满足下表面650的下游侧端部650a比液膜的厚度大的要件，并且满足喷嘴下表面650中位于最低位置的是下表面650的下游侧端部650a等要件。

并且，上述实施方式是使用本实用新型的作为“第一处理液”的显影液以及作为“第二处理液”的冲洗液来处理基板的基板处理装置，但第一处理液以及第二处理液的种类不限定于此，在使用各种液体的基板处理中能够应用本实用新型。

以上，示出具体的实施方式并进行了说明，在本实用新型的基板处理装置中，吐出口例如可以构成为在比倾斜面的下游侧端部靠上方的位置开口。根据这样的结构，能够消除第二处理液所含有的不需要的成分附着于吐出口的周边而使吐出口堵塞、或者扰乱第二处理液的流动的问题。

并且，例如可以构成为，与倾斜面的下游侧端部连接并与表面对置的液体吐出部的下表面与基板表面之间的距离越趋向搬运方向的上游侧越大。换言之，与基板表面对置的液体吐出部的下表面与基板表面之间的距离可以构成为在液体吐出部的下表面中的、与倾斜面的下游侧端部连接的连接部分最小。根据这样的结构，能够抑制因第二处理液停留在液体吐出部的下表面与基板表面之间而导致的处理不均。

并且，例如可以构成为，液流落液到基板表面的落液位置中的、搬运方向上的最上游侧端部在搬运方向上比倾斜面的下游侧端部靠下游侧。根据这样的结构，能够避免因附着于基板而包含污染源的第二处理液附着于液体吐出部。

并且，例如可以构成为，与基板表面对置的液体吐出部的下表面不与形成于基板表面的液膜接触。根据这样的结构，也能够避免因附着于基板而包含污染源的第二处理液附着于液体吐出部。

并且，例如可以构成为，液体吐出部具有流路，该流路的截面形状与吐出口的开口形状相同并与吐出口连通，使第二处理液朝向吐出口流通，流路中的第二处理液的流通方向是铅垂向下。根据这样的结构，比吐出口靠上游侧的液体吐出部的形状的自由度较高，例如能够适当地调整气体吐出部与液体吐出部的间隔。

并且，例如，在搬运方向上，可以设有用于在气体吐出部与液体吐出部之间排出气体的排气路径。根据这样的结构，能够防止因从气体吐出部吹出的气体吹入液体吐出部与基板表面之间而扰乱液流的情况。

产业上的可利用性

本实用新型能够应用于从利用处理液进行处理后的基板除去处理液的各种基板处理。例如能够将本实用新型适用于抗蚀剂膜的显影处理、蚀刻处理、剥离处理等。

Claims (10)

1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：

搬运机构，其将表面附着有第一处理液的基板以上述表面向上的方式在沿水平方向的搬运方向上进行搬运；

气体吐出部，其遍及在与上述搬运方向正交的宽度方向上的上述基板的整个区域地向上述表面吹送气体，来从上述表面除去上述第一处理液；以及

液体吐出部，其对比吹送来自上述气体吐出部的上述气体的位置更靠上述搬运方向的下游侧的上述表面供给第二处理液，

上述液体吐出部具有：

吐出口，其呈狭缝状地开口，覆盖上述基板的从上述宽度方向上的一端部至另一端部，并向上述表面的方向吐出上述第二处理液；和

平滑的倾斜面，其以与上述吐出口的开口部整体对置的方式设于上述吐出口的下方，并以从上述搬运方向的上游侧朝向下游侧下降的方式倾斜，

通过使从上述吐出口吐出来的上述第二处理液沿上述倾斜面流下，来在上述倾斜面上形成具有朝向上述搬运方向的下游侧的方向的成分的薄层状的液流，并使该液流从上述倾斜面的上述下游侧端部向上述表面流下，

上述倾斜面的下游侧端部与上述表面在上述搬运方向上的距离比由上述液流形成于上述表面的液膜的厚度大。

2.一种基板处理装置，其特征在于，具备：

搬运机构，其将表面附着有第一处理液的基板以上述表面向上的方式在沿水平方向的搬运方向上进行搬运；

气体吐出部，其遍及在与上述搬运方向正交的宽度方向上的上述基板的整个区域地向上述表面吹送气体，来从上述表面除去上述第一处理液；以及

液体吐出部，其对比吹送来自上述气体吐出部的上述气体的位置更靠上述搬运方向的下游侧的上述表面供给第二处理液，

上述液体吐出部具有：

吐出口，其呈狭缝状地开口，覆盖上述基板的从上述宽度方向上的一端部至另一端部，并向上述表面的方向吐出上述第二处理液；和

平滑的倾斜面，其以与上述吐出口的开口部整体对置的方式设于上述吐出口的下方，并以从上述搬运方向的上游侧朝向下游侧下降的方式倾斜，

上述倾斜面的下游侧端部与上述表面在上述搬运方向上的距离比在与上述宽度方向正交的方向上的上述吐出口的开口尺寸大。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

上述吐出口在比上述倾斜面的上述下游侧端部靠上方的位置开口。

4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

与上述倾斜面的上述下游侧端部连接并与上述表面对置的上述液体吐出部的下表面与上述表面之间的距离越趋向上述搬运方向的上游侧越变大。

5.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

与上述表面对置的上述液体吐出部的下表面与上述表面之间的距离在上述下表面中的与上述倾斜面的上述下游侧端部连接的连接部分为最小。

6.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

上述液流落液到上述表面的落液位置中的上述搬运方向上的最上游侧端部在上述搬运方向上相比上述倾斜面的上述下游侧端部位于下游侧。

7.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

与上述表面对置的上述液体吐出部的下表面不与形成于上述表面的液膜接触。

8.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

上述液体吐出部具有流路，该流路的截面形状与上述吐出口的开口形状相同并与上述吐出口连通，使上述第二处理液朝向上述吐出口流通，上述流路中的上述第二处理液的流通方向是铅垂向下。

9.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

在上述搬运方向上，设有用于在上述气体吐出部与上述液体吐出部之间排出上述气体的排气路径。

10.一种吐出喷嘴，是吐出处理液的吐出喷嘴，其特征在于，具备：

吐出口形成部，其形成吐出口，该吐出口沿水平的一个方向呈狭缝状且向下开口来吐出上述处理液；和

倾斜面形成部，其形成在上述吐出口的下方与上述吐出口的开口部整体对置的倾斜面，

上述倾斜面是面的法线矢量与上述一个方向正交并具有铅垂方向向上的成分且使从上述吐出口吐出来的上述处理液向与上述一个方向正交的方向流下的平滑的面，上述倾斜面的最下端部是上述倾斜面形成部中的最下端部。

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