JP2004095926A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】コスト及び性能の面で優れ、小型化に有利な基板処理装置を提供する。
【解決手段】この基板処理装置では、基板Ｗをｙ方向に対して傾斜させた状態で搬送しつつ基板Ｗを洗浄する。所定の搬送区間Ｆ内に位置するすべての吐出部３５，３６が、搬送方向Ａに対してエア流形成部３３，３４の傾斜方向と略同一の傾斜角度α２で傾斜している。また、吐出部３５，３６が搬送方向Ａに対して傾斜配置された状態で、ｚ方向に対して傾斜配置されることにより、吐出部３５，３６からの純水の吐出方向が、上方から見て基板Ｗの搬送方向Ａ上流側及び傾斜方向の下側に向けて搬送方向Ａと斜めに交わるように、かつ、ｙ方向から見てｚ方向に対して傾斜するように設定され、これによって、基板Ｗ上において、基板Ｗの搬送方向Ａ下流側端部における傾斜方向の上側から搬送方向Ａ上流側端部における傾斜方向の下側に向けて斜め方向に流れる水流が形成される。
【選択図】 図１
【解決手段】この基板処理装置では、基板Ｗをｙ方向に対して傾斜させた状態で搬送しつつ基板Ｗを洗浄する。所定の搬送区間Ｆ内に位置するすべての吐出部３５，３６が、搬送方向Ａに対してエア流形成部３３，３４の傾斜方向と略同一の傾斜角度α２で傾斜している。また、吐出部３５，３６が搬送方向Ａに対して傾斜配置された状態で、ｚ方向に対して傾斜配置されることにより、吐出部３５，３６からの純水の吐出方向が、上方から見て基板Ｗの搬送方向Ａ上流側及び傾斜方向の下側に向けて搬送方向Ａと斜めに交わるように、かつ、ｙ方向から見てｚ方向に対して傾斜するように設定され、これによって、基板Ｗ上において、基板Ｗの搬送方向Ａ下流側端部における傾斜方向の上側から搬送方向Ａ上流側端部における傾斜方向の下側に向けて斜め方向に流れる水流が形成される。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウェハ、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ製造用のガラス基板、プリント基板等の板状基板を湿式にて処理（洗浄、現像、エッチング、剥離処理など）するための基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
この種の基板処理装置においては、近年、イニシャルコストやランニングコストの低減要求が厳しくなってきている。一方、基板サイズは大型化の傾向にあり、これに伴うコストアップを如何に抑制するかが課題となっていると共に、環境への配慮も重要課題となってきている。このため、例えば基板の洗浄処理では極力純水を用いて高い洗浄力を確保することが求められるようになってきている。
【０００３】
これに対して、従来の基板処理装置では、基板を水平方向に搬送しつつ処理液を吐出して洗浄等の処理を行う水平搬送方式が採用されている。
【０００４】
また、搬送される基板に対して処理液を吐出する複数のノズル部を有する吐出部と、その吐出部の下流側に設けられ、略カーテン状の気流を形成するいわゆるエアナイフ等の気流形成部とを備える従来の基板処理装置においては、気流形成部が基板の搬送方向に対して傾斜配置されるのに対して、吐出部のノズル部の配列方向が、基板の搬送方向と垂直な方向に設定されている。なお、本願発明に関連する公知技術しては、特許文献１記載のものがある。
【０００５】
【特許文献１】
特開平９−２４６２２８号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述の水平搬送方式を採用した基板処理装置では、基板上の液体等を新たに吐出した処理液に置換する液置換性が悪く大量の処理液を必要とするため、コストや性能面で劣る。
【０００７】
また、上述の吐出部及び気流形成部を備えた基板処理装置においては、気流形成部と吐出部の各ノズル部との間に無駄な空間が生じてしまい、装置の小型化の妨げとなるとともに、気流形成部と吐出部の各ノズル部との間の搬送方向に沿った距離が等しくないため、基板上で処理液の乾燥度合い等の処理ムラが生じるおそれがある。
【０００８】
そこで、本発明は、コスト及び性能の面で優れ、小型化に有利な基板処理装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するための技術的手段は、基板を搬送しつつ処理を行う基板処理装置であって、水平面に対して基板を傾斜させた状態で搬送する搬送機構と、上方から見て基板の搬送方向に対して傾斜する方向に延設され、基板の搬送経路を斜めに横断する略カーテン状の気流を形成する気流形成部と、前記気流形成部の前記搬送方向上流側に設けられる少なくとも１個の吐出部と、を備え、前記吐出部は、上方から見て前記搬送方向に対して前記気流形成部と略同一の傾斜角度で傾斜する傾斜方向に沿って配列される複数のノズル部を有し、その各ノズル部が前記搬送機構により搬送される基板に対して所定の処理液を吐出することを特徴とする。
【００１０】
好ましくは、基板の搬送経路上における所定区間内に位置するすべての前記吐出部について、上方から見て前記複数のノズル部が前記搬送方向に対して前記気流形成部と略同一の傾斜角度で傾斜する傾斜方向に沿って配列されるのがよい。
【００１１】
また、好ましくは、前記吐出部の前記各ノズル部から吐出される前記処理液の吐出方向が、前記搬送方向と垂直な横幅方向から見て上下方向に対して傾斜しているのがよい。
【００１２】
さらに、好ましくは、前記搬送機構は、基板を前記搬送方向に対しては略水平な状態を保ちつつ前記搬送方向と垂直な横幅方向に対して傾斜させた状態で搬送し、前記処理液の前記吐出方向が、前記横幅方向から見て上下方向に対して傾斜して前記搬送方向下流側から斜めに基板と交わるように、かつ、上方から見て前記搬送方向上流側及び基板の傾斜方向の下側に向けて前記搬送方向と斜めに交わるように設定されているのがよい。
【００１３】
また、好ましくは、前記搬送機構は、基板を前記搬送方向に対しては略水平な状態を保ちつつ前記横幅方向に対して傾斜させた状態で搬送し、前記吐出部の前記複数のノズル部の前記配列方向が、前記搬送方向から見て基板の傾斜方向と平行になるように設定されているのがよい。
【００１４】
さらに、好ましくは、前記吐出部で使用される前記処理液として未使用のものが用いられるのがよい。
【００１５】
また、好ましくは、前記吐出部により使用される前記処理液として使用後のものを再利用する循環使用部と、その循環使用部の前記搬送方向下流側に設けられ、前記吐出部により使用される前記処理液として未使用のものを用いる新液使用部と、が設けられているのがよい。
【００１６】
さらに、好ましくは、前記搬送機構、前記気流形成部及びすべての前記吐出部が、基板を搬入及び排出するための入口部及び出口部が設けられた単一のチャンバ内に収容されているのがよい。
【００１７】
また、好ましくは、前記チャンバの前記入口部及び前記出口部に、フィルタが設けられた気体取入口が設けられ、前記チャンバの前記入口部と前記出口部との間のいずれかの位置に、気体排出口が設けられているのがよい。
【００１８】
【発明の実施の形態】
＜第１実施形態＞
図１は本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の平面構成を模式的に示す図であり、図２はその基板処理装置の基板搬送方向に平行な断面における構成を模式的に示す図であり、図３はその基板処理装置の基板搬送方向と直角な断面における要部の構成を模式的に示す図である。この基板処理装置１は、図１ないし図３に示すように、例えば半導体基板やフラットパネル製造用の矩形ガラス基板、あるいはプリント配線基板などの基板Ｗを、後述する搬送機構３によって搬送しつつ、チャンバ５内で洗浄処理を施す基板洗浄装置である。
【００１９】
なお、図１及び図２では、搬送機構３を便宜上省略している。また、本明細書及び図面では、説明の便宜のためにｘ，ｙ，ｚの直交座標系を導入し、２個の水平軸方向のうちの基板Ｗの搬送方向Ａと平行な方向をｘ方向とし、残りの水平軸方向である搬送方向Ａと垂直な方向（横幅方向）をｙ方向とし、上下方向をｚ方向としている。さらに、本明細書において左右というときは、基板Ｗの搬送方向Ａ上流側から見た場合の左右方向を示しており、プラスｙ方向が左方向に対応し、マイナスｙ方向が右方向に対応している。
【００２０】
チャンバ５は、単一のチャンバによって構成されており、チャンバ５内は、仕切板７，９，１１によって仕切られ、基板Ｗの搬送方向Ａ上流側から順に、入口部１３、処理部１５、乾燥部１７、出口部１９が設けられている。入口部１３の搬送方向Ａ上流端の側壁部、出口部１９の搬送方向Ａ下流端の側壁部、及び仕切板７，９，１１には、基板Ｗが通される開口部１３ａ，１９ａ，７ａ，９ａ，１１ａが設けられている。
【００２１】
入口部１３及び出口部１９には、ＨＥＰＡフィルタ等のエアフィルタ（フィルタ）２１，２３が設けられたエア取入口（気体取入口）２５，２７が設けられ、処理部１５及び乾燥部１７には、エア排出口（気体排出口）２９，３１が設けられている。そして、矢印Ｂ１，Ｂ２で示すようにエア排出口２９，３１からチャンバ５内のエアを吸引して排出することにより、矢印Ｂ３，Ｂ４で示すように、新たなエアがエアフィルタ２１，２３により清浄化されつつエア取入口２５，２７を介してチャンバ５内に取り入れられる。これによって、チャンバ５内には、入口部１３及び出口部１９からチャンバ５のさらに内方である処理部１５及び乾燥部１７側に向かうエアの流れが生じる。
【００２２】
乾燥部１７内には基板Ｗの搬送経路の上側及び下側にエア流形成部（気流形成部）３３，３４が設けられ、処理部１５内には、搬送経路の上側及び下側に少なくとも１個、例えば３個の吐出部３５，３６が設けられるとともに、吐出部３５の搬送方向Ａ上流側における搬送経路の上側に水流形成部３７が設けられている。なお、変形例として、エア流形成部３３，３４及び吐出部３５，３６のいずれか一方又は両方を、搬送経路の上側にのみ設けるようしてもよい。また、水流形成部３７については省略してもよく、あるいは水流形成部３７を搬送経路の上側及び下側に設けるようにしてもよい。なお、エア流形成部３３，３４、吐出部３５，３６及び水流形成部３７の詳細な構成については後述する。
【００２３】
また、チャンバ５内には、基板Ｗを搬送する搬送機構３が収容される。この搬送機構３は、図３に示すように、基板Ｗを水平面Ｈに対して傾斜させた状態で入口部１３から出口部１９に搬送する。より詳細には、この搬送機構３によって、基板Ｗは、ｘ方向に対しては平行な状態を保ちつつ、ｙ方向に対しては搬送方向Ａ上流側から見て右側に所定角度θだけ傾斜させた状態で搬送される。このような搬送機構３には、図示しない駆動源により回転駆動され、基板Ｗを下面側から支持しつつ基板Ｗを搬送する搬送ローラ４１と、基板Ｗの安定搬送のために基板Ｗを上方から抑える上乗せローラ４３と、基板Ｗを上下から挟み込んで支持する支持ローラ４５とが備えられている。搬送ローラ４１には、基板Ｗと直接接触する２個のローラ部４１ａ，４１ｂが備わっており、基板Ｗの傾斜下方側（図３の右側）に備わるローラ部４１ｂには、基板Ｗが滑り落ちるのを防止するための鍔部４１ｃが設けられている。上乗せローラ４３及び支持ローラ４５についても同様に、基板Ｗと直接接触するローラ部４３ａ，４３ｂ、及びローラ部４５ａ，４５ｂがそれぞれ備わっている。
【００２４】
エア流形成部３３，３４は、図１及び図２に示すように、いわゆるエアナイフ等により構成され、矢印Ｂ５，Ｂ６で示すようにエアを基板Ｗの搬送経路の上方側及び下方側から吐出して、その搬送経路を斜めに横断する略カーテン状のエア流を形成する。このエア流形成部３３，３４は、上方側から見て搬送方向Ａに対して傾斜角度α１で傾斜する傾斜方向に沿って延設されており、その左端部（図１上では上端部）が右端部よりも搬送方向Ａ上流側に位置するようにして傾斜配置されている。そして、エア流形成部３３，３４は、このように搬送方向Ａに対して傾斜配置された状態で、ｚ方向に対しても所定角度で傾斜された状態で配置されることにより、そのエア流の吐出方向Ｃ１，Ｃ２が、図２に示すようにｙ方向から見てｚ方向に対して傾斜角度β１をなして搬送方向Ａ下流側から斜めに基板Ｗと交わるように、かつ、図４に示すようにｚ方向から見て搬送方向Ａ上流側及び基板Ｗの傾斜方向の下側に向けて搬送方向Ａと傾斜角度γ１をなすように設定されている。その結果、エア流形成部３３，３４のエア流は、上方側からみて図１の矢印Ｄで示すように、基板Ｗの搬送方向Ａ下流側端部における左側（傾斜方向の上側）から搬送方向Ａ上流側端部における右側（傾斜方向の下側）に向けて斜め下方向に吐出される。このエア流形成部３３，３４のエア流は、処理部１５内のミスト等が処理部１５から乾燥部１７を介して開口部１９側に漏れるのを防止する機能も担っている。
【００２５】
このようなエア流形成部３３，３４は、仕切板１１の開口部１１ａの上縁部及び下縁部などに設置される。これに対応して、仕切板１１も上方側から見て搬送方向Ａに対してエア流形成部３３，３４の傾斜角度α１と等しい傾斜角度で傾斜するように設けられている。また、他の仕切板７，９についても、上方側から見て搬送方向Ａに対してエア流形成部３３，３４の傾斜角度α１とほぼ等しい傾斜角度で傾斜するように設けられている。なお、処理部１５と乾燥部１７を仕切る仕切板９については、スペース削減等のためにエア流形成部３３の傾斜に応じて傾斜させる必要があるが、入口部１３と処理部１５とを仕切る仕切板７については、必ずしも傾斜させる必要はなく、搬送方向Ａに対して垂直に交わるように設けてもよい。
【００２６】
各吐出部３５，３６は、例えばパイプノズルなどによって構成され、列をなして設けられる複数のノズル部４７を有し、そのノズル部４７から処理液である純水を図２の矢印Ｂ７，Ｂ８で示すしょうに基板Ｗに向けて上方側又は下方側から吐出する。なお、本実施形態では、吐出部３５，３６として純水を吐出するものを用いているが、純水とエアとを混合してミスト状の混合流体を吐出するものを用いるようにしてもよい。
【００２７】
このような各吐出部３５，３６は、複数のノズル部４７の配列方向が、図２及び図５に示すように、上方側から見て搬送方向Ａに対してエア形成部３３，３４の傾斜角度α１とほぼ等しい傾斜角度α２で傾斜するように延設されており、その左端部（図１上では上端部）が右端部よりも搬送方向Ａ上流側に位置するようにして傾斜配置されている。また、各吐出部３５，３６は、図３に示すように、そのノズル部４７の配列方向が基板Ｗの傾斜方向と平行になるように、ｘ方向から見てｙ方向に対して傾斜角度θだけ右側に傾斜されている。そして、各吐出部３５，３６は、このように搬送方向Ａ及びｙ方向に対して傾斜配置された状態で、ｚ方向に対しても所定角度だけ傾斜された状態で配置されることにより、そのノズル部４７からの水流の吐出方向Ｃ３，Ｃ４が、図２及び図５に示すようにｙ方向から見てｚ方向に対して傾斜角度β２をなして搬送方向Ａ下流側から斜めに基板Ｗと交わるように、かつ、図５に示すようにｚ方向から見て搬送方向Ａ上流側及び基板Ｗの傾斜方向の下側に向けて搬送方向Ａと傾斜角度γ２をなすように設定されている。その結果、吐出部３５，３６の水流は、上方からみて図１の矢印Ｄで示すように、基板Ｗの搬送方向Ａ下流側端部における左側（傾斜方向の上側）から搬送方向Ａ上流側端部における右側（傾斜方向の下側）に向けて斜め下方向に吐出される。
【００２８】
これらの吐出部３５，３６は、チャンバ５の処理部１５内の搬送方向Ａ下流側端部から上流側に向けて設定される所定の搬送区間Ｆ（図１参照）内に設置されている。よって、この搬送区間Ｆ内に設置されているすべての吐出部３５，３６が、上述のようにｘ方向、ｙ方向及びｚ方向に対して傾斜配置されている。
【００２９】
水流形成部３７は、例えば液ナイフ又は液カーテンなどによって構成され、処理室１５内の搬送方向Ａ上流側端部に設置され、図２の矢印Ｂ９で示すように純水を基板Ｗの搬送経路の上方側から吐出して、その搬送経路を斜めに横断する略カーテン状の水流を形成する。この水流形成部３７は、上方側から見て搬送方向Ａに対してエア流形成部３３の傾斜角度α１とほぼ等しい傾斜角度α３で傾斜する傾斜方向に沿って延設されており、その左端部（図１上では上端部）が右端部よりも搬送方向Ａ上流側に位置するようにして傾斜配置されている。また、水流形成部３７の水流の吐出方向は、図２の矢印Ｂ９で示すように基板Ｗの搬送方向Ａ下流側に斜めに傾斜されている。この水流形成部３７の水流は、処理部１５内のミスト等が開口部７ａから入口部１３側に漏れるのを防止する機能も担っている。
【００３０】
各吐出部３５，３６及び液流形成部３７は、基板処理装置１の外部の工場設備である図示しない純水供給ラインから供給される未使用の純水を吐出するようになっている。
【００３１】
次に、この基板処理装置１による洗浄処理について説明する。所定の搬送経路に従ってチャンバ５内に導入された基板Ｗは、搬送機構３によって上述のようにｙ方向に対して右側に傾斜された状態で、入口部１３から処理部１５に導入され、処理部１５にて搬送方向Ａに搬送されつつ洗浄が行われる。まず、水流形成部３７の略カーテン状の純水の水流により基板Ｗが洗浄される。
【００３２】
続いて、基板Ｗが水流形成部３７を通過すると、基板Ｗに対して上下両側から純水が吐出部３５，３６によって吐出され、基板Ｗの洗浄が行われる。このとき、基板Ｗがｙ方向に対して右側に傾斜されているとともに、吐出部３５，３６からの純水の吐出方向Ｃ３，Ｃ４が、上述のようにｚ方向及び搬送方向Ａに対して傾斜されているため、基板Ｗの上面側及び下面側において、上方側からみて図１の矢印Ｄで示すように、基板Ｗの搬送方向Ａ下流側端部における左側（傾斜方向の上側）から搬送方向Ａ上流側端部における右側（傾斜方向の下側）に向けて斜め方向に流れる水流が効果的に形成される。その結果、この斜め方向に流れる水流によって、基板Ｗ上の液体等を新たに吐出した純水に置換する液置換性が向上され、優れた洗浄効果が期待できる。
【００３３】
続いて、基板Ｗが処理部１５から乾燥部１７に導入されると、基板Ｗに対して上下両側から略カーテン状のエア流がエア形成部３３，３４によって吹きつけられ、基板Ｗの乾燥が行われる。このとき、基板Ｗがｙ方向に対して右側に傾斜されているとともに、エア流形成部３３，３４からのエア流の吐出方向Ｃ１，Ｃ２が、上述のようにｚ方向及び搬送方向Ａに対して傾斜されているため、基板Ｗの上面側及び下面側において、上方側からみて図１の矢印Ｄで示すように、基板Ｗの搬送方向Ａ下流側端部における左側（傾斜方向の上側）から搬送方向Ａ上流側端部における右側（傾斜方向の下側）に向けて斜め方向に流れるエア流が効果的に形成される。その結果、この斜め方向に流れるエア流によって、基板Ｗに付着した水がエア流の流れに沿って効果的に基板Ｗ外に移動及び除去され、効果的に乾燥が行われる。
【００３４】
続いて、上記のように乾燥処理が行われた基板Ｗは、乾燥部１７から出口部１９に送られ、チャンバ５外に排出される。
【００３５】
以上のように、本実施形態によれば、基板Ｗを傾斜させた状態で搬送しつつ、基板Ｗに純水を吐出して洗浄を行うため、基板Ｗ上の液置換性に優れ、特別の処理液を使用しなくとも純水の使用により高い洗浄効果が得られるとともに、大量の純水を必要とせず、短時間で効率良く洗浄が可能でり、コストや性能面で優れている。このため、吐出部３５，３６の設置個数を削減でき、コスト削減及び装置構成の小型化に有利である。
【００３６】
また、所定の搬送区間Ｆ内に位置するすべての吐出部３５，３６が、搬送方向Ａに対してエア流形成部３３，３４の傾斜方向と略同一の傾斜角度α２で傾斜しているため、エア流形成部３３，３４と吐出部３５，３６の各ノズル部４７との間に無駄な空間が生じるのを防止でき、装置構成の小型化に有利であるとともに、基板Ｗ全面に均一に純水を吐出して均一に洗浄できる。
【００３７】
さらに、このように吐出部３５，３６をエア流形成部３３，３４の傾斜方向と略平行に配置することによって、エア流形成部３３，３４と吐出部３５，３６の各ノズル部４７との間の搬送方向Ａに沿った距離が等しくなるため、基板Ａ上で純水の乾燥度合い等の処理ムラが生じるのを防止でき、処理性能が向上する。
【００３８】
また、基板Ｗ自体が上述のようにｙ方向に対して傾斜していることによる寄与と、吐出部３５，３６からの純水の吐出方向Ｃ３，Ｃ４が、上述のように、上方から見て基板Ｗの搬送方向Ａ上流側及び傾斜方向の下側に向けて搬送方向Ａと斜めに交わるように、かつ、ｙ方向から見てｚ方向に対して傾斜するように設定されることによる寄与とにより、基板Ｗ上において、基板Ｗの搬送方向Ａ下流側端部における左側（傾斜方向の上側）から搬送方向Ａ上流側端部における右側（傾斜方向の下側）に向けて斜め方向に流れる水流を効果的に形成することができ、基板Ｗ上における液置換性をより向上でき、より少量の純水により洗浄が可能となる。その結果、例えば、吐出部３５，３６にて使用する純水に未使用の新液である純水を用いるようにしても、新液使用によるコスト増加を抑制することができる。
【００３９】
さらに、吐出部３５，３６が、ｘ方向から見て基板Ｗの傾斜方向と平行に延設されているため、各ノズル部４７と基板Ｗとの距離を等しく設定することができ、基板Ｗ全面に均一に洗浄することができる。
【００４０】
また、吐出部３５，３６及び水流形成部３７で使用される純水として汚染物を含まない未使用のものが用いられるため、使用後の純水を回収して再利用する方式のように純水中に含まれる汚染物により基板Ｗを汚染してしまうことがないとともに、処理液を再利用する際に必要なフィルタ、タンク、配管及びポンプ等の設備が不要である。
【００４１】
さらに、搬送機構３、エア流形成部３３、吐出部３５，３６及び水流形成部３７の実質的にすべての構成要素が単一のチャンバ５内に収容される構成であるため、装置構成の小型化及び低コスト化が図れる。
【００４２】
また、チャンバ５の入口部１３及び出口部１９に、エアフィルタ２１，２３が設けられたエア取入口２５，２７が設けられ、入口部１３と出口部１９の間に位置する処理部１５及び乾燥部１７にエア排出口２９，３１が設けられているため、エア排出口２９，３１からチャンバ５内のエアを吸引して排出することにより、チャンバ５内に入口部１３及び出口部１９からチャンバ５のさらに内方である処理部１５及び乾燥部１７側に向かうエアの流れを形成することができ、これによってチャンバ５内の純水のミスト等が入口部１３又は出口部１９からチャンバ５外に漏れるのを防止することができるとともに、チャンバ５内の気流を安定させることができる。
【００４３】
さらに、チャンバ５内のエアを清浄な状態に保つことができ、チャンバ５内に浮遊する汚染物が基板Ｗに再付着するのを防止できる。
【００４４】
＜第２実施形態＞
図７は、本発明の第２実施形態に係る基板処理装置の平面構成を模式的に示す図である。本実施形態に係る基板処理装置５１が上述の第１実施形態に係る基板処理装置１と実質的に異なる点は、チャンバ５内における入口部１３と処理部１５の間に新たな処理部５３を追加した点、及び、処理部１５内に設置していた水流形成部３７を省略した点のみであり、互いに対応する部分には同一の参照符号を付して説明を省略する。
【００４５】
この基板処理装置５１では、図７に示すように、チャンバ５内における入口部１３と処理部１５との間に、新たな処理部５３が設けられている。また、処理部１３の水流形成部３７は省略されている。処理部１５と処理部５３との実質的な違いは、使用する純水に未使用の新液を使用するか、使用後の純水を回収したものを再利用するかの違いのみであり、吐出部３５，３６の配置形態等の構成は実質的に同一である。本実施形態では、新液である未使用の純水を使用する処理部１５が、本発明に係る新液使用部に相当しおり、その処理部１５の搬送方向Ａ上流側に設けられ、使用後の純水を回収して再利用する処理部５３が、本発明に係る循環使用部に相当している。処理部５３には、図示しなしエア排出口が設けられている。
【００４６】
処理部５３内に設けられる上下の吐出部３５，３６は、処理部１５内に設けられる上述の吐出部３５，３６と同様に、ｘ方向、ｙ方向及びｚ方向に対して傾斜した状態で配置されている。このため、吐出部３５，３６からの純水の吐出方向Ｃ３，Ｃ４は、処理部１５内に備えられる上述の吐出部３５，３６からの純水の吐出方向Ｃ３，Ｃ４と同様に、図２及び図５に示すようにｙ方向から見てｚ方向に対して傾斜角度β２をなして搬送方向Ａ下流側から斜めに基板Ｗと交わるように、かつ、図５に示すようにｚ方向から見て搬送方向Ａ上流側及び基板Ｗの傾斜方向の下側に向けて搬送方向Ａと傾斜角度γ２をなすように設定されている。その結果、処理部５３の吐出部３５，３６の水流は、上方からみて図１の矢印Ｄで示すように、基板Ｗの搬送方向Ａ下流側端部における左側（傾斜方向の上側）から搬送方向Ａ上流側端部における右側（傾斜方向の下側）に向けて斜め下方向に吐出される。
【００４７】
このような構成により、本実施形態では、チャンバ５の処理部１５内の搬送方向Ａ下流側端部から処理部５３にかけて設定される所定の搬送区間Ｇ内に設置されるすべての吐出部３５，３６が、上述のようにｘ方向、ｙ方向及びｚ方向に対して傾斜配置されている。
【００４８】
なお、図７の図示例では、処理部５３内において上下３個ずつの吐出部３５，３５が設けられているが、３個に限らず、１個以上の任意の個数に設定可能である。また、下側の吐出部３６を省略してもよい。
【００４９】
また、処理部５３では、使用した純水を再利用するため、吐出部３５，３６から吐出された純水が、回収されてフィルタを介して清浄化された後、再び吐出部３５，３６に供給されるようようようなっている。
【００５０】
この基板処理装置５１による洗浄処理では、チャンバ５内に導入された基板Ｗは、搬送機構３によりｙ方向に傾斜された状態で搬送されて、入口部１３から処理部５３内に導入され、処理部５３にて吐出部３５，３６から吐出される再利用の純水により洗浄される。このとき、基板Ｗがｙ方向に対して右側に傾斜されているとともに、吐出部３５，３６からの純水の吐出方向Ｃ３，Ｃ４が、上述のようにｚ方向及び搬送方向Ａに対して傾斜されているため、基板Ｗの上面側及び下面側において、上方側からみて図１の矢印Ｄで示すように、基板Ｗの搬送方向Ａ下流側端部における左側（傾斜方向の上側）から搬送方向Ａ上流側端部における右側（傾斜方向の下側）に向けて斜め方向に流れる水流が効果的に形成される。
【００５１】
続いて、基板Ｗは処理部５３から処理部１５に送られ、処理部１５にて未使用の純水により前述の第１実施形態の場合と同様に再度洗浄され、乾燥部１７を経て出口部１９に送られ、チャンバ５外に排出される。
【００５２】
以上のように、本実施形態においても、上述の第１実施形態の効果の一つである使用する純水にすべて未使用の純水を使用することにより得られる効果を除いて、第１実施形態とほぼ同様な効果が得られる。
【００５３】
また、本実施形態では、純水を再利用して洗浄する処理部５３の搬送方向Ａ下流側に、未使用の純水を用いて洗浄する処理部１５が設けられているため、仮に処理部５３で使用される純水に汚染物が含まれていてその汚染物により基板Ｗが汚染された場合でも、基板Ｗ上の汚染物を含む水等を、下流側の処理部１５で使用される汚染物を含まない未使用の純水に置換することができ、純水の消費量を抑制しつつ洗浄効果の向上が図れるとともに、処理部１５の上流側に追加の処理部５３を設けることにより、多様な基板処理（例えば、汚染度の高い基板Ｗの洗浄処理）にも対応できる。
【００５４】
＜第３実施形態＞
図８は、本発明の第２実施形態に係る基板処理装置の平面構成を模式的に示す図である。本実施形態に係る基板処理装置６１が上述の第２実施形態に係る基板処理装置５１と実質的に異なる点は、チャンバ５内における入口部１３と処理部５３の間に新たな処理部６３を追加した点のみであり、互いに対応する部分には同一の参照符号を付して説明を省略する。
【００５５】
この基板処理装置６１では、図８に示すように、チャンバ５内における入口部１３と処理部５３との間に、新たな処理部６３が設けられている。この処理部６３では、基板Ｗに対する各種の薬液を用いた薬液処理が行われる。
【００５６】
そして、基板Ｗが傾斜された状態で入口部１３から処理部６３内に送られると、処理部６３にて薬液が基板Ｗに吐出されるなどして基板Ｗに対する薬液処理が行われた後、処理部５３に送られ、処理部５３での純水による洗浄処理により、薬液処理により基板Ｗに付着した薬液が純水に置換される。続いて、基板Ｗは、処理部１５に送られ、処理部１５にて新液である未使用の純水によりさらに洗浄され、乾燥部１７を経て出口部１９から排出される。
【００５７】
このような本実施形態においても、上述の第２実施形態とほぼ同様な効果が得られるとともに、処理部６３では基板Ｗが傾斜された状態で薬液処理が行われるため、例えば基板Ｗに対して薬液を吐出する際の基板Ｗ上での液置換性が向上され、薬液処理を効果的に行うことができるとともに、薬液により処理を行う処理部６３が処理部１５及び処理部５３の上流側に設けられることにより、多様な基板処理（例えば、汚染度の高い基板Ｗの洗浄処理）にも対応できる。
【００５８】
【発明の効果】
請求項１に記載の発明によれば、基板を傾斜させた状態で搬送しつつ、基板に処理液を吐出するため、基板上の液体等を新たに吐出した処理液に置換する液置換性に優れ、大量の処理液を必要とせず、短時間で効率良く処理液による処理が可能でり、コストや性能面で優れている。このため、吐出部の設置個数を削減でき、コスト削減及び装置構成の小型化に有利である。例えば、吐出部から吐出した処理液により基板の洗浄を行う場合において、処理液として純水を用いても高度の洗浄性能を実現することができる。
【００５９】
また、吐出部のノズル部の配列方向が、基板の搬送方向に対して気流形成部の傾斜方向と略同一の傾斜角度で傾斜しているため、気流形成部と吐出部の各ノズル部との間に無駄な空間が生じるのを防止でき、装置構成の小型化に有利である。
【００６０】
さらに、このように吐出部の配列方向を気流形成部の傾斜方向と略平行にすることによって、気流形成部と吐出部の各ノズル部との間の搬送方向に沿った距離が等しくなるため、基板上で処理液の乾燥度合い等の処理ムラが生じるのを防止でき、処理性能が向上する。
【００６１】
請求項２に記載の発明によれば、基板の搬送経路上における所定区間内に位置するすべての吐出部について、その複数のノズル部の配列方向が搬送方向に対して気流形成部と略同一の傾斜角度で傾斜しているため、所定区間内における各吐出部の間、及び各吐出部と気流形成部との間に無駄な空間が生じるのを防止することができるとともに、基板全面に均一に処理液を吐出することができる。
【００６２】
請求項３に記載の発明によれば、基板自体の傾斜による寄与と、処理液の吐出方向が横幅方向から見て上下方向に対して傾斜されていることによる寄与とにより、基板上において搬送方向に対して傾斜した斜め方向に処理液の液流を効果的に形成することができ、基板上における液置換性をより向上でき、より少量の処理液により洗浄等の処理が可能となる。その結果、例えば、吐出部にて使用する処理液に未使用の新液を用いるようにしても、新液使用によるコスト増加を抑制することができる。
【００６３】
請求項４に記載の発明によれば、基板自体が横幅方向に対して傾斜していることによる寄与と、処理液の吐出方向が、上方から見て基板の搬送方向上流側及び傾斜方向の下側に向けて搬送方向と斜めに交わるように、かつ、横幅方向から見て上下方向に対して傾斜するように設定されることによる寄与とにより、基板上において、搬送方向に対して基板の傾斜方向下側に傾斜した斜め方向に処理液の液流を効果的に形成することができ、基板上における液置換性をより向上でき、より少量の処理液により洗浄等の処理が可能となる。その結果、例えば、吐出部にて使用する処理液に未使用の新液を用いるようにしても、新液使用によるコスト増加を抑制することができる。
【００６４】
請求項５に記載の発明によれば、吐出部の複数のノズル部の配列方向が、搬送方向上流側又は下流側から見て基板の傾斜方向と平行に設定されているため、各ノズル部と基板との距離を等しく設定することができ、基板全面に均一に処理液を吐出することができる。
【００６５】
請求項６に記載の発明によれば、吐出部で使用される処理液として汚染物を含まない未使用のものが用いられるため、使用後の処理液を回収して再利用する方式のように処理液中に含まれる汚染物により基板を汚染してしまうことがないとともに、処理液を再利用する際に必要なフィルタ、タンク、配管及びポンプ等の設備が不要である。
【００６６】
請求項７に記載の発明によれば、処理液を再利用する循環使用部の搬送方向下流側に、処理液として未使用のものを用いる新液使用部が設けられているため、仮に循環使用部で吐出される処理液に汚染物が含まれていてその汚染物により基板が汚染された場合でも、基板上の汚染物を含む処理液等を、新液使用部で吐出される汚染物を含まない未使用の処理液に置換することができ、処理液の消費量を抑制しつつ処理液による処理効果の向上が図れるとともに、新液使用部の上流側に循環使用部をさらに追加することにより、多様な基板処理（例えば、汚染度の高い基板の洗浄処理）にも対応できる。
【００６７】
請求項８に記載の発明によれば、搬送機構、気流形成部及びすべての吐出部が単一のチャンバ内に収容される構成であるため、装置構成の小型化及び低コスト化が図れる。
【００６８】
請求項９に記載の発明によれば、チャンバの入口部及び出口部に、フィルタが設けられた気体取入口が設けられ、チャンバの入口部と出口部との間のいずれかの位置に気体排出口が設けられているため、気体排出口からチャンバ内の気体を吸引して排出することにより、チャンバ内に入口部及び出口部からチャンバのさらに内方側である気体排出口に向かう気体の流れを形成することができ、これによってチャンバ内の処理液のミスト等が入口部又は出口部からチャンバ外に漏れるのを防止することができるとともに、チャンバ内の気流を安定させることができる。
【００６９】
さらに、チャンバ内の気体を清浄な状態に保つことができ、チャンバ内に浮遊する汚染物が基板に再付着するのを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の平面構成を模式的に示す図である。
【図２】図１の基板処理装置の基板搬送方向に平行な断面における構成を模式的に示す図である。
【図３】図１の基板処理装置の基板搬送方向と直角な断面における要部の構成を模式的に示す図である。
【図４】図１の基板処理装置におけるエア流形成部の配置形態を示す図である。
【図５】図１の基板処理装置における吐出部の配置形態を示す図である。
【図６】図１の基板処理装置における吐出部の配置形態を示す図である。
【図７】本発明の第２実施形態に係る基板処理装置の平面構成を模式的に示す図である。
【図８】本発明の第３実施形態に係る基板処理装置の平面構成を模式的に示す図である。
【符号の説明】
１ 基板処理装置
３ 搬送機構
５ チャンバ
１３ 入口部
１５ 処理部
１７ 乾燥部
１９ 出口部
２１，２３ エアフィルタ
２５，２７ エア取入口
２９，３１ エア排出口
３３，３４ エア流形成部
３５，３６ 吐出部
３７ 水流形成部
４７ ノズル部
５１ 基板処理装置
５３ 処理部
６１ 基板処理装置
６３ 処理部
Ａ 搬送方向
Ｗ 基板
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウェハ、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ製造用のガラス基板、プリント基板等の板状基板を湿式にて処理（洗浄、現像、エッチング、剥離処理など）するための基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
この種の基板処理装置においては、近年、イニシャルコストやランニングコストの低減要求が厳しくなってきている。一方、基板サイズは大型化の傾向にあり、これに伴うコストアップを如何に抑制するかが課題となっていると共に、環境への配慮も重要課題となってきている。このため、例えば基板の洗浄処理では極力純水を用いて高い洗浄力を確保することが求められるようになってきている。
【０００３】
これに対して、従来の基板処理装置では、基板を水平方向に搬送しつつ処理液を吐出して洗浄等の処理を行う水平搬送方式が採用されている。
【０００４】
また、搬送される基板に対して処理液を吐出する複数のノズル部を有する吐出部と、その吐出部の下流側に設けられ、略カーテン状の気流を形成するいわゆるエアナイフ等の気流形成部とを備える従来の基板処理装置においては、気流形成部が基板の搬送方向に対して傾斜配置されるのに対して、吐出部のノズル部の配列方向が、基板の搬送方向と垂直な方向に設定されている。なお、本願発明に関連する公知技術しては、特許文献１記載のものがある。
【０００５】
【特許文献１】
特開平９−２４６２２８号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述の水平搬送方式を採用した基板処理装置では、基板上の液体等を新たに吐出した処理液に置換する液置換性が悪く大量の処理液を必要とするため、コストや性能面で劣る。
【０００７】
また、上述の吐出部及び気流形成部を備えた基板処理装置においては、気流形成部と吐出部の各ノズル部との間に無駄な空間が生じてしまい、装置の小型化の妨げとなるとともに、気流形成部と吐出部の各ノズル部との間の搬送方向に沿った距離が等しくないため、基板上で処理液の乾燥度合い等の処理ムラが生じるおそれがある。
【０００８】
そこで、本発明は、コスト及び性能の面で優れ、小型化に有利な基板処理装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するための技術的手段は、基板を搬送しつつ処理を行う基板処理装置であって、水平面に対して基板を傾斜させた状態で搬送する搬送機構と、上方から見て基板の搬送方向に対して傾斜する方向に延設され、基板の搬送経路を斜めに横断する略カーテン状の気流を形成する気流形成部と、前記気流形成部の前記搬送方向上流側に設けられる少なくとも１個の吐出部と、を備え、前記吐出部は、上方から見て前記搬送方向に対して前記気流形成部と略同一の傾斜角度で傾斜する傾斜方向に沿って配列される複数のノズル部を有し、その各ノズル部が前記搬送機構により搬送される基板に対して所定の処理液を吐出することを特徴とする。
【００１０】
好ましくは、基板の搬送経路上における所定区間内に位置するすべての前記吐出部について、上方から見て前記複数のノズル部が前記搬送方向に対して前記気流形成部と略同一の傾斜角度で傾斜する傾斜方向に沿って配列されるのがよい。
【００１１】
また、好ましくは、前記吐出部の前記各ノズル部から吐出される前記処理液の吐出方向が、前記搬送方向と垂直な横幅方向から見て上下方向に対して傾斜しているのがよい。
【００１２】
さらに、好ましくは、前記搬送機構は、基板を前記搬送方向に対しては略水平な状態を保ちつつ前記搬送方向と垂直な横幅方向に対して傾斜させた状態で搬送し、前記処理液の前記吐出方向が、前記横幅方向から見て上下方向に対して傾斜して前記搬送方向下流側から斜めに基板と交わるように、かつ、上方から見て前記搬送方向上流側及び基板の傾斜方向の下側に向けて前記搬送方向と斜めに交わるように設定されているのがよい。
【００１３】
また、好ましくは、前記搬送機構は、基板を前記搬送方向に対しては略水平な状態を保ちつつ前記横幅方向に対して傾斜させた状態で搬送し、前記吐出部の前記複数のノズル部の前記配列方向が、前記搬送方向から見て基板の傾斜方向と平行になるように設定されているのがよい。
【００１４】
さらに、好ましくは、前記吐出部で使用される前記処理液として未使用のものが用いられるのがよい。
【００１５】
また、好ましくは、前記吐出部により使用される前記処理液として使用後のものを再利用する循環使用部と、その循環使用部の前記搬送方向下流側に設けられ、前記吐出部により使用される前記処理液として未使用のものを用いる新液使用部と、が設けられているのがよい。
【００１６】
さらに、好ましくは、前記搬送機構、前記気流形成部及びすべての前記吐出部が、基板を搬入及び排出するための入口部及び出口部が設けられた単一のチャンバ内に収容されているのがよい。
【００１７】
また、好ましくは、前記チャンバの前記入口部及び前記出口部に、フィルタが設けられた気体取入口が設けられ、前記チャンバの前記入口部と前記出口部との間のいずれかの位置に、気体排出口が設けられているのがよい。
【００１８】
【発明の実施の形態】
＜第１実施形態＞
図１は本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の平面構成を模式的に示す図であり、図２はその基板処理装置の基板搬送方向に平行な断面における構成を模式的に示す図であり、図３はその基板処理装置の基板搬送方向と直角な断面における要部の構成を模式的に示す図である。この基板処理装置１は、図１ないし図３に示すように、例えば半導体基板やフラットパネル製造用の矩形ガラス基板、あるいはプリント配線基板などの基板Ｗを、後述する搬送機構３によって搬送しつつ、チャンバ５内で洗浄処理を施す基板洗浄装置である。
【００１９】
なお、図１及び図２では、搬送機構３を便宜上省略している。また、本明細書及び図面では、説明の便宜のためにｘ，ｙ，ｚの直交座標系を導入し、２個の水平軸方向のうちの基板Ｗの搬送方向Ａと平行な方向をｘ方向とし、残りの水平軸方向である搬送方向Ａと垂直な方向（横幅方向）をｙ方向とし、上下方向をｚ方向としている。さらに、本明細書において左右というときは、基板Ｗの搬送方向Ａ上流側から見た場合の左右方向を示しており、プラスｙ方向が左方向に対応し、マイナスｙ方向が右方向に対応している。
【００２０】
チャンバ５は、単一のチャンバによって構成されており、チャンバ５内は、仕切板７，９，１１によって仕切られ、基板Ｗの搬送方向Ａ上流側から順に、入口部１３、処理部１５、乾燥部１７、出口部１９が設けられている。入口部１３の搬送方向Ａ上流端の側壁部、出口部１９の搬送方向Ａ下流端の側壁部、及び仕切板７，９，１１には、基板Ｗが通される開口部１３ａ，１９ａ，７ａ，９ａ，１１ａが設けられている。
【００２１】
入口部１３及び出口部１９には、ＨＥＰＡフィルタ等のエアフィルタ（フィルタ）２１，２３が設けられたエア取入口（気体取入口）２５，２７が設けられ、処理部１５及び乾燥部１７には、エア排出口（気体排出口）２９，３１が設けられている。そして、矢印Ｂ１，Ｂ２で示すようにエア排出口２９，３１からチャンバ５内のエアを吸引して排出することにより、矢印Ｂ３，Ｂ４で示すように、新たなエアがエアフィルタ２１，２３により清浄化されつつエア取入口２５，２７を介してチャンバ５内に取り入れられる。これによって、チャンバ５内には、入口部１３及び出口部１９からチャンバ５のさらに内方である処理部１５及び乾燥部１７側に向かうエアの流れが生じる。
【００２２】
乾燥部１７内には基板Ｗの搬送経路の上側及び下側にエア流形成部（気流形成部）３３，３４が設けられ、処理部１５内には、搬送経路の上側及び下側に少なくとも１個、例えば３個の吐出部３５，３６が設けられるとともに、吐出部３５の搬送方向Ａ上流側における搬送経路の上側に水流形成部３７が設けられている。なお、変形例として、エア流形成部３３，３４及び吐出部３５，３６のいずれか一方又は両方を、搬送経路の上側にのみ設けるようしてもよい。また、水流形成部３７については省略してもよく、あるいは水流形成部３７を搬送経路の上側及び下側に設けるようにしてもよい。なお、エア流形成部３３，３４、吐出部３５，３６及び水流形成部３７の詳細な構成については後述する。
【００２３】
また、チャンバ５内には、基板Ｗを搬送する搬送機構３が収容される。この搬送機構３は、図３に示すように、基板Ｗを水平面Ｈに対して傾斜させた状態で入口部１３から出口部１９に搬送する。より詳細には、この搬送機構３によって、基板Ｗは、ｘ方向に対しては平行な状態を保ちつつ、ｙ方向に対しては搬送方向Ａ上流側から見て右側に所定角度θだけ傾斜させた状態で搬送される。このような搬送機構３には、図示しない駆動源により回転駆動され、基板Ｗを下面側から支持しつつ基板Ｗを搬送する搬送ローラ４１と、基板Ｗの安定搬送のために基板Ｗを上方から抑える上乗せローラ４３と、基板Ｗを上下から挟み込んで支持する支持ローラ４５とが備えられている。搬送ローラ４１には、基板Ｗと直接接触する２個のローラ部４１ａ，４１ｂが備わっており、基板Ｗの傾斜下方側（図３の右側）に備わるローラ部４１ｂには、基板Ｗが滑り落ちるのを防止するための鍔部４１ｃが設けられている。上乗せローラ４３及び支持ローラ４５についても同様に、基板Ｗと直接接触するローラ部４３ａ，４３ｂ、及びローラ部４５ａ，４５ｂがそれぞれ備わっている。
【００２４】
エア流形成部３３，３４は、図１及び図２に示すように、いわゆるエアナイフ等により構成され、矢印Ｂ５，Ｂ６で示すようにエアを基板Ｗの搬送経路の上方側及び下方側から吐出して、その搬送経路を斜めに横断する略カーテン状のエア流を形成する。このエア流形成部３３，３４は、上方側から見て搬送方向Ａに対して傾斜角度α１で傾斜する傾斜方向に沿って延設されており、その左端部（図１上では上端部）が右端部よりも搬送方向Ａ上流側に位置するようにして傾斜配置されている。そして、エア流形成部３３，３４は、このように搬送方向Ａに対して傾斜配置された状態で、ｚ方向に対しても所定角度で傾斜された状態で配置されることにより、そのエア流の吐出方向Ｃ１，Ｃ２が、図２に示すようにｙ方向から見てｚ方向に対して傾斜角度β１をなして搬送方向Ａ下流側から斜めに基板Ｗと交わるように、かつ、図４に示すようにｚ方向から見て搬送方向Ａ上流側及び基板Ｗの傾斜方向の下側に向けて搬送方向Ａと傾斜角度γ１をなすように設定されている。その結果、エア流形成部３３，３４のエア流は、上方側からみて図１の矢印Ｄで示すように、基板Ｗの搬送方向Ａ下流側端部における左側（傾斜方向の上側）から搬送方向Ａ上流側端部における右側（傾斜方向の下側）に向けて斜め下方向に吐出される。このエア流形成部３３，３４のエア流は、処理部１５内のミスト等が処理部１５から乾燥部１７を介して開口部１９側に漏れるのを防止する機能も担っている。
【００２５】
このようなエア流形成部３３，３４は、仕切板１１の開口部１１ａの上縁部及び下縁部などに設置される。これに対応して、仕切板１１も上方側から見て搬送方向Ａに対してエア流形成部３３，３４の傾斜角度α１と等しい傾斜角度で傾斜するように設けられている。また、他の仕切板７，９についても、上方側から見て搬送方向Ａに対してエア流形成部３３，３４の傾斜角度α１とほぼ等しい傾斜角度で傾斜するように設けられている。なお、処理部１５と乾燥部１７を仕切る仕切板９については、スペース削減等のためにエア流形成部３３の傾斜に応じて傾斜させる必要があるが、入口部１３と処理部１５とを仕切る仕切板７については、必ずしも傾斜させる必要はなく、搬送方向Ａに対して垂直に交わるように設けてもよい。
【００２６】
各吐出部３５，３６は、例えばパイプノズルなどによって構成され、列をなして設けられる複数のノズル部４７を有し、そのノズル部４７から処理液である純水を図２の矢印Ｂ７，Ｂ８で示すしょうに基板Ｗに向けて上方側又は下方側から吐出する。なお、本実施形態では、吐出部３５，３６として純水を吐出するものを用いているが、純水とエアとを混合してミスト状の混合流体を吐出するものを用いるようにしてもよい。
【００２７】
このような各吐出部３５，３６は、複数のノズル部４７の配列方向が、図２及び図５に示すように、上方側から見て搬送方向Ａに対してエア形成部３３，３４の傾斜角度α１とほぼ等しい傾斜角度α２で傾斜するように延設されており、その左端部（図１上では上端部）が右端部よりも搬送方向Ａ上流側に位置するようにして傾斜配置されている。また、各吐出部３５，３６は、図３に示すように、そのノズル部４７の配列方向が基板Ｗの傾斜方向と平行になるように、ｘ方向から見てｙ方向に対して傾斜角度θだけ右側に傾斜されている。そして、各吐出部３５，３６は、このように搬送方向Ａ及びｙ方向に対して傾斜配置された状態で、ｚ方向に対しても所定角度だけ傾斜された状態で配置されることにより、そのノズル部４７からの水流の吐出方向Ｃ３，Ｃ４が、図２及び図５に示すようにｙ方向から見てｚ方向に対して傾斜角度β２をなして搬送方向Ａ下流側から斜めに基板Ｗと交わるように、かつ、図５に示すようにｚ方向から見て搬送方向Ａ上流側及び基板Ｗの傾斜方向の下側に向けて搬送方向Ａと傾斜角度γ２をなすように設定されている。その結果、吐出部３５，３６の水流は、上方からみて図１の矢印Ｄで示すように、基板Ｗの搬送方向Ａ下流側端部における左側（傾斜方向の上側）から搬送方向Ａ上流側端部における右側（傾斜方向の下側）に向けて斜め下方向に吐出される。
【００２８】
これらの吐出部３５，３６は、チャンバ５の処理部１５内の搬送方向Ａ下流側端部から上流側に向けて設定される所定の搬送区間Ｆ（図１参照）内に設置されている。よって、この搬送区間Ｆ内に設置されているすべての吐出部３５，３６が、上述のようにｘ方向、ｙ方向及びｚ方向に対して傾斜配置されている。
【００２９】
水流形成部３７は、例えば液ナイフ又は液カーテンなどによって構成され、処理室１５内の搬送方向Ａ上流側端部に設置され、図２の矢印Ｂ９で示すように純水を基板Ｗの搬送経路の上方側から吐出して、その搬送経路を斜めに横断する略カーテン状の水流を形成する。この水流形成部３７は、上方側から見て搬送方向Ａに対してエア流形成部３３の傾斜角度α１とほぼ等しい傾斜角度α３で傾斜する傾斜方向に沿って延設されており、その左端部（図１上では上端部）が右端部よりも搬送方向Ａ上流側に位置するようにして傾斜配置されている。また、水流形成部３７の水流の吐出方向は、図２の矢印Ｂ９で示すように基板Ｗの搬送方向Ａ下流側に斜めに傾斜されている。この水流形成部３７の水流は、処理部１５内のミスト等が開口部７ａから入口部１３側に漏れるのを防止する機能も担っている。
【００３０】
各吐出部３５，３６及び液流形成部３７は、基板処理装置１の外部の工場設備である図示しない純水供給ラインから供給される未使用の純水を吐出するようになっている。
【００３１】
次に、この基板処理装置１による洗浄処理について説明する。所定の搬送経路に従ってチャンバ５内に導入された基板Ｗは、搬送機構３によって上述のようにｙ方向に対して右側に傾斜された状態で、入口部１３から処理部１５に導入され、処理部１５にて搬送方向Ａに搬送されつつ洗浄が行われる。まず、水流形成部３７の略カーテン状の純水の水流により基板Ｗが洗浄される。
【００３２】
続いて、基板Ｗが水流形成部３７を通過すると、基板Ｗに対して上下両側から純水が吐出部３５，３６によって吐出され、基板Ｗの洗浄が行われる。このとき、基板Ｗがｙ方向に対して右側に傾斜されているとともに、吐出部３５，３６からの純水の吐出方向Ｃ３，Ｃ４が、上述のようにｚ方向及び搬送方向Ａに対して傾斜されているため、基板Ｗの上面側及び下面側において、上方側からみて図１の矢印Ｄで示すように、基板Ｗの搬送方向Ａ下流側端部における左側（傾斜方向の上側）から搬送方向Ａ上流側端部における右側（傾斜方向の下側）に向けて斜め方向に流れる水流が効果的に形成される。その結果、この斜め方向に流れる水流によって、基板Ｗ上の液体等を新たに吐出した純水に置換する液置換性が向上され、優れた洗浄効果が期待できる。
【００３３】
続いて、基板Ｗが処理部１５から乾燥部１７に導入されると、基板Ｗに対して上下両側から略カーテン状のエア流がエア形成部３３，３４によって吹きつけられ、基板Ｗの乾燥が行われる。このとき、基板Ｗがｙ方向に対して右側に傾斜されているとともに、エア流形成部３３，３４からのエア流の吐出方向Ｃ１，Ｃ２が、上述のようにｚ方向及び搬送方向Ａに対して傾斜されているため、基板Ｗの上面側及び下面側において、上方側からみて図１の矢印Ｄで示すように、基板Ｗの搬送方向Ａ下流側端部における左側（傾斜方向の上側）から搬送方向Ａ上流側端部における右側（傾斜方向の下側）に向けて斜め方向に流れるエア流が効果的に形成される。その結果、この斜め方向に流れるエア流によって、基板Ｗに付着した水がエア流の流れに沿って効果的に基板Ｗ外に移動及び除去され、効果的に乾燥が行われる。
【００３４】
続いて、上記のように乾燥処理が行われた基板Ｗは、乾燥部１７から出口部１９に送られ、チャンバ５外に排出される。
【００３５】
以上のように、本実施形態によれば、基板Ｗを傾斜させた状態で搬送しつつ、基板Ｗに純水を吐出して洗浄を行うため、基板Ｗ上の液置換性に優れ、特別の処理液を使用しなくとも純水の使用により高い洗浄効果が得られるとともに、大量の純水を必要とせず、短時間で効率良く洗浄が可能でり、コストや性能面で優れている。このため、吐出部３５，３６の設置個数を削減でき、コスト削減及び装置構成の小型化に有利である。
【００３６】
また、所定の搬送区間Ｆ内に位置するすべての吐出部３５，３６が、搬送方向Ａに対してエア流形成部３３，３４の傾斜方向と略同一の傾斜角度α２で傾斜しているため、エア流形成部３３，３４と吐出部３５，３６の各ノズル部４７との間に無駄な空間が生じるのを防止でき、装置構成の小型化に有利であるとともに、基板Ｗ全面に均一に純水を吐出して均一に洗浄できる。
【００３７】
さらに、このように吐出部３５，３６をエア流形成部３３，３４の傾斜方向と略平行に配置することによって、エア流形成部３３，３４と吐出部３５，３６の各ノズル部４７との間の搬送方向Ａに沿った距離が等しくなるため、基板Ａ上で純水の乾燥度合い等の処理ムラが生じるのを防止でき、処理性能が向上する。
【００３８】
また、基板Ｗ自体が上述のようにｙ方向に対して傾斜していることによる寄与と、吐出部３５，３６からの純水の吐出方向Ｃ３，Ｃ４が、上述のように、上方から見て基板Ｗの搬送方向Ａ上流側及び傾斜方向の下側に向けて搬送方向Ａと斜めに交わるように、かつ、ｙ方向から見てｚ方向に対して傾斜するように設定されることによる寄与とにより、基板Ｗ上において、基板Ｗの搬送方向Ａ下流側端部における左側（傾斜方向の上側）から搬送方向Ａ上流側端部における右側（傾斜方向の下側）に向けて斜め方向に流れる水流を効果的に形成することができ、基板Ｗ上における液置換性をより向上でき、より少量の純水により洗浄が可能となる。その結果、例えば、吐出部３５，３６にて使用する純水に未使用の新液である純水を用いるようにしても、新液使用によるコスト増加を抑制することができる。
【００３９】
さらに、吐出部３５，３６が、ｘ方向から見て基板Ｗの傾斜方向と平行に延設されているため、各ノズル部４７と基板Ｗとの距離を等しく設定することができ、基板Ｗ全面に均一に洗浄することができる。
【００４０】
また、吐出部３５，３６及び水流形成部３７で使用される純水として汚染物を含まない未使用のものが用いられるため、使用後の純水を回収して再利用する方式のように純水中に含まれる汚染物により基板Ｗを汚染してしまうことがないとともに、処理液を再利用する際に必要なフィルタ、タンク、配管及びポンプ等の設備が不要である。
【００４１】
さらに、搬送機構３、エア流形成部３３、吐出部３５，３６及び水流形成部３７の実質的にすべての構成要素が単一のチャンバ５内に収容される構成であるため、装置構成の小型化及び低コスト化が図れる。
【００４２】
また、チャンバ５の入口部１３及び出口部１９に、エアフィルタ２１，２３が設けられたエア取入口２５，２７が設けられ、入口部１３と出口部１９の間に位置する処理部１５及び乾燥部１７にエア排出口２９，３１が設けられているため、エア排出口２９，３１からチャンバ５内のエアを吸引して排出することにより、チャンバ５内に入口部１３及び出口部１９からチャンバ５のさらに内方である処理部１５及び乾燥部１７側に向かうエアの流れを形成することができ、これによってチャンバ５内の純水のミスト等が入口部１３又は出口部１９からチャンバ５外に漏れるのを防止することができるとともに、チャンバ５内の気流を安定させることができる。
【００４３】
さらに、チャンバ５内のエアを清浄な状態に保つことができ、チャンバ５内に浮遊する汚染物が基板Ｗに再付着するのを防止できる。
【００４４】
＜第２実施形態＞
図７は、本発明の第２実施形態に係る基板処理装置の平面構成を模式的に示す図である。本実施形態に係る基板処理装置５１が上述の第１実施形態に係る基板処理装置１と実質的に異なる点は、チャンバ５内における入口部１３と処理部１５の間に新たな処理部５３を追加した点、及び、処理部１５内に設置していた水流形成部３７を省略した点のみであり、互いに対応する部分には同一の参照符号を付して説明を省略する。
【００４５】
この基板処理装置５１では、図７に示すように、チャンバ５内における入口部１３と処理部１５との間に、新たな処理部５３が設けられている。また、処理部１３の水流形成部３７は省略されている。処理部１５と処理部５３との実質的な違いは、使用する純水に未使用の新液を使用するか、使用後の純水を回収したものを再利用するかの違いのみであり、吐出部３５，３６の配置形態等の構成は実質的に同一である。本実施形態では、新液である未使用の純水を使用する処理部１５が、本発明に係る新液使用部に相当しおり、その処理部１５の搬送方向Ａ上流側に設けられ、使用後の純水を回収して再利用する処理部５３が、本発明に係る循環使用部に相当している。処理部５３には、図示しなしエア排出口が設けられている。
【００４６】
処理部５３内に設けられる上下の吐出部３５，３６は、処理部１５内に設けられる上述の吐出部３５，３６と同様に、ｘ方向、ｙ方向及びｚ方向に対して傾斜した状態で配置されている。このため、吐出部３５，３６からの純水の吐出方向Ｃ３，Ｃ４は、処理部１５内に備えられる上述の吐出部３５，３６からの純水の吐出方向Ｃ３，Ｃ４と同様に、図２及び図５に示すようにｙ方向から見てｚ方向に対して傾斜角度β２をなして搬送方向Ａ下流側から斜めに基板Ｗと交わるように、かつ、図５に示すようにｚ方向から見て搬送方向Ａ上流側及び基板Ｗの傾斜方向の下側に向けて搬送方向Ａと傾斜角度γ２をなすように設定されている。その結果、処理部５３の吐出部３５，３６の水流は、上方からみて図１の矢印Ｄで示すように、基板Ｗの搬送方向Ａ下流側端部における左側（傾斜方向の上側）から搬送方向Ａ上流側端部における右側（傾斜方向の下側）に向けて斜め下方向に吐出される。
【００４７】
このような構成により、本実施形態では、チャンバ５の処理部１５内の搬送方向Ａ下流側端部から処理部５３にかけて設定される所定の搬送区間Ｇ内に設置されるすべての吐出部３５，３６が、上述のようにｘ方向、ｙ方向及びｚ方向に対して傾斜配置されている。
【００４８】
なお、図７の図示例では、処理部５３内において上下３個ずつの吐出部３５，３５が設けられているが、３個に限らず、１個以上の任意の個数に設定可能である。また、下側の吐出部３６を省略してもよい。
【００４９】
また、処理部５３では、使用した純水を再利用するため、吐出部３５，３６から吐出された純水が、回収されてフィルタを介して清浄化された後、再び吐出部３５，３６に供給されるようようようなっている。
【００５０】
この基板処理装置５１による洗浄処理では、チャンバ５内に導入された基板Ｗは、搬送機構３によりｙ方向に傾斜された状態で搬送されて、入口部１３から処理部５３内に導入され、処理部５３にて吐出部３５，３６から吐出される再利用の純水により洗浄される。このとき、基板Ｗがｙ方向に対して右側に傾斜されているとともに、吐出部３５，３６からの純水の吐出方向Ｃ３，Ｃ４が、上述のようにｚ方向及び搬送方向Ａに対して傾斜されているため、基板Ｗの上面側及び下面側において、上方側からみて図１の矢印Ｄで示すように、基板Ｗの搬送方向Ａ下流側端部における左側（傾斜方向の上側）から搬送方向Ａ上流側端部における右側（傾斜方向の下側）に向けて斜め方向に流れる水流が効果的に形成される。
【００５１】
続いて、基板Ｗは処理部５３から処理部１５に送られ、処理部１５にて未使用の純水により前述の第１実施形態の場合と同様に再度洗浄され、乾燥部１７を経て出口部１９に送られ、チャンバ５外に排出される。
【００５２】
以上のように、本実施形態においても、上述の第１実施形態の効果の一つである使用する純水にすべて未使用の純水を使用することにより得られる効果を除いて、第１実施形態とほぼ同様な効果が得られる。
【００５３】
また、本実施形態では、純水を再利用して洗浄する処理部５３の搬送方向Ａ下流側に、未使用の純水を用いて洗浄する処理部１５が設けられているため、仮に処理部５３で使用される純水に汚染物が含まれていてその汚染物により基板Ｗが汚染された場合でも、基板Ｗ上の汚染物を含む水等を、下流側の処理部１５で使用される汚染物を含まない未使用の純水に置換することができ、純水の消費量を抑制しつつ洗浄効果の向上が図れるとともに、処理部１５の上流側に追加の処理部５３を設けることにより、多様な基板処理（例えば、汚染度の高い基板Ｗの洗浄処理）にも対応できる。
【００５４】
＜第３実施形態＞
図８は、本発明の第２実施形態に係る基板処理装置の平面構成を模式的に示す図である。本実施形態に係る基板処理装置６１が上述の第２実施形態に係る基板処理装置５１と実質的に異なる点は、チャンバ５内における入口部１３と処理部５３の間に新たな処理部６３を追加した点のみであり、互いに対応する部分には同一の参照符号を付して説明を省略する。
【００５５】
この基板処理装置６１では、図８に示すように、チャンバ５内における入口部１３と処理部５３との間に、新たな処理部６３が設けられている。この処理部６３では、基板Ｗに対する各種の薬液を用いた薬液処理が行われる。
【００５６】
そして、基板Ｗが傾斜された状態で入口部１３から処理部６３内に送られると、処理部６３にて薬液が基板Ｗに吐出されるなどして基板Ｗに対する薬液処理が行われた後、処理部５３に送られ、処理部５３での純水による洗浄処理により、薬液処理により基板Ｗに付着した薬液が純水に置換される。続いて、基板Ｗは、処理部１５に送られ、処理部１５にて新液である未使用の純水によりさらに洗浄され、乾燥部１７を経て出口部１９から排出される。
【００５７】
このような本実施形態においても、上述の第２実施形態とほぼ同様な効果が得られるとともに、処理部６３では基板Ｗが傾斜された状態で薬液処理が行われるため、例えば基板Ｗに対して薬液を吐出する際の基板Ｗ上での液置換性が向上され、薬液処理を効果的に行うことができるとともに、薬液により処理を行う処理部６３が処理部１５及び処理部５３の上流側に設けられることにより、多様な基板処理（例えば、汚染度の高い基板Ｗの洗浄処理）にも対応できる。
【００５８】
【発明の効果】
請求項１に記載の発明によれば、基板を傾斜させた状態で搬送しつつ、基板に処理液を吐出するため、基板上の液体等を新たに吐出した処理液に置換する液置換性に優れ、大量の処理液を必要とせず、短時間で効率良く処理液による処理が可能でり、コストや性能面で優れている。このため、吐出部の設置個数を削減でき、コスト削減及び装置構成の小型化に有利である。例えば、吐出部から吐出した処理液により基板の洗浄を行う場合において、処理液として純水を用いても高度の洗浄性能を実現することができる。
【００５９】
また、吐出部のノズル部の配列方向が、基板の搬送方向に対して気流形成部の傾斜方向と略同一の傾斜角度で傾斜しているため、気流形成部と吐出部の各ノズル部との間に無駄な空間が生じるのを防止でき、装置構成の小型化に有利である。
【００６０】
さらに、このように吐出部の配列方向を気流形成部の傾斜方向と略平行にすることによって、気流形成部と吐出部の各ノズル部との間の搬送方向に沿った距離が等しくなるため、基板上で処理液の乾燥度合い等の処理ムラが生じるのを防止でき、処理性能が向上する。
【００６１】
請求項２に記載の発明によれば、基板の搬送経路上における所定区間内に位置するすべての吐出部について、その複数のノズル部の配列方向が搬送方向に対して気流形成部と略同一の傾斜角度で傾斜しているため、所定区間内における各吐出部の間、及び各吐出部と気流形成部との間に無駄な空間が生じるのを防止することができるとともに、基板全面に均一に処理液を吐出することができる。
【００６２】
請求項３に記載の発明によれば、基板自体の傾斜による寄与と、処理液の吐出方向が横幅方向から見て上下方向に対して傾斜されていることによる寄与とにより、基板上において搬送方向に対して傾斜した斜め方向に処理液の液流を効果的に形成することができ、基板上における液置換性をより向上でき、より少量の処理液により洗浄等の処理が可能となる。その結果、例えば、吐出部にて使用する処理液に未使用の新液を用いるようにしても、新液使用によるコスト増加を抑制することができる。
【００６３】
請求項４に記載の発明によれば、基板自体が横幅方向に対して傾斜していることによる寄与と、処理液の吐出方向が、上方から見て基板の搬送方向上流側及び傾斜方向の下側に向けて搬送方向と斜めに交わるように、かつ、横幅方向から見て上下方向に対して傾斜するように設定されることによる寄与とにより、基板上において、搬送方向に対して基板の傾斜方向下側に傾斜した斜め方向に処理液の液流を効果的に形成することができ、基板上における液置換性をより向上でき、より少量の処理液により洗浄等の処理が可能となる。その結果、例えば、吐出部にて使用する処理液に未使用の新液を用いるようにしても、新液使用によるコスト増加を抑制することができる。
【００６４】
請求項５に記載の発明によれば、吐出部の複数のノズル部の配列方向が、搬送方向上流側又は下流側から見て基板の傾斜方向と平行に設定されているため、各ノズル部と基板との距離を等しく設定することができ、基板全面に均一に処理液を吐出することができる。
【００６５】
請求項６に記載の発明によれば、吐出部で使用される処理液として汚染物を含まない未使用のものが用いられるため、使用後の処理液を回収して再利用する方式のように処理液中に含まれる汚染物により基板を汚染してしまうことがないとともに、処理液を再利用する際に必要なフィルタ、タンク、配管及びポンプ等の設備が不要である。
【００６６】
請求項７に記載の発明によれば、処理液を再利用する循環使用部の搬送方向下流側に、処理液として未使用のものを用いる新液使用部が設けられているため、仮に循環使用部で吐出される処理液に汚染物が含まれていてその汚染物により基板が汚染された場合でも、基板上の汚染物を含む処理液等を、新液使用部で吐出される汚染物を含まない未使用の処理液に置換することができ、処理液の消費量を抑制しつつ処理液による処理効果の向上が図れるとともに、新液使用部の上流側に循環使用部をさらに追加することにより、多様な基板処理（例えば、汚染度の高い基板の洗浄処理）にも対応できる。
【００６７】
請求項８に記載の発明によれば、搬送機構、気流形成部及びすべての吐出部が単一のチャンバ内に収容される構成であるため、装置構成の小型化及び低コスト化が図れる。
【００６８】
請求項９に記載の発明によれば、チャンバの入口部及び出口部に、フィルタが設けられた気体取入口が設けられ、チャンバの入口部と出口部との間のいずれかの位置に気体排出口が設けられているため、気体排出口からチャンバ内の気体を吸引して排出することにより、チャンバ内に入口部及び出口部からチャンバのさらに内方側である気体排出口に向かう気体の流れを形成することができ、これによってチャンバ内の処理液のミスト等が入口部又は出口部からチャンバ外に漏れるのを防止することができるとともに、チャンバ内の気流を安定させることができる。
【００６９】
さらに、チャンバ内の気体を清浄な状態に保つことができ、チャンバ内に浮遊する汚染物が基板に再付着するのを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の平面構成を模式的に示す図である。
【図２】図１の基板処理装置の基板搬送方向に平行な断面における構成を模式的に示す図である。
【図３】図１の基板処理装置の基板搬送方向と直角な断面における要部の構成を模式的に示す図である。
【図４】図１の基板処理装置におけるエア流形成部の配置形態を示す図である。
【図５】図１の基板処理装置における吐出部の配置形態を示す図である。
【図６】図１の基板処理装置における吐出部の配置形態を示す図である。
【図７】本発明の第２実施形態に係る基板処理装置の平面構成を模式的に示す図である。
【図８】本発明の第３実施形態に係る基板処理装置の平面構成を模式的に示す図である。
【符号の説明】
１ 基板処理装置
３ 搬送機構
５ チャンバ
１３ 入口部
１５ 処理部
１７ 乾燥部
１９ 出口部
２１，２３ エアフィルタ
２５，２７ エア取入口
２９，３１ エア排出口
３３，３４ エア流形成部
３５，３６ 吐出部
３７ 水流形成部
４７ ノズル部
５１ 基板処理装置
５３ 処理部
６１ 基板処理装置
６３ 処理部
Ａ 搬送方向
Ｗ 基板
Claims (9)
- 基板を搬送しつつ処理を行う基板処理装置であって、
水平面に対して基板を傾斜させた状態で搬送する搬送機構と、
上方から見て基板の搬送方向に対して傾斜する方向に延設され、基板の搬送経路を斜めに横断する略カーテン状の気流を形成する気流形成部と、
前記気流形成部の前記搬送方向上流側に設けられる少なくとも１個の吐出部と、
を備え、
前記吐出部は、上方から見て前記搬送方向に対して前記気流形成部と略同一の傾斜角度で傾斜する傾斜方向に沿って配列される複数のノズル部を有し、その各ノズル部が前記搬送機構により搬送される基板に対して所定の処理液を吐出することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項１に記載の基板処理装置において、
基板の搬送経路上における所定区間内に位置するすべての前記吐出部について、
上方から見て前記複数のノズル部が前記搬送方向に対して前記気流形成部と略同一の傾斜角度で傾斜する傾斜方向に沿って配列されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項１又は２に記載の基板処理装置において、
前記吐出部の前記各ノズル部から吐出される前記処理液の吐出方向が、前記搬送方向と垂直な横幅方向から見て上下方向に対して傾斜していることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項１又は２に記載の基板処理装置において、
前記搬送機構は、基板を前記搬送方向に対しては略水平な状態を保ちつつ前記搬送方向と垂直な横幅方向に対して傾斜させた状態で搬送し、
前記処理液の前記吐出方向が、前記横幅方向から見て上下方向に対して傾斜して前記搬送方向下流側から斜めに基板と交わるように、かつ、上方から見て前記搬送方向上流側及び基板の傾斜方向の下側に向けて前記搬送方向と斜めに交わるように設定されていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記搬送機構は、基板を前記搬送方向に対しては略水平な状態を保ちつつ前記横幅方向に対して傾斜させた状態で搬送し、
前記吐出部の前記複数のノズル部の前記配列方向が、前記搬送方向から見て基板の傾斜方向と平行になるように設定されていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項１ないし５のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記吐出部で使用される前記処理液として未使用のものが用いられることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項１ないし５のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記吐出部により使用される前記処理液として使用後のものを再利用する循環使用部と、
その循環使用部の前記搬送方向下流側に設けられ、前記吐出部により使用される前記処理液として未使用のものを用いる新液使用部と、
が設けられていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項１ないし７のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記搬送機構、前記気流形成部及びすべての前記吐出部が、基板を搬入及び排出するための入口部及び出口部が設けられた単一のチャンバ内に収容されていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項８に記載の基板処理装置において、
前記チャンバの前記入口部及び前記出口部に、フィルタが設けられた気体取入口が設けられ、前記チャンバの前記入口部と前記出口部との間のいずれかの位置に、気体排出口が設けられていることを特徴とする基板処理装置。
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