JPH09155307A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理液を供給して行う基板の処理装置本体の
設備長を短くする。 【解決手段】 処理装置本体３内で搬送中の基板Ｂに対
して処理液を供給することによって順次洗浄処理を行う
基板処理装置１において、上記処理装置本体３内で基板
Ｂを３°〜４０°傾斜した傾斜姿勢で搬送する搬送手段
５と、この搬送手段５の上流側に設けられ、かつ、水平
姿勢で受け入れた基板Ｂを上記傾斜に等しい傾斜姿勢に
変更して上記処理装置本体３内に導入する基板導入部２
と、上記処理装置本体３の下流側に設けられ、かつ、傾
斜姿勢の基板Ｂを水平姿勢に戻す基板導出部４とを備え
ている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フォトレジスト塗
布液、感光性ポリイミド樹脂、カラーフィルター用の染
色剤などの薄膜が表面に形成された液晶用のガラス基
板、フォトマスク用のガラス基板等の基板を対象とし、
これら基板の主面に所定の処理液を供給することによっ
て処理する基板処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、前工程で所定の処理が施された基
板に洗浄液による洗浄処理を施してから後工程に搬送す
るようにした基板処理装置が知られている。このような
基板処理装置は、薬洗部、水洗部および乾燥部が直列に
配設された処理装置本体と、この処理装置本体の薬洗
部、水洗部および乾燥部を貫通するように設けられた基
板の搬送手段とから形成されるているのが一般的であ
る。通常、搬送手段は基板を水平姿勢で搬送するように
なっており、基板はこの搬送手段によって処理装置本体
内を薬洗部、水洗部および乾燥部の順に搬送されつつ処
理される。

【０００３】そして、処理装置本体内に導入された基板
に対し、まず、薬洗部において所定の薬液を表裏面に供
給する薬洗処理が施され、ついで液切り処理が施された
のち水洗部において水洗処理が施され、最後に乾燥部に
おいて気体の噴射等による乾燥処理が行われるようにな
っている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、処理装置本
体内において基板を水平姿勢で搬送すると、例えば基板
が薬洗部から水洗部に向けて搬送されるとき、基板上の
薬液が水洗槽に持ち出されてしまったり、あるいは基板
から除去した塵埃等の汚染物を含んだ薬液が新しい清浄
な薬液と置きかわるのに長時間を要し、結局、洗浄処理
に長時間を要してしまうという不都合が生じる。そこで
かかる不都合を回避すべく、基板上の薬液をエアーナイ
フ等で液切りしながら基板を水洗部に向けて送り込むよ
うにすることが行われるが、そのためにはエアーナイフ
等の液切り手段を設けなければならず、設備コストが嵩
むという問題点を有している。

【０００５】そこで、かかる問題点を解消するために、
基板を傾斜姿勢で搬送することが考えられる。こうする
ことによって基板に供給された処理液は、基板の傾斜面
に沿って流下するため、薬液の置換は比較的迅速に行わ
れ、また、基板の液切りが確実に行われることになる
が、基板の傾き具合をどのように設定するかについては
詳らかにされていないのが実情である。

【０００６】すなわち、基板の傾斜角度が小さすぎる
と、基板に供給された処理液の流下が遅くなり、薬液等
の置換や、液切りが確実に行われず、逆に基板の傾斜角
度が大きすぎると、基板上に供給された処理液が急激に
流下してしまい、基板の表面に乾燥した部分が生じてし
まい、せっかく洗い流した塵埃が基板に再度こびりつい
て除去することができなくなる等、洗浄処理が適切に行
い得なくなるという不都合が生じるのである。

【０００７】本発明は、このような実情を勘案して鋭意
研究の結果得られたものであり、搬送中の基板の傾斜角
度を適切に設定することにより、薬液等の置換が適切に
なされ、かつ、基板の液切りを確実に行い得るようにし
た上で、基板の洗浄処理を良好に行うことができるよう
にした基板処理装置を提供することを目的としている。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
搬送手段により搬送中の基板に処理液を供給することに
よって順次基板処理を行う基板処理装置において、上記
搬送手段は、搬送面が基板の搬送方向に直交する面内で
水平方向に対して３°〜４０°傾斜していることを特徴
とするものである。

【０００９】この発明によれば、基板は基板処理装置内
を搬送手段によって傾斜姿勢で搬送されつつ主面に処理
液が供給される。従って、基板に供給された処理液は基
板の傾斜面に沿って流下しつつ基板の主面を洗浄し、基
板の液切りが迅速に行われるため、従来のように異種の
処理液の境界部分に液切り手段を設ける必要がなくな
り、設備コストの低減に寄与する。

【００１０】また、基板の傾斜角度が３°〜４０°に設
定されているため、この傾斜角度の範囲では基板を安定
した状態で搬送することができるとともに、処理液の種
類、処理液の粘度、処理液の供給量さらには基板の搬送
速度等を勘案して上記範囲内で基板の傾斜角度を設定す
ることにより、処理液が良好に置換され、液切りを良好
に行い得るようにした上で、基板表面が乾燥してしまう
ことなく、処理効果をも十分なものにすることが可能に
なる。

【００１１】請求項２記載の発明は、請求項１記載の基
板処理装置において、上記搬送面の傾斜角度が３°〜７
°に設定されていることを特徴とするものである。

【００１２】この発明によれば、処理液が、例えば濃度
の低い薬剤や純水などの処理水である場合、処理液の置
換や、基板の液切りを良好にした上で、基板の乾燥も防
止し、十分な処理効果（洗浄効果）を達成し得るように
なる。

【００１３】請求項３記載の発明は、請求項１または２
記載の基板処理装置において、上記搬送手段によって搬
送中の基板に薬液を供給して基板を薬洗する薬洗槽と、
同基板に洗浄水を供給して基板を水洗する水洗槽とを備
えていることを特徴とするものである。

【００１４】この発明によれば、基板は傾斜姿勢で搬送
されながら薬液槽で薬液の供給を受けて薬洗され、水洗
槽で洗浄水の供給を受けて水洗される。そして、薬洗槽
で供給された薬液は基板の傾斜面に沿って速やかに流下
するため、薬洗槽と水洗槽との境界部分における基板上
での薬液と洗浄水との分離が確実に行われ、薬液の洗浄
水への混入が確実に防止される。

【００１５】

【発明の実施の形態】図１は、本発明に係る基板処理装
置の一実施実施形態を示す説明図である。この図に示す
ように、基板処理装置１は、前工程からの基板Ｂを受け
入れる基板導入部２、内部に基板Ｂの処理空間を有する
処理装置本体３、および処理後の基板Ｂを後工程に受け
渡す基板導出部４が直列に配設されて形成されている。
そして基板処理装置１は、基板導入部２、処理装置本体
３および基板導出部４の順に基板Ｂを搬送しつつ基板Ｂ
に所定の処理を施すものである。

【００１６】本実施形態においては、搬送手段５はロー
ラコンベアが適用されている。このローラコンベアは、
基板Ｂの搬送方向（図１の左方から右方に向かう方向）
に直交する方向に支持軸を配した複数のローラ５１が等
ピッチで搬送方向に並設されて形成されている。そし
て、駆動している搬送手段５上に基板Ｂを載置すること
により、図略の駆動手段の駆動による各ローラ５１の同
一方向の同期回転に伴って基板Ｂは搬送方向（図１の右
方）に向けて搬送されるようになっている。

【００１７】基板Ｂは、前工程からコンベアあるいはロ
ボット等の上流側引継ぎ手段２０を介して基板導入部２
に移され、ついで搬送手段５の駆動によって基板導入部
２から処理装置本体３に導入され、ここで搬送手段５に
よって搬送されつつ基板Ｂに所定の処理が施された後、
基板導出部４に移送され、その後、基板導出部４の下流
端でコンベアあるいはロボット等からなる下流側引継ぎ
手段４０を介して次工程に向けて導出されるようになっ
ている。

【００１８】処理装置本体３内においては、上記各ロー
ラ５１はその軸心が基板Ｂの搬送方向に対して直交する
面内であって、水平方向に対して傾斜して設けられてい
る（図２、図３）。処理装置本体３内の各ローラ５１の
傾斜角度は全て同一角度に設定され、これらローラ５１
の上部に基板Ｂが通過する基板通過経路５ａが形成され
ている。これによって基板Ｂは処理装置本体３内におい
て傾斜姿勢で基板通過経路５ａを搬送されつつ所定の処
理が施されるようになっている。

【００１９】図２および図３は、基板導入部２の一実施
形態を示す一部切欠き斜視図であり、図２は基板移載部
２２が水平姿勢に設定されている状態、図３は基板移載
部２２が傾斜姿勢に設定されている状態をそれぞれ示し
ている。

【００２０】これらの図に示すように、基板導入部２
は、上流側引継ぎ手段２０（図１）からの基板Ｂを一旦
受け取る基板受入れ部２１と、この基板受入れ部２１の
直下流側に設けられた基板移載部（入口側移載手段）２
２とを備えて形成されている。上記基板受入れ部２１
は、フロアＦ上に据え付けられた架台２１ａ上に組み付
けられて形成されている。この基板受入れ部２１は、基
板Ｂの搬送方向に延びる幅方向（基板Ｂの搬送方向に直
交する方向）一対のローラ支持板２１ｂ、これら一対の
ローラ支持板２１ｂ間でローラ支持軸５１ａ回りに回転
自在に軸支された水平方向に延びる複数本のローラ５
１、および各ローラ５１を一斉に同一方向に回転駆動す
る第１駆動モータ２１ｃからなっている。

【００２１】上記基板受入れ部２１においては、ローラ
５１として円筒状ローラ５２が適用されている。この円
筒状ローラ５２は、中央部の円筒状を呈したローラ本体
５２ａと、このローラ本体５２ａの両側部に形成された
鍔部５２ｂとからなり、各鍔部５２ｂ間に基板Ｂを挟持
させることによってローラ本体５２ａ上での基板Ｂの横
ずれを防止している。

【００２２】従って、基板Ｂが上流側引継ぎ手段２０
（図１）から基板受入れ部２１上に受け渡された状態で
第１駆動モータ２１ｃを駆動することにより、各円筒状
ローラ５２が一斉に同一方向に回転し、これによってロ
ーラ本体５２ａ上の基板Ｂが基板移載部２２に向けて送
り出されることになる。

【００２３】上記基板移載部２２は、断面視でＵ字形状
のローラ支持部材２３、このローラ支持部材２３に支持
された複数本の上記同様の円筒状ローラ５２、上記ロー
ラ支持部材２３の幅方向の一側部に固定された駆動手段
支持枠２４、この駆動手段支持枠２４に支持されたロー
ラ駆動機構２５、およびフロアＦとローラ支持部材２３
との間に挾設された移載部傾動手段２６を備えて形成さ
れている。

【００２４】上記ローラ支持部材２３は、その幅方向の
一方の側部（図２においては右方）にローラ支持板２３
ａが形成されているとともに、他側部に駆動手段支持枠
２４を取り付けるための接合板２３ｂが形成され、この
接合板２３ｂに駆動手段支持枠２４が固定されている。

【００２５】上記駆動手段支持枠２４は、接合板２３ｂ
に密着固定されたローラ支持板２４ａ、このローラ支持
板２４ａの前後方向両側部に外方に向かって突設された
一対の突出板２４ｂ、および各突出板２４ｂとローラ支
持板２４ａの下端縁部に固定された棚板２４ｃによって
形成されている。ローラ駆動機構２５はこれらローラ支
持板２４ａ、突出板２４ｂおよび棚板２４ｃに囲繞され
た状態で設けられている。

【００２６】そして、上記両ローラ支持板２３ａ，２４
ａ間にローラ支持軸５１ａが架橋され、これによってロ
ーラ支持板２３ａ，２４ａ間で円筒状ローラ５２がロー
ラ支持軸５１ａ回りに回転自在に軸支された状態にな
り、かつ、ローラ駆動機構２５によって同一方向に一斉
に回転するようになっている。

【００２７】上記ローラ駆動機構２５は、駆動手段支持
枠２４の棚板２４ｃ上に据え付けられ、かつ、駆動軸に
駆動プーリー２５ｂの設けられた第２駆動モータ２５
ａ、各ローラ支持軸５１ａの左側端部に設けられた複数
の上部プーリー２５ｃ、上部プーリー２５ｃに対応して
ローラ支持板２４ａの下部で軸支された下部プーリー２
５ｄ、およびこれら駆動プーリー２５ｂと上部プーリー
２５ｃと下部プーリー２５ｄとに張設されたタイミング
ベルト２５ｅを備えている。

【００２８】従って、第２駆動モータ２５ａを駆動する
ことにより、この駆動回転は駆動プーリー２５ｂおよび
タイミングベルト２５ｅを介して各上部プーリー２５ｃ
および下部プーリー２５ｄに伝達され、これによってロ
ーラ支持軸５１ａを介して円筒状ローラ５２が回転し、
基板Ｂを搬送方向に移動させるようになっている。

【００２９】なお、下部プーリー２５ｄは、タイミング
ベルト２５ｅを蛇行させるためのものであり、この蛇行
によって各上部プーリー２５ｃとタイミングベルト２５
ｅとの接触距離が長くなり、タイミングベルト２５ｅの
上部プーリー２５ｃに対するスリップが防止され、第２
駆動モータ２５ａの駆動回転が各上部プーリー２５ｃに
確実に伝達され、全ての円筒状ローラ５２が常に同一回
転速度で安定して回転する。

【００３０】上記移載部傾動手段２６は、フロアＦ上に
固定された第１ブラケット２６ａ、下端部がこの第１ブ
ラケット２６ａの第１支持軸２６ｂ回りに回動自在に軸
支されたシリンダ２６ｃ、このシリンダ２６ｃから上方
に突出したピストンロッド２６ｄ、ローラ支持板２３ａ
の底縁部に設けられた第２支持軸２６ｇを有する第２ブ
ラケット２６ｆを備えている。上記ピストンロッド２６
ｄの上端部は、第２支持軸２６ｇ回りに回動可能に軸支
され、これによってローラ支持部材２３の幅方向の右側
部がフロアＦ上でシリンダ２６ｃおよびピストンロッド
２６ｄに支持された状態になっている。

【００３１】一方、上記各突出板２４ｂには前後方向に
延びる水平軸２７が突設され、これらの水平軸２７は、
基板受入れ部２１および薬洗部３１の適所に設けられた
軸受２８に軸心回りに回動可能に軸支され、これによっ
てローラ支持部材２３の左側部が駆動手段支持枠２４を
介して軸受２８に支持された状態になっている。

【００３２】従って、図２に示す状態において、シリン
ダ２６ｃの駆動によってピストンロッド２６ｄを所定の
突出量だけ突出させることにより、ローラ支持部材２３
は水平軸２７回りに反時計方向に回動し、図３に示すよ
うに、基板移載部２２が所定角度だけ基板Ｂの搬送方向
に直交する方向に傾いた傾斜姿勢になる。そして、本実
施形態においては、ローラ支持部材２３の水平面に対す
る傾斜角度は３〜７°に設定されている。

【００３３】一方、処理装置本体３（図２および図３に
おいては処理装置本体３の内の薬洗部３１のみが示され
ている）内のローラ５１についても、搬送方向に直交し
た方向の傾斜角度は上記ローラ支持部材２３と同様の傾
斜角度に設定されている。そして、図３に示すように、
ローラ支持部材２３が傾斜姿勢になった状態では、ロー
ラ支持部材２３の複数の円筒状ローラ５２の上部に形成
される基板通過経路５ａと、処理装置本体３内の複数の
ローラ５１上に形成される基板通過経路５ａとが同一平
面上に位置し、これによって基板導入部２から処理装置
本体３への基板通過口３１ａ′を介した基板Ｂの引き渡
しが行い得るようになっている。

【００３４】なお、図２および図３に示すように、処理
装置本体３内のローラ５１は、ローラ支持軸５１ａの中
央部に中央ローラ５３ａが設けられ、同両側部に一対の
鍔部５３ｂが設けられ、さらにこれら一対の鍔部５３ｂ
の内側に互いに対向するように一対の基板支持ローラ５
３ｃが設けられた、いわゆる部分支持型ローラ５３が採
用されている。

【００３５】かかる部分支持型ローラ５３を適用するこ
とにより、ローラ５１による基板Ｂ裏面の接触域を少な
くし、基板Ｂの裏面への洗浄水や気体の供給を良好に行
い得るようにするとともに、洗浄過程や乾燥過程でのロ
ーラ５１との接触による基板Ｂの裏面の汚染を最小限に
抑えることが可能になる。

【００３６】上記処理装置本体３は、本実施形態におい
ては、薬洗部３１、水洗部３２、および乾燥部３７が直
列に配設されて形成されている。図４は、薬洗部３１の
一実施形態を示す説明図である。この図に示すように、
薬洗部３１は、搬送手段５によって搬送されつつある基
板Ｂの表裏に所定の薬液を供給して基板Ｂを洗浄（薬
洗）するためのものであり、内部に搬送手段５が敷設さ
れた薬洗槽３１ａ、この薬洗槽３１ａ内に搬送手段５を
挟んで上下に配設された複数の薬液供給ノズル３１ｂ、
薬液を貯留する薬液槽３１ｃ、および、この薬液槽３１
ｃ内の薬液を薬液供給管路３１０を通して薬液供給ノズ
ル３１ｂに供給する薬液ポンプ３１ｄを備えている。

【００３７】上記薬洗槽３１ａは、上流側および下流側
の壁部に基板Ｂを通過させる基板通過口３１ａ′を有し
ており、基板導入部２からの基板Ｂは上流側の基板通過
口３１ａ′を通って薬洗槽３１ａ内に導入されるととも
に、薬洗部３１での薬洗処理が完了した基板Ｂは下流側
の基板通過口３１ａ′から水洗部３２に向けて導出され
るようになっている。

【００３８】上記薬液供給ノズル３１ｂは、基板通過経
路５ａを挟むように上下に設けられ、これら上下の薬液
供給ノズル３１ｂからの薬液吐出によって基板Ｂの表裏
面に薬液が供給されるようになっている。また、上記薬
液ポンプ３１ｄの下流側の薬液供給管路３１０にはフィ
ルター３１ｅが介設され、薬液供給ノズル３１ｂに供給
される薬液が濾過処理により清浄化されるようにしてい
る。そして、薬洗槽３１ａ内で薬液供給ノズル３１ｂか
ら吐出され、基板Ｂの薬洗に使用された後の薬液は、戻
り管路３１１を通って薬液槽３１ｃに返されるようにし
ており、これによって薬液は循環使用されるようになっ
ている。

【００３９】また、処理装置本体３内の基板通過経路５
ａの上下には、基板通過経路５ａに直交した軸心や基板
通過経路５ａを平行に横断した軸心回りに回転する複数
個のブラシ３１ｆが設けられ、基板通過経路５ａを搬送
されつつある基板Ｂの表裏面はこれらのブラシでブラッ
シング処理されるようになっている。ブラシ３１ｆとし
ては、円盤の底面に植毛されたディスクブラシや円筒体
の外周面に植毛されたロータリーブラシ等が用いられて
いる。そして毛先を基板Ｂの表裏面に当接させた状態で
のこれらブラシ３１ｆの軸心回りの回転によって、基板
Ｂは表裏面が薬液付与状態でブラッシング処理され、清
浄化されるようになっている。

【００４０】そして特にブラシ３１ｆの直上流側および
直下流側には、上方でローラ５１に対向した押えローラ
５１′が設けられ、押えローラ５１′とローラ５１とで
基板Ｂを上下から挟持することにより、ブラシ３１ｆに
よるブラッシング操作によっても基板Ｂの浮き上がりや
基板通過経路５ａからの逸脱が阻止されるようにしてい
る。

【００４１】従って、搬送手段５の駆動で基板通過経路
５ａを搬送されつつある傾斜姿勢の基板Ｂは、薬液ポン
プ３１ｄの駆動によって薬液槽３１ｃから汲み上げられ
た薬液が薬液供給ノズル３１ｂから供給され、この薬液
の存在下で上記ブラシ３１ｆによるブラッシング処理が
施され、第１段階の洗浄処理が行われることになる。そ
して、基板Ｂに供給された薬液、すなわち、基板Ｂを洗
浄することによって汚染物を含有しつつある薬液は、基
板Ｂの傾斜面に沿って流下し、引き続いて基板Ｂにフィ
ルター３１ｅを介して供給される新たな清浄な薬液と速
やかに置換される。これにより、短い洗浄時間で高い洗
浄作用が得られる。しかも、基板Ｂの傾斜面に沿って速
やかにするので、基板Ｂによる薬液の持ち出し量も低減
され、薬液の消費量も低減され、また、良好な液切りが
行われることになる。

【００４２】以上詳述したように、本発明においては、
処理装置本体３内においてローラ５１を傾斜させ、これ
によって基板Ｂを傾斜姿勢で処理装置本体３内を搬送す
るようにしているが、このようにするのは基板Ｂを水平
姿勢で搬送する場合に比較して、以下の利点が存在する
からである。

【００４３】すなわち、基板Ｂを傾斜姿勢で搬送するこ
とにより、基板Ｂに供給された処理液は、常に基板の傾
斜に沿って流下した状態になっているため、処理装置本
体３内で異なる種類の処理液が基板Ｂに供給される場
合、境界部分における基板Ｂ上で、異種類の処理液が混
ざり合うことなく処理液の液切りが確実に行い得るよう
になる。

【００４４】また、基板Ｂ上での処理液の液切りが容易
に、かつ確実に行い得るため、水平姿勢での基板Ｂの搬
送においては必須であった上記境界部分での液切り手段
の設置を省略することができ、設備コストの低減に寄与
し得る。

【００４５】また、異種の処理液を用いる隣接した二つ
の処理槽の処理液吐出位置間の距離を短くすることが可
能になり、これによって基板Ｂ上での処理液の乾燥が防
止され、基板Ｂ上での処理液の乾燥に起因したパーティ
クルやミストの発生が抑制されるため、上記パーティク
ルやミストの再付着による基板Ｂの汚染が確実に防止さ
れる。

【００４６】また、基板Ｂから除去したパーティクル等
の汚染物を含んだ薬液等の処理液は速やかに流下して新
たな清浄な処理液と速やかに置換されるので、短い洗浄
時間で極めて高い洗浄作用が得られる。

【００４７】そして、本実施形態においては、上記ロー
ラ５１の傾斜角度は、３°〜４０°、好ましくは３°〜
７°の範囲で設定される。このように角度設定されるの
は、以下の理由による。

【００４８】すなわち、基板Ｂの傾斜角度が３°以下で
あると、処理液の流下速度が遅くなり、迅速な処理液の
置換や確実な液切り効果を得ることができない。

【００４９】また、基板Ｂ傾斜角度が４０°以上である
と、基板Ｂの傾斜に沿った処理液の流下速度が大きくな
り、処理液が基板Ｂに供給されると速やかに流下してし
まうため、基板Ｂの乾燥が生じ易く、確実な処理効果を
得ることができない。

【００５０】基板Ｂの傾斜角度が３°〜７°の範囲内で
あると、基板Ｂの傾斜面に沿った処理液の流下速度は適
切になり、処理液の置換が良好に行い得るようになると
ともに、基板Ｂの確実な処理が行われ、さらに基板Ｂ表
面の処理液の部分的な乾燥も確実に抑制される。

【００５１】そして、基板Ｂの傾斜角度、すなわちロー
ラ５１の傾斜角度を実際に設定するに際しては、処理液
の種類、処理液の粘度、処理液の供給量さらには基板の
搬送速度等を勘案し、必要ならば試験を実施した上で具
体的に決定される。

【００５２】図５は、水洗部３２および乾燥部３７の一
実施形態を示す説明図である。この図を基に、まず水洗
部３２について説明する。水洗部３２は、搬送手段５に
よって搬送されつつある薬洗後の基板Ｂに洗浄水を供給
して洗浄（水洗）するためのものであり、内部に搬送手
段５が敷設された水洗槽３２ａを備えている。この水洗
槽３２ａの内部は、仕切壁３２ａ″によって上流側から
低圧水供給部３３、高圧水供給部３４、超音波洗浄水供
給部３５、および純水供給部３６に区分されている。

【００５３】上記水洗槽３２ａの上流側および下流側の
壁面ならびに各仕切壁３２ａ″には基板通過口３２ａ′
が開口されている。そして、薬洗部３１から導出された
基板Ｂは、上流端の基板通過口３２ａ′から水洗槽３２
ａ内に導入され、ついで各仕切壁３２ａ″の基板通過口
３２ａ′を通って低圧水供給部３３、高圧水供給部３
４、超音波洗浄水供給部３５、および純水供給部３６に
順次導入され、所定の水洗処理が施されたのち下流端の
基板通過口３２ａ′から乾燥部３７に向けて導出される
ようになっている。

【００５４】上記低圧水供給部３３は、基板通過経路５
ａを挟むように上下に配設された低圧水供給ノズル３３
ａを有し、高圧水供給部３４は同様に配設された高圧水
供給ノズル３４ａを有している。また、超音波洗浄水供
給部３５には、基板通過経路５ａを通過する基板Ｂの表
面に吐出口を向けた超音波水供給ノズル３５ａが設けら
れ、純水供給部３６には基板通過経路５ａを挟むように
上下に配設された純水供給ノズル３６ａが設けられてい
る。

【００５５】上記低圧水供給ノズル３３ａのうち基板通
過経路５ａの上方に設けられているものは、基板Ｂの搬
送方向に直交した方向でかつ水平方向に延びる細長いス
リット状の液吐出口を備えた、いわゆる液ナイフが用い
られているとともに、同基板通過経路５ａの下方に設け
られているものは、円形あるいは楕円形等の散液孔を備
えた通常のコーンタイプあるいは扇状タイプ等のノズル
が採用されている。

【００５６】一方、水洗部３２の近傍には第１水槽３２
ｂおよび第２水槽３２ｃが配置され、第１水槽３２ｂと
低圧水供給ノズル３３ａとの間に低圧水ポンプ３３ｂお
よびフィルター３３ｃの介設された第１管路３２１が設
けられている。そして、第１水槽３２ｂ内の洗浄水は、
低圧水ポンプ３３ｂの駆動によって第１管路３２１を通
して汲み上げられ、フィルター３３ｃによって清浄化さ
れたのち低圧水供給ノズル３３ａから基板Ｂの表裏面に
供給され、これによって基板Ｂに対する第２段階の洗浄
処理が施されるようになっている。

【００５７】そして、低圧水供給ノズル３３ａから吐出
された洗浄水は、戻り管路３２２を通って第１水槽３２
ｂに返送されるようになっている。なお、戻り管路３２
２の途中には切換弁３２３が設けられ、この切換弁３２
３の切り換え操作で低圧水供給部３３から流下した洗浄
水を系外に排出し得るようにしている。

【００５８】また、第１水槽３２ｂと高圧水供給ノズル
３４ａとの間には高圧水ポンプ３４ｂおよびフィルター
３４ｃの介設された第２管路３２４が設けられている。
そして、第１水槽３２ｂ内の洗浄水は、高圧水ポンプ３
４ｂの駆動によって第２管路３２４を通して汲み上げら
れ、フィルター３４ｃによって清浄化されたのち高圧水
供給ノズル３４ａから基板Ｂの表裏面に向けて高圧で噴
射され、基板Ｂに対する第３段階の洗浄処理が行われる
ようになっている。そして高圧水供給ノズル３４ａから
噴射され、基板Ｂを水洗した後の洗浄水は、戻り管路３
２５を通って第１水槽３２ｂに戻される。

【００５９】上記第２水槽３２ｃと超音波水供給ノズル
３５ａとの間には第３管路３２６が設けられている。こ
の第３管路３２６には汲上げポンプ３５ｂおよびフィル
ター３５ｃが介設され、汲上げポンプ３５ｂの駆動によ
って第２水槽３２ｃ内の洗浄水がフィルター３５ｃで濾
過されたのち超音波水供給ノズル３５ａに供給されるよ
うになっている。

【００６０】超音波水供給ノズル３５ａは、洗浄水に超
音波振動を付与する機能を備えたノズルであり、内部に
図略の超音波発振器を有している。超音波水供給ノズル
３５ａに供給された洗浄水はこの超音波発振器によって
略４０ｋＨｚの振動が付与された状態で吐出口から吐出
され、この洗浄水の超音波振動によって基板Ｂに対する
第３段階の洗浄処理が施されることになる。そして、超
音波水供給ノズル３５ａから基板Ｂに供給された洗浄水
は基板Ｂの表面を洗浄した後、戻り管路３２７を通って
第２水槽３２ｃに返送されるようにしている。

【００６１】上記純水供給部３６は、基板Ｂに最終段階
（第４段階）の洗浄処理を施す部分であり、純水を用い
て洗浄される。具体的には、純水供給ノズル３６ａに純
水源３６ｂからの純水が純水管路３２８を介して供給さ
れるようになっており、基板通過経路５ａを通過中の基
板Ｂの表裏面に純水を供給することによって仕上げの洗
浄処理を行うようにしている。

【００６２】この純水供給部３６においては、基板通過
経路５ａの上方に液ナイフタイプの純水供給ノズル３６
ａが設けられ、これからの純水の吐出によって基板Ｂの
表面が洗浄されるとともに、基板通過経路５ａの下方に
は通常のコーンタイプ等の純水供給ノズル３６ａが設け
られ、これによって基板Ｂの裏面が洗浄されるようにな
っている。そして、純水供給ノズル３６ａから吐出され
た純水は、基板Ｂの表裏面を洗浄した後、戻り管路３２
９を通って第２水槽３２ｃに戻すようにしている。

【００６３】このような一連の低圧水供給部３３、高圧
水供給部３４、超音波洗浄水供給部３５および純水供給
部３６からなる水洗部３２においては、基板Ｂはその搬
送方向に直交する面内で傾斜したローラ５１によって傾
斜姿勢で搬送されるようになっており、これによって各
供給部３３，３４，３５，３６で基板Ｂに供給された洗
浄用の水は速やかに基板Ｂの傾斜面を流下するため、下
流側の乾燥部３７には最小限度の洗浄水しか持ち込まれ
ないようになっている。

【００６４】上記乾燥部３７（図５）は、水洗部３２の
純水供給部３６から導出された基板Ｂを乾燥するための
ものであり、乾燥槽３７ａと、この乾燥槽３７ａ内の基
板通過経路５ａを挟むように設けられた上下一対のエア
ーナイフ３７ｂとを備えている。上記乾燥槽３７ａの上
流壁および下流壁には基板通過口３７ａ′が開口され、
これらの基板通過口３７ａ′を介して乾燥槽３７ａに対
する基板Ｂの搬入および搬出が行われる。上記乾燥槽３
７ａは、基板Ｂの搬送方向に直交するように設けられた
スリット状の気体吐出口を有しており、この気体吐出口
からの帯状の気流を基板Ｂの表裏面に吹き付けることに
より基板Ｂを乾燥するようにしている。

【００６５】そして、各エアーナイフ３７ｂは気体管路
３３０を介して気体源３７ｃに接続され、気体源３７ｃ
からの高圧気体がエアーナイフ３７ｂに供給されるよう
になっている。なお、本実施形態においては、気体源３
７ｃとして高圧窒素ボンベが適用されている。また、乾
燥槽３７ａと第２水槽３２ｃとの間には開閉バルブ３３
２の設けられた戻り管路３３１が接続され、開閉バルブ
３３２を開通することによって乾燥槽３７ａの底部に溜
った純水を第２水槽３２ｃに導入し得るようにしてい
る。

【００６６】また、乾燥部３７においても薬洗槽３１ａ
におけると同様にローラ５１は基板Ｂの搬送方向に直交
する面内で水平方向に対して傾斜され、これによって基
板Ｂに付着している洗浄水の液切りが良好に行われるよ
うになっている。

【００６７】図６および図７は、基板導出部４の一実施
形態を示す一部切欠き斜視図であり、図６は基板移載部
４２が傾斜姿勢に設定されている状態、図７は基板移載
部４２が水平姿勢に設定されている状態をそれぞれ示し
ている。基板導出部４は、左右対象状態で上記基板導入
部２と同様の構造のものが採用されている。

【００６８】図６および図７に示すように、基板導出部
４は、乾燥部３７からの基板Ｂを受け取る基板移載部
（出口側移載手段）４２と、この基板移載部４２が受け
取った基板Ｂを下流側引継ぎ手段４０（図１）に引き渡
す基板引渡し部４１とを備えて形成されている。上記基
板引渡し部４１は、フロアＦ上に据え付けられた架台４
１ａ上に組み付けられて形成されている。

【００６９】上記基板引渡し部４１は、基板Ｂの搬送方
向に延びる幅方向（基板Ｂの搬送方向に直交する方向）
一対のローラ支持板４１ｂ、これら一対のローラ支持板
４１ｂ間でローラ支持軸５１ａ回りに回転自在に軸支さ
れた水平方向に延びる複数本のローラ５１、および各ロ
ーラ５１を一斉に同一方向に回転駆動する第３駆動モー
タ４１ｃからなっている。基板引渡し部４１において
は、ローラ５１として基板受入れ部２１のものと同様の
ローラ本体５２ａおよび鍔部５２ｂからなる円筒状ロー
ラ５２が適用されている。

【００７０】そして、図７に示すように、基板Ｂを基板
移載部４２から基板引渡し部４１上に受け渡すに際し、
第３駆動モータ４１ｃを駆動することにより、各円筒状
ローラ５２が一斉に同一方向に回転し、これによってロ
ーラ本体５２ａ上の基板Ｂが下流側引継ぎ手段４０（図
１）に向けて送出されるようになっている。

【００７１】上記基板移載部４２は、乾燥部３７と基板
引渡し部４１とに挾持されて形成されている。この基板
移載部４２は、断面視でＵ字形状のローラ支持部材４
３、このローラ支持部材４３に支持された複数本の上記
同様の円筒状ローラ５２、上記ローラ支持部材４３の幅
方向の一側部に固定された駆動手段支持枠４４、この駆
動手段支持枠４４に支持されたローラ駆動機構４５（図
７）、およびフロアＦとローラ支持部材４３との間に挾
設された移載部傾動手段４６を備えて形成されている。

【００７２】上記ローラ支持部材４３は、その幅方向の
一方の側部（図４においては右方）にローラ支持板４３
ａが形成されているとともに、他側部に駆動手段支持枠
４４を取り付けるための接合板４３ｂが形成され、この
接合板４３ｂに駆動手段支持枠４４が固定されている。

【００７３】上記駆動手段支持枠４４は、接合板４３ｂ
に密着固定されたローラ支持板４４ａ、このローラ支持
板４４ａの前後方向両側部に外方に向かって突設された
一対の突出板４４ｂ、および各突出板４４ｂとローラ支
持板４４ａの下端縁部に固定された棚板４４ｃによって
形成されている。ローラ駆動機構４５はこれらローラ支
持板４４ａ、突出板４４ｂおよび棚板４４ｃに囲繞され
た状態で設けられている。

【００７４】そして、上記両ローラ支持板４３ａ，４４
ａ間にローラ支持軸５１ａが架橋され、これによってロ
ーラ支持板４３ａ，４４ａ間で円筒状ローラ５２がロー
ラ支持軸５１ａ回りに回転自在に軸支された状態にな
り、かつ、ローラ駆動機構４５によって同一方向に一斉
に回転するようになっている。

【００７５】上記ローラ駆動機構４５は、図７に示すよ
うに、駆動手段支持枠４４の棚板４４ｃ上に据え付けら
れ、かつ、駆動軸に駆動プーリー４５ｂの設けられた第
４駆動モータ４５ａ、各ローラ支持軸５１ａの左側端部
に設けられた複数の上部プーリー４５ｃ、この上部プー
リー４５ｃに対応してローラ支持板４４ａの下部で軸支
された下部プーリー４５ｄ、およびこれら駆動プーリー
４５ｂと上部プーリー４５ｃと下部プーリー４５ｄとに
張設されたタイミングベルト４５ｅを備えている。

【００７６】従って、第４駆動モータ４５ａを駆動する
ことにより、この駆動回転は駆動プーリー４５ｂおよび
タイミングベルト４５ｅを介して各上部プーリー４５ｃ
および下部プーリー４５ｄに伝達され、これによってロ
ーラ支持軸５１ａを介して円筒状ローラ５２が回転し、
基板Ｂを搬送方向に移動させるようになっている。

【００７７】上記移載部傾動手段４６は、フロアＦ上に
固定された第３ブラケット４６ａ、下端部がこの第３ブ
ラケット４６ａの第３支持軸４６ｂ回りに回動自在に軸
支されたシリンダ４６ｃ、このシリンダ４６ｃから上方
に突出したピストンロッド４６ｄ、ローラ支持板４３ａ
の底縁部に設けられた第４支持軸４６ｇを有する第４ブ
ラケット４６ｆを備えている。上記ピストンロッド４６
ｄの上端部は、第４支持軸４６ｇ回りに回動可能に軸支
され、これによってローラ支持部材４３の幅方向の右側
部がフロアＦ上でシリンダ４６ｃおよびピストンロッド
４６ｄに支持された状態になっている。

【００７８】一方、上記各突出板４４ｂには前後方向に
延びる水平軸４７が突設され、これらの水平軸４７は、
基板引渡し部４１および乾燥部３７の適所に設けられた
軸受４８に軸心回りに回動可能に軸支され、これによっ
てローラ支持部材４３の左側部が駆動手段支持枠４４を
介して軸受４８に支持された状態になっている。

【００７９】従って、図６に示す状態において、シリン
ダ４６ｃの駆動によってピストンロッド４６ｄを所定の
突出量だけ突出させることにより、傾斜姿勢のローラ支
持部材４３は水平軸４７回りに反時計方向に回動し、図
７に示すように、基板移載部４２が水平姿勢になる。

【００８０】以下本発明の作用について説明する。基板
Ｂは、図１に示すように、上流側引継ぎ手段２０から基
板導入部２に順次引き渡され、搬送手段５の駆動によっ
て処理装置本体３内に導入され、ここで所定の処理が順
次施された後、基板導出部４を介して下流側引継ぎ手段
４０に引き渡される。

【００８１】そして、上流側引継ぎ手段２０からの基板
Ｂは、図２に示すように、基板導入部２においてまず基
板受入れ部２１の円筒状ローラ５２上に載置され、第１
駆動モータ２１ｃの駆動による円筒状ローラ５２の回転
によって水平姿勢の基板移載部２２に搬送される。な
お、このとき第２駆動モータ２５ａは駆動されており、
基板受入れ部２１から送られてきた基板Ｂを円筒状ロー
ラ５２の回転によって受け入れる。

【００８２】そして、基板Ｂが完全に基板移載部２２に
移された時点で、第２駆動モータ２５ａの駆動は停止さ
れ、これに代って移載部傾動手段２６が駆動されること
によるシリンダ２６ｃからのピストンロッド２６ｄの突
出によってローラ支持部材２３は水平軸２７回りに傾動
し、図３に示すように、基板移載部２２は傾斜姿勢にな
る。

【００８３】そして、この状態では基板移載部２２のロ
ーラ５１上の基板通過経路５ａは、下流側の処理装置本
体３の基板通過経路５ａと面一になっている。この時点
で第２駆動モータ２５ａが再駆動され、これによって基
板移載部２２上の基板Ｂは基板通過口３１ａ′を通って
薬洗槽３１ａ内に導入され、処理装置本体３内の常時回
転駆動しているローラ５１によって処理装置本体３内を
搬送され、薬洗部３１、水洗部３２、低圧水供給部３
３、高圧水供給部３４、超音波洗浄水供給部３５、純水
供給部３６、および乾燥部３７において基板Ｂに上記の
所定の処理が順次施される。

【００８４】基板Ｂを送り出した後の基板移載部２２
は、シリンダ２６ｃの逆駆動によって元の水平姿勢に戻
され、つぎの基板受入れ部２１からの基板Ｂを受入れ、
再度水平姿勢から傾斜姿勢に傾動して処理装置本体３に
送り込むという操作を順次繰り返すため、処理装置本体
３内には、所定の間隔で基板Ｂが順次導入されることに
なる。

【００８５】そして、処理装置本体３内では、各ローラ
５１の上部に形成された基板通過経路５ａは、幅方向に
傾斜が形成されているため、基板Ｂは傾斜姿勢を維持し
つつ処理装置本体３内を搬送されることになり、その結
果、基板Ｂの表裏面に供給された薬液や洗浄水が基板Ｂ
の傾斜面に沿って流下することによって基板Ｂにおける
薬液、洗浄水の置換や液切れが極めて良好になり、極め
て高い洗浄作用が得られ、洗浄時間が短くて済むととも
に、薬液の持ち出し量、消費量も低減され、また、薬洗
槽３１ａと水洗槽３２ａとの間、水洗槽３２ａと乾燥槽
３７ａとの間における基板Ｂの表裏面上での異種処理液
の混合が確実に防止される。

【００８６】ついで、乾燥部３７での乾燥処理が完了し
た基板通過経路５ａ上の基板Ｂは、図６に示すように、
基板通過口３７ａ′を通って基板導出部４に向けて導出
され、傾斜姿勢になっている基板移載部４２の円筒状ロ
ーラ５２上に向けて搬送される。その後、基板Ｂが乾燥
槽３７ａから完全に導出された状態で第４駆動モータ４
５ａの駆動が停止され、代って移載部傾動手段４６の駆
動によるピストンロッド４６ｄの下降によって基板移載
部４２のローラ支持部材４３は、図７に示すように水平
姿勢になる。

【００８７】この状態で基板Ｂは再度第４駆動モータ４
５ａの駆動により、第３駆動モータ４１ｃの駆動で回転
している基板引渡し部４１の円筒状ローラ５２上に移さ
れ、引き続き下流側引継ぎ手段４０に移される。上記の
基板導出部４の動作は、基板Ｂが乾燥槽３７ａから導出
される毎に繰り返される。

【００８８】以上詳述した通り、本発明は、基板Ｂを処
理装置本体３内で傾斜姿勢で搬送するようにしているた
め、処理装置本体３内を水平姿勢で搬送するものに比
べ、各槽間での基板Ｂの表裏面における異種処理液の混
合を防止するための液切り空間を余分に設けたり、液切
りのための設備を別途設置する必要はなく、その分設備
コストを安価にすることが可能になる。さらに、薬洗部
３１や水洗部３２での薬液や洗浄水が速やかで、洗浄作
用が極めて高く、洗浄に要する時間、すなわち、これら
の部分を通過する時間が短くて済み、搬送速度が一定な
ら、これら薬洗部３１や水洗部３２を小型化することが
できる。そして、これらが相俟って、全体として処理装
置本体３の長さ寸法を短くすることができるため、設置
スペースの縮小化に寄与することができるようになる。
さらに各槽間における基板Ｂの液切りのために従来用い
られていた噴射用の気体が不要になるため、運転コスト
の低減にも寄与し得る。

【００８９】また、ローラ５１が傾斜しているため、ロ
ーラ５１上の基板Ｂはローラ５１の下位の鍔部５３ｂに
よってのみ滑り落ちるのが阻止された状態で支持されて
いるため、基板Ｂは幅寸法に拘らずローラ５１に支持さ
れ得るようになる。そして、上記下位の鍔部５３ｂを搬
送される基板Ｂの基準位置に設定することにより、基板
Ｂをそのサイズに拘らずローラ５１によって搬送しつつ
処理することが可能になり、装置の汎用性を向上させる
上で有効である。

【００９０】しかも、処理装置本体３の上流側には基板
導入部２が設けられ、これによって水平姿勢で搬送され
てきた基板Ｂが処理装置本体３内の傾斜姿勢に変更され
るとともに、同下流側には基板導出部４が設けられ、こ
れによって処理装置本体３内での傾斜姿勢が水平姿勢に
戻されるから、処理装置本体３内での基板Ｂの処理を傾
斜姿勢で行うために、処理装置本体３の上流側および下
流側の搬送手段の全てについて基板Ｂを傾斜姿勢で搬送
し得るように改造する必要がなくなり、装置全体の設備
コストを低減させる上で極めて有効である。

【００９１】本発明は、以上の実施形態にのみ限定され
るものではなく、以下の内容をも含むものである。

【００９２】（１）上記の実施形態においては、搬送手
段５としてローラコンベアが用いられているが、本発明
は、搬送手段５がローラコンベアであることに限定され
るものではなく、搬送手段５としてベルトコンベアある
いはワイヤコンベアを適用してもよい。また、基板導入
部２や基板導出部４においても処理装置本体３で用いる
ものと同様の部分支持型ローラ５３を用いてもよい。

【００９３】（２）上記の実施形態においては、処理装
置本体３内には搬送手段５を挾むように上下に各種のノ
ズルが設けられているが、搬送手段５の上方にのみノズ
ルを設けるようにしてもよい。

【００９４】（３）上記の実施形態においては、処理装
置本体３の水洗部３２の下流側に乾燥部３７が配置され
ているが、本発明は乾燥部３７を水洗部３２の下流側に
配することに限定されるものではない。例えば、乾燥装
置として、基板Ｂを円盤上に固定して垂直軸心回りに高
速回転させることにより遠心力で液を吹き飛ばして乾燥
させる、いわゆるスピンナーが適用される場合には、水
洗部３２の下流側に基板導出部４を配設し、この基板導
出部４の下流側にスピンナーを配置するようなレイアウ
トが好適である。

【００９５】

【実施例】傾斜姿勢で搬送される基板の適切な傾斜角度
を知るために、以下の試験を実施した。

【００９６】（１）処理液の液置換性の良否を調べる試
験 縦３６０ｍｍ×横４６５ｍｍ×厚み１．１ｍｍの素ガラ
スからなる複数の親水性基板にアルカリ洗浄液（２５
℃）を液盛りした後、各基板に種々の角度の傾斜姿勢を
維持させた状態で洗浄水を５リットル／ｍｉｎの流量で
シャワー供給し、流下した洗浄水のｐＨ値が７になった
時点で洗浄が完了したと見做し（すなわち液置換が完了
したと見做し）、洗浄水の供給を停止した。そして、各
傾斜姿勢の基板への洗浄水供給開始から供給停止までの
時間を測定した。試験結果は表１に示す通りである。

【００９７】

【表１】

【００９８】表１から判る通り、基板が傾斜角度０°の
水平姿勢では処理液の置換に１０秒もかかっており、液
置換性は良好とはいえない。傾斜角度が３°では、液置
換が７秒で完了しており、水平姿勢の場合の３０％も時
間短縮されている。そして、以後傾斜角度を増加させて
も液供給時間は漸減するのみであるため、少なくとも３
°の傾斜角度が必要であることが判る。

【００９９】（２）処理液の液切り性の良否を調べる試
験 上記と同一寸法のクロム膜付きガラスからなる基板を複
数枚用意し、それぞれの表面にアルカリ洗浄液（２５
℃）を液盛りした後、各基板に種々の傾斜角度を１０秒
間維持させ、ついで水平姿勢に戻してから基板の表面に
残留した洗浄液の量を測定した。測定結果は表２に示す
通りである。

【０１００】

【表２】

【０１０１】表２から判る通り、基板が傾斜角度０°の
水平姿勢では基板上に２９０ｇも残留したのに対し、３
°の傾斜では４８．９ｇの残留であり、８３％も減少し
ている。そして、角度の増加に伴って残留量は漸減して
いる。従って少なくとも３°の傾斜角度が好ましいこと
が判る。

【０１０２】（３）処理液の乾燥し難さを調べる試験 上記と同一寸法の素ガラス（親水性基板）とクロム付き
ガラス（疎水性基板）との２種類の基板をそれぞれ複数
枚用意し、それらに純水（２５℃）で液盛りした後、そ
れぞれを傾けて種々の傾斜角度を維持させた。ついで基
板のエッジ部分から順次形成された乾き部分が、５０ｍ
ｍまで内側に広まった時点に到達するまでの時間を測定
した。測定結果は表３に示す通りである。

【０１０３】

【表３】

【０１０４】表３から判る通り、傾斜角度が５°以下で
あれば、乾燥に５．４秒以上かかり、基板の搬送速度と
の兼ね合いで基板が完全に乾燥してしまうことがない。
従って、傾斜角度を５°以下に設定するのが基板上の処
理液の乾燥を有効に抑制する上で好ましい。

【０１０５】（４）基板上へのパーティクルの再付着性
を調べる試験 上記と同様の予め洗浄した親水性基板と疎水性基板との
２種類の基板をそれぞれ複数枚用意し、これら基板を種
々の角度に傾けてそれぞれの傾斜姿勢を維持させた上
で、純水（２５℃）によりブラシを用いたシャワー水洗
を行い、ついでエアーナイフで乾燥してから付着してい
るパーティクルの個数を数えた。試験結果は表４に示す
通りである。

【０１０６】

【表４】

【０１０７】表４から判るとおり、比較的部分乾燥し易
い疎水性の基板においては、基板の傾斜角度が６０°の
ときには１２個もパーティクルが増加しているのに対
し、傾斜角度が４０°のときには増加数は８個に減少し
ており、しかも順次傾斜角度が小さくなるに従って付着
パーティクルの数が少なくなる傾向を示している。これ
より基板の傾斜角度は４０°以下が好ましいことが判
る。

【０１０８】（５）中央ローラへの荷重量についての試
験 上記と同様の親水性基板を複数枚用意し、これらに種々
の傾斜角度を維持させた状態で表面に純水（２５℃）の
液膜を形成させ、この膜厚を測定することによってこの
測定値を基に中央ローラへの荷重量を計算した。試験結
果は表５に示す通りである。

【０１０９】

【表５】

【０１１０】表５に示すように、基板の傾斜角度が２０
°以上であると、中央ローラへの荷重量は小さくなり、
中央ローラへの荷重量の面からは基板の傾斜角度が２０
°以上が好ましいことが判る。

【０１１１】（６）基板の搬送安定性についての試験 上記と同様の親水性基板を複数枚用意し、これらに種々
の傾斜角度を維持させた状態で表面に純水（２５℃）を
噴射供給し、基板の撓み状態から基板の支持必要個所を
目視で観察する試験を実施した。試験結果は、図６に示
す通り出ある。

【０１１２】

【表６】

【０１１３】表６から判る通り、基板の傾斜角度が３°
〜４０°のときには基板の表面の支持が不要であること
が確認された。

【０１１４】以上の試験結果から、基板の傾斜角度は、
３°〜４０°の範囲内が好ましく、３°〜７°がさらに
好適であることが判る。

【０１１５】

【発明の効果】上記請求項１記載の発明によれば、搬送
手段により搬送中の基板に処理液を供給することによっ
て順次基板処理を行う基板処理装置において、上記搬送
手段は、搬送面が基板の搬送方向に直交する面内で水平
方向に対して３°〜４０°傾斜してなるものであるた
め、基板は基板処理装置内を搬送手段によって傾斜姿勢
で搬送されつつ主面に処理液が供給される。従って、基
板に供給された処理液は基板の傾斜面に沿って流下しつ
つ基板の主面を洗浄し、洗浄した処理液は、速やかに新
たな処理液と置換され、かつ、基板の液切りが迅速に行
われるため、従来のように異種の処理液の境界部分に液
切り手段を設ける必要がなくなり、設備コストを低減す
る上で有効であり、かつ、短時間で高い洗浄作用が得ら
れる。

【０１１６】また、基板の傾斜角度が３°〜４０°に設
定されているため、この傾斜角度の範囲では基板を安定
した状態で搬送することができるとともに、処理液の種
類、処理液の粘度、処理液の供給量さらには基板の搬送
速度等を勘案して上記範囲内で基板の傾斜角度を設定す
ることにより、処理液の置換と液切りを良好に行い得る
ようにした上で、基板表面の乾燥を防ぎ、処理効果をも
十分なものにすることが可能になる。

【０１１７】上記請求項２記載の発明によれば、搬送面
の傾斜角度が３°〜７°に設定されているため、処理液
が、例えば濃度の低い薬剤や純水などの処理水である場
合、処理液の置換や基板の液切りを良好にした上で、基
板の乾燥も防止し、十分な処理効果（洗浄効果）を達成
し得るようになり好都合である。

【０１１８】上記請求項３記載の発明によれば、上記搬
送手段によって搬送中の基板に薬液を供給して基板を薬
洗する薬洗槽と、同基板に洗浄水を供給して基板を水洗
する水洗槽とを備えているため、基板は傾斜姿勢で搬送
されながら薬液槽で薬液の供給を受けて薬洗され、水洗
槽で洗浄水の供給を受けて水洗される。そして、薬洗槽
で供給された薬液は基板の傾斜面に沿って速やかに流下
するため、薬洗槽と水洗槽との境界部分における基板上
での薬液と洗浄水との分離が確実に行われ、薬液の洗浄
水への混入を確実に防止する上で有効である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置の一実施実施形態を
示す説明図である。

【図２】基板導入部の一実施形態を示す一部切欠き斜視
図であり、基板移載部２２が水平姿勢に設定された状態
を示している。

【図３】基板導入部の一実施形態を示す一部切欠き斜視
図であり、基板移載部が傾斜姿勢に設定された状態を示
している。

【図４】薬洗部の一実施形態を示す説明図である。

【図５】水洗部および乾燥部の一実施形態を示す説明図
である。

【図６】基板導出部の一実施形態を示す一部切欠き斜視
図であり、基板移載部が傾斜姿勢に設定された状態を示
している。

【図７】基板導出部の一実施形態を示す一部切欠き斜視
図であり、基板移載部が水平姿勢に設定された状態を示
している。

【符号の説明】

１ 基板処理装置 ２ 基板導入部 ２１ 基板受入れ部 ２１ｂ ローラ支持板 ２２ 基板移載部（入口側移載手段） ２３ ローラ支持部材 ２４ 駆動手段支持枠 ２５ ローラ駆動機構 ２６ 移載部傾動手段 ３ 処理装置本体 ３１ 薬洗部 ３１ａ 薬洗槽 ３１ｂ 薬液供給ノズル ３１ｃ 薬液槽 ３２ 水洗部 ３２ａ 水洗槽 ３２ｂ 第１水槽 ３２ｃ 第２水槽 ３３ 低圧水供給部 ３３ａ 低圧水供給ノズル ３４ 高圧水供給部 ３４ａ 高圧水供給ノズル ３５ 超音波洗浄水供給部 ３５ａ 超音波水供給ノズル ３６ 純水供給部 ３６ａ 純水供給ノズル ３７ 乾燥部 ３７ａ 乾燥槽 ３７ｂ エアーナイフ ４ 基板導出部 ４１ 基板引渡し部 ４１ｂ ローラ支持板 ４２ 基板移載部（出口側移載手段） ４３ ローラ支持部材 ４４ 駆動手段支持枠 ４５ ローラ駆動機構 ４６ 移載部傾動手段 ５ 搬送手段 ５１ ローラ ５２ 円筒状ローラ ５２ａ ローラ本体 ５２ｂ 鍔部 ５３ 部分支持型ローラ ５３ａ 中央ローラ ５３ｂ 鍔部 ５３ｃ 基板支持ローラ Ｂ 基板

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 搬送手段により搬送中の基板に処理液を
   供給することによって順次基板処理を行う基板処理装置
   において、 上記搬送手段は、搬送面が基板の搬送方向に直交する面
   内で水平方向に対して３°〜４０°傾斜していることを
   特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 上記搬送面の傾斜角度が３°〜７°に設
   定されていることを特徴とする請求項１記載の基板処理
   装置。
3. 【請求項３】 上記搬送手段によって搬送中の基板に薬
   液を供給して基板を薬洗する薬洗槽と、同基板に洗浄水
   を供給して基板を水洗する水洗槽とを備えていることを
   特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置。