JPH09232268A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 構造が簡単であるとともに、基板の幅寸法に
拘らず適量の処理液を基板に供給して処理ができるよう
にする。 【解決手段】 搬送方向に所定の間隔で傾斜した回転軸
を有する搬送ローラ５０が並設された基板搬送装置５
と、上記併設された搬送ローラ５０の間において基板Ｂ
の搬送方向と直交する方向に設けられた支持軸６１で回
動可能に支持されるとともに搬送される基板Ｂの下位端
縁を支持するサイドローラ６４を備えた位置保持手段６
と、上記基板Ｂの上位側位置で基板Ｂの搬送方向に沿っ
て配置され基板Ｂの表面に処理液を供給するリキッドナ
イフ３１ｂとを備えている。位置保持手段６は、基板搬
送装置５により搬送される基板Ｂの幅寸法に応じて基板
Ｂの上位側位置を一致させるべく、搬送ローラ５０と平
行な方向へ移動可能に設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、枚葉状被処理物で
ある基板を基板搬送手段によって傾斜姿勢で搬送しなが
ら所定の処理液を供給することによって処理する基板処
理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、フォトレジスト塗布液、感光性ポ
リイミド樹脂、カラーフィルター用の染色剤などの薄膜
が表面に形成された液晶用のガラス基板、フォトマスク
用のガラス基板等の枚葉状を呈した基板は、基板処理装
置に沿って敷設された搬送装置によって搬送されつつ、
基板処理装置内で所定の処理液が供給され、これによっ
て基板の表面に所定の処理が施されるようになってい
る。

【０００３】上記搬送装置は、搬送方向に沿って並設さ
れた多数の搬送ローラによって水平な基板搬送路が形成
されており、各搬送ローラを同一方向に同期回転するこ
とで、搬送ローラ上に載置された基板を基板搬送経路上
で水平方向に搬送されるようにしている。

【０００４】近年、各搬送ローラを、搬送方向に直交す
る面内において幅方向で斜めになるように配設した基板
搬送装置が提案されている。かかる傾斜式の基板搬送装
置は、基板上の液の置換が迅速に行われる他、液切れが
良好となる。

【０００５】ところで、基板搬送経路を上記のように傾
斜させると、搬送中の基板が傾斜方向に位置ずれするた
め、従来、下位側搬送ローラの外方に鍔部を設けて、位
置を保持するようにしていたが、下位側搬送ローラに載
置された基板は、下位側搬送ローラの軸心周りの時計方
向の回転によって搬送方向に移動する一方、鍔部は、端
縁に対して斜め上、横、斜め下方の相対移動を行うた
め、これらの移動成分によって基板の端縁と鍔部の内側
面とが互いにこすれ合い、基板の端縁が削られて微細な
塵であるパーティクルが生成し、基板が汚染されるおそ
れがあるという問題が生じる。

【０００６】かかる問題を解消するものとして、特開平
７−２８３１８５号公報には、上記傾斜姿勢で搬送され
る基板の下位側端縁を、基板搬送面の幅方向に直交する
軸を有する基板端面送りローラの外周面で受けるように
したものが記載されている。上記基板端面送りローラ
は、その軸がローラ回転軸の下位側端面に対向して設け
られている。こうすることで基板の搬送に伴い、基板の
下位側端縁に当接している基板端面送りローラが回転す
るため、基板端縁とローラとのこすれ合いによるパーテ
ィクルの発生が防止される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで特開平７−２
８３１８５号公報に記載されている基板端面送りロ−ラ
は、その軸がローラ回転軸の下位側端面に対向する位置
に設けられ、基板端面送りローラの軸と、搬送ローラの
軸の延びる方向とが互いに干渉し合うため、各軸の軸受
構造が複雑になるという問題点を有している。また搬送
装置によって搬送し得る基板の幅寸法（基板の搬送方向
と直交する基板寸法を指す）が最大幅寸法の基板の最上
位側まで処理液が供給されるように、基板搬送路の幅方
向の全長に亘って延びた散液管が配設されているため、
最大幅寸法の基板より幅寸法の小さな基板が処理される
ときには、散液管の上位側から噴出された処理液は基板
に供給されないにもかかわらず、常に最大処理幅寸法の
基板処理に必要な処理液流量を確保しなければならす、
処理液供給ポンプの容量が大型化するという問題点を有
していた。

【０００８】本発明は、上記のような問題を解決するた
めになされたものであり、構造が簡単であるとともに、
基板の幅寸法に拘らず適量の処理液を基板に供給して処
理ができる処理液供給手段を備えた基板処理装置を提供
することを目的としている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
搬送方向に所定の間隔で傾斜した回転軸を有する搬送ロ
−ラが並設された基板搬送手段と、上記併設された搬送
ロ−ラの間において基板の搬送方向と直交する方向に設
けられた支持軸で回動可能に支持されるとともに搬送さ
れる基板の下位端縁を支持する回転体を備えた位置保持
手段と、上記基板の上位側位置で基板の搬送方向に沿っ
て配置され基板の表面に処理液を供給する処理液供給手
段とを備えたことを特徴とするものである。

【００１０】この発明によれば、回転軸の傾斜による搬
送ロ−ラの傾斜によって傾斜姿勢で搬送される基板はそ
の下位側端縁が、併設された搬送ロ−ラの間に設けられ
た位置保持手段の回転体の周面に当止し、これによって
傾斜姿勢の基板の滑落が防止される。そして、基板の搬
送に伴って基板の端縁に当接している回転体は支持軸回
りに回転する。

【００１１】請求項２に記載の発明は、請求項１記載の
発明において、上記位置保持手段は、基板搬送手段によ
り搬送される基板の幅寸法に応じて基板の上位側位置を
一致させるべく、搬送ロ−ラと平行な方向へ移動可能に
設けられていることを特徴とするものである。

【００１２】この発明によれば、基板搬送手段により搬
送される基板の幅寸法に応じて基板の上位側位置を一致
させるべく、上記搬送ローラと平行な方向に回転体を移
動させ得るようになっている。

【００１３】

【発明の実施の形態】図１は、本発明に係る基板処理装
置１の一実施形態を示す概略構成図である。基板処理装
置１は、前工程からの基板Ｂを受け入れる基板導入部
２、内部に基板Ｂの処理空間を有する処理装置本体３、
および処理後の基板Ｂを後工程に受け渡す基板導出部４
が直列に配設されて形成されている。そして基板処理装
置１は、基板導入部２、処理装置本体３および基板導出
部４の順に基板Ｂを搬送しつつ基板Ｂに所定の処理を施
すものである。

【００１４】本実施形態においては、基板Ｂを搬送する
基板搬送装置（基板搬送手段）５としてローラコンベア
が適用されている。このローラコンベアは、基板Ｂの搬
送方向（図１の左方から右方に向かう方向）に直交する
方向に支持軸を配した複数の搬送ローラ５０が等ピッチ
で搬送方向に並設されて形成されている。かかる搬送ロ
ーラ５０の並設ピッチは基板Ｂの搬送方向の寸法の数分
の１に設定され、これによって基板Ｂは複数の搬送ロー
ラ５０によって支持され得るようにしている。そして、
回転駆動している複数の搬送ローラ５０上に基板Ｂを載
置することにより、基板Ｂは各搬送ローラ５０の同一方
向の同期回転に伴って搬送方向（図１の右方）に向けて
搬送されるようになっている。

【００１５】基板Ｂは、前工程からコンベアあるいはロ
ボット等の上流側引継ぎ手段２０を介して基板導入部２
に移され、ついで基板搬送装置５の駆動によって基板導
入部２から処理装置本体３に導入され、ここで搬送ロー
ラ５０によって搬送されつつ基板Ｂに所定の処理が施さ
れた後、基板導出部４に移送され、その後、基板導出部
４の下流端でコンベアあるいはロボット等からなる下流
側引継ぎ手段４０を介して次工程に向けて導出されるよ
うになっている。

【００１６】処理装置本体３内においては、上記各搬送
ローラ５０はその軸心が基板Ｂの搬送方向に対して直交
する面内であって、水平方向に対して傾斜して設けられ
ている（図２）。処理装置本体３内の各搬送ローラ５０
の傾斜角度は全て同一角度に設定されている。これら搬
送ローラ５０の上部に基板Ｂが通過する基板搬送経路５
ａが形成され、これによって基板Ｂは処理装置本体３内
において傾斜姿勢で基板搬送経路５ａを搬送されつつ所
定の処理が施されるようになっている。

【００１７】上記基板導入部２は、上流側引継ぎ手段２
０（図１）からの基板Ｂを一旦受け取る基板受入れ部２
１と、この基板受入れ部２１の直下流側に設けられた基
板移載部２２とを備えて形成されている。基板Ｂは、上
流側引継ぎ手段２０から一旦この基板受入れ部に水平姿
勢で供給され、基板移載部２２において傾斜姿勢に変更
され、基板通過口３ａを通って処理装置本体３に導入さ
れるようにしている。

【００１８】上記処理装置本体３は、本実施形態におい
ては、薬洗部３１、水洗部３２、および乾燥部３７が直
列に配設されて形成されている。薬洗部３１は、搬送ロ
ーラ５０によって搬送されつつある基板Ｂの表面に所定
の薬液を供給して基板Ｂを洗浄（薬洗）するためのもの
であり、内部に搬送ローラ５０が敷設された薬洗槽３１
ａ、この薬洗槽３１ａ内に搬送ローラ５０で搬送中の基
板Ｂの表面の上位側に薬液を吐出するリキッドナイフ３
１ｂ、薬液を貯留する薬液槽３１ｃ、および、この薬液
槽３１ｃ内の薬液をリキッドナイフ３１ｂに供給する薬
液ポンプ３１ｄを備えている。なお、図１に示す例で
は、上記リキッドナイフ３１ｂの他に、基板搬送経路５
ａの下方に散液孔を上方に向けた基板Ｂの裏面処理用の
通常の散液ノズルも設けられている。

【００１９】上記リキッドナイフ３１ｂ（図２）は、薬
洗槽３１ａ内で前後方向に延びるナイフ本体３１１と、
このナイフ本体３１１の下部に延設された側面視で先細
りのノズル部３１２とを備えて形成され、ナイフ本体３
１１には前後方向に延びる薬液通路３１３が設けられて
いるとともに、ノズル部３１２の下端部には上記薬液通
路３１３に連通し、かつ、前後方向に延びるスリット状
の吐出口３１４が設けられている。

【００２０】かかるリキッドナイフ３１ｂは、幅方向に
傾斜した基板搬送経路５ａの上位側の上方に、吐出口３
１４を基板Ｂの上位側の表面側端縁に向けられた状態で
配設されている。薬液は、このリキッドナイフ３１ｂの
吐出口３１４から傾斜姿勢で搬送中の基板Ｂの表面の上
位側端縁に吐出され、基板Ｂの傾斜に沿って流下し、こ
れによって基板Ｂの表面が薬液処理されるようになって
いる。そして、薬洗槽３１ａ内でリキッドナイフ３１ｂ
から吐出され、基板Ｂの薬洗に使用された後の薬液は、
薬液槽３１ｃに返され、循環使用される。

【００２１】また、処理装置本体３内の基板搬送経路５
ａの上下には、基板搬送経路５ａに直交した軸心や、ま
たは基板搬送経路５ａと平行に横断して設けられた軸心
回りに回転する複数個のブラシが設けられ、基板搬送経
路５ａを搬送されつつある基板Ｂの表面はこれらのブラ
シでブラッシング処理されるようになっている。ブラシ
としては、前者の場合は円盤の底面に植毛されたディス
クブラシや、また後者の場合は円筒体の外周面に植毛さ
れたロータリーブラシ等が用いられている。そして毛先
を基板Ｂの表裏面に当接させた状態でのこれらブラシの
軸心回りの回転によって、基板Ｂは表裏面が薬液付与状
態でブラッシング処理され、清浄化されるようになって
いる。

【００２２】このように、基板Ｂはリキッドナイフ３１
ｂから帯状で吐出される薬液が、基板Ｂの傾斜面に沿っ
て流下するため、短い時間で高い処理作用が得られる。
しかも、薬液の基板Ｂの傾斜面に沿った速やかな流下に
よって、薬液が液流状態で基板Ｂ上の流下路から外れる
ことはなく、従って、基板Ｂによる薬液の持ち出し量も
低減されるとともに、薬液の消費量も低減され、また、
良好な液切りが行われることになる。

【００２３】上記水洗部３２は、搬送ローラ５０によっ
て搬送されつつある薬洗後の基板Ｂに純水等の洗浄水を
供給して洗浄（水洗）するためのものであり、内部に搬
送ローラ５０が敷設された水洗槽３２ａを備えている。
この水洗槽３２ａの内部は、仕切壁によって上流側から
低圧水供給部３３、高圧水供給部３４、超音波洗浄水供
給部３５、および純水供給部３６に区分されている。

【００２４】上記水洗槽３２ａの上流側および下流側の
壁面ならびに各仕切壁には基板通過口３ａが開口されて
いる。そして、薬洗部３１から導出された基板Ｂは、上
流端の基板通過口３ａから水洗槽３２ａ内に導入され、
ついで各仕切壁の基板通過口３ａを通って低圧水供給部
３３、高圧水供給部３４、超音波洗浄水供給部３５、お
よび純水供給部３６に順次導入され、所定の水洗処理が
施されたのち下流端の基板通過口３ａから乾燥部３７に
向けて導出されるようになっている。

【００２５】上記低圧水供給部３３は、基板搬送経路５
ａを挟むように上下に配設された低圧水供給ノズル３３
ａを有し、高圧水供給部３４は同様に配設された高圧水
供給ノズル３４ａを有している。また、超音波洗浄水供
給部３５には、基板搬送経路５ａを通過する基板Ｂの表
面に吐出口を向けた超音波水供給ノズル３５ａが設けら
れ、純水供給部３６には基板搬送経路５ａを挟むように
上下に配設された純水供給ノズル３６ａが設けられてい
る。

【００２６】上記低圧水供給ノズル３３ａのうち基板搬
送経路５ａの上方に設けられているものは、基板Ｂの搬
送方向に直交した方向でかつ搬送路５ａと平行に延びる
細長いスリット状の液吐出口を備えた、いわゆる液ナイ
フが用いられているとともに、同基板搬送経路５ａの下
方に設けられているものは、円形あるいは楕円形等の散
液孔を備えた通常のコーンタイプあるいは扇状タイプ等
のノズルが採用されている。

【００２７】一方、水洗部３２の近傍には第１水槽３２
ｂおよび第２水槽３２ｃが配置され、第１水槽３２ｂと
低圧水供給ノズル３３ａとの間に低圧水ポンプ３３ｂが
設けられている。そして、第１水槽３２ｂ内の洗浄水
は、低圧水ポンプ３３ｂの駆動によって汲み上げられ、
低圧水供給ノズル３３ａから基板Ｂの表裏面に供給さ
れ、これによって基板Ｂに対する第１段階の水洗処理が
施されるようになっている。そして、低圧水供給ノズル
３３ａから吐出された洗浄水は、第１水槽３２ｂに返送
されるようになっている。

【００２８】また、第１水槽３２ｂと高圧水供給ノズル
３４ａとの間には高圧水ポンプ３４ｂが設けられてい
る。そして、第１水槽３２ｂ内の洗浄水は、高圧水ポン
プ３４ｂの駆動によって汲み上げられ、高圧水供給ノズ
ル３４ａから基板Ｂの表裏面に向けて高圧で噴射され、
基板Ｂに対する第２段階の洗浄処理が行われるようにな
っている。そして高圧水供給ノズル３４ａから噴射さ
れ、基板Ｂを水洗した後の洗浄水は第１水槽３２ｂに戻
される。

【００２９】上記第２水槽３２ｃと超音波水供給ノズル
３５ａとの間には汲上げポンプ３５ｂが介設され、この
駆動によって第２水槽３２ｃ内の洗浄水が超音波水供給
ノズル３５ａに供給されるようになっている。

【００３０】超音波水供給ノズル３５ａは、洗浄水に超
音波振動を付与する機能を備えたノズルであり、内部に
図略の超音波発振器を有している。超音波水供給ノズル
３５ａに供給された洗浄水はこの超音波発振器によって
略１．５ＭＨｚの振動が付与された状態で吐出口から吐
出され、この洗浄水の超音波振動によって基板Ｂに対す
る第３段階の洗浄処理が施されることになる。そして、
超音波水供給ノズル３５ａから基板Ｂに供給された洗浄
水は基板Ｂの表面を洗浄した後、第２水槽３２ｃに返送
されるようにしている。

【００３１】上記純水供給部３６は、基板Ｂに最終段階
（第４段階）の洗浄処理を施す部分であり、純水を用い
て洗浄される。具体的には、純水供給ノズル３６ａに純
水源３６ｂからの純水が供給されるようになっており、
基板搬送経路５ａを通過中の基板Ｂの表裏面に純水を供
給することによって仕上げの洗浄処理を行うようにして
いる。

【００３２】この純水供給部３６においては、基板搬送
経路５ａの上方に液ナイフタイプの純水供給ノズル３６
ａが設けられ、これからの純水の吐出によって基板Ｂの
表面が洗浄されるとともに、基板搬送経路５ａの下方に
は通常のコーンタイプ等の純水供給ノズル３６ａが設け
られ、これによって基板Ｂの裏面が洗浄されるようにな
っている。そして、純水供給ノズル３６ａから吐出され
た純水は、基板Ｂの表裏面を洗浄した後、第２水槽３２
ｃに戻すようにしている。

【００３３】このような一連の低圧水供給部３３、高圧
水供給部３４、超音波洗浄水供給部３５および純水供給
部３６からなる水洗部３２においては、基板Ｂはその搬
送方向に直交する面内で傾斜した搬送ローラ５０によっ
て傾斜姿勢で搬送されるようになっており、これによっ
て各供給部３３，３４，３５，３６で基板Ｂに供給され
た洗浄用の水は速やかに基板Ｂの傾斜面を流下するた
め、下流側の乾燥部３７には最小限度の洗浄水しか持ち
込まれないようになっている。

【００３４】上記乾燥部３７は、水洗部３２の純水供給
部３６から導出された基板Ｂを乾燥するためのものであ
り、乾燥槽３７ａと、この乾燥槽３７ａ内の基板搬送経
路５ａを挟むように設けられた上下一対のエアーナイフ
３７ｂとを備えている。上記乾燥槽３７ａの上流壁およ
び下流壁には基板通過口３ａが開口され、これらの基板
通過口３ａを介して乾燥槽３７ａに対する基板Ｂの搬入
および搬出が行われる。上記乾燥槽３７ａは、基板Ｂの
搬送方向に傾斜して対向させられたスリット状の気体吐
出口を有しており、この気体吐出口からの帯状の気流を
基板Ｂの表裏面に吹き付けることにより基板Ｂを乾燥す
るようにしている。

【００３５】そして、各エアーナイフ３７ｂは気体源３
７ｃに接続され、気体源３７ｃからの高圧気体がエアー
ナイフ３７ｂに供給されるようになっている。なお、本
実施形態においては、気体源３７ｃとして高圧窒素ボン
ベが適用されている。また、乾燥槽３７ａの底部に溜っ
た純水は、第２水槽３２ｃに導入されるようにしてい
る。

【００３６】また、乾燥部３７においても搬送ローラ５
０は処理装置本体３内と同様に基板Ｂの搬送方向に直交
する面内で水平方向に対して傾斜され、これによって基
板Ｂに付着している洗浄水の液切りが良好に行われるよ
うになっている。

【００３７】上記基板導出部４は、基本的に上記基板導
入部２と左右対象で同様に構成され、乾燥部３７からの
基板Ｂを受け取る基板移載部４２と、この基板移載部４
２が受け取った基板Ｂを下流側引継ぎ手段４０に引き渡
す基板引渡し部４１とを備えて形成されている。そし
て、乾燥部３７から傾斜姿勢で基板移載部４２に導出さ
れた基板Ｂは、ここで水平姿勢に変更され、ついで基板
引渡し部４１に送り出された後、下流側引継ぎ手段４０
によって次工程に引き渡される。

【００３８】図２は、基板搬送装置５の一実施形態を示
すための薬洗槽３１ａの一部切欠き斜視図であり、図３
は搬送ローラ５０が敷設された状態を示す平面図であ
る。また、図４は同正面図であり、（イ）はサイドロー
ラ（回転体）６４が最下位に位置した状態、（ロ）はサ
イドローラ６４が上位側に移動した状態をそれぞれ示し
ている。まず図２に示すように、基板搬送装置５は、二
点鎖線の白抜き矢印で示す基板Ｂの搬送方向に直交する
面内で水平面に対して傾斜姿勢で並設された搬送ローラ
５０、これら搬送ローラ５０を駆動回転させる駆動機構
５５、および、搬送ローラ５０上の基板Ｂの位置ずれを
防止する位置保持手段６とを備えて形成されている。

【００３９】上記搬送ローラ５０は、薬洗槽３１ａの両
側壁間に基板搬送経路５ａを横断して斜めに設けられた
にローラ軸５１、このローラ軸５１の下位側部に設けら
れた下位側ローラ５２、同上位側部に設けられた上位側
ローラ５３、この上位側ローラ５３の外方に延設された
鍔ローラ５４、およびローラ軸５１の略中央部に設けら
れた中央部ローラ５２ａを備えている。

【００４０】上記下位側ローラ５２、中央部ローラ５２
ａおよび上位側ローラ５３は径寸法が同一に設定されて
いる。下位側ローラ５２と上位側ローラ５３との対向面
間の距離は、最大サイズの基板Ｂの幅寸法よりも短く設
定され、これによって最大サイズの基板Ｂが下位側ロー
ラ５２および上位側ローラ５３上に架橋状態で載置し得
るようになっているとともに、最大サイズの基板Ｂより
も小さいサイズの基板Ｂが処理されるときは、基板Ｂは
位置保持手段６の駆動により後述するサイドローラ６４
の上位への移動によって中央部ローラ５２ａと上位側ロ
ーラ５３とによって支持されるようになっている。ま
た、各ローラ５２，５２ａ，５３にはゴムや合成樹脂等
の柔軟性材料からなる摩擦係数の大きいＯリング５２３
が外嵌され、基板ＢがＯリング５２３上に載置されるこ
とにより各ローラ５２，５２ａ，５３上での滑りを防止
して搬送バランスを保持するようにしている。

【００４１】上記鍔ローラ５４は、円錐台形状であっ
て、かつ、底面部分（図４の右方）が上位側ローラ５３
よりも大径に設定されているとともに、上面部分（図４
の左方）が上位側ローラ５３の径と同一の径に設定され
ている。この鍔ローラ５４の円錐面によって基板Ｂの搬
送方向に直交する方向に対する振れが防止されるととも
に、基板導入部２の基板搬送経路５ａと基板搬送装置５
の基板搬送経路５ａとがずれていても、基板導入部２か
ら処理装置本体３へ基板Ｂを引き継ぐに際し、かかる引
継ぎずれを吸収し得るようにしている。

【００４２】上記駆動機構５５は、薬洗槽３１ａに近接
して外側下部に設けられた第１駆動モータ５６、ローラ
軸５１の下位側端部に設けられた従動プーリ５７、上記
第１駆動モータ５６の駆動力を各従動プーリ５７に伝達
するタイミングベルト５８を具備している。上記第１駆
動モータ５６の駆動軸５６ｂには駆動プーリ５６ａが取
り付けられているとともに、上記各従動プーリ５７間の
下部には補助プーリ５７ａが設けられている。そして、
タイミングベルト５８は、蛇行状態で従動プーリ５７お
よび補助プーリ５７ａに張設された上で駆動プーリ５６
ａに張設され、第１駆動モータ５６の駆動回転が駆動プ
ーリ５６ａ、およびタイミングベルト５８を介して各従
動プーリ５７に伝達されるようになっている。

【００４３】上記位置保持手段６は、図２〜図４に示す
ように、ローラ軸５１の下位側の薬洗槽３１ａの側壁に
基板Ｂの搬送方向に沿って並設され、かつ、ローラ軸５
１の延びる方向に直交するように上下方向に延びる複数
の支持軸６１、各支持軸６１の上部に軸心回りに回転自
在に取り付けられたサイドローラ６４、および上記支持
軸６１を支持する可動支持体６５、およびこの可動支持
体６５をローラ軸５１の延びる方向に平行に移動して位
置変更させる位置変更機構６６を備えて形成されてい
る。

【００４４】図５は、サイドローラ支持構造の一実施形
態を示す部分拡大断面図である。この図に示すように、
支持軸６１は、上端側の小径部６２と、この小径部６２
から下方に延設された小径部６２より径の大きい同心の
大径部６３とからなり、サイドローラ６４は上記小径部
６２に嵌め込まれた状態で大径部６３の段差部分に支持
されるようになっている。

【００４５】上記サイドローラ６４は、支持軸６１の小
径部６２に外嵌固定されるベアリング６４ａ、このベア
リング６４ａに外嵌固定される支持ホイル６４ｂ、およ
びこの支持ホイル６４ｂに外嵌固定される環状緩衝部材
６４ｃから構成されている。上記支持ホイル６４ｂは、
外周の両端部に外方に突出した一対の環状堰部を有して
おり、環状緩衝部材６４ｃの内周部を上記環状堰部間に
嵌め込むことによって環状緩衝部材６４ｃの支持ホイル
６４ｂに対する装着状態が確実になるようにしている。

【００４６】上記環状緩衝部材６４ｃは、緩衝性能に優
れ、かつ摩擦係数の大きい例えばゴム製あるいは柔軟性
を有する合成樹脂製のものが採用され、これによって基
板Ｂの端縁部が環状緩衝部材６４ｃの外周面に当接して
も、基板Ｂに損傷を与えることがないとともに、基板Ｂ
の移動によってその端縁が当接している環状緩衝部材６
４ｃを支持軸６１回りに確実に連れ回りさせ得るように
している。

【００４７】上記可動支持体６５は、ローラ軸５１の下
方において搬送方向に延びるように設けられた断面視で
コ字形状の長尺部材によって形成されている。かかる可
動支持体６５は、帯板部６５ａ、この帯板部６５ａの上
縁部から薬洗槽３１ａ内に突設された上板部６５ｂ、お
よび帯板部６５ａの下縁部から上板部６５ｂに平行にな
るように突設された下板部６５ｃから形成されている。
そして、上記支持軸６１は、大径部６３が、上板部６５
ｂおよび下板部６５ｃに貫通して固定されている。

【００４８】そして、大径部６３が可動支持体６５に固
定された状態でサイドローラ６４の環状緩衝部材６４ｃ
の外周面が搬送ローラ５０上に載置された基板Ｂの下位
側の端縁に当接するようにサイドローラ６４の配設高さ
が設定されている。かかるサイドローラ６４は、図２お
よび図３に示すように、各搬送ローラ５０間の略中央部
に配設され、基板ＢがＯリング５２３を介して複数の搬
送ローラ５０の下位側ローラ５２、中央部ローラ５２ａ
および上位側ローラ５３の三者に載置された状態、また
は中央部ローラ５２ａおよび上位側ローラ５３の二者に
載置された状態で基板Ｂの下位側の端縁が複数のサイド
ローラ６４の環状緩衝部材６４ｃの外周面に当止し、こ
れによって基板Ｂの幅方向の位置ずれや滑落が防止され
るようになっている。

【００４９】上記位置変更機構６６は、図２に示すよう
に、薬洗槽３１ａ内の上流端と下流端（図２では図示を
省略している）にローラ軸５１に平行に配設されたスク
リュー軸６７、このスクリュー軸６７に螺合され、か
つ、上記可動支持体６５に固定されたナット部材６７
ａ、および上記スクリュー軸６７を回転させる第２駆動
モータ６８を備えている。

【００５０】上記ナット部材６７ａは、可動支持体６５
の上板部６５ｂと下板部６５ｃとの間に挾持された状態
で可動支持体６５に固定されている。また、上記スクリ
ュー軸６７は、下位側の略半分に雄ネジが螺設され、こ
の雄ネジが上記ナット部材６７ａに螺着された状態で下
位側の側部が可動支持体６５の帯板部６５ａを貫通して
延設され、薬洗槽３１ａの側壁に固定されたベアリング
６７ｂに軸心回りに回転可能で、かつ、軸心方向への移
動が規制された状態で支持されている。また、スクリュ
ー軸６７の上位側の側部は薬洗槽３１ａの側壁に設けら
れたベアリング６７ｂ（図２）に支持されている。

【００５１】上記第２駆動モータ６８は、図２に示すよ
うに、薬洗槽３１ａの右側壁の外部に配置された架台６
８ａ上に据え付けられ、その駆動回転が駆動軸に設けら
れた駆動ギヤ６８ｂ、およびこの駆動ギヤ６８ｂに噛合
した従動ギヤ６８ｃを介してスクリュー軸６７に伝達さ
れるようになっている。従って、第２駆動モータ６８を
駆動することにより、その回転が各ギヤ６８ｂ，６８ｃ
を介してスクリュー軸６７に伝達され、スクリュー軸６
７の回転によってそれに噛合しているナット部材６７ａ
がスクリュー軸６７の延びる方向に移動し、これによっ
て可動支持体６５が同方向に移動し、可動支持体６５に
付設されたサイドローラ６４の位置が変更される。

【００５２】かかる基板搬送装置５の構成によれば、第
１駆動モータ５６を駆動することにより、各従動プーリ
５７はタイミングベルト５８を介して同一方向に従動回
転し、これによってすべての搬送ローラ５０がローラ軸
５１回りに図２における時計方向に同期回転し、搬送ロ
ーラ５０上に載置されている基板Ｂは搬送方向（図２の
右方）に搬送されることになる。

【００５３】そして、傾斜している搬送ローラ５０上に
載置された基板Ｂは、その下位側の端縁が基板搬送経路
５ａに沿ってその下位側に配設されたサイドローラ６４
の外周面に当接されているため、基板Ｂの傾斜に沿った
位置ずれや滑落が防止されるとともに、搬送ローラ５０
の回転による基板Ｂの移動によってサイドローラ６４が
支持軸６１回りに回転し、これによって基板とサイドロ
ーラ６４の外周面とは互いにこすれ合うことが防止され
る。

【００５４】従って、本発明に係る基板搬送装置５は、
従来のような鍔部の内側面で基板Ｂの端縁を支持するよ
うな搬送ローラを備え、これによって基板Ｂの位置ずれ
や滑り落ちを防止するようなものではなく、サイドロー
ラ６４の周面で基板の下位端縁を受けるようにしている
ため、パーティクルが発生せず、従来のように鍔部の摩
耗によって基板Ｂの搬送不良が生じるようなことはな
く、傾斜姿勢の基板Ｂを常に安定して搬送し得るように
なるとともに、搬送ローラ５０の交換頻度を低減させる
ことによるメンテナンスコストの低減に寄与し得るよう
になる。

【００５５】また、図４の（イ）に示すように、可動支
持体６５が最下位に位置している状態では、サイドロー
ラ６４は、下位側ローラ５２よりもさらに下位側に位置
しているため、幅寸法が下位側ローラ５２から上位側ロ
ーラ５３に亘る大型の基板Ｂを搬送することが可能にな
る。そして、幅寸法が大型の略半分の小型の基板Ｂを搬
送するときは、第２駆動モータ６８（図２）を駆動し、
これによるスクリュー軸６７の回転によってナット部材
６７ａを上位側に移動させることにより、図４の（ロ）
に示すように、可動支持体６５が右方に移動してサイド
ローラ６４が下位側ローラ５２を越えて上位に移動し、
小型の基板Ｂは、中央部ローラ５２ａと上位側ローラ５
３とに載置され、サイドローラ６４によって滑り止めさ
れた状態になる。

【００５６】このように、本発明においては、基板Ｂの
傾斜姿勢の上位側を基準にして、下位側の位置をサイド
ローラ６４の移動によって基板Ｂのサイズに合致するよ
うに基板搬送路の幅寸法を調節するものであるため、従
来のようにサイドローラ６４の位置が固定されたもので
ある場合、上位側に設けられたリキッドナイフ３１ｂか
らの薬液が基板Ｂに供給されず、従って確実な基板Ｂの
処理が行い得なくなるとともに、常に最大基板サイズに
合わせた薬液流量を維持するために大型のポンプを使用
しなければならないという不都合が生じず、基板Ｂを、
サイズに拘らず常に確実に、かつ、省スペースな小型の
ポンプで処理することが可能になる。

【００５７】本発明は、以上の実施形態に限定されるも
のではなく、以下の内容をも含むものである。 （１）上記の実施形態においては、基板搬送装置５は上
記のような薬洗槽３１ａおよび水洗槽３２ａ内に設けら
れているが、本発明の基板搬送装置５は、薬洗槽３１ａ
および水洗槽３２ａ内に敷設されることに限定されるも
のではなく、基板Ｂを傾斜姿勢で搬送する必要性のある
部分においてはいずれの場所でも採用し得るものであ
る。例えば、上記の実施形態においては、基板移載部２
２，４２に基板搬送装置５を適用してもよい。

【００５８】（２）上記の実施形態においては、中央部
ローラ５２ａはローラ軸５１に一体に設けられている
が、中央部ローラ５２ａをローラ軸に沿って移動可能に
してもよい。こうすることにより基板Ｂサイズの変更に
対する搬送ローラ５０の対応性が向上する。

【００５９】（３）上記の実施形態においては、基板Ｂ
の端縁に当接しているサイドローラ６４は、基板Ｂの移
動によって回転するようにしているが、こうする代わり
に、基板Ｂの搬送速度に同期してサイドローラ６４を駆
動回転させるようにしてもよい。こうすることによっ
て、基板Ｂの端縁に加わる負荷が軽減される。

【００６０】（４）上記の実施形態においては、各搬送
ローラ５０は第１駆動モータ５６の駆動プーリ５６ａと
各従動プーリ５７との間に張設されたタイミングベルト
５８の周回移動によって従動するように構成されている
が、各従動プーリ５７に代えて歯車を採用するととも
に、各歯車間に補助歯車を介在させ、この補助歯車を介
して各搬送ローラ５０に回転力を伝達するようにしても
よい。

【００６１】（５）上記の実施形態においては、サイド
ローラ６４は、スクリュー軸６７の回転による可動支持
体６５の移動によって設定位置が変更されるようにして
いるが、このようにする代わりに、可動支持体６５をシ
リンダの駆動によるピストンロッドの出没で行ったり、
ローラ軸５１に平行に敷設されたレールに案内されなが
ら駆動手段の駆動によって移動するように構成してもよ
い。

【００６２】（６）上記の実施形態においては、サイド
ローラ６４の支持軸６１は、ローラ軸５１に対して直角
に、かつ、上下方向に延びるように設けられているが、
本発明は、支持軸６１がローラ軸５１に対して直角に設
定することに限定されるものではなく、支持軸６１を基
板の搬送方向に直交するようにさえすれば、支持軸６１
がローラ軸５１に対して直角になっていなくてもよい。
この場合サイドローラを円錐台形状に形状設定し、その
周面で基板Ｂの下位側端縁を支持するようにすることが
好ましい。

【００６３】

【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、搬送ロ−
ラにより傾斜姿勢で搬送される基板の下位側端縁を支持
する位置保持手段が、併設して設けられた搬送ロ−ラの
間に設けられているので、従来のように搬送ロ−ラの支
持軸線上に設けられているものより簡易な構成で設ける
ことができる。また回転体の周面と基板の端縁との間の
こすれ合いが起こらず、パーティクルの発生が抑制され
るとともに、回転体の摩耗も防止される。さらに処理液
供給手段は、常に上位側位置基準で処理液を供給するよ
うに設定されているため、基板の幅寸法の変更に拘わら
ず、基板面上に供給された処理液は基板の傾斜に沿って
流下し、基板の全面が効果的に処理される。従って、処
理液供給手段から供給する処理液の流量を、従来のよう
に処理する基板の最大幅寸法に対応した流量を確保する
必要が無く、小型なポンプが選択可能となり、装置が省
スペ−ス化できる。

【００６４】また請求項２に記載の発明では、基板搬送
手段により搬送される基板の幅寸法に応じて基板の上位
側位置を一致させるべく、上記搬送ローラと平行な方向
に回転体を移動させ得るようになっているため、従来の
搬送ローラの下端面に対向して回転体を設けたものに比
べ、基板の幅寸法に対応して基板の上位側端縁を基準に
して位置保持手段の設定位置を簡易な機構で容易に変更
し得るようになる。

【００６５】基板搬送手段は、第１サイズの基板と第１
サイズより幅広の第２サイズの基板を、搬送ローラによ
って傾斜姿勢で搬送可能に構成され、基板の下位側端縁
を外周面で支持する回転体を、第１、第２サイズの基板
の上位側の位置を一致させるように移動させることによ
り、第１、第２サイズの基板は上位側位置が一致した状
態で基板搬送手段によって搬送され得るようになってい
るとともに、処理液供給手段は、第１サイズの基板の表
面に処理液を供給するように配設されているため、ま
ず、下位側端縁が回転体の外周面に当止することによっ
て搬送中の基板の傾斜に沿った位置ずれや滑り落ちを確
実に防止することができるとともに、基板の移動に伴う
回転体の回転により基板の端縁との間のこすれ合を防止
することができ、その結果、基板の端縁の摩耗に起因し
たパーティクルの発生が確実に抑制され、パーティクル
による基板の汚染が確実に防止される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置の一実施形態を示す
概略構成図である。

【図２】基板搬送装置の一実施形態を示すための薬洗槽
の一部切欠き斜視図である。

【図３】搬送ローラが敷設された状態を示す平面図であ
る。

【図４】搬送ローラが敷設された状態を示す正面図であ
り、（イ）はサイドローラが最下位に位置した状態、
（ロ）はサイドローラが上位側に移動した状態をそれぞ
れ示している。

【図５】サイドローラ支持構造の一実施形態を示す部分
拡大断面図である。

【符号の説明】

１ 基板処理装置 ２ 基板導入部 ３ 処理装置本体 ３１ 薬洗部 ３２ 水洗部 ３１ｂ リキッドナイフ ４ 基板導出部 ５ 基板搬送装置（基板搬送手段） ５０ 搬送ローラ ５１ ローラ軸 ５２ 下位側ローラ ５３ 上位側ローラ ５４ 鍔ローラ ５５ 駆動機構 ５６ 第１駆動モータ ５６ａ 駆動プーリ ５７ 従動プーリ ５８ タイミングベルト ６ 位置保持手段 ６１ 支持軸 ６２ 小径部 ６３ 大径部 ６４ サイドローラ（回転体） ６４ａ ベアリング ６４ｂ 支持ホイル ６４ｃ 環状緩衝部材 ６５ 可動支持体 ６６ 位置変更機構 ６７ スクリュー軸 Ｂ 基板

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 搬送方向に所定の間隔で傾斜した回転軸
   を有する搬送ロ−ラが並設された基板搬送手段と、 上記併設された搬送ロ−ラの間において基板の搬送方向
   と直交する方向に設けられた支持軸で回動可能に支持さ
   れるとともに搬送される基板の下位端縁を支持する回転
   体を備えた位置保持手段と、 上記基板の上位側位置で基板の搬送方向に沿って配置さ
   れ基板の表面に処理液を供給する処理液供給手段とを備
   えたことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 上記位置保持手段は、基板搬送手段によ
   り搬送される基板の幅寸法に応じて基板の上位側位置を
   一致させるべく、搬送ロ−ラと平行な方向へ移動可能に
   設けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板
   処理装置。