JP2003104544A - 方形基板の湿式処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板を上下両側から挟持した状態で搬送しな
がら洗浄や乾燥等の各種湿式処理を施すことができると
共に、寸法の異なる基板の処理にも共通に使用すること
ができる、機能的な搬送機構を有する基板の湿式処理装
置を得る。 【解決手段】 方形の基板Ｗを一枚ずつ縦向きに搬送す
る搬送機構１と、該基板Ｗに処理液による湿式処理を施
すための湿式処理部２とを含み、上記搬送機構１は、一
定間隔で回転自在なるように配設されて駆動用のモータ
ー４１に連結された複数の下部サポートローラー３６
と、一定間隔で回転自在なるように配設されると共に、
高さ調節機構４５によって下部サポートローラー３６と
の間隔を調節自在なるように支持された複数の上部サポ
ートローラー３７とで構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、方形形状をした基
板に洗浄や現像、剥離、エッチングなどの各種湿式処理
を施すための湿式処理装置に関するものであり、特に大
型の基板の処理に適した湿式処理装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、ＦＰＤ（フラットパネルディスプ
レイ）に使用される液晶用ガラス基板やプラズマディス
プレイ用ガラス基板のような方形の基板に洗浄や乾燥等
の各種処理を施す装置として、例えば、特開平５−３６
６５９号公報や特開２００１−２１３５１７号公報等に
開示されたものが公知である。これらは、上記基板を搬
送機構によって一枚ずつ縦向き姿勢で搬送しながら、ブ
ラシによる表裏両面の洗浄と乾燥とを行うものである。
これらの処理装置のように、基板を縦向き姿勢即ち垂直
に向けて搬送する方式は、横向き姿勢即ち水平に向けて
搬送する方式に比べ、装置の横幅を小さくすることがで
きるため、小型化を図るうえで非常に有効であるが、何
れも基板の搬送方式に難点があった。

【０００３】即ち、前者の処理装置における搬送機構
は、基板の下端部を一定間隔で配置した複数の搬送ロー
ラーに支持させると共に、基板の上端部はコ字形をした
ガイド溝内に嵌合させ、上記搬送ローラーを駆動回転さ
せることによって上記基板をガイド溝に沿って搬送する
ようにしたもので、そのとき、上記ガイド溝内において
は、両溝壁から流体を噴出することによって基板が溝壁
に非接触の状態に支持されるようになっている。また、
後者の処理装置では、基板の下端部をベルトコンベア上
に載置した状態で搬送するように構成されている。この
ように上記各搬送機構は、基板を搬送ローラーやベルト
コンベアで単に下から支持させた状態で搬送するように
しているため、基板を回転するロールブラシで洗浄する
とき、該ロールブラシとの摩擦力が抵抗となって基板が
送られない場合があるとか、ノズルから噴射される処理
液の水圧で基板がずれ動いたり脱落したりするおそれが
ある等の問題点がある。また、上記基板を処理液中に全
浸漬させた場合に、浮力の作用や液流の作用等によって
該基板が遊動し易いため、このような浸漬洗浄は行うこ
とができない。基板の上下両端部を両側から挟持した状
態で搬送するようにすればこのような問題点は解決され
るが、挟持位置がデッドスペースとなってその部分に洗
浄や乾燥等の処理が施されにくいとか、基板の寸法が異
なる場合に対応できないといったような問題が生じる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の技術的課題
は、基板を上下両側から挟持した状態で確実に搬送しな
がら処理液による洗浄や乾燥等の各種湿式処理を施すこ
とができると共に、寸法の異なる基板の処理にも共通に
使用することができる、機能的な搬送機構を有する基板
の湿式処理装置を提供することにある。

【０００５】本発明の他の従属的な技術的課題は、上述
した搬送機構を用いることによって浸漬処理を可能とし
た基板の湿式処理装置を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明によれば、方形の基板を一枚ずつ縦向きに支持し
て搬送するローラー式の搬送機構と、該搬送機構で搬送
される基板に処理液による湿式処理を施すための湿式処
理部とを含み、上記搬送機構が、基板の下端部を下から
支持する複数の下部サポートローラーと、基板の上端部
を上から支持する複数の上部サポートローラーとで構成
されていて、上記下部サポートローラーは、基板の搬送
方向に一定間隔を保って回転自在なるように配設される
と共に、各サポートローラーが駆動回転用のモーターに
連結され、一方の上部サポートローラーは、基板の搬送
方向に一定間隔を保って回転自在なるように配設される
と共に、高さ調節機構によって下部サポートローラーと
の間隔を調節自在に支持されていることを特徴とする方
形基板の湿式処理装置が提供される。

【０００７】上記構成を有する処理装置は、基板を上部
サポートローラーと下部サポートローラーとで上下両側
から挟持した状態のまま搬送しながら湿式処理を施すよ
うにしているため、該基板が常に確実かつ安定的に支持
された状態にあり、湿式処理中に位置ずれしたり脱落す
るようなことがない。例えば、ノズルから処理液を噴射
しながら回転するブラシで洗浄処理等を行う場合でも、
該ブラシとの摩擦力が抵抗となって基板が送られないと
か、ノズルから噴射される処理液の水圧で基板がずれ動
いたり脱落したりするといったような問題が確実に回避
される。また、上記基板を処理液中に浸漬させても、該
基板が浮力の作用や液流の作用等によって遊動すること
がないため、該基板に処理液による浸漬処理を施すこと
が可能になる。更に、上部サポートローラーが高さ調節
自在となっているため、下部サポートローラーとの間隔
を調節することにより、寸法の異なる基板の処理に共通
に使用することができる。

【０００８】本発明の具体的な実施形態によれば、上記
高さ調節機構が、上部サポートローラーを支持する上下
動自在の支持部材と、該支持部材の複数箇所に取り付け
られたナット部材と、処理装置の機体に回転自在に支持
されて上記各ナット部材が上下動自在に螺合する複数の
ねじ杆と、これらのねじ杆を一斉に回転させる共通の駆
動機構とを有している。高さ調節機構をこのように構成
することにより、各上部サポートローラーを一つの駆動
機構によって一斉にしかも確実に上下動させてその高さ
を調整することができる。

【０００９】本発明の他の具体的な実施形態によれば、
上記湿式処理部が、ノズルから洗浄液を噴射しながら基
板の両面を一対以上のブラシで洗浄するスクラブ洗浄部
と、内部に上記基板が全浸漬する深さの洗浄液が収容さ
れ、側壁には上記基板が通過するスリットを有する洗浄
槽、及び上記洗浄液中に超音波を照射するための超音波
手段を有する浸漬洗浄部と、基板の両面を一対以上のエ
アーナイフからエアを噴射することにより乾燥させる乾
燥部とを含んでいる。この場合に、上記湿式処理部に、
上記浸漬洗浄部の他に更に、あるいはこの浸漬洗浄部に
代えて、複数のノズルから基板の両面に洗浄液を噴射す
ることによって該基板の両面を洗浄するシャワー洗浄部
を組み込むことができる。

【００１０】本発明において好ましくは、上記湿式処理
部に設けられた全ての上部サポートローラーを一つの共
通の支持部材に取り付けて、基板寸法に応じて一斉に高
さ調節可能なるように構成することがである。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る方形基板の湿
式処理装置の好ましい実施形態を図面を参照しながら詳
細に説明する。図１に概略的に示すようにこの処理装置
は、ＦＰＤに使用される液晶用ガラス基板やプラズマデ
ィスプレイ用ガラス基板のような方形の基板Ｗを、一枚
ずつ縦向きに支持して搬送するローラー式の搬送機構１
と、この搬送機構１で搬送される基板Ｗに処理液による
湿式処理を施すための湿式処理部２と、未処理の基板Ｗ
を上記搬送機構１に一枚ずつ供給するローディング３部
と、処理済の基板Ｗを上記搬送機構１から受け取って次
工程に送るアンローディング部４とを有している。

【００１２】上記湿式処理部２は、ノズル６から洗浄液
を噴射しながら基板Ｗの両面をロールブラシ７ａ，７ｂ
で洗浄するスクラブ洗浄部２Ａと、上記基板Ｗを洗浄液
８中に全浸漬させて超音波により洗浄する浸漬洗浄部２
Ｂと、上記基板Ｗの両面をエアーナイフ９ａ，９ｂから
のエアの噴射により乾燥させる乾燥部２Ｃとを含んでい
る。

【００１３】このうちスクラブ洗浄部２Ａは、図２及び
図３からも分かるように、基板Ｗの搬送経路に沿って位
置する前後の槽璧１２，１３に該基板Ｗが通過するスリ
ット１４が縦向きに形成された方形の洗浄槽１１と、こ
の洗浄槽１１の内部に縦向き即ち鉛直軸線の回りに回転
自在なるように配設された相対する二対の上記ロールブ
ラシ７ａ，７ｂと、上記基板Ｗに向けて洗浄液を噴射す
るための複数の上記ノズル６とを有している。

【００１４】上記ロールブラシ７ａ，７ｂは、円柱状を
した芯材の回りに合成樹脂発泡体からなるスポンジ体を
被着して形成したもので、相対する一方のロールブラシ
７ａと他方のロールブラシ７ｂとが個別のフレーム１５
ａと１５ｂとに支持されていて、左右の槽壁１１ａ，１
１ｂの外面にそれぞれ取り付けられたモーター１６によ
り、フレーム１５ａ，１５ｂ内部の伝動機構を介して、
基板Ｗの進行方向とは逆向きに個別に駆動回転されなが
ら基板Ｗに接触するようになっている。また、上記ロー
ルブラシ７ａ，７ｂは、基板Ｗに対する接触圧を変えら
れるように、エアシリンダ等の推進手段１７で互いに接
近及び離反する方向に変移自在となっている。一方、上
記ノズル６は、給液源５に接続されていて、上記ロール
ブラシ７ａ，７ｂと基板との摺接部分に向けて洗浄液を
噴射するものであるが、その設置数や設置場所等は図示
のものに限定されない。

【００１５】なお、図示した実施例では上記ロールブラ
シ７ａ，７ｂが鉛直に配設されているが、これらのロー
ルブラシ７ａ，７ｂは、基板Ｗの搬送方向前方側又は後
方側に向けて若干傾斜させて設置しても良い。また、ロ
ールブラシ７ａ，７ｂの設置数は二対に限らず、一対で
あっても、あるいは三対以上であっても良い。

【００１６】上記浸漬洗浄部２Ｂは、図１及び図４から
分かるように、上記基板Ｗが全浸漬する深さの洗浄液８
を収容するための方形の内槽２０と、この内槽２０の前
後両側に隣接して形成された回収槽２１ａ，２１ｂとか
らなる方形の洗浄槽１９を有している。この洗浄槽１９
は、上記スクラブ洗浄部２Ａと隣接する側ではこのスク
ラブ洗浄部２Ａの洗浄槽１１と槽璧１３を共有し、上記
乾燥部２Ｃと隣接する側ではこの乾燥部２Ｃの乾燥槽２
４と槽璧２２を共有していて、これらの共有された各槽
壁１３，２２と上記内槽２０の前後の槽璧２０ａ，２０
ｂには、上記基板Ｗが通過するスリット２３がそれぞれ
形成されている。しかし、上記各洗浄槽１１，１９及び
乾燥槽２４は、槽壁を共有させて一体に形成することな
く、互いに独立に形成しても良い。

【００１７】上記内槽２０と各回収槽２１ａ，２１ｂと
の間には、洗浄液８の供給機構２６が接続されている。
この供給機構２６は、回収槽２１ａ，２１ｂで回収した
洗浄液を収容して浄化する機能を持つタンク２７と、こ
のタンク２７内の浄化された洗浄液を内槽２０に供給す
るポンプ２８と、洗浄液中の異物を濾過により除去する
フィルター２９とからなるもので、この供給機構２６に
より洗浄液を循環的に再使用するように構成されてい
る。なお、上記供給機構２６により内槽２０内に供給さ
れる洗浄液８の流量は、上記槽璧２０ａ，２０ｂのスリ
ット２３から流出する流量より若干多目に設定されてお
り、従って洗浄８液は、スリット２３から流出すると同
時に、一部が槽璧２０ａ，２０ｂをオーバーフローして
回収槽２１ａ，２１ｂ内に流出する。

【００１８】上記洗浄槽１９の左右の槽璧１９ａの外面
には、超音波手段３１がそれぞれ取り付けられ、これら
の超音波手段３１から洗浄液８中に超音波が照射される
ようになっている。なお、この超音波手段３１は、槽底
に設けても良い。

【００１９】上記乾燥部２Ｃは、前後の槽璧２２，３２
に基板Ｗが通過するスリット２３が形成された上記乾燥
槽２４と、この乾燥槽２４の内部に前後二段に配設され
た二対の上記エアーナイフ９ａ，９ｂとを有している。
これらのエアーナイフ９ａ，９ｂは、スリット状の噴射
孔から基板Ｗに向けてエアを線状に噴射することによっ
て該基板Ｗに付着している液を剥離して乾燥させるもの
で、圧縮空気源３４に接続されている。なお、このエア
ーナイフ自体の構成はすでに公知であるから、これ以上
の具体的な説明は省略する。また、図示したように上記
エアーナイフ９ａ，９ｂは、基板Ｗの搬送方向後方側に
向けて若干傾斜させて設置することが望ましく、これに
より、付着した液が基板Ｗの上部側から下方に向けて次
第に剥離され、流下していくため、液の排出が円滑に行
われ、効率的である。なお、上記エアーナイフ９ａ，９
ｂの設置数は二対に限らず、一対であっても、あるいは
三対以上であっても良い。

【００２０】また、上記搬送機構１は、基板Ｗの下端部
を下から支持する複数の下部サポートローラー３６と、
基板Ｗの上端部を上から支持する複数の上部サポートロ
ーラー３７とで構成されていて、これらのサポートロー
ラー３６，３７で基板Ｗを上下両側から挟持した状態で
搬送するようになっている。これらの各サポートローラ
ー３６，３７は、Ｖ字形の支持溝３８を円周方向に備え
ていて、この支持溝３８内に基板Ｗの端部を嵌合させた
状態で支持するものである。図示の例では、各サポート
ローラー３６，３７が、全体として中央部がくびれた鼓
形に形成されることにより、その中央部に実質的に上記
支持溝３８を備えているが、各サポートローラー３６，
３７を短円柱上に形成して、その中央部に上記支持溝３
８を形成しても良い。

【００２１】上記上下のサポートローラーのうち下部サ
ポートローラー３６は、上記湿式処理部２即ちスクラブ
洗浄部２Ａと浸漬洗浄部２Ｂと乾燥部２Ｃとにおける各
洗浄槽１１，１９及び乾燥槽２４の下部位置に、基板Ｗ
の搬送方向に一定間隔を保って支軸３９により回転自在
なるように設置され、槽外に設けられたシャフト４０ａ
と歯車４０ｂとからなる伝動機構４０を介して駆動回転
用のモーター４１に連結され、その回転によって基板Ｗ
を下部位置で駆動するようになっている。

【００２２】一方の上部サポートローラー３７は、上記
スクラブ洗浄部２Ａと浸漬洗浄部２Ｂと乾燥部２Ｃとに
おける各洗浄槽１１，１９及び乾燥槽２４の上部に上下
動自在になるように配設された支持部材４３に、それぞ
れ支軸４４で回転自在に支持されることにより、湿式処
理部２の全体にわたり基板Ｗの搬送方向に一定間隔を保
って配置され、高さ調節機構４５によってその高さを一
斉に調節できるようになっている。上記支持部材４３
は、図１に示すように、上記各洗浄槽１１，１９及び乾
燥槽２４を跨ぐように配設されていて、この一つの共通
の支持部材４３に全ての上部サポートローラー３７が支
持されている。

【００２３】上記高さ調節機構４５は、上記支持部材４
３と、この支持部材４３の上面の複数箇所に取り付けら
れたナット部材４６と、処理装置の機体５に軸受部材４
７により鉛直軸の回りに回転自在に支持されて上記各ナ
ット部材４６が上下動自在に螺合する複数のねじ杆４８
と、これらのねじ杆４８を一斉に回転させる共通の駆動
機構４９とで構成されている。この駆動機構４９は、モ
ーター５１と、このモーター５１にエンコーダー５２を
介して接続されたシャフト５３と、このシャフト５３と
上記各ねじ杆４８とにそれぞれ取り付けられて相互に噛
合する傘歯車５４ａ，５４ｂとからなっている。そし
て、上記モーター５１でシャフト５３が正逆に駆動回転
されると、傘歯車５４ａ，５４ｂを介して各ねじ杆４８
が回転し、このねじ杆４８に沿ってナット部材４６が上
下動するため、上記支持部材４３が上下動して各上部サ
ポートローラー３７の高さが一斉に調整される。このと
き、上記シャフト５３の回転数がエンコーダー５２によ
り計測され、その計測信号から上部サポートローラー３
７の高さが検出されることによって、下部サポートロー
ラー３６との間隔が正確にコントロールされるようにな
っている。なお、上記モーター５１として、サーボモー
ターあるいはステッピングモーターを使用することもで
き、この場合には、モーター自身がシャフトの回転数を
検出する機能を持っているため、エンコーダー５２を設
ける必要がない。

【００２４】このような構成を有する高さ調節機構４５
は、全ての上部サポートローラー３７を一つの駆動機構
４９によって一斉にしかも確実に上下動させてその高さ
を調整することができるため、操作が簡単で、個別に調
整する場合よりは精度の良い高さ調整を行うことができ
る。

【００２５】上記構成を有する処理装置において、上記
ローディング部３から未処理基板Ｗが搬送機構１におけ
る上下のサポートローラー３６，３７の間に供給される
と、この基板Ｗは、上下のサポートローラー３６，３７
により両側からしっかりと安定的に挟持された状態のま
ま、下部サポートローラー３６の回転により搬送され
る。そして、スリット１４を通じてスクラブ洗浄部２Ａ
に送られ、このスクラブ洗浄部２Ａにおいて、ノズル６
からの洗浄液の噴射を受けながらその両面がロールブラ
シ７ａ，７ｂによってスクラブ洗浄される。このとき洗
浄槽１１内に流下した洗浄液は、図示しない排出口を通
じてタンクに回収されるが、浄化後にそれを再使用する
こともできる。また、上記基板Ｗは上下のサポートロー
ラー３６，３７で両側からしっかりと挟持されているた
め、該基板Ｗにロールブラシ７ａ，７ｂによる摩擦力
や、ノズル６からの洗浄液の噴射圧力等が作用しても、
その位置に停止したまま送られないとか、ずれ動いたり
脱落したりするといったようなことがない。

【００２６】上記スクラブ洗浄部２Ａにおいてスクラブ
洗浄された基板Ｗは、スリット１４を通じて浸漬洗浄部
２Ｂの洗浄槽内に送られ、内槽２０内に収容された洗浄
液８中を通過する間に、超音波手段３１から超音波の照
射を受けて浸漬洗浄される。このとき内槽２０内には、
上記供給機構２６により、槽壁２０ａ，２０ｂのスリッ
ト２３から流出する量より若干多目の量の洗浄液が連続
的に供給される。従って洗浄液８は、スリット２３から
流出すると同時に、一部が槽壁２０ａ，２０ｂをオーバ
ーフローして回収槽２１ａ，２１ｂ内に流出しており、
このため、基板Ｗから剥離した汚れは、洗浄液の流れに
よって速やかに槽外に排出され、基板Ｗに再付着するこ
とがない。また、該基板Ｗが洗浄液８中に全浸漬されて
も、該基板Ｗは上下のサポートローラー３６，３７で両
側からしっかりと挟持されているため、浮力の作用や液
流の作用等によって洗浄液中を遊動することがない。

【００２７】上記浸漬洗浄部２Ｂで浸漬洗浄された基板
Ｗは、乾燥部２Ｃに送られ、エアーナイフ９ａ，９ｂか
ら線状に噴射されるエアにより付着している液が剥離さ
れ、乾燥させられる。そした、乾燥された基板Ｗは、ス
リット２３を通じてアンローディング部４に送り出され
たあと、次工程に送られる。

【００２８】寸法の異なる基板Ｗを処理する場合には、
上記スクラブ洗浄部２Ａと浸漬洗浄部２Ｂと乾燥部２Ｃ
とにおける各支持部材４３の高さを高さ調節手段４５で
調節することにより、上下のサポートローラー３６，３
７の間隔をその基板Ｗの寸法に合わせれば良い。

【００２９】なお、図示の実施例では、上部サポートロ
ーラー３７を支持する支持部材４３が、上記スクラブ洗
浄部２Ａと浸漬洗浄部２Ｂと乾燥部２Ｃとにおける各洗
浄槽１１，１９と乾燥槽２４とを跨ぐように一つだけ設
けられていて、この共通の支持部材４３に全ての上部サ
ポートローラー３７が取り付けられているが、上記支持
部材４３は、各洗浄槽１１，１９及び乾燥槽２４毎に個
別に設け、各支持部材４３にそれぞれの槽に対応する上
部サポートローラー３７を支持させて、これらの支持部
材４３を共通の高さ調節手段４５か、又は個別に設けた
高さ調節手段４５で上下動させるように構成することも
できる。

【００３０】また、上記スクラブ洗浄部２Ａにおける洗
浄槽１１の左右の槽壁１１ａ，１１ａは一体に形成され
ていて、開閉することができないが、下部サポートロー
ラー３６と伝動機構４０とが取り付けられている槽璧下
端部を除き、ロールブラシ７ａ，７ｂを支持するフレー
ム１５ａ，１５ｂと駆動用のモーター１６及び推進手段
１７が取り付けられている槽璧部分を、扉として開閉自
在なるように形成することもでき、これにより、ロール
ブラシ７ａ，７ｂの交換など内部の点検を簡単に行うこ
とができる。

【００３１】さらに、上記実施例においては、スクラブ
洗浄部２Ａのロールブラシ７ａ，７ｂが、スポンジ体に
より形成されているが、芯材の回りに合成繊維を円柱状
に植設して形成した繊維製のブラシであっても良い。あ
るいは、このような円柱状のロールブラシ７ａ，７ｂに
代えて、円盤型をしたディスクブラシを使用することも
できる。

【００３２】また、図示した実施例は、湿式処理部２
が、基板Ｗをロールブラシ７ａ，７ｂで洗浄するスクラ
ブ洗浄部２Ａと、基板Ｗを洗浄液８中に全浸漬させて超
音波により洗浄する浸漬洗浄部２Ｂと、上記基板Ｗの両
面をエアーナイフ９ａ，９ｂからのエアの噴射により乾
燥させる乾燥部２Ｃとで構成されているが、湿式処理部
２の構成はこのようなものに限定されない。例えば、図
５に示すようなシャワー洗浄部２Ｄを、上記浸漬洗浄部
２Ｂの他にその前段又は後段に組み込んだり、あるいは
該浸漬洗浄部２Ｂに代えて組み込むこともできる。

【００３３】上記シャワー洗浄部２Ｄは、上記浸漬洗浄
部２Ｂの洗浄槽１９と同様の構成を持った洗浄槽６０に
おける内槽２０の内部に、複数のシャワーノズル６２を
基板Ｗの両側の相対する位置に上下方向に所要の間隔を
保って配設し、給液管６３によりバルブ６４を通じて図
示しない給液源に接続したもので、これらのノズル６２
から基板Ｗの表裏面全体に洗浄液６６を万遍なく噴射、
供給できるようになっている。図中６５は流量計又は圧
力計等の計器を示している。

【００３４】また、このシャワー洗浄部２Ｄにおける内
槽２０の内部には、上記ノズル６２から供給される洗浄
液６６中に超音波を照射するための超音波装置を設置し
ても良く、これによって超音波シャワー洗浄を行うこと
ができる。なお、このシャワー洗浄部２Ｄにおける上記
以外の構成は、殆どが浸漬洗浄部２Ｂと重複しているた
め、主要な重複部分に浸漬洗浄部２Ｂと同じ符号を付し
てその説明は省略する。

【００３５】上記湿式処理部２は、上述したように洗浄
液を使用して基板を洗浄するものに限らず、化学薬液か
らなる処理液をノズルから基板に噴射したり、処理槽内
の化学薬液中に基板を浸漬するなどの方法により、該基
板に現像や剥離あるいはエッチングなどの各種湿式処理
を施すものであっても良い。

【００３６】

【発明の効果】このように本発明の湿式処理装置は、基
板を上部サポートローラーと下部サポートローラーとで
上下両側から挟持した状態のまま搬送しながら湿式処理
を施すようにしているため、該基板が常に確実かつ安定
的に支持された状態にあり、湿式処理中に位置ずれした
り脱落するようなことがない。例えば、ノズルから処理
液を噴射しながら回転するブラシで洗浄処理等を行う場
合でも、該ブラシとの摩擦力が抵抗となって基板が送ら
れないとか、ノズルから噴射される処理液の水圧で基板
がずれ動いたり脱落したりするといったような問題が確
実に回避される。また、上記基板を処理液中に浸漬させ
ても、該基板が浮力の作用や液流の作用等によって遊動
することがないため、該基板に処理液による浸漬処理を
施すことが可能になる。更に、上部サポートローラーが
高さ調節自在となっているため、下部サポートローラー
との間隔を調節することにより、寸法の異なる基板の処
理に共通に使用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る処理装置の一実施形態を簡略的に
示す断面図である。

【図２】図１の要部拡大図である。

【図３】図２におけるＡ−Ａ線での断面図である。

【図４】図１におけるＢ−Ｂ線での断面図でである。

【図５】シャワー洗浄部の構成を示す図４と同様位置で
の断面図である。

【符号の説明】

Ｗ 基板 １ 搬送機構 ２ 湿式処理部 ２Ａ スクラブ洗浄部 ２Ｂ 浸漬洗浄部 ２Ｃ 乾燥部 ２Ｄ シャワー洗浄部 ６ ノズル ７ａ，７ｂ ブラシ ８ 洗浄液 ９ａ，９ｂ エアーナイフ １１ 洗浄槽 １２，１３，２０ａ，２０ｂ，２２ 槽壁 １４，２３ スリット ３１ 超音波手段 ３６ 下部サポートローラー ３７ 上部サポートローラー ４１ モーター ４３ 支持部材 ４５ 高さ調節機構 ４６ ナット部材 ４８ ねじ杆 ４９ 駆動機構 ６２ ノズル ６６ 洗浄液

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０８Ｂ 7/04 Ｂ０８Ｂ 7/04 Ａ Ｂ６５Ｇ 49/06 Ｂ６５Ｇ 49/06 Ｚ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４４ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４４Ｅ ６４８ ６４８Ａ ６５１ ６５１Ｌ 21/68 21/68 Ａ Ｆターム(参考） 3B116 AA02 AB16 BA02 BA15 BB03 BB23 BB85 CC03 3B201 AA02 AB16 BA02 BA15 BB04 BB23 BB85 CC12 5F031 CA05 FA02 FA07 GA53 HA71 MA23 PA02 PA05 PA08 PA16

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】方形の基板を一枚ずつ縦向きに支持して搬
   送するローラー式の搬送機構と、該搬送機構で搬送され
   る基板に処理液による湿式処理を施すための湿式処理部
   とを含み、 上記搬送機構が、基板の下端部を下から支持する複数の
   下部サポートローラーと、基板の上端部を上から支持す
   る複数の上部サポートローラーとで構成されていて、上
   記下部サポートローラーは、基板の搬送方向に一定間隔
   を保って回転自在なるように配設されると共に、各サポ
   ートローラーが駆動回転用のモーターに連結され、一方
   の上部サポートローラーは、基板の搬送方向に一定間隔
   を保って回転自在なるように配設されると共に、高さ調
   節機構によって下部サポートローラーとの間隔を調節自
   在に支持されている、ことを特徴とする方形基板の湿式
   処理装置。
2. 【請求項２】上記高さ調節機構が、上部サポートローラ
   ーを支持する上下動自在の支持部材と、該支持部材の複
   数箇所に取り付けられたナット部材と、処理装置の機体
   に回転自在に支持されて上記各ナット部材が上下動自在
   に螺合する複数のねじ杆と、これらのねじ杆を一斉に回
   転させる共通の駆動機構とを有することを特徴とする請
   求項１に記載の湿式処理装置。
3. 【請求項３】上記湿式処理部が、ノズルから洗浄液を噴
   射しながら基板の両面を一対以上のブラシで洗浄するス
   クラブ洗浄部と、内部に上記基板が全浸漬する深さの洗
   浄液が収容され、側壁には上記基板が通過するスリット
   を有する洗浄槽、及び上記洗浄液中に超音波を照射する
   ための超音波手段を有する浸漬洗浄部と、基板の両面を
   一対以上のエアーナイフからエアを噴射することにより
   乾燥させる乾燥部とを含んでいることを特徴とする請求
   項１又は２に記載の湿式処理装置。
4. 【請求項４】上記湿式処理部が、上記浸漬洗浄部の他に
   更に、あるいはこの浸漬洗浄部に代えて、複数のノズル
   から基板の両面に洗浄液を噴射することによって該基板
   の両面を洗浄するシャワー洗浄部を有することを特徴と
   する請求項３に記載の湿式処理装置。
5. 【請求項５】上記湿式処理部に設けられた全ての上部サ
   ポートローラーが一つの共通の支持部材に取り付けられ
   ていて、基板寸法に応じて一斉に高さ調節可能であるこ
   とを特徴とする請求項２に従属する請求項３又は４に記
   載の湿式処理装置。