JP2021065884A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基板に対する液処理効果が高く、かつ、基板の裏面に傷を発生させ難い基板処理装置を提供する。【解決手段】基板１００を搬送する搬送装置５０Ａは、基板１００の下方において、軸方向に延びるとともに駆動装置により回転駆動される回転軸５１と、回転軸５１に軸支された複数の搬送ローラ５３と、を備えており、複数の搬送ローラ５３には、軸方向について一端側と他端側とに配される一対の第１ローラ６１と、軸方向について第１ローラ６１に対して中央側に配されていて且つ第１ローラ６１よりも径大とされる第２ローラ６２と、が少なくとも含まれており、第１ローラ６１は、回転軸５１の回転駆動とともに回転軸５１と一体に回転するのに対し、第２ローラ６２は、回転軸５１とは別個に回転する。【選択図】図２

Description

本発明は、基板に対して処理液を供給して液処理する基板処理装置に関する。

従来、例えば液晶表示装置の主要構成部品である液晶パネルの製造においては、基板の表面に付着した異物を除去するべく、基板の表面を純水等の洗浄液により洗浄している。このように基板を洗浄する基板洗浄機は複数の処理槽を備えており、基板は、主洗浄面（上面）とは反対側の板面（下面）が搬送装置の搬送ローラによって断続的に支持されながら、洗浄機内を搬送方向に沿って搬送されつつ洗浄されるようになっている。このような搬送ローラは、基板の搬送方向と直交する方向に延びる回転軸に軸支されており、回転軸に連結された駆動モータの駆動により、回転軸の回転駆動と共に回転して基板を搬送方向に送り出すようになっている。

ところで最近では、基板のサイズの大型化、また、板厚の薄型化がますます進んでいる。そしてこれに伴い、基板のうち搬送ローラで支持されていない領域の撓みが大きくなり、撓んだ部分で洗浄液の液だまりが発生するという問題がある。このような液だまりは緩衝材のような役割を果たし、ノズル等から噴出される洗浄液の基板に対する打撃力の低下を引き起こすため、基板の洗浄処理が十分に行われなくなる虞がある。

そこで、基板の撓みによる洗浄液の液だまりを回避するべく、基板の中央側が比較的に高い位置となる弓形となるように反った状態で基板を搬送することが提案されている。具体的には、基板を支持する搬送ローラの径を、基板の搬送方向と直交する方向において中央側が大きく、端部側が小さい構成とされた洗浄機が提案されている。このような洗浄機では、基板上に噴出された洗浄液は高さが低い端部側に流れ落ちるため、基板に液だまりが発生することを回避することができる。すなわち、基板の洗浄処理を効果的に行うことができる。

特開２００３−１００５８１号公報

しかし、上述したように、径が異なる複数の搬送ローラを基板の搬送方向と直交する方向において一括に回転駆動させる場合、搬送ローラの径によって、基板の送り出し速度に違いが生じる。このため、基板の搬送速度が安定し難い上、実際の基板の搬送速度と異なる送り出し速度で回転している搬送ローラが基板の裏面で滑り、その結果、基板の裏面に傷がついて液晶パネルの品質の低下を招くという問題があった。このような問題は、搬送速度が速くなるほど顕著である。これは、ローラの回転速度（単位：ｒｐｍ）が速くなるほど、各ローラ間の周速度（単位：ｍｍ／ｓｅｃ）の差が大きくなるからである。

本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、基板に対する液処理効果が高く、かつ、基板の裏面に傷を発生させ難い基板処理装置を提供することを目的とする。

（１）本発明の一実施形態は、基板に対して処理液を供給して液処理する基板処理装置であって、前記基板を搬送方向に搬送する搬送装置を備え、前記搬送装置は、前記基板の下方において、前記基板に沿いかつ前記搬送方向と直交する軸方向に延びるとともに駆動装置により回転駆動される回転軸と、前記回転軸に軸支された複数の搬送ローラと、を備えており、複数の前記搬送ローラには、前記軸方向について一端側と他端側とに配される一対の第１ローラと、前記軸方向について前記第１ローラに対して中央側に配されていて且つ前記第１ローラよりも径大とされる第２ローラと、が少なくとも含まれており、前記第１ローラは、前記回転軸の回転駆動とともに前記回転軸と一体に回転するのに対し、前記第２ローラは、前記回転軸とは別個に回転する基板処理装置である。

（２）また本発明のある実施形態は、上記（１）の構成に加え、前記第２ローラは、前記回転軸に軸支されるとともに前記基板を支持する基板支持ローラと、前記軸方向において前記基板支持ローラの両側において隙間を介して前記回転軸に固定されていて前記基板支持ローラよりも径小の一対の固定部材と、を含み、前記基板支持ローラが前記回転軸に対して回転自在に支持されている基板処理装置である。

（３）また本発明のある実施形態は、上記（１）の構成に加え、前記第２ローラは前記回転軸に対してベアリングを介して軸支されるとともに回転自在に支持されている基板処理装置である。

（４）また本発明のある実施形態は、上記（１）から（３）のいずれかひとつの構成に加え、前記第１ローラのうちの、前記軸方向における前記回転軸の端部側に、前記回転軸の径方向に突出して前記基板の前記軸方向のずれを規制する位置ずれ規制部を有する基板処理装置である。

（５）また本発明のある実施形態は、上記（１）から（４）のいずれかひとつの構成に加え、前記第１ローラに対して前記基板を介して上側に対向状に配されていて前記第１ローラとの間で前記基板を挟み込む押さえローラを備える基板処理装置である。

本発明によれば、基板に対する液処理効果が高く、かつ、基板の裏面に傷を発生させ難い基板処理装置が得られる。

実施形態１の基板処理装置の模式図 洗浄槽における搬送装置の正面図 洗浄槽における搬送装置の要部拡大正面図 洗浄槽以外の搬送装置の正面図 洗浄槽以外の搬送装置の要部拡大正面図 比較例１の搬送装置の正面図 比較例２の搬送装置の正面図 比較例３の搬送装置の正面図 検証結果を示す表 他の実施形態（４）の搬送装置の正面図 他の実施形態（８）の回転軸を示す断面図

実施形態１を、図１から図５によって説明する。基板処理装置１は、例えばポリイミド膜がラビング法により配向処理され、表面に微細な粉塵や削りカス等の異物が付着した状態の液晶パネル用基板１００の異物を洗浄処理するために使用されるものである。本実施形態おいて液晶パネル用基板１００は、まず前処理材が被膜され、その後前処理材を純水置換してから、純水洗浄を行うようになっている。基板処理装置１は、図１に示すように、複数の処理槽を備えている。

なお、以下の説明においては、図１のＸ軸方向を液晶パネル用基板１００の搬送方向（前後方向）とし、紙面に直交するＹ軸方向を回転軸５１の軸方向とし、Ｚ軸方向を上下方向とする。また、図１の左側を搬送方向の上流側とし、図１の右側を搬送方向の下流側とする。この基板処理装置１において、液晶パネル用基板１００は、主処理面が上側に向けられた略水平な状態で搬送方向の上流側に搬入され、その長辺方向がＸ軸方向に沿うとともにその短辺方向がＹ軸方向に沿った姿勢で、搬送装置５０によって搬送方向の上流側から下流側へと搬送される。

基板処理装置１は、図１に示すように４つの処理槽を備えており、これらの槽は上流側（左側）から順に、被膜処理槽１０、置換槽２０、洗浄槽３０、乾燥槽４０とされている。基板処理装置１は搬送装置５０を備えており、この搬送装置５０には、液晶パネル用基板１００を搬送方向（Ｘ軸方向）に沿って搬送する複数の搬送ローラ５３が設けられている。液晶パネル用基板１００は、前処理材の薄膜の形成予定面（上面）とは反対側の板面（下面）が搬送装置５０の搬送ローラ５３によって断続的に支持されながら、搬送装置５０により各槽内を搬送方向に沿って順に搬送されるとともに、各槽内において処理される。

被膜処理槽１０は、水洗前の乾いた状態の液晶パネル用基板１００に、前処理材としてのイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の薄膜を被膜させるための槽である。被膜処理槽１０のうち、搬入された液晶パネル用基板１００の上方には、搬送方向における上流側にカーテンシャワー１１が設けられると共に、下流側にパイプシャワー１２が設けられており、これらのカーテンシャワー１１およびパイプシャワー１２により、液晶パネル用基板１００の表面にＩＰＡを洗浄ムラがない均一な状態で供給するようになっている。また、被膜処理槽１０の出口付近にはエアナイフ１３が設けられており、このエアナイフ１３により過剰なＩＰＡが除去され、上面（配向処理面）全体がＩＰＡの薄膜で被覆された状態の液晶パネル用基板１００が、被膜処理槽１０から置換槽２０に搬送されるようになっている。

置換槽２０のうち、搬送装置５０によって搬入された液晶パネル用基板１００の上方には、搬送方向における上流側に被膜処理槽１０と同様にカーテンシャワー２１が設けられるとともに、下流側には、複数のノズルからなるノズルシャワー２２が設けられている。これらのカーテンシャワー２１およびノズルシャワー２２からは、液晶パネル用基板１００上に、置換用の純水が吐出されるようになっている。液晶パネル用基板１００の表面に供給された純水は、ＩＰＡと置き換わり、液晶パネル用基板１００の表面は純水で隙間なく覆われた状態とされる。

置換槽２０において表面が純水置換された液晶パネル用基板１００は、搬送装置５０により洗浄槽３０内に搬送される。洗浄槽３０のうち、搬入された液晶パネル用基板１００の上方には、置換槽２０と同様に、ノズルシャワー３１が搬送方向（Ｘ軸方向）と直交するように複数列並んで設けられている（本実施形態においては３列）。これらのノズルシャワー３１から噴出される純水により、液晶パネル用基板１００は高圧洗浄され、表面の異物が除去される。

洗浄槽３０の出口付近にはエアナイフ３２が設けられている。エアナイフ３２により液切りされた液晶パネル用基板１００は、搬送装置５０により乾燥槽４０に搬送される。液晶パネル用基板１００は、乾燥槽４０内において、エアナイフ３２の液切りのみでは除去しきれていない吸湿水分が高温乾燥により完全に除去される。そして、高温乾燥後、基板処理装置１から搬出される。

次に、搬送装置５０について説明する。搬送装置５０は、液晶パネル用基板１００の下方において、液晶パネル用基板１００に沿い（Ｘ−Ｙ面）かつ液晶パネル用基板１００の搬送方向（Ｘ軸方向）と直交する方向（Ｙ軸方向）に延びるとともに、駆動装置により回転駆動される回転軸５１と、回転軸５１に軸支された複数の搬送ローラ５３とを備えている。以下、回転軸５１の延び方向（Ｙ軸方向）を、軸方向と称することとする。また、複数の同一部材については、一の部材に符号を付し、他の部材については符号を省略することがある。

図４を参照して説明すると、本実施形態おいて、複数の搬送ローラ５３は、軸方向において５つ設けられている。以下、これらのうち回転軸５１の両端に配された一対の搬送ローラ５３を端部搬送ローラ５３Ａ、中央の搬送ローラ５３を中央搬送ローラ５３Ｃ、端部搬送ローラ５３Ａと中央搬送ローラ５３Ｃとの間に位置する一対の搬送ローラ５３を、中間搬送ローラ５３Ｂと称する。液晶パネル用基板１００は、その搬送方向（Ｘ軸方向）に延びる中心線が中央搬送ローラ５３Ｃと略一致するように搬送装置５０に支持された状態で、搬送方向に搬送される。

複数の搬送ローラ５３のうち一対の端部搬送ローラ５３Ａは、円盤状の径小部５４と、同じく円盤状で径小部５４より径大とされた径大部５６とが、連結部５５を介して軸方向に重畳された略二段形態をなして一体に形成されている。詳細には、径小部５４および径大部５６の互いに対向する面の端縁部同士が、これらの板面の延在方向と交差する交差方向に延びる湾曲状あるいはテーパー付き連結部５５を介して一体に連結された形態をなしている。

一対の端部搬送ローラ５３Ａは、径大部５６が外側（回転軸５１の端部側）となる向きで回転軸５１に対して軸支され、当該径大部５６が回転軸５１に対してねじ止めされることによって固定されている。すなわち、一対の端部搬送ローラ５３Ａは、回転軸５１と一体に回転するようになっている。また、液晶パネル用基板１００は、端部搬送ローラ５３Ａのうち径小部５４の外周面に支持されるようになっている。これにより、搬送装置５０に支持された液晶パネル用基板１００が軸方向（Ｙ軸方向）においてにずれそうになった場合でも、液晶パネル用基板１００の端縁部は、軸方向の外側に突出した連結部５５または径大部５６に突き当たり、軸方向のずれが抑制されるようになっている。つまり径大部５６は、液晶パネル用基板１００の軸方向のずれを規制する位置ずれ規制部としての機能を有している。なお、この端部搬送ローラ５３Ａの搬送ローラ５３としての径は、液晶パネル用基板１００が径小部５４の外周に支持されることから、径小部５４の径を指すものとする。

一方、中央搬送ローラ５３Ｃおよび一対の中間搬送ローラ５３Ｂは、図４および図５に示すように、回転軸５１に軸支されるとともに液晶パネル用基板１００を下方側から支持する円盤状の基板支持ローラ５７と、同じく回転軸５１に軸支されるとともに基板支持ローラ５７を軸方向における両側から挟持する固定部材５８とから構成されている。基板支持ローラ５７は、回転軸５１に対して回転自在（フリーな状態）に軸支されている。固定部材５８は基板支持ローラ５７よりも径小とされており、回転軸５１に軸支されるとともに、回転軸５１に対してねじ止めによって固定されている。つまり、固定部材５８は、回転軸５１の回転駆動とともに回転するようになっている。基板支持ローラ５７は、これら一対の固定部材５８の間に強固に挟持されて固定部材５８と一体とされており、これにより、基板支持ローラ５７は固定部材５８を介して回転軸５１と一体に回転するようになっている。なお、基板支持ローラ５７は、例えば、フッ素樹脂であるＰＴＦＥ製である。また、液晶パネル用基板１００は、基板支持ローラ５７の外周面に支持される。

さて、本実施形態において、搬送装置５０のうち洗浄槽３０の内部に配された部分５０Ａは、他の領域に配された搬送装置５０とは異なった特有の構成を備えている。以下、洗浄槽３０の内部に配された本実施形態の搬送装置５０Ａについて、図２および図３を参照して詳細に説明する。

洗浄槽３０において、搬送方向と直交する軸方向（Ｙ軸方向）に並んだ複数（本実施形態では５つ）の搬送ローラ５３は、それぞれ異なる径を有して回転軸５１に軸支されている。具体的には、中央搬送ローラ５３Ｃ（の液晶パネル用基板１００が支持される支持ローラ５７）が最も径大とされ、端部搬送ローラ５３Ａ（の液晶パネル用基板１００が支持される径小部５４）が最も径小とされ、中間搬送ローラ５３Ｂ（の液晶パネル用基板１００が支持される支持ローラ５７）がその間の径を有するように設定されている。つまり、搬送装置５０Ａによって搬送される液晶パネル用基板１００は、洗浄槽３０内においては、軸方向（Ｙ軸方向）において中央部が上方に膨出する弓形とされた状態で搬送されるようになっている（図２参照）。

これは、液晶パネル用基板１００のサイズの大型化、および、板厚の薄型化に伴い、液晶パネル用基板１００のうち搬送ローラ５３で支持されていない部分の撓みが大きくなり、撓んだ部分で純水の液だまりが発生して液晶パネル用基板１００の洗浄が不充分になる事を防ぐためである。このように、液晶パネル用基板１００を弓形に反らせた状態で洗浄を行うことにより、液晶パネル用基板１００上に噴出された純水（洗浄液の一例）を端部側に流し、液晶パネル用基板１００に液だまりが発生することを回避することができる。すなわち、液晶パネル用基板１００の洗浄効果を高めることができる。

ところで、上述したように、径が異なる複数の搬送ローラ５３を液晶パネル用基板１００の搬送方向（Ｘ軸方向）において一括に回転駆動させる場合、各搬送ローラ５３の径によって、液晶パネル用基板１００の送り出し速度に違いが生じる。このため、実際の液晶パネル用基板１００の搬送速度と異なる送り出し速度で回転している搬送ローラ５３が液晶パネル用基板１００の裏面で滑り、その結果、液晶パネル用基板１００の裏面に傷がついて液晶パネルの品質の低下を招くという問題があった。

そこで本実施形態においては、複数の搬送ローラ５３を、回転軸５１の回転駆動と共に回転軸５１と一体に回転する駆動ローラ６１（第１ローラの一例）と、回転軸５１に対して回転自在な、すなわち、回転軸５１とは別個に回転する非駆動ローラ６２（第２ローラの一例）の２種類に分ける構成とした。

具体的には、本実施形態において駆動ローラ６１は、上述した一対の端部搬送ローラ５３Ａであって、この一対の端部搬送ローラ５３Ａの送り出し速度が液晶パネル用基板１００の搬送速度とされる。

これに対し非駆動ローラ６２は、中央搬送ローラ５３Ｃおよび一対の中間搬送ローラ５３Ｂであって、これらは、回転軸５１に対して回転自在とされており、回転軸５１とは別個に回転するようになっている。具体的には、中央搬送ローラ５３Ｃおよび一対の中間搬送ローラ５３Ｂは、図３に示すように、回転軸５１に対して回転自在に軸支されるとともに液晶パネル用基板１００を下方から支持する円盤状の基板支持ローラ５７と、同じく回転軸５１に軸支されるとともに基板支持ローラ５７の軸方向における両側において基板支持ローラ５７と隙間を介して配される固定部材５８とから構成されている。固定部材５８は、基板支持ローラ５７よりも径小とされており、回転軸５１に軸支されるとともに回転軸５１に対してねじ止めによって固定されている。つまり固定部材５８は、基板支持ローラ５７を回転軸５１に対して回転自在に支持している。このような構成により、中央搬送ローラ５３Ｃおよび一対の中間搬送ローラ５３Ｂは、回転軸５１に対して回転自在な非駆動ローラ６２とされ、回転軸５１とは別個に回転するようになっている。

このような構成により、洗浄槽３０内において液晶パネル用基板１００は、搬送装置５０Ａの駆動ローラ６１（一対の端部搬送ローラ５３Ａ）によって、回転軸５１の回転速度に基づく所定の速度で搬送方向に搬送される。一方、非駆動ローラ６２（中央搬送ローラ５３Ｃおよび一対の中間搬送ローラ５３Ｂ）は、液晶パネル用基板１００を下方から支持しつつ、液晶パネル用基板１００の搬送速度に応じて液晶パネル用基板１００との摩擦により回転するようになっている。つまり、径が異なる個々の搬送ローラ５３は従動回転するようになっており、それぞれが回転軸５１の回転速度に応じた個別の送り出し速度で回転することがないから、搬送された液晶パネル用基板１００の裏面に搬送ローラ５３の送り出し速度が異なることによる滑りが発生することが回避され、傷が付くことが抑制されるという作用効果が得られる。

またこの時、各搬送ローラ５３の基板支持ローラ５７は、一対の固定部材５８によって支持されて軸方向（Ｙ軸方向）のずれが抑制されるようになっているから、液晶パネル用基板１００を安定した状態で搬送することが可能である。

次に、本実施形態の基板処理装置１を用いて液晶パネル用基板１００の洗浄を行った実施例と、従来の基板処理装置により液晶パネル用基板１００の洗浄を行った比較例とを検証する。

＜実験例１＞
洗浄槽３０の搬送装置として、上述した搬送装置５０Ａを使用した基板処理装置１によって液晶パネル用基板１００の洗浄を行った。洗浄後の液晶パネル用基板１００において、表面（主洗浄面）の洗浄性、すなわち、異物除去性と、裏面（搬送装置５０Ａの支持面）の傷を観察した。

＜比較例１＞
図６に示す従来の搬送装置１５０を用いた基板処理装置によって液晶パネル用基板１００の洗浄を行った。この搬送装置１５０の複数の搬送ローラ５３は、全て、回転軸５１の回転駆動とともに回転する同径の駆動ローラ６１とされている。これにより、液晶パネル用基板１００は搬送ローラ５３の支持面以外の領域で下方に向けて撓みが生じ、洗浄槽３０において純水をノズルシャワー３１から噴出した際には、撓み部分に液だまりが発生するようになっている。 洗浄後の液晶パネル用基板１００において、上記実施例１と同様に、表面の洗浄性と、裏面の傷を観察した。

＜比較例２＞
図７に示す従来の搬送装置２５０を用いた基板処理装置によって液晶パネル用基板１００の洗浄を行った。この搬送装置２５０の複数の搬送ローラ５３は、比較例１の搬送ローラ５３のうち中央に配された中央搬送ローラ５３Ｃ（基板支持ローラ５７）及び一対の中間搬送ローラ５３Ｂ（基板支持ローラ５７）が摩耗して径小となった例を示すものである。この例では、搬送される液晶パネル用基板１００の中央部分が下方に凹状に撓む。また、複数の搬送ローラ５３の径に差が生じたことにより、液晶パネル用基板１００の送り出し速度にも差が生じている。洗浄後の液晶パネル用基板１００において、上記実施例１と同様に、表面の洗浄性と、裏面の傷を観察した。

＜比較例３＞
図８に示す従来の搬送装置３５０を用いた基板処理装置によって液晶パネル用基板１００の洗浄を行った。この搬送装置３５０の複数の搬送ローラ５３は、回転軸５１の軸方向（Ｙ軸方向）における中央側ほど径大となるように設定されており、これにより液晶パネル用基板１００は、実施例１と同様に、洗浄槽３０内において中央部が上方に膨出した弓形の状態で搬送される。つまり、洗浄槽３０においてノズルシャワー３１から噴出された純水は、液晶パネル用基板１００の端部側へ流れ落ちるようになっている。

一方、複数の搬送ローラ５３は実施例１とは異なり、全て回転軸５１の回転駆動とともに回転する駆動ローラ６１とされている。つまり、個々の搬送ローラ５３の送り出し速度が異なっており、液晶パネル用基板１００の搬送時には、少なくとも一部の搬送ローラ５３で液晶パネル用基板１００との間に滑りが生じるようになっている。洗浄後の液晶パネル用基板１００において、上記実施例１と同様に、表面の洗浄性と、裏面の傷を観察した。

上記実験例１および比較例１から３の検証結果を図９に示す。図９の表に示すように、複数の搬送ローラ５３を全て同径の駆動ローラ６１とした比較例１では、液晶パネル用基板１００が搬送ローラ５３の支持面以外の領域で下方に向けて撓むことにより部分的に洗浄効果が損なわれ、洗浄性が良くなかった。また、中央搬送ローラ５３Ｃ（基板支持ローラ５７）及び一対の中間搬送ローラ５３Ｂ（基板支持ローラ５７）が摩耗して径小とされた比較例２では、液晶パネル用基板１００の中央が撓むことにより全体の洗浄性が損なわれた上に、複数の搬送ローラ５３の径に差が生じたために液晶パネル用基板１００の送り出し速度にも差が生じ、液晶パネル用基板１００の裏面において搬送ローラ５３が滑って傷が発生した。

さらに、回転軸５１の軸方向における中央側が径大とされた比較例３においては、液晶パネル用基板１００は中央部が上方に膨出した弓形の状態で搬送されるため、純水が液晶パネル用基板１００の端部側へ流れ落ち、洗浄性に優れていた。その一方、個々の搬送ローラ５３の径が異なることにより各搬送ローラ５３における液晶パネル用基板１００の送り出し速度が異なり、液晶パネル用基板１００の実際の搬送速度と異なる送り出し速度で回転している搬送ローラ５３と液晶パネル用基板１００との間に滑りが生じて、裏面傷の発生につながった。

これに対し、洗浄槽３０において本実施形態の搬送装置５０Ａを使用した実施例１では、液晶パネル用基板１００は中央部が上方に膨出した弓形の状態で搬送されるため、洗浄性に優れる上、搬送ローラ５３は、回転軸５１による回転駆動により液晶パネル用基板１００を搬送方向に送り出す駆動ローラ６１と、液晶パネル用基板１００の搬送速度に合わせて液晶パネル用基板１００との摩擦によって従動回転しつつ、液晶パネル用基板１００を下方から支持する非駆動ローラ６２とに分かれているから、液晶パネル用基板１００の裏面と搬送ローラ５３との間の滑りが抑制され、液晶パネル用基板１００の裏面に傷が発生することを回避できた。

本実施形態の基板処理装置１は、液晶パネル用基板１００に対して純水（処理液）を供給して洗浄（液処理）する基板処理装置１であって、液晶パネル用基板１００を搬送方向に搬送する搬送装置５０Ａを備え、搬送装置５０Ａは、液晶パネル用基板１００の下方において、液晶パネル用基板１００に沿いかつ搬送方向（Ｘ軸方向）と直交（交差）する軸方向（Ｙ軸方向）に延びるとともに駆動装置により回転駆動される回転軸５１と、回転軸５１に軸支された複数の搬送ローラ５３と、を備えており、複数の搬送ローラ５３には、軸方向について一端側と他端側とに配される一対の駆動ローラ（第１ローラ）６１と、軸方向について駆動ローラ６１に対して中央側に配されていて且つ駆動ローラ６１よりも径大とされる非駆動ローラ（第２ローラ）６２と、が少なくとも含まれており、駆動ローラ６１は、回転軸５１の回転駆動とともに回転軸と一体に回転するのに対し、非駆動ローラ６２は、回転軸５１とは別個に回転する。

このような構成によれば、複数の搬送ローラ５３に含まれて回転軸５１の軸方向について一端側と他端側とに配される一対の駆動ローラ６１が回転軸５１と一体に回転することで、液晶パネル用基板１００の搬送が図られる。これに対し、回転軸５１の軸方向について中央側に配される非駆動ローラ６２は、駆動ローラ６１よりも径大とされるものの、回転軸５１とは別個に回転するようになっているので、液晶パネル用基板１００の裏面で滑ることがなく、液晶パネル用基板１００の裏面に傷がつくことが回避される。

また、非駆動ローラ６２は、回転軸５１に軸支され液晶パネル用基板１００を支持する基板支持ローラ５７と、軸方向において基板支持ローラ５７の両側において隙間を介して回転軸５１に固定されていて基板支持ローラ５７よりも径小の一対の固定部材５８と、を含む。このような構成によれば、基板支持ローラ５７を回転軸５１に対して回転自在に支持することができる。

また、回転軸５１の軸方向における両端に配された一対の端部搬送ローラ５３Ａは、回転軸５１の軸方向における端部側に、回転軸５１の径方向に突出して液晶パネル用基板１００の軸方向のずれを規制する径大部５６を有している。このような構成によれば、搬送時に液晶パネル用基板１００がずれ難い。

このように、本実施形態によれば、液晶パネル用基板１００に対する液処理効果が高く、かつ、液晶パネル用基板１００の裏面に傷を発生させない基板処理装置１を提供することができる。

＜他の実施形態＞
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。

（１）上記実施形態では、本発明の基板処理装置を液晶パネル用基板１００を洗浄処理する基板処理装置１に適用した例を示したが、基板処理装置は、他の基板処理を行う基板処理装置に適用することもできる。

（２）上記実施形態では、搬送ローラ５３を回転軸５１の軸方向において奇数設ける例を示したが、搬送ローラは偶数設ける構成としてもよい。この場合、中央搬送ローラが一対設けられることになる。加えて、液晶パネル用基板１００は、その搬送方向（Ｘ軸方向）に延びる中心線が、一対の中央搬送ローラ５３Ｃ間の中心に略一致するように搬送装置５０に支持された状態で、搬送方向に搬送されることになる。

（３）また、搬送ローラは基板の大きさに応じていくつ設けてもよい。

（４）搬送装置５０Ａは、図１０に示すように、押さえローラ８１を備えていてもよい。押さえローラ８１は、駆動ローラ６１に対して液晶パネル用基板１００の端部を介して上側に対向状に配されており、駆動ローラ６１の径小部５４との間で液晶パネル用基板１００の端部を挟み込んでいる。この押さえローラ８１によれば、上反り状態で搬送される液晶パネル用基板１００の端部が浮き上がって搬送エラーが生じる事態を生じ難くすることができる。この押さえローラ８１は、搬送ローラ５３の回転軸５１とほぼ平行な回転軸８２に対して回転自在に軸支されている。また、押さえローラ８１の上側には、押さえローラ８１を弾性的に支持する弾性部材８３が備えられている。弾性部材８３によれば、液晶パネル用基板１００の端部が駆動ローラ６１と押さえローラ８１との間でリジッドに固定されることが避けられるから、搬送時の振動に起因して液晶パネル用基板１００の端部に割れなどが生じ難くなる。なお、駆動ローラ６１と押さえローラ８１との間に挟み込まれる液晶パネル用基板１００の端部は、実際には液晶パネルとしては利用されない端材部分（非有効エリア）であるから、押さえローラ８１が干渉することで傷付いたとしても、製造される液晶パネルの品位に悪影響が及ぶのを避けることができる。

（５）上記実施形態では、回転軸と別個に回転する第２ローラは、回転軸５１に対して回転自在（フリーな状態）とされた非駆動ローラ６２である例を示したが、第２ローラは、回転軸とは異なる駆動源により回転が制御された搬送ローラであってもよい。

（６）上記実施形態では、基板処理装置１が１つの洗浄槽３０を有する構成を示したが、洗浄槽の数については限定されない。

（７）洗浄槽は、ノズルシャワーに限らず、超音波シャワーやバブルジェット（登録商標）、キャビテーションジェット、高圧スプレーシャワー、二流体等、異物除去効果に応じて洗浄ツールを自由に選択することができる。

（８）洗浄槽を例えば二流体洗浄槽とする場合、エア比率が高いとＴＦＴ基板（液晶パネル用基板の一例）の静電破壊の発生が懸念される。この場合、回転軸と基板を支持する第２ローラとの摩擦を極力抑えることが好適であり、例えば、回転軸７１にベアリング７２を採用してもよい（図１１参照）。この場合、例えば、中心部を金属製として、外周を樹脂製のＯリング７３としてもよい。このような構成の第２ローラであれば、回転軸との間にベアリング７２が介在することで、回転軸に対してローラを回転自在に支持することができる。

（９）また、第２ローラの基板接触部分を、テフロン（登録商標）コーティングすることにより、摩擦力を抑制することができる。

（１０）上記実施形態では、基板支持ローラ５７をフッ素樹脂であるＰＴＦＥ製としたが、基板支持ローラはこれに限定されるものでなく、ＰＥＴ、ＰＥＥＫ等、用途に応じて適宜変更可能である。本実施形態では、洗浄液を純水としたが、薬剤洗浄槽に使用する場合は、その該当薬液に耐性のある材料を適宜使用すればよい。

１：基板処理装置、３０：洗浄槽（基板処理装置）、５０,５０Ａ：搬送装置、５１：回転軸、５３：搬送ローラ、５３Ａ：端部搬送ローラ、５３Ｂ：中間搬送ローラ、５３Ｃ：中央搬送ローラ、５４：径小部、５６：径大部（位置ずれ規制部）、５７：基板支持ローラ、５８：固定部材、６１：駆動ローラ（第１ローラ）、６２：非駆動ローラ（第２ローラ）、８１：押さえローラ、１００：液晶パネル用基板（基板）

Claims (5)

1. 基板に対して処理液を供給して液処理する基板処理装置であって、
   前記基板を搬送方向に搬送する搬送装置を備え、
   前記搬送装置は、前記基板の下方において、前記基板に沿いかつ前記搬送方向と直交する軸方向に延びるとともに駆動装置により回転駆動される回転軸と、前記回転軸に軸支された複数の搬送ローラと、を備えており、
   複数の前記搬送ローラには、前記軸方向について一端側と他端側とに配される一対の第１ローラと、前記軸方向について前記第１ローラに対して中央側に配されていて且つ前記第１ローラよりも径大とされる第２ローラと、が少なくとも含まれており、
   前記第１ローラは、前記回転軸の回転駆動とともに前記回転軸と一体に回転するのに対し、前記第２ローラは、前記回転軸とは別個に回転する基板処理装置。
2. 前記第２ローラは、前記回転軸に軸支されるとともに前記基板を支持する基板支持ローラと、前記軸方向において前記基板支持ローラの両側において隙間を介して前記回転軸に固定されていて前記基板支持ローラよりも径小の一対の固定部材と、を含み、前記基板支持ローラが前記回転軸に対して回転自在に支持されている、請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記第２ローラは、前記回転軸に対してベアリングを介して軸支されるとともに回転自在に支持されている請求項１に記載の基板処理装置。
4. 前記第１ローラのうちの、前記軸方向における前記回転軸の端部側に、前記回転軸の径方向に突出して前記基板の前記軸方向のずれを規制する位置ずれ規制部を有する、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の基板処理装置。
5. 前記第１ローラに対して前記基板を介して上側に対向状に配されていて前記第１ローラとの間で前記基板を挟み込む押さえローラを備える請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の基板処理装置。

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