JP2003086654A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
- Publication number
- JP2003086654A JP2003086654A JP2001279200A JP2001279200A JP2003086654A JP 2003086654 A JP2003086654 A JP 2003086654A JP 2001279200 A JP2001279200 A JP 2001279200A JP 2001279200 A JP2001279200 A JP 2001279200A JP 2003086654 A JP2003086654 A JP 2003086654A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- roller
- transport
- processing apparatus
- rollers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 217
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 18
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 10
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 10
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 9
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 101100321304 Bacillus subtilis (strain 168) yxdM gene Proteins 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/67742—Mechanical parts of transfer devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Robotics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Rollers For Roller Conveyors For Transfer (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 装置構成を複雑にすることなく、処理ユニッ
トを、長手方向が基板の搬送方向と直交する方向に対し
て平面視で傾斜させるように配置することも含めて自在
に配置できる装置を提供する。 【解決手段】 基板Ｗを支持しつつ搬送する搬送ローラ
群の、処理ユニット３４が配設される処理区域Ａの搬送
ローラ２２の支持ローラ部２６の直径寸法を、処理区域
以外の搬送ローラ１０の支持ローラ部１４の直径寸法よ
りも大きくした。
トを、長手方向が基板の搬送方向と直交する方向に対し
て平面視で傾斜させるように配置することも含めて自在
に配置できる装置を提供する。 【解決手段】 基板Ｗを支持しつつ搬送する搬送ローラ
群の、処理ユニット３４が配設される処理区域Ａの搬送
ローラ２２の支持ローラ部２６の直径寸法を、処理区域
以外の搬送ローラ１０の支持ローラ部１４の直径寸法よ
りも大きくした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハ、
ＦＰＤ用のガラス基板、プリント基板等の基板を、その
搬送路に沿って配列された複数本の搬送ローラによって
水平姿勢または傾斜姿勢で支持しつつ搬送しながら、洗
浄液等の処理液や乾燥用、除電用等の処理気体を基板の
主面へ供給して処理したり、ロール状やディスク状のブ
ラシを基板の主面に当接させて処理したりする基板処理
装置に関する。
ＦＰＤ用のガラス基板、プリント基板等の基板を、その
搬送路に沿って配列された複数本の搬送ローラによって
水平姿勢または傾斜姿勢で支持しつつ搬送しながら、洗
浄液等の処理液や乾燥用、除電用等の処理気体を基板の
主面へ供給して処理したり、ロール状やディスク状のブ
ラシを基板の主面に当接させて処理したりする基板処理
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の基板処理装置は、基板を水平姿
勢または傾斜姿勢で支持しつつ搬送するために、例えば
図１０に一部を平面図で示し図１１に図１０のXI−XI矢
視断面図を示すような搬送機構を備えている。この搬送
機構は、複数本の搬送ローラ１を、互いに平行にかつ基
板Ｗの幅方向に配置し基板Ｗの搬送方向に沿って並列さ
せるように設置することにより構成されている。搬送ロ
ーラ１は、回転自在に支持された回転軸２に、基板Ｗの
下面に当接して基板Ｗを支持する支持ローラ部３を固着
した構成を有する。支持ローラ部３は、詳細な構造を図
示していないが、基板Ｗの側辺に当接して基板Ｗが幅方
向へ移動するのを規制する顎部が形設された段付きロー
ラなどで形成することができる。また、支持ローラ部３
は、図示例では回転軸２の両端部に一対だけ固着されて
いるが、回転軸２に３つ以上、間隔を設けて固着するよ
うにしてもよい。複数本の搬送ローラ１のうちの一部
は、その回転軸２にモータ４の回転軸が連結されて駆動
ローラとされ、その駆動ローラをなす搬送ローラ１と被
動ローラをなす他の搬送ローラ１とは、それぞれの回転
軸２に固着されたプーリ５およびベルト６を介して動力
的に連結されている。
勢または傾斜姿勢で支持しつつ搬送するために、例えば
図１０に一部を平面図で示し図１１に図１０のXI−XI矢
視断面図を示すような搬送機構を備えている。この搬送
機構は、複数本の搬送ローラ１を、互いに平行にかつ基
板Ｗの幅方向に配置し基板Ｗの搬送方向に沿って並列さ
せるように設置することにより構成されている。搬送ロ
ーラ１は、回転自在に支持された回転軸２に、基板Ｗの
下面に当接して基板Ｗを支持する支持ローラ部３を固着
した構成を有する。支持ローラ部３は、詳細な構造を図
示していないが、基板Ｗの側辺に当接して基板Ｗが幅方
向へ移動するのを規制する顎部が形設された段付きロー
ラなどで形成することができる。また、支持ローラ部３
は、図示例では回転軸２の両端部に一対だけ固着されて
いるが、回転軸２に３つ以上、間隔を設けて固着するよ
うにしてもよい。複数本の搬送ローラ１のうちの一部
は、その回転軸２にモータ４の回転軸が連結されて駆動
ローラとされ、その駆動ローラをなす搬送ローラ１と被
動ローラをなす他の搬送ローラ１とは、それぞれの回転
軸２に固着されたプーリ５およびベルト６を介して動力
的に連結されている。
【０００３】このような搬送機構を備えた従来の基板処
理装置において、基板Ｗの下面へ洗浄液、現像液、エッ
チング液、剥離液等の処理液や乾燥用、除電用等の処理
気体を供給して処理する各種ノズル、基板の下面に当接
して処理するロール状やディスク状のブラシなどの処理
ユニット、例えばシャワーノズル７は、図１１に示すよ
うに、搬送ローラ１の下方に配設される。このため、シ
ャワーノズル７から基板Ｗの下面に向けて処理液を噴出
させたときに、搬送ローラ１の回転軸２や支持ローラ部
３に部分的に遮られ、基板Ｗの下面全体にわたって均一
に処理液がかからない、といった問題点がある。また、
基板Ｗの下面に近接して処理ユニット、例えば水切り用
エアーナイフやブラシを設置する場合、それらは搬送ロ
ーラ１の回転軸２間に配置されることになる。このよう
に、処理ユニットを配置する空間が限られるため、基板
Ｗを効率良く処理することができるように処理ユニット
を配置することができない、といった問題点がある。特
に、長尺状のノズルやロール状のブラシなどを基板Ｗの
搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜させるよ
うに配置する、といったことはほとんど不可能であっ
た。また搬送ローラの回転軸が邪魔になって処理ユニッ
トのメンテナンス作業をやりにくい、といった問題点も
ある。
理装置において、基板Ｗの下面へ洗浄液、現像液、エッ
チング液、剥離液等の処理液や乾燥用、除電用等の処理
気体を供給して処理する各種ノズル、基板の下面に当接
して処理するロール状やディスク状のブラシなどの処理
ユニット、例えばシャワーノズル７は、図１１に示すよ
うに、搬送ローラ１の下方に配設される。このため、シ
ャワーノズル７から基板Ｗの下面に向けて処理液を噴出
させたときに、搬送ローラ１の回転軸２や支持ローラ部
３に部分的に遮られ、基板Ｗの下面全体にわたって均一
に処理液がかからない、といった問題点がある。また、
基板Ｗの下面に近接して処理ユニット、例えば水切り用
エアーナイフやブラシを設置する場合、それらは搬送ロ
ーラ１の回転軸２間に配置されることになる。このよう
に、処理ユニットを配置する空間が限られるため、基板
Ｗを効率良く処理することができるように処理ユニット
を配置することができない、といった問題点がある。特
に、長尺状のノズルやロール状のブラシなどを基板Ｗの
搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜させるよ
うに配置する、といったことはほとんど不可能であっ
た。また搬送ローラの回転軸が邪魔になって処理ユニッ
トのメンテナンス作業をやりにくい、といった問題点も
ある。
【０００４】また、基板を安定に搬送できるようにする
ために、それぞれの搬送ローラの上方にそれと対向する
ように押えローラを配設し、その押えローラの押えロー
ラ部と搬送ローラの支持ローラ部とで基板を上・下両面
側から挟むようにしつつ、基板を搬送する搬送機構を備
えることがある。このような搬送機構を備えた基板処理
装置においても、基板の上面側に処理ユニットを設置し
ようとすると、上記と同様の問題点を生じる。
ために、それぞれの搬送ローラの上方にそれと対向する
ように押えローラを配設し、その押えローラの押えロー
ラ部と搬送ローラの支持ローラ部とで基板を上・下両面
側から挟むようにしつつ、基板を搬送する搬送機構を備
えることがある。このような搬送機構を備えた基板処理
装置においても、基板の上面側に処理ユニットを設置し
ようとすると、上記と同様の問題点を生じる。
【０００５】以上のような問題点を解決するための提案
が、例えば実開平６−５９７９４号公報に開示されてい
る。同号公報に開示された基板処理装置は、図１２に搬
送機構の概略構成の一部を平面図で示すように、複数本
の搬送ローラ１のうち、処理ユニットが配設される区域
の搬送ローラを、短尺の回転軸２ａ、２ｂの端部に支持
ローラ部３ａ、３ｂを固着した左右一対の搬送ローラ１
ａ、１ｂで構成し、各搬送ローラ１ａ、１ｂの回転軸２
ａ、２ｂを片持ち式に回転自在に支持した搬送機構を備
えている。そして、回転軸２にモータ４の回転軸が連結
されて駆動ローラとされた搬送ローラ１と被動ローラを
なす左右一対の搬送ローラ１ａ、１ｂとは、それぞれの
回転軸２；２ａ、２ｂに固着されたプーリ５；５ａ、５
ｂおよびベルト６ａ、６ｂを介して動力的に連結されて
いる。また、搬送ローラの上方に押えローラを配設する
場合には、図示していないが同様に、処理ユニットが配
設される区域の押えローラを、短尺の回転軸の端部に押
えローラ部を固着した左右一対の押えローラで構成し、
各押えローラの回転軸を片持ち式に支持するようにす
る。このような構成とすることにより、基板の下面側に
（押えローラを設ける場合には上面側にも）処理ユニッ
トを配置するための空間を確保して、長尺状ノズルやロ
ール状ブラシなどを基板の搬送方向と直交する方向に対
して平面視で傾斜させるように配置することもできるよ
うにしている。
が、例えば実開平６−５９７９４号公報に開示されてい
る。同号公報に開示された基板処理装置は、図１２に搬
送機構の概略構成の一部を平面図で示すように、複数本
の搬送ローラ１のうち、処理ユニットが配設される区域
の搬送ローラを、短尺の回転軸２ａ、２ｂの端部に支持
ローラ部３ａ、３ｂを固着した左右一対の搬送ローラ１
ａ、１ｂで構成し、各搬送ローラ１ａ、１ｂの回転軸２
ａ、２ｂを片持ち式に回転自在に支持した搬送機構を備
えている。そして、回転軸２にモータ４の回転軸が連結
されて駆動ローラとされた搬送ローラ１と被動ローラを
なす左右一対の搬送ローラ１ａ、１ｂとは、それぞれの
回転軸２；２ａ、２ｂに固着されたプーリ５；５ａ、５
ｂおよびベルト６ａ、６ｂを介して動力的に連結されて
いる。また、搬送ローラの上方に押えローラを配設する
場合には、図示していないが同様に、処理ユニットが配
設される区域の押えローラを、短尺の回転軸の端部に押
えローラ部を固着した左右一対の押えローラで構成し、
各押えローラの回転軸を片持ち式に支持するようにす
る。このような構成とすることにより、基板の下面側に
（押えローラを設ける場合には上面側にも）処理ユニッ
トを配置するための空間を確保して、長尺状ノズルやロ
ール状ブラシなどを基板の搬送方向と直交する方向に対
して平面視で傾斜させるように配置することもできるよ
うにしている。
【０００６】また、基板を水平面に対し傾斜させて搬送
しつつ処理する場合には、図１３に示すように、基板Ｗ
の両端部を、水平面に対し傾斜した姿勢で片持ち式に回
転自在に支持された回転軸８ａの端部に支持ローラ部８
ｂを固着した左右一対の搬送ローラ８により支持すると
ともに、基板Ｗの下方側になった端辺を、軸線方向が搬
送ローラ８の回転軸８ａと直交するように配置され回転
自在に支持されたサイドローラ９によって支持しつつ、
基板を搬送する搬送機構が用いられる。
しつつ処理する場合には、図１３に示すように、基板Ｗ
の両端部を、水平面に対し傾斜した姿勢で片持ち式に回
転自在に支持された回転軸８ａの端部に支持ローラ部８
ｂを固着した左右一対の搬送ローラ８により支持すると
ともに、基板Ｗの下方側になった端辺を、軸線方向が搬
送ローラ８の回転軸８ａと直交するように配置され回転
自在に支持されたサイドローラ９によって支持しつつ、
基板を搬送する搬送機構が用いられる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図１２
および図１３に示したように、端部に支持ローラ部３
ａ、３ｂ；８ｂが固着された回転軸２ａ、２ｂ；８ａを
片持ち式に支持した搬送ローラ１ａ、１ｂ；８や、端部
に押えローラ部が固着された回転軸を片持ち式に支持し
た押えローラを有する搬送機構を備えた基板処理装置で
は、左右両側に配置された片持ち状態の搬送ローラのそ
れぞれに駆動機構あるいは動力伝達機構を設ける必要が
ある。このため、装置構成が複雑となり、また、部品点
数が多くなって装置コストが高くなったり、基板の搬送
高さ位置の調整などの作業が難しくなり、作業量も増え
たりする、といった問題点がある。
および図１３に示したように、端部に支持ローラ部３
ａ、３ｂ；８ｂが固着された回転軸２ａ、２ｂ；８ａを
片持ち式に支持した搬送ローラ１ａ、１ｂ；８や、端部
に押えローラ部が固着された回転軸を片持ち式に支持し
た押えローラを有する搬送機構を備えた基板処理装置で
は、左右両側に配置された片持ち状態の搬送ローラのそ
れぞれに駆動機構あるいは動力伝達機構を設ける必要が
ある。このため、装置構成が複雑となり、また、部品点
数が多くなって装置コストが高くなったり、基板の搬送
高さ位置の調整などの作業が難しくなり、作業量も増え
たりする、といった問題点がある。
【０００８】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、装置構成を複雑にすることなく、ま
た、部品点数が多くなって装置コストが高くなったり調
整作業が難しくなり作業量が増えたりする、といったこ
ともなく、処理ユニットを、長手方向が基板の搬送方向
と直交する方向に対して平面視で傾斜させるように配置
することも含めて自在に配置することができる基板処理
装置を提供することを目的とする。
されたものであり、装置構成を複雑にすることなく、ま
た、部品点数が多くなって装置コストが高くなったり調
整作業が難しくなり作業量が増えたりする、といったこ
ともなく、処理ユニットを、長手方向が基板の搬送方向
と直交する方向に対して平面視で傾斜させるように配置
することも含めて自在に配置することができる基板処理
装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
回転軸に複数の支持ローラ部を固着した搬送ローラを複
数本、互いに平行に配置し基板の搬送方向に沿って並列
させた搬送ローラ群により、基板を支持しつつ搬送しな
がら、処理手段によって基板の下面を処理する基板処理
装置において、前記搬送ローラ群の、前記処理手段が配
設される区域の１本もしくは２本以上の搬送ローラの支
持ローラ部の直径寸法を、前記区域以外の搬送ローラの
支持ローラ部の直径寸法よりも大きくしたことを特徴と
する。
回転軸に複数の支持ローラ部を固着した搬送ローラを複
数本、互いに平行に配置し基板の搬送方向に沿って並列
させた搬送ローラ群により、基板を支持しつつ搬送しな
がら、処理手段によって基板の下面を処理する基板処理
装置において、前記搬送ローラ群の、前記処理手段が配
設される区域の１本もしくは２本以上の搬送ローラの支
持ローラ部の直径寸法を、前記区域以外の搬送ローラの
支持ローラ部の直径寸法よりも大きくしたことを特徴と
する。
【００１０】請求項２に係る発明は、請求項１記載の基
板処理装置において、前記搬送ローラ群の、前記処理手
段が配設される区域に複数本の搬送ローラが配置され、
それら複数本の搬送ローラの、互いに隣接するもの同士
において、回転軸間の距離が支持ローラ部の直径寸法よ
りも小さくされ、かつ、回転軸上における支持ローラ部
の取付け位置が相互にずらされたことを特徴とする。
板処理装置において、前記搬送ローラ群の、前記処理手
段が配設される区域に複数本の搬送ローラが配置され、
それら複数本の搬送ローラの、互いに隣接するもの同士
において、回転軸間の距離が支持ローラ部の直径寸法よ
りも小さくされ、かつ、回転軸上における支持ローラ部
の取付け位置が相互にずらされたことを特徴とする。
【００１１】請求項３に係る発明は、請求項１または請
求項２記載の基板処理装置において、前記搬送ローラの
回転軸に３つ以上の支持ローラ部が間隔を設けて固着さ
れ、前記搬送ローラ群の、前記処理手段が配設される区
域に配置された搬送ローラにおいて、前記処理手段と干
渉する支持ローラ部が回転軸から除かれたことを特徴と
する。
求項２記載の基板処理装置において、前記搬送ローラの
回転軸に３つ以上の支持ローラ部が間隔を設けて固着さ
れ、前記搬送ローラ群の、前記処理手段が配設される区
域に配置された搬送ローラにおいて、前記処理手段と干
渉する支持ローラ部が回転軸から除かれたことを特徴と
する。
【００１２】請求項４に係る発明は、回転軸に複数の支
持ローラ部を固着した搬送ローラを複数本、互いに平行
に配置し基板の搬送方向に沿って並列させた搬送ローラ
群により、基板を支持するとともに、前記搬送ローラの
回転軸の上方にその回転軸と対向するように配置された
上側回転軸に複数の押えローラ部を固着した押えローラ
を複数本、互いに平行に配置し基板の搬送方向に沿って
並列させた押えローラ群により、前記搬送ローラ群と協
働して基板を挟みつつ、基板を搬送しながら、処理手段
によって基板の上面を処理する基板処理装置において、
前記押えローラ群の、前記処理手段が配設される区域の
１本もしくは２本以上の押えローラの押えローラ部の直
径寸法を、前記区域以外の搬送ローラの押えローラ部の
直径寸法よりも大きくしたことを特徴とする。
持ローラ部を固着した搬送ローラを複数本、互いに平行
に配置し基板の搬送方向に沿って並列させた搬送ローラ
群により、基板を支持するとともに、前記搬送ローラの
回転軸の上方にその回転軸と対向するように配置された
上側回転軸に複数の押えローラ部を固着した押えローラ
を複数本、互いに平行に配置し基板の搬送方向に沿って
並列させた押えローラ群により、前記搬送ローラ群と協
働して基板を挟みつつ、基板を搬送しながら、処理手段
によって基板の上面を処理する基板処理装置において、
前記押えローラ群の、前記処理手段が配設される区域の
１本もしくは２本以上の押えローラの押えローラ部の直
径寸法を、前記区域以外の搬送ローラの押えローラ部の
直径寸法よりも大きくしたことを特徴とする。
【００１３】請求項５に係る発明は、請求項４記載の基
板処理装置において、前記押えローラ群の、前記処理手
段が配設される区域に複数本の押えローラが配置され、
それら複数本の押えローラの、互いに隣接するもの同士
において、上側回転軸間の距離が押えローラ部の直径寸
法よりも小さくされ、かつ、上側回転軸上における押え
ローラ部の取付け位置が相互にずらされたことを特徴と
する。
板処理装置において、前記押えローラ群の、前記処理手
段が配設される区域に複数本の押えローラが配置され、
それら複数本の押えローラの、互いに隣接するもの同士
において、上側回転軸間の距離が押えローラ部の直径寸
法よりも小さくされ、かつ、上側回転軸上における押え
ローラ部の取付け位置が相互にずらされたことを特徴と
する。
【００１４】請求項６に係る発明は、請求項１ないし請
求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、前記
処理手段が、基板の幅方向全体にわたって液体または気
体を供給する長尺状ノズルであって、その長尺状ノズル
が、基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾
斜するように配置されたことを特徴とする。
求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、前記
処理手段が、基板の幅方向全体にわたって液体または気
体を供給する長尺状ノズルであって、その長尺状ノズル
が、基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾
斜するように配置されたことを特徴とする。
【００１５】請求項７に係る発明は、請求項１ないし請
求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、前記
処理手段が、基板の幅方向全体にわたって当接するロー
ル状ブラシであって、そのロール状ブラシが、基板の搬
送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜するように
配置されたことを特徴とする。
求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、前記
処理手段が、基板の幅方向全体にわたって当接するロー
ル状ブラシであって、そのロール状ブラシが、基板の搬
送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜するように
配置されたことを特徴とする。
【００１６】請求項１に係る発明の基板処理装置におい
ては、搬送ローラ群の、処理手段が配設される区域で
は、搬送ローラの支持ローラ部の直径寸法がその区域以
外の搬送ローラの支持ローラ部の直径寸法より大きくさ
れていることにより、搬送ローラ群によって支持されつ
つ搬送される基板の下面と搬送ローラの回転軸との間の
距離が大きくなる。このため、基板下面と搬送ローラの
回転軸との間に、処理手段を配置するのに十分な空間が
確保され、その空間に処理手段を、長手方向が基板の搬
送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜させるよう
に配置することも可能である。
ては、搬送ローラ群の、処理手段が配設される区域で
は、搬送ローラの支持ローラ部の直径寸法がその区域以
外の搬送ローラの支持ローラ部の直径寸法より大きくさ
れていることにより、搬送ローラ群によって支持されつ
つ搬送される基板の下面と搬送ローラの回転軸との間の
距離が大きくなる。このため、基板下面と搬送ローラの
回転軸との間に、処理手段を配置するのに十分な空間が
確保され、その空間に処理手段を、長手方向が基板の搬
送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜させるよう
に配置することも可能である。
【００１７】請求項２に係る発明の基板処理装置では、
互いに隣接する搬送ローラの両回転軸間の距離が支持ロ
ーラ部の直径寸法よりも小さくされていることにより、
複数本の搬送ローラによる基板の支持間隔が狭くなる。
このため、基板の下面側に処理手段を配置するのに十分
な空間を確保しつつ、基板の搬送方向における撓みの発
生を防止することができる。そして、互いに隣接する搬
送ローラの両回転軸上における支持ローラ部の取付け位
置が相互にずらされているので、隣接する搬送ローラの
それぞれの支持ローラ部同士が接触することがない。
互いに隣接する搬送ローラの両回転軸間の距離が支持ロ
ーラ部の直径寸法よりも小さくされていることにより、
複数本の搬送ローラによる基板の支持間隔が狭くなる。
このため、基板の下面側に処理手段を配置するのに十分
な空間を確保しつつ、基板の搬送方向における撓みの発
生を防止することができる。そして、互いに隣接する搬
送ローラの両回転軸上における支持ローラ部の取付け位
置が相互にずらされているので、隣接する搬送ローラの
それぞれの支持ローラ部同士が接触することがない。
【００１８】請求項３に係る発明の基板処理装置では、
搬送ローラの回転軸に３つ以上の支持ローラ部が間隔を
設けて固着されているので、搬送ローラの複数の支持ロ
ーラ部による基板の幅方向（基板の搬送方向と直交する
方向）における支持間隔が狭くなる。また、搬送ローラ
の複数の支持ローラ部のうち処理手段と干渉する支持ロ
ーラ部は回転軸から除かれているので、基板の幅方向に
おける撓みの発生を防止しつつ、基板下面と搬送ローラ
の回転軸との間の空間に処理手段を配置することが可能
になる。
搬送ローラの回転軸に３つ以上の支持ローラ部が間隔を
設けて固着されているので、搬送ローラの複数の支持ロ
ーラ部による基板の幅方向（基板の搬送方向と直交する
方向）における支持間隔が狭くなる。また、搬送ローラ
の複数の支持ローラ部のうち処理手段と干渉する支持ロ
ーラ部は回転軸から除かれているので、基板の幅方向に
おける撓みの発生を防止しつつ、基板下面と搬送ローラ
の回転軸との間の空間に処理手段を配置することが可能
になる。
【００１９】請求項４に係る発明の基板処理装置におい
ては、押えローラ群の、処理手段が配設される区域で
は、押えローラの押えローラ部の直径寸法がその区域以
外の押えローラの押えローラ部の直径寸法より大きくさ
れていることにより、搬送ローラ群によって支持される
とともに押えローラ群と搬送ローラ群との協働によって
挟まれつつ搬送される基板の上面と押えローラの上側回
転軸との間の距離が大きくなる。このため、基板上面と
押えローラの上側回転軸との間に、処理手段を配置する
のに十分な空間が確保され、その空間に処理手段を、長
手方向が基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視
で傾斜させるように配置することも可能である。
ては、押えローラ群の、処理手段が配設される区域で
は、押えローラの押えローラ部の直径寸法がその区域以
外の押えローラの押えローラ部の直径寸法より大きくさ
れていることにより、搬送ローラ群によって支持される
とともに押えローラ群と搬送ローラ群との協働によって
挟まれつつ搬送される基板の上面と押えローラの上側回
転軸との間の距離が大きくなる。このため、基板上面と
押えローラの上側回転軸との間に、処理手段を配置する
のに十分な空間が確保され、その空間に処理手段を、長
手方向が基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視
で傾斜させるように配置することも可能である。
【００２０】請求項５に係る発明の基板処理装置では、
互いに隣接する押えローラの両上側回転軸間の距離が押
えローラ部の直径寸法よりも小さくされていることによ
り、複数本の押えローラと基板との、基板の搬送方向に
おける当接間隔を狭くすることが可能になる。このた
め、基板の搬送方向における撓みの発生を防止するため
に複数本の搬送ローラによる基板の支持間隔を狭くした
場合でも、基板の上面側に処理手段を配置するのに十分
な空間を確保しつつ、それぞれの搬送ローラに対応して
押えローラを配置することが可能になる。そして、互い
に隣接する押えローラの両上側回転軸上における押えロ
ーラ部の取付け位置が相互にずらされているので、隣接
する押えローラのそれぞれの押えローラ部同士が接触す
ることがない。
互いに隣接する押えローラの両上側回転軸間の距離が押
えローラ部の直径寸法よりも小さくされていることによ
り、複数本の押えローラと基板との、基板の搬送方向に
おける当接間隔を狭くすることが可能になる。このた
め、基板の搬送方向における撓みの発生を防止するため
に複数本の搬送ローラによる基板の支持間隔を狭くした
場合でも、基板の上面側に処理手段を配置するのに十分
な空間を確保しつつ、それぞれの搬送ローラに対応して
押えローラを配置することが可能になる。そして、互い
に隣接する押えローラの両上側回転軸上における押えロ
ーラ部の取付け位置が相互にずらされているので、隣接
する押えローラのそれぞれの押えローラ部同士が接触す
ることがない。
【００２１】請求項６に係る発明の基板処理装置では、
基板の幅方向全体にわたって液体または気体を供給する
長尺状ノズルが、基板の搬送方向と直交する方向に対し
て平面視で傾斜するように配置されることにより、基板
の処理効果を高めることが可能になる。
基板の幅方向全体にわたって液体または気体を供給する
長尺状ノズルが、基板の搬送方向と直交する方向に対し
て平面視で傾斜するように配置されることにより、基板
の処理効果を高めることが可能になる。
【００２２】請求項７に係る発明の基板処理装置では、
基板の幅方向全体にわたって当接するロール状ブラシ
が、基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾
斜するように配置されることにより、基板の洗浄効果を
高めることが可能になる。
基板の幅方向全体にわたって当接するロール状ブラシ
が、基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾
斜するように配置されることにより、基板の洗浄効果を
高めることが可能になる。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
について図１ないし図９を参照しながら説明する。
について図１ないし図９を参照しながら説明する。
【００２４】図１および図２は、この発明の実施形態の
１例を示し、図１は、基板処理装置の一部の概略構成を
示す平面図であり、図２は、図１のII−II矢視断面図で
ある。この基板処理装置において、基板Ｗは、搬送ロー
ラ群により、水平姿勢あるいは基板Ｗの幅方向（基板Ｗ
の搬送方向と直交する方向）において傾斜した姿勢（図
示例のものは水平姿勢）で支持されつつ搬送されなが
ら、処理区域Ａを通過する間に下面が処理される。
１例を示し、図１は、基板処理装置の一部の概略構成を
示す平面図であり、図２は、図１のII−II矢視断面図で
ある。この基板処理装置において、基板Ｗは、搬送ロー
ラ群により、水平姿勢あるいは基板Ｗの幅方向（基板Ｗ
の搬送方向と直交する方向）において傾斜した姿勢（図
示例のものは水平姿勢）で支持されつつ搬送されなが
ら、処理区域Ａを通過する間に下面が処理される。
【００２５】処理区域Ａの前・後には、それぞれ複数本
の搬送ローラ１０が、互いに平行にかつ基板Ｗの幅方向
に配置され基板Ｗの搬送方向に沿って並列するように設
置されている。搬送ローラ１０は、従来装置と同様に、
回転自在に支持された回転軸１２の両端部に、基板Ｗの
側端部下面に当接して基板Ｗを支持する一対の支持ロー
ラ部１４を固着した構成を有する。なお、支持ローラ部
１４を、基板Ｗの側辺に当接して基板Ｗが幅方向へ移動
するのを規制する顎部が形設された段付きローラなどと
することができる。また、支持ローラ部１４は、回転軸
１２の３個所以上に、軸線方向に間隔をあけて複数固着
するようにしてもよい。複数本の搬送ローラ１０のうち
の一部は、その回転軸１２にモータ１６の回転軸が連結
されて駆動ローラとされ、その駆動ローラをなす搬送ロ
ーラ１０と被動ローラをなす他の搬送ローラ１０とは、
それぞれの回転軸１２に固着されたプーリ１８およびベ
ルト２０を介して動力的に連結されている。
の搬送ローラ１０が、互いに平行にかつ基板Ｗの幅方向
に配置され基板Ｗの搬送方向に沿って並列するように設
置されている。搬送ローラ１０は、従来装置と同様に、
回転自在に支持された回転軸１２の両端部に、基板Ｗの
側端部下面に当接して基板Ｗを支持する一対の支持ロー
ラ部１４を固着した構成を有する。なお、支持ローラ部
１４を、基板Ｗの側辺に当接して基板Ｗが幅方向へ移動
するのを規制する顎部が形設された段付きローラなどと
することができる。また、支持ローラ部１４は、回転軸
１２の３個所以上に、軸線方向に間隔をあけて複数固着
するようにしてもよい。複数本の搬送ローラ１０のうち
の一部は、その回転軸１２にモータ１６の回転軸が連結
されて駆動ローラとされ、その駆動ローラをなす搬送ロ
ーラ１０と被動ローラをなす他の搬送ローラ１０とは、
それぞれの回転軸１２に固着されたプーリ１８およびベ
ルト２０を介して動力的に連結されている。
【００２６】処理区域Ａには、回転自在に支持された回
転軸２４の両端部に固着された一対の支持ローラ部２６
の直径寸法が、処理区域Ａ以外の搬送ローラ１０の支持
ローラ部１４の直径寸法よりも大きくされた大径搬送ロ
ーラ２２が複数本、図示例では３本、互いに平行にかつ
搬送ローラ１０と平行に配置され基板Ｗの搬送方向に沿
って並列するように設置されている。大径搬送ローラ２
２は、図２に示すように、その支持ローラ部２６の最上
位置が搬送ローラ１０の支持ローラ部１４の最上位置と
同一高さとなるように支持され、複数本の大径搬送ロー
ラ２２と複数本の搬送ローラ１０とで１つの水平搬送面
が形成されるようになっている。また、大径搬送ローラ
２２の一対の支持ローラ部２６は、基板Ｗの側端部下面
に当接して基板Ｗを支持する。なお、大径搬送ローラ２
２の支持ローラ部２６を、基板Ｗの側辺に当接して基板
Ｗが幅方向へ移動するのを規制する顎部が形設された段
付きローラなどとしてもよい。また、回転軸２４にその
軸線方向に間隔をあけて３つ以上の支持ローラ部２６を
固着して大径搬送ローラ２２を構成するようにしてもよ
い。３本の大径搬送ローラ２２のうちの１本の大径搬送
ローラ２２は、その回転軸２４にモータ２８の回転軸を
連結して駆動ローラとされる。駆動ローラをなす大径搬
送ローラ２２および被動ローラとなる残りの２本の大径
搬送ローラ２２には、それぞれの回転軸２４にプーリ３
０が固着され、各プーリ３０間にベルト３２が掛け回さ
れていて、３本の大径搬送ローラ２２は一体的に回転駆
動される。
転軸２４の両端部に固着された一対の支持ローラ部２６
の直径寸法が、処理区域Ａ以外の搬送ローラ１０の支持
ローラ部１４の直径寸法よりも大きくされた大径搬送ロ
ーラ２２が複数本、図示例では３本、互いに平行にかつ
搬送ローラ１０と平行に配置され基板Ｗの搬送方向に沿
って並列するように設置されている。大径搬送ローラ２
２は、図２に示すように、その支持ローラ部２６の最上
位置が搬送ローラ１０の支持ローラ部１４の最上位置と
同一高さとなるように支持され、複数本の大径搬送ロー
ラ２２と複数本の搬送ローラ１０とで１つの水平搬送面
が形成されるようになっている。また、大径搬送ローラ
２２の一対の支持ローラ部２６は、基板Ｗの側端部下面
に当接して基板Ｗを支持する。なお、大径搬送ローラ２
２の支持ローラ部２６を、基板Ｗの側辺に当接して基板
Ｗが幅方向へ移動するのを規制する顎部が形設された段
付きローラなどとしてもよい。また、回転軸２４にその
軸線方向に間隔をあけて３つ以上の支持ローラ部２６を
固着して大径搬送ローラ２２を構成するようにしてもよ
い。３本の大径搬送ローラ２２のうちの１本の大径搬送
ローラ２２は、その回転軸２４にモータ２８の回転軸を
連結して駆動ローラとされる。駆動ローラをなす大径搬
送ローラ２２および被動ローラとなる残りの２本の大径
搬送ローラ２２には、それぞれの回転軸２４にプーリ３
０が固着され、各プーリ３０間にベルト３２が掛け回さ
れていて、３本の大径搬送ローラ２２は一体的に回転駆
動される。
【００２７】上記したように、処理区域Ａに設置された
大径搬送ローラ２２の支持ローラ部２６の直径寸法は、
処理区域Ａ以外に設置された搬送ローラ１０の支持ロー
ラ部１４の直径寸法より大きくされているので、処理区
域Ａにおいては、大径搬送ローラ２２によって支持され
つつ搬送される基板Ｗの下面と大径搬送ローラ２２の回
転軸２４との間の距離が大きくなる。このため、基板Ｗ
の下面と大径搬送ローラ２２の回転軸２４との間に大き
な空間が確保され、その空間に処理ユニット、例えば、
基板Ｗの下面へ洗浄液、現像液、エッチング液、剥離液
等の処理液を供給して処理するシャワーノズルやナイフ
型ノズル、基板Ｗの下面へ空気を層状に吹き付けて水切
りや乾燥処理を行うのナイフ型ノズル、基板Ｗの下面へ
イオン化された気体を供給して静電気除去処理を行うイ
オナイザノズル、基板Ｗの下面に当接して洗浄処理する
ロール状やディスク状のブラシなどが配設される。図２
に示した例では、基板Ｗの下面と大径搬送ローラ２２の
回転軸２４との間の空間に複数のシャワーノズル３４を
配設している。
大径搬送ローラ２２の支持ローラ部２６の直径寸法は、
処理区域Ａ以外に設置された搬送ローラ１０の支持ロー
ラ部１４の直径寸法より大きくされているので、処理区
域Ａにおいては、大径搬送ローラ２２によって支持され
つつ搬送される基板Ｗの下面と大径搬送ローラ２２の回
転軸２４との間の距離が大きくなる。このため、基板Ｗ
の下面と大径搬送ローラ２２の回転軸２４との間に大き
な空間が確保され、その空間に処理ユニット、例えば、
基板Ｗの下面へ洗浄液、現像液、エッチング液、剥離液
等の処理液を供給して処理するシャワーノズルやナイフ
型ノズル、基板Ｗの下面へ空気を層状に吹き付けて水切
りや乾燥処理を行うのナイフ型ノズル、基板Ｗの下面へ
イオン化された気体を供給して静電気除去処理を行うイ
オナイザノズル、基板Ｗの下面に当接して洗浄処理する
ロール状やディスク状のブラシなどが配設される。図２
に示した例では、基板Ｗの下面と大径搬送ローラ２２の
回転軸２４との間の空間に複数のシャワーノズル３４を
配設している。
【００２８】次に、図３に処理区域の平面図を示した基
板処理装置では、複数本の大径搬送ローラの、互いに隣
接する大径搬送ローラ２２ａと大径搬送ローラ２２ｂと
において、回転軸２４ａ、２４ｂ間の距離ｌが支持ロー
ラ部２６ａ、２６ｂの直径寸法Ｄよりも小さくされてい
る。そして、互いに隣接する大径搬送ローラ２２ａと大
径搬送ローラ２２ｂとで、それぞれの支持ローラ部２６
ａ、２６ｂ同士が接触しないように、回転軸２４ａ、２
４ｂ上における支持ローラ部２６ａ、２６ｂの取付け位
置が相互にずらされている。
板処理装置では、複数本の大径搬送ローラの、互いに隣
接する大径搬送ローラ２２ａと大径搬送ローラ２２ｂと
において、回転軸２４ａ、２４ｂ間の距離ｌが支持ロー
ラ部２６ａ、２６ｂの直径寸法Ｄよりも小さくされてい
る。そして、互いに隣接する大径搬送ローラ２２ａと大
径搬送ローラ２２ｂとで、それぞれの支持ローラ部２６
ａ、２６ｂ同士が接触しないように、回転軸２４ａ、２
４ｂ上における支持ローラ部２６ａ、２６ｂの取付け位
置が相互にずらされている。
【００２９】処理区域の搬送機構を図３に示したような
構成とすることにより、複数本の大径搬送ローラ２２
ａ、２２ｂによる基板Ｗの支持間隔が狭くなる。このた
め、基板Ｗの下面側に処理ユニットを配置するのに十分
な空間を確保しつつ、基板Ｗの搬送方向における撓みの
発生を防止することができる。
構成とすることにより、複数本の大径搬送ローラ２２
ａ、２２ｂによる基板Ｗの支持間隔が狭くなる。このた
め、基板Ｗの下面側に処理ユニットを配置するのに十分
な空間を確保しつつ、基板Ｗの搬送方向における撓みの
発生を防止することができる。
【００３０】図４および図５に処理区域の平面図および
正面図をそれぞれ示した基板処理装置では、シャワーノ
ズルやナイフ型ノズル、ロール状ブラシ、イオナイザノ
ズル等の長尺状の処理ユニット３６を、基板Ｗの搬送方
向と直交する方向に対して平面視で傾斜させるように配
置している。このように、大径搬送ローラ２２を用いて
処理区域の搬送機構を構成することにより、搬送ローラ
による設置スペース上の制約を受けずに、処理ユニット
３６を基板Ｗの下面側に自在に配置することができ、基
板Ｗの処理効果を高めることが可能になる。
正面図をそれぞれ示した基板処理装置では、シャワーノ
ズルやナイフ型ノズル、ロール状ブラシ、イオナイザノ
ズル等の長尺状の処理ユニット３６を、基板Ｗの搬送方
向と直交する方向に対して平面視で傾斜させるように配
置している。このように、大径搬送ローラ２２を用いて
処理区域の搬送機構を構成することにより、搬送ローラ
による設置スペース上の制約を受けずに、処理ユニット
３６を基板Ｗの下面側に自在に配置することができ、基
板Ｗの処理効果を高めることが可能になる。
【００３１】図６は、この発明の別の実施形態を示し、
基板処理装置の搬送ローラ群の一部を示す平面図であ
る。この装置では、処理区域の前・後に配置される搬送
ローラ３８が、回転軸４０に３つ以上、図示例では５つ
の支持ローラ部４２を等間隔で固着した構成を有する。
また、処理区域に配置される大径搬送ローラ４４も、回
転軸４６に、搬送ローラ３８の支持ローラ部４２と同一
ピッチで支持ローラ部４８を固着して構成されている
が、５つの支持ローラ部４８のうちの一部のものが回転
軸４６から除かれている。そして、大径搬送ローラ４４
の回転軸４６から一部の支持ローラ部４８を除いて出来
た空間に、処理ユニット５０を、基板搬送方向と直交す
る方向に対して平面視で傾斜させるように配置してい
る。
基板処理装置の搬送ローラ群の一部を示す平面図であ
る。この装置では、処理区域の前・後に配置される搬送
ローラ３８が、回転軸４０に３つ以上、図示例では５つ
の支持ローラ部４２を等間隔で固着した構成を有する。
また、処理区域に配置される大径搬送ローラ４４も、回
転軸４６に、搬送ローラ３８の支持ローラ部４２と同一
ピッチで支持ローラ部４８を固着して構成されている
が、５つの支持ローラ部４８のうちの一部のものが回転
軸４６から除かれている。そして、大径搬送ローラ４４
の回転軸４６から一部の支持ローラ部４８を除いて出来
た空間に、処理ユニット５０を、基板搬送方向と直交す
る方向に対して平面視で傾斜させるように配置してい
る。
【００３２】搬送ローラ群を図６に示したような構成に
すると、搬送ローラ３８および大径搬送ローラ４４の複
数の支持ローラ部４２、４８による基板の幅方向（基板
搬送方向と直交する方向）における支持間隔が狭くなる
ので、基板の幅方向における撓みの発生を防止すること
ができるとともに、大径搬送ローラ４４の支持ローラ部
４８と干渉することなく処理ユニット５０を基板下面と
大径搬送ローラ４４の回転軸４６との間の空間に配置す
ることができる。
すると、搬送ローラ３８および大径搬送ローラ４４の複
数の支持ローラ部４２、４８による基板の幅方向（基板
搬送方向と直交する方向）における支持間隔が狭くなる
ので、基板の幅方向における撓みの発生を防止すること
ができるとともに、大径搬送ローラ４４の支持ローラ部
４８と干渉することなく処理ユニット５０を基板下面と
大径搬送ローラ４４の回転軸４６との間の空間に配置す
ることができる。
【００３３】次に、図７ないし図９は、基板を安定に搬
送できるようにするため基板の上面側に押えローラ群を
配設した搬送機構を備えた基板処理装置の概略構成を断
面図でそれぞれ示す。
送できるようにするため基板の上面側に押えローラ群を
配設した搬送機構を備えた基板処理装置の概略構成を断
面図でそれぞれ示す。
【００３４】図７に示した基板処理装置では、基板Ｗの
搬送路の下側に、図１および図２に示した装置と同様の
搬送ローラ１０および大径搬送ローラ２２ならびにシャ
ワーノズル３４（処理ユニット）が配設されている。そ
して、基板Ｗの搬送路の上側の処理区域以外には、各搬
送ローラ１０と対向するように、上側回転軸５４に複数
の押えローラ部５６が固着された押えローラ５２がそれ
ぞれ配設されており、その押えローラ５２の押えローラ
部５６と搬送ローラ１０の支持ローラ部１４とで基板Ｗ
を上・下両面側から挟むようにしつつ搬送する。また、
基板Ｗの搬送路の上側の処理区域には、各大径搬送ロー
ラ２２と対向するように、上側回転軸６０に複数の、押
えローラ５２の押えローラ部５６の直径寸法より大きい
直径寸法を有する押えローラ部６２が固着された大径押
えローラ５８がそれぞれ配設されており、その大径押え
ローラ５８の押えローラ部６２と大径搬送ローラ２２の
支持ローラ部２６とで基板Ｗを上・下両面側から挟むよ
うにしつつ基板Ｗを搬送する。また、処理区域には、基
板Ｗの上面と大径押えローラ５８の上側回転軸６０との
間にシャワーノズル３４（処理ユニット）が配設され
る。
搬送路の下側に、図１および図２に示した装置と同様の
搬送ローラ１０および大径搬送ローラ２２ならびにシャ
ワーノズル３４（処理ユニット）が配設されている。そ
して、基板Ｗの搬送路の上側の処理区域以外には、各搬
送ローラ１０と対向するように、上側回転軸５４に複数
の押えローラ部５６が固着された押えローラ５２がそれ
ぞれ配設されており、その押えローラ５２の押えローラ
部５６と搬送ローラ１０の支持ローラ部１４とで基板Ｗ
を上・下両面側から挟むようにしつつ搬送する。また、
基板Ｗの搬送路の上側の処理区域には、各大径搬送ロー
ラ２２と対向するように、上側回転軸６０に複数の、押
えローラ５２の押えローラ部５６の直径寸法より大きい
直径寸法を有する押えローラ部６２が固着された大径押
えローラ５８がそれぞれ配設されており、その大径押え
ローラ５８の押えローラ部６２と大径搬送ローラ２２の
支持ローラ部２６とで基板Ｗを上・下両面側から挟むよ
うにしつつ基板Ｗを搬送する。また、処理区域には、基
板Ｗの上面と大径押えローラ５８の上側回転軸６０との
間にシャワーノズル３４（処理ユニット）が配設され
る。
【００３５】図７に示した装置構成とすることにより、
大径搬送ローラ２２によって支持されつつ搬送される基
板Ｗの上面と大径押えローラ５８の上側回転軸６０との
間の距離が大きくなり、基板Ｗの上面と大径押えローラ
２２の上側回転軸６０との間に大きな空間が確保され
る。このため、基板Ｗの下面側と同様に、基板Ｗの上面
側にも処理ユニットを自在に配置することができること
となる。
大径搬送ローラ２２によって支持されつつ搬送される基
板Ｗの上面と大径押えローラ５８の上側回転軸６０との
間の距離が大きくなり、基板Ｗの上面と大径押えローラ
２２の上側回転軸６０との間に大きな空間が確保され
る。このため、基板Ｗの下面側と同様に、基板Ｗの上面
側にも処理ユニットを自在に配置することができること
となる。
【００３６】図８に示した基板処理装置は、基板Ｗの搬
送路の下側に処理ユニットを配設しないで、処理区域に
も通常の搬送ローラ１０を設置し、基板Ｗの搬送路の上
側に、図７に示した装置と同様の押えローラ５２および
大径押えローラ５８ならびにシャワーノズル３４（処理
ユニット）を配設した構成を備えている。この装置で
は、処理区域において、全ての搬送ローラ１０に対応す
るように大径押えローラ５８を設置する構成とはなって
いない。
送路の下側に処理ユニットを配設しないで、処理区域に
も通常の搬送ローラ１０を設置し、基板Ｗの搬送路の上
側に、図７に示した装置と同様の押えローラ５２および
大径押えローラ５８ならびにシャワーノズル３４（処理
ユニット）を配設した構成を備えている。この装置で
は、処理区域において、全ての搬送ローラ１０に対応す
るように大径押えローラ５８を設置する構成とはなって
いない。
【００３７】図９に示した基板処理装置でも、図８に示
した装置と同様に、基板Ｗの搬送路の下側に処理ユニッ
トを配設しないで処理区域に通常の搬送ローラ１０を設
置している。そして、基板Ｗの搬送路の上側の処理区域
に配設される複数本の大径押えローラの、互いに隣接す
る大径押えローラ５８ａと大径押えローラ５８ｂとにお
いて、上側回転軸６０ａ、６０ｂ間の距離が押えローラ
部６２ａ、６２ｂの直径寸法よりも小さくされている。
また、互いに隣接する大径押えローラ５８ａと大径押え
ローラ５８ｂとで、それぞれの押えローラ部６２ａ、６
２ｂ同士が接触しないように、回転軸６０ａ、６０ｂ上
における押えローラ部６２ａ、６２ｂの取付け位置が相
互にずらされている。なお、図では表現されていない
が、処理区域に配設される複数本の搬送ローラの、互い
に隣接する搬送ローラ１０同士では、各大径押えローラ
５８ａ、５８ｂに対応するように回転軸１２上における
支持ローラ部１４の取付け位置が相互にずらされてい
る。
した装置と同様に、基板Ｗの搬送路の下側に処理ユニッ
トを配設しないで処理区域に通常の搬送ローラ１０を設
置している。そして、基板Ｗの搬送路の上側の処理区域
に配設される複数本の大径押えローラの、互いに隣接す
る大径押えローラ５８ａと大径押えローラ５８ｂとにお
いて、上側回転軸６０ａ、６０ｂ間の距離が押えローラ
部６２ａ、６２ｂの直径寸法よりも小さくされている。
また、互いに隣接する大径押えローラ５８ａと大径押え
ローラ５８ｂとで、それぞれの押えローラ部６２ａ、６
２ｂ同士が接触しないように、回転軸６０ａ、６０ｂ上
における押えローラ部６２ａ、６２ｂの取付け位置が相
互にずらされている。なお、図では表現されていない
が、処理区域に配設される複数本の搬送ローラの、互い
に隣接する搬送ローラ１０同士では、各大径押えローラ
５８ａ、５８ｂに対応するように回転軸１２上における
支持ローラ部１４の取付け位置が相互にずらされてい
る。
【００３８】図９に示した構成によれば、複数本の大径
押えローラ５８ａ、５８ｂと基板Ｗとの、基板搬送方向
における当接間隔を狭くすることが可能になる。このた
め、基板Ｗの搬送方向における撓みの発生を防止するた
めに複数本の搬送ローラ１０による基板Ｗの支持間隔を
狭くした場合でも、基板Ｗの上面側に処理ユニットを配
置するのに十分な空間を確保しつつ、それぞれの搬送ロ
ーラ１０に対応して大径押えローラ５８ａ、５８ｂを配
置することが可能になる。
押えローラ５８ａ、５８ｂと基板Ｗとの、基板搬送方向
における当接間隔を狭くすることが可能になる。このた
め、基板Ｗの搬送方向における撓みの発生を防止するた
めに複数本の搬送ローラ１０による基板Ｗの支持間隔を
狭くした場合でも、基板Ｗの上面側に処理ユニットを配
置するのに十分な空間を確保しつつ、それぞれの搬送ロ
ーラ１０に対応して大径押えローラ５８ａ、５８ｂを配
置することが可能になる。
【００３９】なお、処理区域内であっても、処理ユニッ
トの設置や処理操作に支障が無い部分には、通常の搬送
ローラを設置しても構わない。また、大径搬送ローラ間
に、片持ち式に支持された補助ローラを配設するように
してもよい。さらに、基板をその幅方向において傾斜し
た姿勢で支持しつつ搬送するような場合には、基板の側
辺に当接して支持するサイドローラを設置することもで
きる。
トの設置や処理操作に支障が無い部分には、通常の搬送
ローラを設置しても構わない。また、大径搬送ローラ間
に、片持ち式に支持された補助ローラを配設するように
してもよい。さらに、基板をその幅方向において傾斜し
た姿勢で支持しつつ搬送するような場合には、基板の側
辺に当接して支持するサイドローラを設置することもで
きる。
【００４０】
【発明の効果】請求項１に係る発明の基板処理装置を使
用すると、基板の下面側に処理ユニットを、長手方向が
基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜さ
せるように配置することも含めて自在に配置することが
でき、装置構成を複雑にすることもなく、また、部品点
数が多くなって装置コストが高くなったり調整作業が難
しくなり作業量が増えたりする、といったこともない。
用すると、基板の下面側に処理ユニットを、長手方向が
基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜さ
せるように配置することも含めて自在に配置することが
でき、装置構成を複雑にすることもなく、また、部品点
数が多くなって装置コストが高くなったり調整作業が難
しくなり作業量が増えたりする、といったこともない。
【００４１】請求項２に係る発明の基板処理装置では、
基板の下面側に処理手段を配置するのに十分な空間を確
保しつつ、基板の搬送方向における撓みの発生を防止す
ることができる。
基板の下面側に処理手段を配置するのに十分な空間を確
保しつつ、基板の搬送方向における撓みの発生を防止す
ることができる。
【００４２】請求項３に係る発明の基板処理装置では、
基板の幅方向における撓みの発生を防止しつつ、基板下
面と搬送ローラの回転軸との間の空間に処理手段を配置
することができる。
基板の幅方向における撓みの発生を防止しつつ、基板下
面と搬送ローラの回転軸との間の空間に処理手段を配置
することができる。
【００４３】請求項４に係る発明の基板処理装置を使用
すると、基板の上面側に処理ユニットを、長手方向が基
板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜させ
るように配置することも含めて自在に配置することがで
き、装置構成を複雑にすることもなく、また、部品点数
が多くなって装置コストが高くなったり調整作業が難し
くなり作業量が増えたりする、といったこともない。
すると、基板の上面側に処理ユニットを、長手方向が基
板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜させ
るように配置することも含めて自在に配置することがで
き、装置構成を複雑にすることもなく、また、部品点数
が多くなって装置コストが高くなったり調整作業が難し
くなり作業量が増えたりする、といったこともない。
【００４４】請求項５に係る発明の基板処理装置では、
基板の搬送方向における撓みの発生を防止するために複
数本の搬送ローラによる基板の支持間隔を狭くした場合
でも、基板の上面側に処理手段を配置するのに十分な空
間を確保しつつ、それぞれの搬送ローラに対応して押え
ローラを配置することができる。
基板の搬送方向における撓みの発生を防止するために複
数本の搬送ローラによる基板の支持間隔を狭くした場合
でも、基板の上面側に処理手段を配置するのに十分な空
間を確保しつつ、それぞれの搬送ローラに対応して押え
ローラを配置することができる。
【００４５】請求項６に係る発明の基板処理装置では、
基板の処理効果を高めることができる。
基板の処理効果を高めることができる。
【００４６】請求項７に係る発明の基板処理装置では、
基板の洗浄効果を高めることができる。
基板の洗浄効果を高めることができる。
【図１】この発明の実施形態の１例を示し、基板処理装
置の一部の概略構成を示す平面図である。
置の一部の概略構成を示す平面図である。
【図２】図１のII−II矢視断面図である。
【図３】この発明の別の実施形態を示し、基板処理装置
の処理区域における搬送機構の平面図である。
の処理区域における搬送機構の平面図である。
【図４】この発明のさらに別の実施形態を示し、基板処
理装置の処理区域における搬送機構の平面図である。
理装置の処理区域における搬送機構の平面図である。
【図５】図４に示した搬送機構の正面図である。
【図６】この発明のさらに別の実施形態を示し、基板処
理装置の搬送ローラ群の一部を示す平面図である。
理装置の搬送ローラ群の一部を示す平面図である。
【図７】図１ないし図６に係る発明とは異なる発明の実
施形態の１例を示し、基板処理装置の一部の概略構成を
示す断面図である。
施形態の１例を示し、基板処理装置の一部の概略構成を
示す断面図である。
【図８】同じく異なる発明の別の実施形態を示し、基板
処理装置の一部の概略構成を示す断面図である。
処理装置の一部の概略構成を示す断面図である。
【図９】同じく異なる発明のさらに別の実施形態を示
し、基板処理装置の一部の概略構成を示す断面図であ
る。
し、基板処理装置の一部の概略構成を示す断面図であ
る。
【図１０】従来の基板処理装置における搬送機構の概略
構成の１例を示す一部平面図である。
構成の１例を示す一部平面図である。
【図１１】図１０のXI−XI矢視断面図である。
【図１２】従来の基板処理装置における搬送機構の概略
構成の別の例を示す一部平面図である。
構成の別の例を示す一部平面図である。
【図１３】従来の基板処理装置における搬送機構の概略
構成のさらに別の例を示す部分拡大正面図である。
構成のさらに別の例を示す部分拡大正面図である。
１０、３８ 搬送ローラ
１２、４０ 搬送ローラの回転軸
１４、４２ 搬送ローラの支持ローラ部
１６、２８ モータ
１８、３０ プーリ
２０、３２ ベルト
２２、２２ａ、２２ｂ、４４ 大径搬送ローラ
２４、２４ａ、２４ｂ、４６ 大径搬送ローラの回転軸
２６、２６ａ、２６ｂ、４８ 大径搬送ローラの支持ロ
ーラ部 ３４ シャワーノズル（処理ユニット） ３６、５０ 処理ユニット ５２ 押えローラ ５４ 押えローラの上側回転軸 ５６ 押えローラの押えローラ部 ５８、５８ａ、５８ｂ 大径押えローラ ６０、６０ａ、６０ｂ 大径押えローラの上側回転軸 ６２、６２ａ、６２ｂ 大径押えローラの押えローラ部 Ｗ 基板 Ａ 処理区域 ｌ 大径搬送ローラの回転軸間の距離 Ｄ 大径搬送ローラの支持ローラ部の直径寸法
ーラ部 ３４ シャワーノズル（処理ユニット） ３６、５０ 処理ユニット ５２ 押えローラ ５４ 押えローラの上側回転軸 ５６ 押えローラの押えローラ部 ５８、５８ａ、５８ｂ 大径押えローラ ６０、６０ａ、６０ｂ 大径押えローラの上側回転軸 ６２、６２ａ、６２ｂ 大径押えローラの押えローラ部 Ｗ 基板 Ａ 処理区域 ｌ 大径搬送ローラの回転軸間の距離 Ｄ 大径搬送ローラの支持ローラ部の直径寸法
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｂ６５Ｇ 49/07 Ｂ６５Ｇ 49/07 Ｂ ５Ｅ３４３
Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｑ ５Ｆ０３１
3/26 3/26 Ａ
13/02 13/02 Ｖ
Ｆターム(参考） 3B116 AA01 AB14 AB47 BA02 BA12
BB22 CC03
3B201 AA01 AB14 AB47 BA02 BA12
BB22 BB92 CC12
3F033 BA01 BB02 BC02
5E313 AA11 DD12 FF11
5E339 BE11
5E343 EE02 FF09 FF23
5F031 CA02 CA05 CA20 GA53 LA13
MA23
Claims (7)
- 【請求項１】 回転軸に複数の支持ローラ部を固着した
搬送ローラを複数本、互いに平行に配置し基板の搬送方
向に沿って並列させた搬送ローラ群により、基板を支持
しつつ搬送しながら、処理手段によって基板の下面を処
理する基板処理装置において、 前記搬送ローラ群の、前記処理手段が配設される区域の
１本もしくは２本以上の搬送ローラの支持ローラ部の直
径寸法を、前記区域以外の搬送ローラの支持ローラ部の
直径寸法よりも大きくしたことを特徴とする基板処理装
置。 - 【請求項２】 請求項１記載の基板処理装置において、 前記搬送ローラ群の、前記処理手段が配設される区域に
複数本の搬送ローラが配置され、それら複数本の搬送ロ
ーラの、互いに隣接するもの同士において、回転軸間の
距離が支持ローラ部の直径寸法よりも小さくされ、か
つ、回転軸上における支持ローラ部の取付け位置が相互
にずらされたことを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２記載の基板処理
装置において、 前記搬送ローラの回転軸に３つ以上の支持ローラ部が間
隔を設けて固着され、 前記搬送ローラ群の、前記処理手段が配設される区域に
配置された搬送ローラにおいて、前記処理手段と干渉す
る支持ローラ部が回転軸から除かれたことを特徴とする
基板処理装置。 - 【請求項４】 回転軸に複数の支持ローラ部を固着した
搬送ローラを複数本、互いに平行に配置し基板の搬送方
向に沿って並列させた搬送ローラ群により、基板を支持
するとともに、前記搬送ローラの回転軸の上方にその回
転軸と対向するように配置された上側回転軸に複数の押
えローラ部を固着した押えローラを複数本、互いに平行
に配置し基板の搬送方向に沿って並列させた押えローラ
群により、前記搬送ローラ群と協働して基板を挟みつ
つ、基板を搬送しながら、処理手段によって基板の上面
を処理する基板処理装置において、 前記押えローラ群の、前記処理手段が配設される区域の
１本もしくは２本以上の押えローラの押えローラ部の直
径寸法を、前記区域以外の搬送ローラの押えローラ部の
直径寸法よりも大きくしたことを特徴とする基板処理装
置。 - 【請求項５】 請求項４記載の基板処理装置において、 前記押えローラ群の、前記処理手段が配設される区域に
複数本の押えローラが配置され、それら複数本の押えロ
ーラの、互いに隣接するもの同士において、上側回転軸
間の距離が押えローラ部の直径寸法よりも小さくされ、
かつ、上側回転軸上における押えローラ部の取付け位置
が相互にずらされたことを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項６】 請求項１ないし請求項５のいずれかに記
載の基板処理装において、 前記処理手段が、基板の幅方向全体にわたって液体また
は気体を供給する長尺状ノズルであって、その長尺状ノ
ズルが、基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視
で傾斜するように配置されたことを特徴とする基板処理
装置。 - 【請求項７】 請求項１ないし請求項５のいずれかに記
載の基板処理装置において、 前記処理手段が、基板の幅方向全体にわたって当接する
ロール状ブラシであって、そのロール状ブラシが、基板
の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜するよ
うに配置されたことを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001279200A JP3926593B2 (ja) | 2001-09-14 | 2001-09-14 | 基板処理装置 |
| KR10-2002-0047452A KR100484061B1 (ko) | 2001-09-14 | 2002-08-12 | 기판처리장치 |
| TW091119368A TW546235B (en) | 2001-09-14 | 2002-08-27 | Substrate processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001279200A JP3926593B2 (ja) | 2001-09-14 | 2001-09-14 | 基板処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003086654A true JP2003086654A (ja) | 2003-03-20 |
| JP3926593B2 JP3926593B2 (ja) | 2007-06-06 |
Family
ID=19103436
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001279200A Expired - Lifetime JP3926593B2 (ja) | 2001-09-14 | 2001-09-14 | 基板処理装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3926593B2 (ja) |
| KR (1) | KR100484061B1 (ja) |
| TW (1) | TW546235B (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005175497A (ja) * | 2003-12-10 | 2005-06-30 | Hoellmueller Maschinenbau Gmbh | 連続設備で平坦な材料を接触せずに搬送および処理する方法および装置 |
| JP2005175496A (ja) * | 2003-12-10 | 2005-06-30 | Hoellmueller Maschinenbau Gmbh | 連続設備で平坦な材料を処理する方法および装置 |
| JP2009158790A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Hitachi Chem Co Ltd | 水平搬送型表面処理装置 |
| CN102205911A (zh) * | 2010-03-29 | 2011-10-05 | 大日本网屏制造株式会社 | 基板处理装置、转换方法和移载方法 |
| WO2014054073A1 (ja) * | 2012-10-04 | 2014-04-10 | 平田機工株式会社 | 搬送ユニット、減速停止装置、搬送システム及び制御方法 |
| JP2014132697A (ja) * | 2014-04-15 | 2014-07-17 | Fuji Mach Mfg Co Ltd | 製造作業機 |
| JP2015118969A (ja) * | 2013-12-17 | 2015-06-25 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板搬送装置及び基板処理装置 |
| US9363936B2 (en) | 2010-04-29 | 2016-06-07 | Fuji Machine Mfg. Co., Ltd. | Manufacture work machine and manufacture work system |
| US9374935B2 (en) | 2010-04-29 | 2016-06-21 | Fuji Machine Mfg. Co., Ltd. | Manufacture work machine |
| JP2020066477A (ja) * | 2018-10-22 | 2020-04-30 | 株式会社Ｆｅｂａｃｓ | 基板搬送装置およびこの基板搬送装置を備えた基板処理装置 |
| CN115535519A (zh) * | 2022-09-21 | 2022-12-30 | 漳州市百事得家具有限公司 | 一种应用于定制家具生产的智能柔性封边生产线 |
| WO2024048203A1 (ja) * | 2022-08-31 | 2024-03-07 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4373175B2 (ja) * | 2003-10-17 | 2009-11-25 | オリンパス株式会社 | 基板搬送装置 |
| JP4789446B2 (ja) * | 2004-09-27 | 2011-10-12 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板の処理装置 |
| KR20190110442A (ko) * | 2018-03-20 | 2019-09-30 | 오르보테크 엘티디. | 광학 처리 시스템 내에서 기판으로부터 파편을 제거하기 위한 시스템 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09232268A (ja) * | 1996-02-19 | 1997-09-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP3388988B2 (ja) * | 1996-03-18 | 2003-03-24 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
-
2001
- 2001-09-14 JP JP2001279200A patent/JP3926593B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-08-12 KR KR10-2002-0047452A patent/KR100484061B1/ko active IP Right Grant
- 2002-08-27 TW TW091119368A patent/TW546235B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005175497A (ja) * | 2003-12-10 | 2005-06-30 | Hoellmueller Maschinenbau Gmbh | 連続設備で平坦な材料を接触せずに搬送および処理する方法および装置 |
| JP2005175496A (ja) * | 2003-12-10 | 2005-06-30 | Hoellmueller Maschinenbau Gmbh | 連続設備で平坦な材料を処理する方法および装置 |
| JP4652793B2 (ja) * | 2003-12-10 | 2011-03-16 | ヘルミューラー マシネンバウ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 連続設備で平坦な材料を処理する方法および装置 |
| JP4652794B2 (ja) * | 2003-12-10 | 2011-03-16 | ヘルミューラー マシネンバウ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 連続設備で平坦な材料を接触せずに搬送および処理する方法および装置 |
| JP2009158790A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Hitachi Chem Co Ltd | 水平搬送型表面処理装置 |
| CN102205911A (zh) * | 2010-03-29 | 2011-10-05 | 大日本网屏制造株式会社 | 基板处理装置、转换方法和移载方法 |
| US9363936B2 (en) | 2010-04-29 | 2016-06-07 | Fuji Machine Mfg. Co., Ltd. | Manufacture work machine and manufacture work system |
| US9374935B2 (en) | 2010-04-29 | 2016-06-21 | Fuji Machine Mfg. Co., Ltd. | Manufacture work machine |
| US10098269B2 (en) | 2010-04-29 | 2018-10-09 | Fuji Machine Mfg. Co., Ltd. | Manufacture work machine for controlling a plurality of work-element performing apparatuses by central control device |
| US9485895B2 (en) | 2010-04-29 | 2016-11-01 | Fuji Machine Mfg. Co., Ltd. | Central control device and centralized control method |
| US9469479B2 (en) | 2012-10-04 | 2016-10-18 | Hirata Corporation | Transport unit, deceleration stop device, transport system, and control method |
| WO2014054073A1 (ja) * | 2012-10-04 | 2014-04-10 | 平田機工株式会社 | 搬送ユニット、減速停止装置、搬送システム及び制御方法 |
| JP5941155B2 (ja) * | 2012-10-04 | 2016-06-29 | 平田機工株式会社 | 搬送システム及び制御方法 |
| CN104684823A (zh) * | 2012-10-04 | 2015-06-03 | 平田机工株式会社 | 输送单元、减速停止装置、输送系统及控制方法 |
| JP2015118969A (ja) * | 2013-12-17 | 2015-06-25 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板搬送装置及び基板処理装置 |
| JP2014132697A (ja) * | 2014-04-15 | 2014-07-17 | Fuji Mach Mfg Co Ltd | 製造作業機 |
| JP2020066477A (ja) * | 2018-10-22 | 2020-04-30 | 株式会社Ｆｅｂａｃｓ | 基板搬送装置およびこの基板搬送装置を備えた基板処理装置 |
| JP7198039B2 (ja) | 2018-10-22 | 2022-12-28 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎフェバックス | 基板搬送装置およびこの基板搬送装置を備えた基板処理装置 |
| WO2024048203A1 (ja) * | 2022-08-31 | 2024-03-07 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
| CN115535519A (zh) * | 2022-09-21 | 2022-12-30 | 漳州市百事得家具有限公司 | 一种应用于定制家具生产的智能柔性封边生产线 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3926593B2 (ja) | 2007-06-06 |
| KR20030023475A (ko) | 2003-03-19 |
| KR100484061B1 (ko) | 2005-04-19 |
| TW546235B (en) | 2003-08-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2003086654A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3919464B2 (ja) | 搬送装置、洗浄装置及び現像装置 | |
| TWI376344B (en) | Apparatus for carrying substrates | |
| JP3175908B2 (ja) | 液処理装置の基板搬送装置 | |
| CN209792056U (zh) | 玻璃基板的清洗装置 | |
| JPH07283185A (ja) | 基板洗浄装置 | |
| JP4838929B2 (ja) | 基板の処理装置 | |
| JP4485853B2 (ja) | 基板の搬送装置及び搬送方法 | |
| JP4079579B2 (ja) | ウェット処理装置 | |
| JP4602567B2 (ja) | 基板の洗浄装置 | |
| JPH08244930A (ja) | 基板搬送装置 | |
| JP4504839B2 (ja) | 基板の処理装置 | |
| JP4452033B2 (ja) | 基板の搬送装置及び搬送方法 | |
| JP3881098B2 (ja) | 基板搬送装置及び基板処理装置 | |
| JP4908316B2 (ja) | 洗浄装置、フラットパネルディスプレイの製造装置及びフラットパネルディスプレイ | |
| KR101334770B1 (ko) | 디스플레이 기판 이송 가이드 장치 | |
| JP4976358B2 (ja) | 基板乾燥装置 | |
| KR101116654B1 (ko) | 기판 이송 모듈 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 | |
| JP2001102283A5 (ja) | ||
| JP2004210511A (ja) | 基板の処理装置及び処理方法 | |
| JP2001102283A (ja) | 基板処理装置 | |
| KR200338594Y1 (ko) | 상압 플라즈마를 이용한 기판세정 공정용 이송장치 | |
| JPH11236117A (ja) | ローラコンベアシステム | |
| JPH11216430A (ja) | 洗浄装置 | |
| JPH1110096A (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060124 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060418 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060615 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070206 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070228 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3926593 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100309 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100309 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110309 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110309 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120309 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120309 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120309 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130309 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130309 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130309 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140309 Year of fee payment: 7 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |