JPH1110096A

JPH1110096A - 基板処理装置

Info

Publication number: JPH1110096A
Application number: JP9164572A
Authority: JP
Inventors: Mitsuaki Yoshitani; 光明芳谷
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1997-06-20
Filing date: 1997-06-20
Publication date: 1999-01-19

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】基板搬送の安定性を確保と、基板サイズ変更
時の作業性を改善する。【解決手段】多種の基板サイズに対応するためのロー
ラ幅変更作業の場合には上側の滑り軸受、押えローラ軸
１３および鍔付押えローラ部材１４のみを一体的に切欠
から抜き取って、別の所定幅の基板に対応した滑り軸
受、押えローラ軸１３および鍔付押えローラ部材１４を
一体的に切欠内に嵌入するだけで、滑り軸受、搬送ロー
ラ軸１０および搬送ローラ部材１１を一体的に切欠から
取り外す必要はなく、変更後の所定幅の基板に対しても
滑り軸受、搬送ローラ軸１０および搬送ローラ部材１１
を共用することができる。このため、従来の鍔付ローラ
を基板裏面側に配設した場合と比べて基板サイズの変更
に伴う労力を大幅に軽減させることができて、基板サイ
ズ変更時の作業性を改善することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体基
板、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ（プラズマディ
スプレイ）用ガラス基板、プリント基板などの板状基板
（以下、単に基板という）を搬送しつつ当該基板に対し
て所定の処理（洗浄処理、現像処理、エッチング処理、
剥離処理および乾燥処理など）を行う基板処理装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の基板処理装置は、搬送ロ
ーラ上に基板が載置されて搬送されつつ、その搬送経路
上方の噴射ノズルから処理液を下方に向けて噴射させて
基板面に供給し、基板面にウエット処理（洗浄処理、現
像処理、エッチング処理および剥離処理など）や乾燥処
理などを施すようになっている。この場合、基板姿勢が
水平搬送の場合と傾斜搬送の場合とがあり、また、搬送
ローラがサイドガイドローラ方式の場合や、裏面鍔付き
ローラ方式の場合などがある。

【０００３】この基板姿勢が傾斜状態の搬送で搬送ロー
ラがサイドガイドローラ方式の場合については、例えば
特開平７−２８３１８５号公報「基板洗浄装置」に示さ
れており、回転軸の長手方向を水平方向に対して所定角
度傾斜させた状態でその回転軸に搬送ローラを所定間隔
毎に配設している搬送ローラ部材がウエハの搬送方向に
複数並設されている。ウエハの裏面は搬送ローラによっ
て支持され、傾斜方向下側のウエハの端面は、基板端面
支持板に突き当てるようにして支持されている。また、
搬送ローラ部材の上方には、洗浄水を下方に向けて噴射
する洗浄水噴射ノズルが配設されている。

【０００４】この構成によって、ウエハを洗浄する場
合、各搬送ローラ部材および基板端面支持板を回転駆動
させることにより、傾斜状態で支持されたウエハを搬送
しつつ、その上方の洗浄水噴射ノズルから洗浄水を下方
に向けて噴射させて、ウエハ上の異物を洗浄して除去す
るようになっている。

【０００５】また、基板姿勢が傾斜状態の搬送で搬送ロ
ーラが裏面鍔付きローラ方式の場合については、例えば
実開平６−８７３３８号公報「枚葉状処理物の搬送装
置」に示されている。この搬送装置は、搬送軸と、鍔部
を外側、ローラ部を内側にそれぞれ向けた状態で搬送軸
の両側にそれぞれ配設された鍔付搬送ローラと、これら
両鍔付搬送ローラの上方に配設された押えローラ軸と、
この押えローラ軸の両側にそれぞれ配設され、両鍔付搬
送ローラの各ローラ部上に載置された基板の両端縁を上
側からそれぞれ押える押えローラとを有し、これらが、
水平面に対して傾斜させた状態で配置されており、被処
理物である基板の両端縁を上下から挟持した状態で搬送
するようになっている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の
サイドガイドローラ方式の構成（特開平７−２８３１８
５号公報記載の構成）では、ウエハの裏面は搬送ローラ
によって支持され、傾斜方向下側のウエハの一方端面は
基板端面支持板で支持しているが、押えローラがなく基
板上面は保持されていないため、多種の基板サイズに対
して押えローラの取外作業なく容易に対応することがで
きるものの、ブラシ洗浄や高圧水洗浄などの物理力を利
用した水洗手段などを用いて表面処理する場合には、基
板搬送方向に対して直角な上下方向の力が基板面に作用
することになって、搬送ローラと押えローラで少なくと
も基板の幅方向両端縁を確実に保持しないと基板保持力
が不足して安定な基板搬送ができず、安定な表面処理が
できないという問題を有していた。また、ブラシ洗浄処
理や薬液などを使用すると搬送ローラと押えローラで少
なくとも基板の幅方向両端縁を確実に保持しないと基板
と搬送ローラがスリップして基板搬送に支障を来たす虞
があるという問題を有していた。

【０００７】また、上記従来の裏面鍔付きローラ方式の
構成（実開平６−８７３３８号公報記載の構成）では、
搬送ローラと押えローラによって基板両端縁が保持さ
れ、上記ブラシ洗浄や高圧水洗浄などの物理力を利用し
た水洗手段に対しても基板搬送および表面処理の安定性
が確保できるものの、多種の基板幅サイズに対応するた
めに、その都度、押えローラ間の設置距離と搬送ローラ
間の設置距離とを順に変更しなければならず、多大な労
力を必要として作業性が悪いという問題を有していた。

【０００８】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
で、基板搬送の安定性を確保すると共に、基板サイズ変
更時の作業性を改善することができる基板処理装置を提
供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の基板処理装置
は、基板を所定の搬送方向に搬送しつつ基板処理を行う
基板処理装置において、基板を下方から支持して搬送可
能な搬送ローラと、この搬送ローラ上の基板をローラ部
で上方から押えると共に基板幅方向端面を鍔部で規制す
る鍔付押えローラとを備えたことを特徴とするものであ
る。

【００１０】この構成により、搬送ローラ側には搬送幅
規制用の鍔部を設けず、搬送ローラの上方の押えローラ
に鍔部を設けたので、基板幅サイズ変更時には、その上
側の鍔付押えローラに代えて、変更する基板幅サイズに
応じた鍔付押えローラとすればよく、押えローラと搬送
ローラを共に代える従来の作業に比べてその作業性が改
善される。また、基板は搬送時に搬送ローラと鍔付押え
ローラとで挟持されて保持されているので、ブラシ洗浄
や高圧水洗浄などの物理力を利用した洗浄手段などに対
しても基板搬送および表面処理の安定性が確保される。
また、搬送ローラと鍔付押えローラで基板を挟持してい
るので、十分な搬送駆動力を確保することが可能とな
る。

【００１１】また、本発明の基板処理装置は、基板を所
定の搬送方向に搬送しつつ基板処理を行う基板処理装置
において、基板搬送方向に直角な基板幅方向に延びる状
態でこの基板搬送方向に互いに並設されて回転駆動され
る複数本の搬送ローラ軸と、各搬送ローラ軸に固定され
て基板を下方から支持する搬送ローラと、基板の幅方向
に延びる状態で搬送ローラよりも上方の高さ位置に上下
動可能でかつ回転可能に設けられた押えローラ軸と、こ
の押えローラ軸に設けられて基板をローラ部で上方から
押えると共に基板幅方向両端面を各鍔部で規制する鍔付
押えローラ対とを備えたことを特徴とするものである。

【００１２】この構成により、多種の基板幅サイズに対
応するための基板幅サイズ変更作業時に、上側の押えロ
ーラ軸および鍔付押えローラのみを変更するだけでよ
く、従来の鍔付ローラを基板裏面側に配設した場合と比
べて基板幅サイズ変更に伴う労力が大幅に軽減され、基
板幅サイズ変更時の作業性を改善することが可能とな
る。また、鍔付押えローラで基板の両端部が基板幅方向
に規制された状態で保持されているので、ブラシ洗浄手
段や高圧スプレー手段などの洗浄手段に対しても安定な
基板搬送および表面処理が確保される。また、ブラシ洗
浄手段や高圧スプレー手段などの洗浄手段などで搬送基
板に抵抗がかかったり、薬液使用で搬送ローラと基板面
との摩擦力が低下したり、さらには、従来では、基板裏
面処理時に基板に裏面から何らかの力が加えられて基板
が持ち上げられて搬送駆動力が搬送ローラから基板に伝
わりにくくなるような場合であっても、搬送ローラと鍔
付押えローラで基板の両端縁を挟持しているので、十分
な搬送駆動力を確保することが可能となる。

【００１３】また、好ましくは、本発明の基板処理装置
における鍔付押えローラは押えローラ軸に沿ってスライ
ド自在に構成されている。また、好ましくは、搬送ロー
ラは、基板裏面全面の接触ローラ外周に、基板幅サイズ
に応じてスライドさせた鍔付押えローラの鍔部を逃がす
空間部が設けられている。

【００１４】この構成により、鍔付押えローラはスライ
ド自在にあるので、基板幅サイズ変更が容易である。ま
た、搬送ローラを基板裏面全面の接触ローラとすれば、
基板裏面の局部的な荷重によるローラ接触痕が低減され
る。また、鍔付押えローラの鍔部を避けるべく、基板幅
サイズに応じてスライドさせた鍔付押えローラの鍔部に
対応した搬送ローラ外周に空間部として溝加工などをし
ておけば、その溝の位置に合わせて鍔付押えローラをス
ライドさせるだけでよく、基板幅サイズに応じて基板幅
変更時の位置決めが容易になる。

【００１５】また、本発明の基板処理装置は、基板を水
平方向に対して傾斜させた状態で、所定の搬送方向に搬
送しつつ基板処理を行う基板処理装置において、基板搬
送方向に直角な基板幅方向に延びる状態でこの基板搬送
方向に互いに並設されて回転駆動される複数本の搬送ロ
ーラ軸と、各搬送ローラ軸に基板の幅サイズに応じて互
いに異なる位置に固定されて対応する基板を下方から支
持する複数のローラ部を有する搬送ローラと、基板の幅
方向に延びる状態で搬送ローラよりも上方の高さ位置に
回転可能に設けられた押えローラ軸と、この押えローラ
軸に設けられて基板の下側端縁をローラ部で上方から押
えると共に下側の基板幅方向端面を鍔部で規制する鍔付
押えローラとを備えたことを特徴とするものである。

【００１６】この構成により、傾斜上方側の鍔付押えロ
ーラを省略すれば、部品点数の低減だけではなく、上記
のような基板幅サイズに応じた基板幅変更処理が必要な
くなって、多種の基板幅サイズに対応可能となる。この
ため、特定の異なる幅サイズの基板を連続的に処理可能
となって基板幅変更作業時間の削減と装置稼動率の向上
を図ることが可能となる。この場合においても上記と同
様に、安定な基板搬送および搬送駆動力が確保されて良
好な表面処理となる。

【００１７】さらに、本発明の基板処理装置は、基板を
所定の搬送方向に搬送しつつ基板処理を行う基板処理装
置において、基板搬送方向に直角な基板幅方向に延びる
状態でこの基板搬送方向に互いに並設されて回転駆動さ
れる複数本の搬送ローラ軸と、各搬送ローラ軸に固定さ
れて基板を下方から支持する搬送ローラと、基板の幅方
向に延びる状態で搬送ローラよりも上方の高さ位置に上
下動可能でかつ回転可能に設けられた押えローラ軸と、
この押えローラ軸に設けられて基板をローラ部で上方か
ら押えると共に基板幅方向両端面を各鍔部で規制する複
数の鍔付押えローラ対とを備え、各鍔付押えローラ対の
径を互いに異ならせて大径の鍔付押えローラ対を小径の
鍔付押えローラ対の両外側の位置に配設したことを特徴
とするものである。

【００１８】この構成により、上記のような基板幅サイ
ズに応じた基板幅変更処理が必要なくなって、多種の基
板幅サイズに対応可能となる。このため、特定の異なる
幅サイズの基板を連続的に処理可能となって基板幅変更
作業時間の削減と装置稼動率の向上を図ることが可能と
なる。この場合においても上記と同様に、安定な基板搬
送および搬送駆動力が確保されて良好な表面処理とな
る。さらには、常に搬送ローラのセンター位置と基板の
センター位置とが一致するために前後の装置とのインラ
インが容易となる。

【００１９】また、本発明の基板処理装置は、基板を所
定の搬送方向に搬送しつつ基板処理を行う基板処理装置
において、基板搬送方向に直角な基板幅方向に延びる状
態でこの基板搬送方向に互いに並設されて回転駆動され
る複数本の搬送ローラ軸と、各搬送ローラ軸に固定され
て基板を下方から支持する搬送ローラと、基板の幅方向
に延びる状態で搬送ローラよりも上方の高さ位置に上下
動可能でかつ回転可能に設けられた押えローラ軸と、こ
の押えローラ軸に設けられ、基板の幅サイズに応じて径
の異なるローラ部を大径のローラ部ほど外側の位置に配
設すると共に、最大径のローラ部の外側位置に鍔部を配
設して、ローラ部で基板を上方から押えると共に基板幅
方向両端面を各ローラ部側壁または各鍔部で規制する鍔
付押えローラ対とを備えたことを特徴とするものであ
る。

【００２０】この構成により、基板の幅サイズに応じて
径の異なるローラ部を鍔付押えローラに一体的に設けた
ので、部品点数の低減だけではなく、上記のような基板
幅サイズに応じた鍔付押えローラ毎に位置調整もなくな
ってその作業性が向上する。これに加えて上記と同様
に、基板幅サイズに応じた基板幅変更処理が必要なくな
って、多種の基板幅サイズに対応可能となる。このた
め、特定の異なる幅サイズの基板を連続的に処理可能と
なって基板幅変更作業時間の削減と装置稼動率の向上を
図ることが可能となる。この場合においても上記と同様
に、安定な基板搬送および搬送駆動力が確保されて良好
な表面処理となる。さらには、常に搬送ローラのセンタ
ー位置と基板のセンター位置とが一致するために前後の
装置とのインラインが容易となる。

【００２１】また、好ましくは、本発明の基板処理装置
における搬送ローラは、基板裏面全面の接触ローラ外周
に、鍔付押えローラを逃がす空間部が設けられている。

【００２２】この構成により、搬送ローラを基板裏面全
面の接触ローラとすれば、基板裏面の局部的な荷重によ
るローラ接触痕が低減される。

【００２３】さらに、好ましくは、本発明の基板処理装
置における鍔付押えローラのローラ部に、弾性体よりな
るＯリングおよび、基板表面を押える複数の凸部の何れ
かが配設されている。

【００２４】この構成により、鍔付押えローラと基板面
との滑りが防止され大型基板であっても安定な基板搬送
および搬送駆動力が確保されて良好な表面処理となる。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る基板処理装置
の実施形態について図面を参照して説明するが、本発明
は以下に示す実施形態に限定されるものではない。

【００２６】（実施形態１）図１は本発明の実施形態１
の基板処理装置の概略構成を示す側面図である。

【００２７】図１において、この基板処理装置は、その
手前側（図１の左側）には基板が搬入される基板搬入部
１と、この基板搬入部１の奥側（図１の中央部）に配設
され基板に対して表面処理を行う表面処理部２と、この
表面処理部２の奥側（図１の右側）に配設され基板を搬
出する基板搬出部３とを備えており、これらの順に基板
が基板搬送方向Ａに沿って水平方向に対して所定角度傾
斜させた状態で搬送されるようになっている。この表面
処理部２の上方にはシャワー装置４が設けられており、
このシャワー装置４から表面処理部２で搬送中の基板上
面に処理液（本実施形態では洗浄液）が供給されるよう
になっている。また、この表面処理部２の下部には、シ
ャワー装置４から噴出される処理液を回収する処理液貯
槽（図示せず）が配設されている。

【００２８】次に、この基板処理装置の基板搬送手段に
ついて説明する。この装置の左右両側（図１の手前側と
奥側）には、基板搬入部１、表面処理部２さらに基板搬
出部３に亘って両側壁５がそれぞれ設置されている。

【００２９】この両側壁５において、基板搬入部１、表
面処理部２さらに基板搬出部３に位置する部分の上部に
は、複数の切欠６，７，８が上記搬送方向に沿って並設
されている。これらの切欠６，７，８は縦長矩形状で上
方に開口し、その底部に滑り軸受９が支持されており、
この滑り軸受９によって搬送ローラ軸１０の両端が回転
可能に保持されている。

【００３０】その詳細を図２に示している。この滑り軸
受９は、本体部９ａと、この本体部９ａよりも大径のつ
ば部９ｂとを持つ筒状に形成されている。本体部９ａ
は、その幅寸法が切欠６，７，８（図２では切欠７を示
す）の幅寸法と等しくなるようにその幅方向の両端部垂
直平面９ｃでカットされており、この本体部９ａが切欠
６，７，８内にその底部まで嵌入されている。搬送ロー
ラ軸１０の両端部は、他の部分よりも小径の小径端部１
０ａとされており、この小径端部１０ａが上記滑り軸受
９内に回転自在に嵌入されている。

【００３１】各搬送ローラ軸１０には、基板の幅方向両
端縁を支持可能な外周円形のローラ部１１ａを有した左
右一対の搬送ローラ部材１１が配設されている。この搬
送ローラ部材１１は、全体が筒状に構成されており、そ
の筒状の内径が搬送ローラ軸１０に外嵌され、図示しな
いボルトによって搬送ローラ軸１０と搬送ローラ部材１
１が相対回転不能に構成されている。

【００３２】さらに、表面処理部２における所定の切欠
７内には、上記滑り軸受９の上方から滑り軸受１２が配
設されており、この滑り軸受１２によって押えローラ軸
１３の両端が回転可能に保持されている。図２に示すよ
うに、滑り軸受１２も上記滑り軸受９と同様に、本体部
１２ａと、この本体部１２ａよりも大径のつば部１２ｂ
とを持つ筒状に形成されている。本体部１２ａは、その
幅寸法が切欠７の幅寸法と等しくなるようにその幅方向
の両端部垂直平面１２ｃでカットされており、この本体
部１２ａが切欠７内の滑り軸受１２上方に上下動可能に
嵌入されている。押えローラ軸１３の両端部は、他の部
分よりも小径の小径端部１３ａとされており、この小径
端部１３ａが上記滑り軸受１２内に回転自在に嵌入され
ている。

【００３３】各押えローラ軸１３には、基板の幅方向両
端縁を上側から押え可能な小径のローラ部１４ａと、こ
のローラ部１４ａよりも大径の鍔部１４ｂとを同軸状で
一体に有した左右一対の鍔付押えローラ部材１４がそれ
ぞれ配設されている。この鍔付押えローラ部材１４は、
基板をローラ部１４ａで上方から押えると共に基板幅方
向両端面を両鍔部１４で両側から蛇行防止のために規制
するように構成されている。また、この鍔付押えローラ
部材１４は、全体が筒状に構成されており、その筒状の
内径が押えローラ軸１３に外嵌され、図示しないボルト
によって押えローラ軸１３と鍔付押えローラ部材１４が
相対回転不能に構成されている。

【００３４】以上の搬送ローラ軸１０および搬送ローラ
部材１１と、その上方に位置する押えローラ軸１３およ
び鍔付押えローラ部材１４について、図３（ａ）および
図３（ｂ）を参照してさらに詳しく説明する。

【００３５】図３は、図１の基板処理装置のローラ搬送
部の要部構成を示す正面図であり、（ａ）は基板が搬送
されていない場合の図、（ｂ）は基板が搬送されている
場合の図である。

【００３６】図３（ｂ）に示すように、搬送ローラ軸１
０は、基板１５の搬送方向（図の前後方向）に直角な基
板幅方向（図の左右方向）に延びる状態でこの基板１５
の搬送方向に互いに並設されて回転駆動されるように複
数本配設されている。また、搬送ローラ部材１１は、基
板１５の幅寸法よりも若干狭い間隔で一対、搬送ローラ
軸１０にそれぞれ固定されており、そのローラ部１１ａ
は、基板１５の裏面の幅方向両端縁部を下方からそれぞ
れ支持するようになっている。さらに、押えローラ軸１
３は、基板１５の幅方向に延びる状態で搬送ローラ部材
１１のローラ部１１ａよりも上方の高さ位置で上下動可
能でかつ回転可能に設けられている。さらに、鍔付押え
ローラ部材１４は、各鍔部１４ｂの間の内寸が基板１５
の幅寸法よりも若干広い間隔となるように一対、搬送ロ
ーラ軸１０にそれぞれ固定されている。このように、一
対の鍔付押えローラ部材１４は、押えローラ軸１３に設
けられて基板１５をローラ部１４ａで上方から押えると
共に基板１５の幅方向両端面を各鍔部１４ｂで両側から
蛇行防止のためにそれぞれ規制するようになっている。
さらに、これらの搬送ローラ軸１０および押えローラ軸
１３は、基板１５を水平方向に対して所定角度傾斜させ
るように構成しており、その基板１５の所定角度の傾斜
面にシャワー装置４から処理液を供給して表面処理を行
うようになっている。このように、基板１５を所定角度
傾斜させているのは、シャワー装置４からの処理液が基
板１５の上面で溜ることなくスムーズに塵と共に流れ落
ち易くするためであり、基板１５の上面で処理液が溜る
と、特に、基板サイズが大きくかつ薄い場合には基板が
変形したりして割れ易くなるからである。

【００３７】この場合、ローラ部１４ａの外周部には滑
り防止のためにゴムなどの弾性部材よりなるＯリング１
６が外嵌されている。したがって、このＯリング１６を
介して基板１５をローラ部１４ａとして上方から押える
ようになっている。また、図３（ａ）に示すように、基
板１５が搬送ローラ部材１１と鍔付押えローラ部材１４
の間に搬入されていない場合には、このＯリング１６と
搬送ローラ部材１１のローラ部１１ａとが当接してお
り、このとき、鍔部１４ｂは、その外周部が搬送ローラ
軸１０に接触しない程度の外径になっている。

【００３８】さらに、これらの搬送ローラ軸１０および
押えローラ軸１３の片側端部には、図示しない歯車がそ
れぞれ固定されており、これらの図示しない歯車をそれ
ぞれ介して、図示しない回転駆動源としてのモータから
回転駆動力が伝達されて搬送ローラ軸１０および押えロ
ーラ軸１３が、基板搬送方向（図１の矢印方向Ａ）に対
応する方向に回転駆動されるようになっている。

【００３９】上記構成により、まず、搬送ローラ部材１
１と鍔付押えローラ部材１４の間に、基板１５が搬入さ
れていない状態では、滑り軸受１２、押えローラ軸１３
および鍔付押えローラ部材１４の自重でこれらが一体的
に切欠７に沿って下がり、図３（ａ）に示すように、ロ
ーラ部１４ａの外周部に外嵌されたＯリング１６と搬送
ローラ部材１１のローラ部１１ａとが当接する。これに
よって、搬送ローラ軸１０と押えローラ軸１３の間に適
当な離間寸法が確保されて、これらの搬送ローラ軸１０
と押えローラ軸１３の端部にそれぞれ固定された歯車
（図示せず）同士の良好な噛み合いが保たれることにな
る。

【００４０】この状態から所定幅を有する基板１５が基
板搬入部１の中央部（装置の左右方向中央部）の両搬送
ローラ部材１１上に搬入されると、基板搬送手段が駆動
して基板１５を表面処理部２に向けて矢印方向Ａに、し
かも水平面に対して所定角度傾いた状態で搬送すること
になる。

【００４１】次に、この表面処理部２では、基板１５の
幅方向両端縁部が搬送ローラ部材１１と鍔付押えローラ
部材１４の間に割り込んで、この基板１５の厚み分だけ
滑り軸受１２、押えローラ軸１３および鍔付押えローラ
部材１４を一体的に切欠７に沿って持ち上げる。これに
よって、図３（ｂ）に示すように、基板１５の幅方向両
端縁部のみがローラ部１４ａの外周部に外嵌されたＯリ
ング１６と搬送ローラ部材１１のローラ部１１ａとの間
に挟持され、所定角度傾いた状態で搬送されつつ、シャ
ワー装置４から基板１５の上面に処理液（本実施形態で
は洗浄液）が供給されて基板が洗浄され、基板１５は図
１の基板搬出部３を介して排出さることになる。

【００４２】ここで、多種の基板サイズに対応するため
のローラ幅変更作業をする場合には、上側の滑り軸受１
２、押えローラ軸１３および鍔付押えローラ部材１４の
みを一体的に切欠７から抜き取って、別の所定幅の基板
に対応した滑り軸受１２、押えローラ軸１３および鍔付
押えローラ部材１４を一体的に切欠７内に嵌入するだけ
でよく、従来のように、滑り軸受９、搬送ローラ軸１０
および搬送ローラ部材１１をも一体的に切欠７から取り
外す必要はなく、変更後の所定幅の基板に対しても滑り
軸受９、搬送ローラ軸１０および搬送ローラ部材１１を
共用することができる。このため、従来の鍔付ローラを
基板裏面側に配設した場合と比べて基板幅サイズの変更
に伴う労力を大幅に軽減させることができて、基板幅サ
イズ変更時の作業性を改善することができる。なお、こ
の実施形態１では、ローラ幅変更のために滑り軸受１
２、押えローラ軸１３および鍔付押えローラ部材１４
を、ローラ幅に応じて一体的に変換しているが、鍔付押
えローラ部材１４を押えローラ軸１３に沿ってスライド
自在に構成しておき、ローラ幅に応じて鍔付押えローラ
部材１４のみをスライド位置決めするようにしてもよ
い。例えば基板サイズを図３（ｂ）に示すサイズから大
型化する場合には、両鍔付押えローラ部材１４をそれぞ
れ押えローラ軸１３の軸端側にそれぞれスライドさせれ
ばよい。

【００４３】また、このとき、両鍔付押えローラ部材１
４の各鍔部１４ｂの内側壁で基板１５の両端面が基板幅
方向に規制された状態で保持されるため、シャワー装置
４の他、ブラシや高圧スプレーなどのより強力な洗浄手
段に対しても基板１５が蛇行するようなことはなく、よ
り安定した基板搬送を確保することができる。また、こ
のようなブラシや高圧スプレーなどの洗浄手段によっ
て、搬送する基板１５への搬送抵抗が大きくなったり、
薬液使用で基板とローラ部１１ａ，１４ａとの摩擦力が
低下して滑りやすくなったり、本実施形態１では行って
いないが、基板裏面処理時に基板１５が持ち上げられて
搬送駆動力が基板１５に伝わらなくなったりした場合な
どであっても、搬送ローラ部材１１と鍔付押えローラ部
材１４で基板１５の両端縁をそれぞれ挟持するため、十
分な搬送駆動力を確保することができる。

【００４４】（実施形態２）本実施形態２では、基板サ
イズ変更時の作業性をさらに改善するべく、両鍔付押え
ローラ部材を基板幅に応じてスライド自在に構成した場
合であり、上記実施形態１と同一の作用効果を奏する部
材には同一の符号を付して説明する。

【００４５】図４は本発明の実施形態２における基板処
理装置のローラ搬送部の要部構成を示す正面図であり、
（ａ）は基板が搬送されていない場合の図、（ｂ）は幅
の最も狭い基板が搬送されている場合の図、（ｃ）は幅
が最も広い基板が搬送されている場合の図である。

【００４６】図４（ａ）において、両鍔付押えローラ部
材２４はそれぞれ押えローラ軸２３に沿って矢印方向Ｂ
にスライド自在に構成されている。つまり、実線で示さ
れている一対の鍔付押えローラ部材２４の位置は、図４
（ｃ）に示すように幅が最も広い基板１５ｂが搬送され
る場合の位置である。また、実線で示されている一対の
鍔付押えローラ部材２４の内側に２点鎖線で示すよう
に、両鍔付押えローラ部材２４を共に内側に１段階だけ
スライドさせた場合には、基板幅が中間の場合に対応
し、また、両鍔付押えローラ部材２４を共にさらに内側
に１段階だけスライドさせた場合には、図４（ｂ）に示
すように幅が最も狭い基板１５ａの場合に対応してい
る。

【００４７】これらの押えローラ軸２３と鍔付押えロー
ラ部材２４とは、互いに形成されたキー溝に、押えロー
ラ軸２３の長手方向に長いキー（図示せず）が嵌合され
て相対回転しないように構成されており、鍔付押えロー
ラ部材２４は、押えローラ軸２３とキー（図示せず）に
沿ってスライド自在に構成されている。また、押えロー
ラ軸２３の表面上の基板幅サイズに対応した位置には凹
部（図示せず）が形成されており、この凹部（図示せ
ず）に向けてばね付勢されたボール部材（図示せず）が
鍔付押えローラ部材２４に内蔵されている。鍔付押えロ
ーラ部材２４を押えローラ軸２３に沿ってスライドさせ
ると、押えローラ軸２３の凹部（図示せず）に鍔付押え
ローラ部材２４内蔵のボール部材（図示せず）が嵌合し
てノッチ感覚で基板幅サイズ毎の位置決めがワンタッチ
で容易に為され、さらに、鍔付押えローラ部材２４を押
えローラ軸２３に沿ってスライドさせようとすると上記
嵌合が外れて、押えローラ軸２３の別の凹部（図示せ
ず）に鍔付押えローラ部材２４内蔵のボール部材（図示
せず）が嵌合してノッチ感覚で基板幅サイズ毎の位置決
めがワンタッチで容易に為されるようになっている。こ
の基板幅サイズ毎の位置決めが為された両鍔付押えロー
ラ部材２４の各鍔部２４ｂの内側壁の間隔内に所望幅の
基板が入るように、両鍔付押えローラ部材２４の位置が
設定されるようになっている。

【００４８】また、搬送ローラ部材２１は、基板幅サイ
ズに応じて位置変更した鍔付押えローラ部材２４の鍔部
２４ｂの外周部が当たらないように回避するべく、基板
幅サイズに応じた鍔部２４ｂの位置に溝部などの空間部
２１ｂがそのローラ外周に設けられている。この空間部
２１ｂは使用する基板幅の種類の数だけ図４の左右両側
位置でそれぞれ複数形成されている。また、この空間部
２１ｂの幅は鍔部２４ｂの幅よりも若干広い目に形成さ
れており、また、この空間部２１ｂの深さは、図４
（ａ）に示すように、基板搬送時以外のときに、ローラ
部２４ａの外周部に外嵌されたＯリング１６と搬送ロー
ラ部材２１のローラ部２１ａとが当接するが、このとき
に鍔部２４ｂの外周部が空間部２１ｂの底に当たらない
程度に若干隙間が空くように構成されている。本実施形
態２の場合には、搬送ローラ軸（図示せず）に、各基板
幅に対応した３本の空間部２１ｂをその外周面に有する
搬送ローラ部材２１の構成としてが、搬送ローラ軸（図
示せず）にローラ幅の異なる搬送ローラ部材（図示せ
ず）をねじ部材などで移動自在に固定するような構成と
してもよい。

【００４９】さらに、搬送ローラ部材２１は、図４
（ｂ）に示す基板１５ａのように基板幅が最小のときに
その裏面が全面に亘って当接する全面ローラで構成して
おり、この場合、基板１５ａの裏面に局所的に荷重がか
からないため、ローラ接触痕が低減されて目立たない。
なた、図４（ｃ）に示す基板１５ｂのように基板積が広
く、特に薄い場合に、シャワー装置４から処理液が噴出
されたとしても、基板裏面中央が全面に亘って当接する
全面ローラで構成しているため、基板１５ｂの中央が下
方に下がって反るようなことがなくなってその処理液は
傾斜方向に安定して流れ、安定した基板表面処理とする
ことができるようになっている。

【００５０】上記構成により、まず、搬送ローラ部材２
１の中央の幅広ローラ部と鍔付押えローラ部材１４の間
に、基板が搬入されていない状態では、滑り軸受１２、
押えローラ軸２３および鍔付押えローラ部材２４の自重
でこれらが一体的に切欠７に沿って下がり、図４（ａ）
に示すように、ローラ部２４ａの外周部に外嵌されたＯ
リング１６と、このローラ部２４ａに対向したローラ部
２１ａとが当接する。このときにも、搬送ローラ軸（図
示せず）と押えローラ軸２３の間に適当な離間寸法が確
保されて、これらの搬送ローラ軸（図示せず）と押えロ
ーラ軸２３の端部にそれぞれ固定された歯車（図示せ
ず）同士の良好な噛み合いが保たれている。

【００５１】この状態から、幅が最も広い図４（ｃ）に
示す基板１５ｂが図１の基板搬入部１の中央部（装置の
左右方向中央部）の両搬送ローラ部材２１上に搬入され
ると、基板搬送手段が駆動して基板１５ｂを基板搬入部
１の奥側の表面処理部２に向けて矢印方向Ａに、しかも
水平面に対して所定角度傾いた状態で搬送することにな
る。

【００５２】次に、この表面処理部２では、図４（ｃ）
に示すように最も基板幅の広い基板１５ｂの幅方向両端
縁部が搬送ローラ部材２１のローラ部２１ａと鍔付押え
ローラ部材２４のローラ部２４ａとの間に割り込んで、
この基板１５ｂの厚み分だけ滑り軸受１２、押えローラ
軸２３および鍔付押えローラ部材２４を一体的に切欠７
に沿って持ち上げる。これによって、基板１５ｂの幅方
向両端縁部のみがそれぞれローラ部２４ａの外周部に外
嵌されたＯリング１６と搬送ローラ部材２１のローラ部
２１ａとの間にそれぞれ挟持され、所定角度傾いた状態
で搬送されつつ、シャワー装置４から基板１５ｂの上面
に処理液（本実施形態では洗浄液）が供給されて基板が
表面処理（本実施形態では洗浄処理）され、基板１５ｂ
は図１の基板搬出部３を介して排出されることになる。

【００５３】ここで、多種の基板幅サイズに対応するた
めのローラ幅変更作業をする場合、例えば最も基板幅が
狭い図４（ｂ）に示す基板１５ａに変更する場合には、
上記実施形態１のように上側の滑り軸受１２、押えロー
ラ軸１３および鍔付押えローラ部材１４のみを一体的に
切欠７から抜き取って、別の所定幅の基板に対応した滑
り軸受１２、押えローラ軸１３および鍔付押えローラ部
材１４を一体的に切欠７内に嵌入するような作業は必要
なく、搬送ローラ部材２１の最も狭い空間部２１ｂの位
置に合わせるように両鍔付押えローラ部材２４をそれぞ
れ内側に２段階スライドさせてノッチ感覚でワンタッチ
で位置決めするようにすれば、上記実施形態１と比べて
も基板幅サイズの変更に伴う労力を大幅に軽減させるこ
とができて、基板幅サイズ変更時の作業性をより改善す
ることができる。また、鍔付押えローラ部材２４のスラ
イドによる位置決めは、搬送ローラ部材２１の空間部２
１ｂの位置と一致している必要があるので、押えローラ
軸２３の凹部（図示せず）に鍔付押えローラ部材２４内
蔵のボール部材（図示せず）が嵌合していない場合、鍔
付押えローラ部材２４の位置決めの良否が基板表面処理
前に発見され得ることになって、確実なる位置決め作業
となる。

【００５４】このように、搬送ローラ部材２１が基板裏
面の略中央全面の接触ローラとすれば基板裏面の局部的
なローラ接触痕を低減することができる。また、搬送ロ
ーラ部材２１側に空間部２１ｂを加工しておけば、その
空間部２１ｂの位置に合わせて鍔付押えローラ部材２４
をスライドさせるだけの作業でよく、基板幅サイズに応
じて基板幅変更時の位置決めをより素早くより容易によ
り確実に行うことができる。この場合においても上記実
施形態１と同様に、安定な基板搬送および搬送駆動力が
確保されて良好な表面処理となる。

【００５５】（実施形態３）次に説明する実施形態３で
は、基板を水平方向に対して所定角度傾斜させると共
に、その傾斜させた下側の基板幅方向端面のみを鍔部の
側壁で保持する鍔付押えローラを設け、傾斜させた上側
には鍔付押えローラを設けない場合であり、上記実施形
態１と同一の作用効果を奏する部材には同一の符号を付
して説明する。

【００５６】図５は本発明の実施形態３における基板処
理装置のローラ搬送部の要部構成を示す正面図であり、
（ａ）は基板が搬送されていない場合の図、（ｂ）は幅
の最も狭い基板が搬送されている場合の図、（ｃ）は幅
が中間の基板が搬送されている場合の図である。

【００５７】図５（ａ）において、所定角度に傾斜した
搬送ローラ軸１０には複数個（本実施形態３では４個で
基板幅サイズが３種類に対応）の搬送ローラ部材１１
が、基板幅サイズに応じた基板幅方向に亘ってそれぞれ
配設されており、少なくとも両端縁の下方から支持する
ようになっている。また、この搬送ローラ軸１０の上方
の高さ位置には、押えローラ軸１３が搬送ローラ軸１０
と同様の所定角度に傾斜した状態で配設されており、こ
の押えローラ軸１３には傾斜方向下側に１個の鍔付押え
ローラ部材１４が配設されている。この鍔付押えローラ
部材１４は、基板の傾斜方向下側の端縁をローラ部１４
ａで上方から押えると共に下側の基板幅方向端面を鍔部
１４ｂの内側の側壁で保持するようになっている。

【００５８】このとき、基板搬送時には、基板搬送およ
び搬送駆動力が確保されて安定な表面処理とするべく、
搬送ローラ部材１１と鍔付押えローラ部材１４とで基板
の傾斜方向下側の端縁が挟持されて保持されるようにな
っている。

【００５９】上記構成により、まず、最も下側の搬送ロ
ーラ部材１１のローラ部１１ａと鍔付押えローラ部材１
４のローラ部１４ａの間に、基板が搬入されていない状
態では、滑り軸受１２、押えローラ軸１３および鍔付押
えローラ部材１４の自重でこれらが一体的に切欠７に沿
って下がり、図５（ａ）に示すように、ローラ部１４ａ
の外周部に外嵌されたＯリング１６と、このローラ部１
４ａに対向したローラ部１１ａとが当接する。このとき
にも、搬送ローラ軸１０と押えローラ軸１３の間に適当
な離間寸法が確保されて、これらの搬送ローラ軸１０と
押えローラ軸１３の端部にそれぞれ固定された歯車（図
示せず）同士の良好な噛み合いが保たれている。

【００６０】この状態から、幅が最も狭い図５（ｂ）に
示す基板１５ａが図１の基板搬入部１の中央部（装置の
左右方向中央部）の両搬送ローラ部材１１上に搬入され
ると、基板搬送手段が駆動して基板１５ａを基板搬入部
１の奥側の表面処理部２に向けて矢印方向Ａに所定角度
傾いた状態で搬送することになる。

【００６１】次に、この表面処理部２では、図５（ｂ）
に示すように最も基板幅の狭い基板１５ａの下側の幅方
向端縁部が最も下側の搬送ローラ部材１１のローラ部１
１ａと鍔付押えローラ部材１４のローラ部１４ａとの間
に割り込んで、この基板１５ａの厚み分だけ滑り軸受１
２、押えローラ軸１３および鍔付押えローラ部材１４を
一体的に切欠７に沿って持ち上げる。これによって、基
板１５ａの下側の幅方向端縁部のみがそれぞれローラ部
１４ａの外周部に外嵌されたＯリング１６と最も下側の
搬送ローラ部材１１のローラ部１１ａとの間にそれぞれ
挟持され、所定角度傾いた状態で搬送されつつ、シャワ
ー装置４から基板１５ａの上面に処理液（本実施形態で
は洗浄液）が供給されて基板が洗浄処理され、基板１５
ａは図１の基板搬出部３を介して排出されることにな
る。

【００６２】ここで、多種の基板幅サイズに対応するた
めのローラ幅変更作業をする場合、例えば中間幅の図４
（ｃ）に示す基板１５ｃに変更する場合には、上記実施
形態１のように上側の滑り軸受１２、押えローラ軸１３
および鍔付押えローラ部材１４のみを一体的に切欠７か
ら抜き取って、別の所定幅の基板１５ｃに対応した滑り
軸受１２、押えローラ軸１３および鍔付押えローラ部材
１４を一体的に切欠７内に嵌入するような作業は必要な
く、また、上記実施形態２のように鍔付押えローラ部材
２４をスライドさせる位置変更作業も必要なく、このよ
うな基板幅サイズ変更に伴う労力が全くなく、基板幅サ
イズ変更時の作業性を改善することができる。

【００６３】このように、傾斜上方側の鍔付押えローラ
部材１４を省略すれば、部品点数の低減だけではなく、
基板幅サイズに応じた基板幅変更処理が必要なくなっ
て、多種の基板幅サイズに対応可能となる。このため、
特定の異なる幅サイズの基板を連続的に基板表面処理が
可能となって基板幅変更作業時間の削減と装置稼動率の
向上を図ることができる。この場合においても上記実施
形態１と同様に、安定な基板搬送および搬送駆動力が確
保されて良好な表面処理となる。

【００６４】（実施形態４）次に説明する実施形態４で
は、基板幅サイズ変更作業をなくすべく、基板幅サイズ
毎に鍔付押えローラ対をそれぞれ押えローラ軸に配設し
た場合であり、上記実施形態１と同一の作用効果を奏す
る部材には同一の符号を付して説明する。

【００６５】図６は本発明の実施形態４における基板処
理装置のローラ搬送部の要部構成を示す正面図であり、
（ａ）は基板が搬送されていない場合の図、（ｂ）は幅
の最も狭い基板が水平状態で搬送されている場合の図、
（ｃ）は幅が中間の基板が水平状態で搬送されている場
合の図、（ｄ）は幅の最も広い基板が水平状態で搬送さ
れている場合の図である。

【００６６】図６（ａ）において、押えローラ軸３３
は、基板の幅方向に延びる状態で搬送ローラ３１よりも
上方の高さ位置に上下動可能でかつ回転可能に設けられ
ている。この押えローラ軸３３には基板の幅に応じて外
径が互いに異なった複数の鍔付押えローラ部材３４，４
４，５４がそれぞれ設けられいる。これらの各一対の鍔
付押えローラ部材３４，４４，５４は各ローラ部３４
ａ，４４ａ，５４ａの何れかで基板を上方から押えると
共に基板幅方向両端面を各鍔部３４ｂ，４４ｂ，５４ｂ
の何れか一対の内側の側壁で基板幅方向に蛇行しないよ
うに規制する構成となっている。また、これらの各一対
の鍔付押えローラ部材３４，４４，５４の配設位置は、
大径の鍔付押えローラ対ほど両外側位置に配設するよう
になっている。

【００６７】ここで、基板が搬送されていない図６
（ａ）に示すような場合には、一対の鍔付押えローラ部
材３４の各鍔部３４ｂの外周面が搬送ローラ３１の外周
面に当接するが、各一対の鍔付押えローラ部材４４，５
４はそれぞれ搬送ローラ３１に接触しないように空間部
３１ｂを形成している。また、幅が最も狭い基板１５ａ
が搬送される図６（ｂ）に示すような場合には、一対の
鍔付押えローラ部材３４の各ローラ部３４ａに基板１５
ａが当接した状態で一対の鍔付押えローラ対３４の各鍔
部３４ｂの外周面がローラ部材３１ａに接触しないよう
な寸法関係であればよい。さらに、幅が中間の基板１５
ｃが搬送される図６（ｃ）に示すような場合には、一対
の鍔付押えローラ部材４４の各ローラ部４４ａの外周面
に基板１５ｃが当接した状態でそれより内側に位置する
一対の鍔付押えローラ部材３４の各鍔部３４ｂの外周面
が基板１５ｃに接触しないような寸法関係であればよ
い。また同様に、幅が最も広い基板１５ｂが搬送される
図６（ｄ）に示すような場合には、一対の鍔付押えロー
ラ部材５４の各ローラ部５４ａの外周面に基板１５ｂが
当接した状態でそれより内側に位置する一対の鍔付押え
ローラ部材４４の各鍔部４４ｂの外周面が基板１５ｂに
接触しないような寸法関係であればよい。

【００６８】また、一対の鍔付押えローラ部材３４は中
心振り分け位置でそれぞれ配設されており、それらの間
隔は、幅が最も狭い基板１５ａの幅方向両端面が各鍔部
３４ｂの内側側壁内に収まるように若干広く寸法設定さ
れている。また同様に、一対の鍔付押えローラ部材４４
も中心振り分け位置でそれぞれ配設されており、それら
の間隔は、幅が中間の基板１５ｃの幅方向両端面が各鍔
部４４ｂの内側側壁内に収まるように若干広く寸法設定
されている。さらに同様に、一対の鍔付押えローラ部材
５４も中心振り分け位置でそれぞれ配設されており、そ
れらの間隔は、幅が最も広い基板１５ｂの幅方向両端面
が各鍔部５４ｂの内側側壁内に収まるように若干広く寸
法設定されている。

【００６９】上記構成により、まず、搬送ローラ部材３
１のローラ部３１ａと各一対の鍔付押えローラ部材３
４，４４，５４の各ローラ部３４ａ，４４ａ，５４ａの
何れかとの間に、基板が搬入されていない状態では、滑
り軸受１２、押えローラ軸３３および各一対の鍔付押え
ローラ部材３４，４４，５４の自重でこれらが一体的に
切欠７に沿って下がり、図６（ａ）に示すように、一対
の鍔付押えローラ部材３４の各鍔部３４ｂの外周部と、
搬送ローラ部材３１のローラ部３１ａとが当接する。こ
のときにも、搬送ローラ軸３０と押えローラ軸３３の間
に適当な離間寸法が確保されて、これらの搬送ローラ軸
３０と押えローラ軸３３の端部にそれぞれ固定された歯
車（図示せず）同士の良好な噛み合いが保たれている。

【００７０】この状態から、幅が最も狭い図６（ｂ）に
示す基板１５ａが図１の基板搬入部１の中央部（装置の
左右方向中央部）の両搬送ローラ部材３１上に搬入され
ると、基板搬送手段が駆動して基板１５ａを基板搬入部
１の奥側の表面処理部２に向けて矢印方向Ａに水平状態
で搬送することになる。

【００７１】次に、この表面処理部２では、図６（ｂ）
に示すように最も基板幅の狭い基板１５ａの幅方向両端
縁部が搬送ローラ部材３１のローラ部３１ａと一対の鍔
付押えローラ部材３４の各ローラ部３４ａとの間に割り
込んで、この基板１５ａの厚み分だけ滑り軸受１２、押
えローラ軸３３および各一対の鍔付押えローラ部材３
４，４４，５４を一体的に切欠７に沿って持ち上げる。
これによって、基板１５ａの幅方向両端縁部のみがそれ
ぞれ各ローラ部３４ａの外周部と搬送ローラ部材３１の
ローラ部３１ａとの間にそれぞれ挟持され、水平状態で
搬送されつつ、シャワー装置４から基板１５ａの上面に
処理液（本実施形態では洗浄液）が供給されて基板が表
面処理（本実施形態では洗浄処理）され、基板１５ａは
図１の基板搬出部３を介して排出されることになる。

【００７２】ここで、多種の基板幅サイズに対応するた
めのローラ幅変更作業をする場合、例えば中間幅の図６
（ｃ）に示す基板１５ｃに変更する場合には、上記実施
形態１のように上側の滑り軸受１２、押えローラ軸１３
および鍔付押えローラ部材１４のみを一体的に切欠７か
ら抜き取って、別の所定幅の基板に対応した滑り軸受１
２、押えローラ軸１３および鍔付押えローラ部材１４を
一体的に切欠７内に嵌入するような作業は必要なく、ま
た、上記実施形態２のように鍔付押えローラ部材２４を
スライドさせる位置変更作業も必要なく、このような基
板幅サイズ変更に伴う労力が全くなく、基板幅サイズ変
更時の作業性を改善することができる。

【００７３】このように、押えローラ軸３３に基板幅サ
イズ毎に各一対の鍔付押えローラ部材３４，４４，５４
を配設すれば、基板幅サイズに応じた基板幅変更処理が
必要なくなって、多種の基板幅サイズに対応可能とな
る。このため、特定の異なる幅サイズの基板を連続的に
基板表面処理が可能となって基板幅変更作業時間の削減
と装置稼動率の向上を図ることができる。この場合にお
いても上記実施形態１と同様に、安定な基板搬送および
搬送駆動力が確保されて良好な表面処理となる。また、
搬送ローラ３１を基板裏面中央全面の接触ローラとすれ
ば、基板裏面の局部的な荷重によるローラ接触痕を低減
することができる。

【００７４】また、基板幅サイズ毎に各一対の鍔付押え
ローラ部材３４，４４，５４をセンター振り分け位置で
配設するようにすれば、基板幅サイズが異なる基板１５
ａ，１５ｂ，１５ｃの基板表面処理をするに際して、常
に搬送ローラ部材３１を含む基板搬送手段のセンター位
置と各基板１５ａ，１５ｂ，１５ｃのセンター位置とが
一致するために前後に位置する各種装置とのインライン
が容易である。このセンター合わせのために、別途、基
板整列機構を設ける必要がなくなり、スペース的および
コスト的にも有利である。

【００７５】（実施形態５）次に説明する実施形態５で
は、上記実施形態４で基板幅サイズ毎に配設した鍔付押
えローラ部材を一体化した場合であり、上記実施形態１
と同一の作用効果を奏する部材には同一の符号を付して
説明する。

【００７６】図７は本発明の実施形態５における基板処
理装置のローラ搬送部の要部構成を示す正面図であり、
（ａ）は基板が水平状態で搬送されていない場合の図、
（ｂ）は幅の最も狭い基板が水平状態で搬送されている
場合の図、（ｃ）は幅が中間の基板が搬送されている場
合の図、（ｄ）は幅の最も広い基板が水平状態で搬送さ
れている場合の図である。

【００７７】図７（ａ）において、押えローラ軸６３
は、基板の幅方向に延びる状態で搬送ローラ６１よりも
上方の高さ位置に上下動可能でかつ回転可能に設けられ
ている。この押えローラ軸６３には、基板の幅に応じて
外径が互いに異なった複数のローラ部６４ａ，７４ａ，
８４ａと、最も外径の大きいローラ部８４ａの外側にロ
ーラ部８４ａの外径よりも大きい鍔部６４ｂを有する一
対の鍔付押えローラ部材６４が設けられいる。この鍔付
押えローラ部材６４は基板を各一対のローラ部６４ａ，
７４ａ，８４ａの何れかで上方から押えると共に、その
押えたローラ部に隣接する大径側のローラ部の側壁かま
たは鍔部６４ｂの内側の側壁で、基板幅方向に蛇行を防
止するべく規制する構成となっている。また、この一対
の鍔付押えローラ部材６４の各ローラ部６４ａ，７４
ａ，８４ａの位置関係は、大径のローラ部ほど外側位置
に位置するようになっている。

【００７８】ここで、基板が搬送されていない図７
（ａ）に示すような場合には、一対の鍔付押えローラ部
材６４の各ローラ部６４ａに外嵌されたＯリング１６の
外周面は搬送ローラ６１のローラ部６１ａの外周面に当
接するが、一対の鍔付押えローラ部材６４の他の各ロー
ラ部７４ａ，８４ａおよび各鍔部６４ｂがそれぞれ搬送
ローラ軸６０および搬送ローラ部材６１に接触しないよ
うに空間部６１ｂを形成している。また、一対の鍔付押
えローラ部材６４は中心振り分け位置でそれぞれ配設さ
れており、各ローラ部７４ａの内側壁の間隔は、幅が最
も狭い基板１５ａの幅方向両端面がその内側壁内に収ま
るように若干広く寸法設定されている。また同様に、各
ローラ部８４ａの内側壁の間隔は、幅が中間の基板１５
ｃの幅方向両端面がその内側壁内に収まるように若干広
く寸法設定されている。さらに同様に、各鍔部６４ｂの
内側壁の間隔は、幅が最も広い基板１５ｂの幅方向両端
面が各鍔部６４ｂの内側側壁内に収まるように若干広く
寸法設定されている。

【００７９】したがって、幅が最も狭い基板１５ａが搬
送される図７（ｂ）に示すような場合には、一対の鍔付
押えローラ部材６４の各ローラ部６４ａに外嵌されたＯ
リング１６の外周面と、搬送ローラ部材６１のローラ部
６１ａとで基板１５ａの幅方向両端縁を挟持すると共
に、各ローラ部７４ａの内側側壁で基板１５ａの幅方向
両端面を規制した状態で搬送するようになっている。ま
た同様に、幅が中間の基板１５ｃが搬送される図７
（ｃ）に示すような場合には、一対の鍔付押えローラ部
材６４の各ローラ部７４ａに外嵌されたＯリング１６の
外周面と、搬送ローラ部材６１のローラ部６１ａとで基
板１５ｃの幅方向両端縁を挟持すると共に、各ローラ部
８４ａの内側側壁で基板１５ｃの幅方向両端面を規制し
た状態で搬送するようになっている。さらに同様に、幅
が最も広い基板１５ｂが搬送される図７（ｄ）に示すよ
うな場合には、一対の鍔付押えローラ部材６４の各ロー
ラ部８４ａに外嵌されたＯリング１６の外周面と、搬送
ローラ部材６１のローラ部６１ａとで基板１５ｂの幅方
向両端縁を挟持すると共に、各鍔部６４ｂの内側側壁で
基板１５ｂの幅方向両端面を規制した状態で搬送するよ
うになっている。

【００８０】上記構成により、まず、搬送ローラ部材６
１のローラ部６１ａと一対の鍔付押えローラ部材６４の
各ローラ部６４ａ，７４ａ，８４ａの何れかとの間に、
基板が搬入されていない状態では、滑り軸受１２、押え
ローラ軸６３および一対の鍔付押えローラ部材６４の自
重でこれらが一体的に切欠７に沿って下がり、図７
（ａ）に示すように、一対の鍔付押えローラ部材６４の
各ローラ部６４ａの外周部に外嵌されたＯリング１６の
外周面と、搬送ローラ部材６１のローラ部６１ａとが当
接する。このときにも、搬送ローラ軸６０と押えローラ
軸６３の間に適当な離間寸法が確保されて、これらの搬
送ローラ軸６０と押えローラ軸６３の端部にそれぞれ固
定された歯車（図示せず）同士の良好な噛み合いが保た
れている。

【００８１】この状態から、幅が最も狭い図７（ｂ）に
示す基板１５ａが図１の基板搬入部１の中央部（装置の
左右方向中央部）の両搬送ローラ部材６１上に搬入され
ると、基板搬送手段が駆動して基板１５ａを基板搬入部
１の奥側の表面処理部２に向けて矢印方向Ａに水平状態
で搬送することになる。

【００８２】次に、この表面処理部２では、図７（ｂ）
に示すように最も基板幅の狭い基板１５ａの幅方向両端
縁部が搬送ローラ部材６１のローラ部６１ａと、鍔付押
えローラ部材６４のローラ部６４ａに外嵌されたＯリン
グ１６の外周面との間に割り込んで、この基板１５ａの
厚み分だけ滑り軸受１２、押えローラ軸３３および各一
対の鍔付押えローラ部材６４を一体的に切欠７に沿って
持ち上げる。これによって、基板１５ａの幅方向両端縁
部のみがそれぞれ各ローラ部６４ａの外周部に外嵌され
たＯリング１６の外周面と搬送ローラ部材６１のローラ
部６１ａとの間にそれぞれ挟持され、水平状態で搬送さ
れつつ、シャワー装置４から基板１５ａの上面に処理液
（本実施形態では洗浄液）が供給されて基板が表面処理
（本実施形態では洗浄処理）され、基板１５ａは図１の
基板搬出部３を介して排出されることになる。

【００８３】ここで、多種の基板幅サイズに対応するた
めのローラ幅変更作業をする場合、例えば中間幅の図７
（ｃ）に示す基板１５ｃに変更する場合には、上記実施
形態１のように上側の滑り軸受１２、押えローラ軸１３
および鍔付押えローラ部材１４のみを一体的に切欠７か
ら抜き取って、別の所定幅の基板に対応した滑り軸受１
２、押えローラ軸１３および鍔付押えローラ部材１４を
一体的に切欠７内に嵌入するような作業は必要なく、ま
た、上記実施形態２のように鍔付押えローラ部材２４を
スライドさせる位置変更作業も必要なく、このような基
板幅サイズ変更に伴う労力が全くなく、基板幅サイズ変
更時の作業性を改善することができる。

【００８４】このように、基板幅サイズ毎にローラ部６
４ａ，７４ａ，８４ａを有した一対の鍔付押えローラ部
材６４を配設すれば、サイドガイドローラは不要とする
ことが可能となって、基板幅サイズに応じた基板幅変更
作業の必要がなくなって、多種の基板幅サイズに対応可
能となりコスト低減も可能なる。このため、特定の異な
る幅サイズの基板を連続的に基板表面処理が可能となっ
て基板幅変更作業時間の削減と装置稼動率の向上を図る
ことができる。また、搬送ローラ６１を基板裏面中央全
面の接触ローラとすれば、基板裏面の局部的な荷重によ
るローラ接触痕を低減することができる。さらに、上記
実施形態４と同様に、基板が蛇行することなく、より安
定した基板搬送を確保することができ、また、十分な搬
送駆動力を確保することができる。

【００８５】また、板幅サイズ毎に一対の鍔付押えロー
ラ部材６４をセンター振り分け位置で配設するようにす
れば、基板幅サイズが異なる基板１５ａ，１５ｂ，１５
ｃの基板表面処理をするに際して、常に搬送ローラ部材
３１を含む基板搬送手段のセンター位置と各基板１５
ａ，１５ｂ，１５ｃのセンター位置とが一致するために
前後に位置する各種装置とのインラインが容易である。
このセンター合わせのために、別途、基板整列機構を設
ける必要がなくスペース的にもおよびコスト的にも有利
である。

【００８６】さらに基板の幅サイズに応じて径の異なる
ローラ部６４ａ，７４ａ，８４ａを鍔付押えローラ６４
に一体的に設けたため、部品点数の低減だけではなく、
上記実施形態４のような基板幅サイズに応じた鍔付押え
ローラ毎の位置調整もなくなってその作業性を向上する
ことができる。

【００８７】なお、上記実施形態１，２では、処理液が
滞留することなくスムーズに流れ落ちるようにするべく
基板傾斜搬送の構成として本発明の鍔付でない搬送ロー
ラと鍔付押えローラの構成を適用したが、図８および図
９に示すように基板水平搬送の構成として本発明の鍔付
でない搬送ローラと鍔付押えローラの構成を適用するこ
ともできる。また、上記実施形態４，５では、基板水平
搬送の構成として本発明の鍔付でない搬送ローラと鍔付
押えローラの構成を適用したが、処理液が滞留すること
なくスムーズに流れ落ちるようにするべく基板傾斜搬送
の構成として本発明の鍔付でない搬送ローラと鍔付押え
ローラの構成を適用することもできる。

【００８８】また、基板幅の大きい基板を搬送するには
押えローラをかなり上まで持ち上げることになり、場合
によっては基板が搬送できない可能性がある。よって、
上記各実施形態１〜３，５では、鍔付押えローラの基板
接触部分に摩擦力の大きい部材である滑り防止用のＯリ
ング１６を取り付けたが、鍔付押えローラのローラ部の
外周表面に基板表面を局部的に強い圧力で押え得る複数
のポイント状凸部を設けてもよい。また同様に、図１０
（ａ）および図１０（ｂ）に示すように鍔付押えローラ
９１のローラ部９１ａの外周表面に基板幅方向（回転方
向とは直交する方向）に複数の線状凸部９２を設けて段
付きローラとしてもよい。以上の場合には、鍔付押えロ
ーラと基板との滑りが防止され大型基板であっても安定
な基板搬送および搬送駆動力が確保されて良好な表面処
理とすることができる。

【００８９】

【発明の効果】以上のように本発明の請求項１によれ
ば、搬送ローラ側には搬送幅規制用の鍔部を設けず、搬
送ローラの上方の押えローラに鍔部を設けたため、基板
幅サイズ変更時には、その上側の鍔付押えローラに代え
て、変更する基板幅サイズに応じた鍔付押えローラとす
ればよく、押えローラと搬送ローラを共に代える従来の
作業に比べてその作業性を改善することができる。ま
た、基板は搬送時に搬送ローラと鍔付押えローラとで挟
持されて保持されているため、ブラシ洗浄や高圧水洗浄
などの物理力を利用した洗浄手段などに対しても基板搬
送および表面処理の安定性を確保することができる。ま
た、搬送ローラと鍔付押えローラで基板を挟持している
ため、十分な搬送駆動力を確保することができる。

【００９０】また、本発明の請求項２によれば、多種の
基板幅サイズに対応するための基板幅サイズ変更作業時
に、上側の押えローラ軸および鍔付押えローラのみを変
更するだけでよいため、従来の鍔付ローラを基板裏面側
に配設した場合と比べて基板幅サイズ変更に伴う労力が
大幅に軽減され、基板幅サイズ変更時の作業性を改善す
ることができる。また、鍔付押えローラで基板の両端部
が基板幅方向に規制された状態で保持されているため、
ブラシ洗浄手段や高圧スプレー手段などの洗浄手段に対
しても安定な基板搬送および表面処理を確保することが
できる。また、ブラシ洗浄手段や高圧スプレー手段など
の洗浄手段などで搬送基板に抵抗がかかったり、薬液使
用で搬送ローラと基板との摩擦力が低下したり、さらに
は、従来では、基板裏面処理時に基板に裏面から何らか
の力が加えられて基板が持ち上げられて搬送駆動力が搬
送ローラから基板に伝わりにくくなるような場合であっ
ても、搬送ローラと鍔付押えローラで基板の両端縁を挟
持しているため、十分な搬送駆動力を確保することがで
きる。

【００９１】さらに、本発明の請求項３によれば、鍔付
押えローラはスライド自在にあるため、基板幅サイズ変
更を容易に行うことができる。また、本発明の請求項４
によれば、搬送ローラを基板裏面全面の接触ローラとす
れば、基板裏面の局部的な荷重によるローラ接触痕が低
減される。また、本発明の請求項３，４によれば、鍔付
押えローラの鍔部を避けるべく、基板幅サイズに応じて
スライドさせた鍔付押えローラの鍔部に対応した搬送ロ
ーラ外周に空間部として溝加工などをしておけば、その
空間部の位置に合わせて鍔付押えローラをスライドさせ
るだけでよく、基板幅サイズに応じて基板幅変更時の位
置決めを容易に行うことができる。

【００９２】さらに、本発明の請求項５によれば、傾斜
上方側の鍔付押えローラを省略すれば、部品点数の低減
だけではなく、上記のような基板幅サイズに応じた基板
幅変更処理が必要なくなって、多種の基板幅サイズに対
応することがきる。このため、特定の異なる幅サイズの
基板を連続的に処理可能となって基板幅変更作業時間の
削減と装置稼動率の向上を図ることができる。この場合
においても上記と同様に、安定な基板搬送および搬送駆
動力が確保されて良好な表面処理とすることができる。

【００９３】さらに、本発明の請求項６によれば、上記
のような基板幅サイズに応じた基板幅変更処理が必要な
くなって、多種の基板幅サイズに対応することができ
る。このため、特定の異なる幅サイズの基板を連続的に
処理可能となって基板幅変更作業時間の削減と装置稼動
率の向上を図ることができる。この場合においても上記
と同様に、安定な基板搬送および搬送駆動力が確保され
て良好な表面処理とすることができる。さらには、常に
搬送ローラのセンター位置と基板のセンター位置とが一
致するために前後の装置とのインラインを容易に行うこ
とができる。

【００９４】さらに、本発明の請求項７によれば、基板
の幅サイズに応じて径の異なるローラ部を鍔付押えロー
ラに一体的に設けたため、部品点数の低減だけではな
く、上記のような基板幅サイズに応じた鍔付押えローラ
毎に位置調整もなくなってその作業性を向上することが
できる。これに加えて上記と同様に、基板幅サイズに応
じた基板幅変更処理が必要なくなって、多種の基板幅サ
イズに対応することができる。このため、特定の異なる
幅サイズの基板を連続的に処理可能となって基板幅変更
作業時間の削減と装置稼動率の向上を図ることができ
る。この場合においても上記と同様に、安定な基板搬送
および搬送駆動力が確保されて良好な表面処理とするこ
とができる。さらには、常に搬送ローラのセンター位置
と基板のセンター位置とが一致するために前後の装置と
のインラインを容易に行うことができる。

【００９５】さらに、本発明の請求項８によれば、搬送
ローラを基板裏面全面の接触ローラとすれば、基板裏面
の局部的な荷重によるローラ接触痕を低減することがで
きる。

【００９６】さらに、本発明の請求項９によれば、鍔付
押えローラと基板との滑りが防止され大型基板であって
も安定な基板搬送および搬送駆動力が確保されて良好な
表面処理とすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態１の基板処理装置の概略構成
を示す側面図である。

【図２】図１の滑り軸受およびローラ搬送部の一部構成
を詳細に示す斜視図である。

【図３】図１の基板処理装置のローラ搬送部の要部構成
を示す正面図であり、（ａ）は基板が搬送されていない
場合の図、（ｂ）は基板が搬送されている場合の図であ
る。

【図４】本発明の実施形態２における基板処理装置のロ
ーラ搬送部の要部構成を示す正面図であり、（ａ）は基
板が搬送されていない場合の図、（ｂ）は幅の最も狭い
基板が搬送されている場合の図、（ｃ）は幅が最も広い
基板が搬送されている場合の図である。

【図５】本発明の実施形態３における基板処理装置のロ
ーラ搬送部の要部構成を示す正面図であり、（ａ）は基
板が搬送されていない場合の図、（ｂ）は幅の最も狭い
基板が搬送されている場合の図、（ｃ）は中間幅の基板
が搬送されている場合の図である。

【図６】本発明の実施形態４における基板処理装置のロ
ーラ搬送部の要部構成を示す正面図であり、（ａ）は基
板が搬送されていない場合の図、（ｂ）は幅の最も狭い
基板が搬送されている場合の図、（ｃ）は幅が中間の基
板が搬送されている場合の図、（ｄ）は幅の最も広い基
板が搬送されている場合の図である。

【図７】本発明の実施形態５における基板処理装置のロ
ーラ搬送部の要部構成を示す正面図であり、（ａ）は基
板が搬送されていない場合の図、（ｂ）は幅の最も狭い
基板が搬送されている場合の図、（ｃ）は幅が中間の基
板が搬送されている場合の図、（ｄ）は幅の最も広い基
板が搬送されている場合の図である。

【図８】図３のローラ搬送部の変形例を示す正面図であ
り、（ａ）は基板が搬送されていない場合の図、（ｂ）
は基板が搬送されている場合の図である。

【図９】図４のローラ搬送部の変形例を示す正面図であ
り、（ａ）は基板が搬送されていない場合の図、（ｂ）
は幅の最も狭い基板が搬送されている場合の図、（ｃ）
は幅が最も広い基板が搬送されている場合の図である。

【図１０】（ａ）は鍔付ローラ部材の変形例を示す図、
（ｂ）は（ａ）のＣＣ線断面図である。

【符号の説明】

１基板搬入部２表面処理部３基板搬出部４シャワー装置６，７，８切欠９，１２滑り軸受１０，３０搬送ローラ軸１１，２１，３１搬送ローラ部材１３，２３，３３押えローラ軸１４，２４，３４，４４，５４鍔付押えローラ部材１４ａ，２４ａ，２１ａ，３１ａ，３４ａ，４４ａ，５
４ａローラ部１４ｂ，２４ｂ，３４ｂ，４４ｂ，５４ｂ鍔部１５，１５ａ，１５ｂ，１５ｃ基板１６Ｏリング２１ｂ溝部３１ｂ空間部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＨ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ａ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を所定の搬送方向に搬送しつつ基板
処理を行う基板処理装置において、前記基板を下方から支持して搬送可能な搬送ローラと、
この搬送ローラ上の基板をローラ部で上方から押えると
共に基板幅方向端面を鍔部で規制する鍔付押えローラと
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】基板を所定の搬送方向に搬送しつつ基板
処理を行う基板処理装置において、前記基板搬送方向に直角な基板幅方向に延びる状態でこ
の基板搬送方向に互いに並設されて回転駆動される複数
本の搬送ローラ軸と、各搬送ローラ軸に固定されて前記
基板を下方から支持する搬送ローラと、前記基板の幅方
向に延びる状態で前記搬送ローラよりも上方の高さ位置
に上下動可能でかつ回転可能に設けられた押えローラ軸
と、この押えローラ軸に設けられて前記基板をローラ部
で上方から押えると共に基板幅方向両端面を各鍔部で規
制する鍔付押えローラ対とを備えたことを特徴とする基
板処理装置。
【請求項３】前記鍔付押えローラは前記押えローラ軸
に沿ってスライド自在に構成されたことを特徴とする請
求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項４】前記搬送ローラは、基板裏面全面の接触
ローラ外周に、基板幅サイズに応じてスライドさせた前
記鍔付押えローラの鍔部を逃がす空間部が設けられてい
ることを特徴とする請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項５】基板を水平方向に対して傾斜させた状態
で、所定の搬送方向に搬送しつつ基板処理を行う基板処
理装置において、前記基板搬送方向に直角な基板幅方向に延びる状態でこ
の基板搬送方向に互いに並設されて回転駆動される複数
本の搬送ローラ軸と、各搬送ローラ軸に前記基板の幅サ
イズに応じて互いに異なる位置に固定されて対応する基
板を下方から支持する複数のローラ部を有する搬送ロー
ラと、前記基板の幅方向に延びる状態で前記搬送ローラ
よりも上方の高さ位置に回転可能に設けられた押えロー
ラ軸と、この押えローラ軸に設けられて前記基板の下側
端縁をローラ部で上方から押えると共に下側の基板幅方
向端面を鍔部で規制する鍔付押えローラとを備えたこと
を特徴とする基板処理装置。
【請求項６】基板を所定の搬送方向に搬送しつつ基板
処理を行う基板処理装置において、前記基板搬送方向に直角な基板幅方向に延びる状態でこ
の基板搬送方向に互いに並設されて回転駆動される複数
本の搬送ローラ軸と、各搬送ローラ軸に固定されて前記
基板を下方から支持する搬送ローラと、前記基板の幅方
向に延びる状態で前記搬送ローラよりも上方の高さ位置
に上下動可能でかつ回転可能に設けられた押えローラ軸
と、この押えローラ軸に設けられて前記基板をローラ部
で上方から押えると共に基板幅方向両端面を各鍔部で規
制する複数の鍔付押えローラ対とを備え、各鍔付押えローラ対の径を互いに異ならせて大径の鍔付
押えローラ対を小径の鍔付押えローラ対の両外側の位置
に配設したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】基板を所定の搬送方向に搬送しつつ基板
処理を行う基板処理装置において、前記基板搬送方向に直角な基板幅方向に延びる状態でこ
の基板搬送方向に互いに並設されて回転駆動される複数
本の搬送ローラ軸と、各搬送ローラ軸に固定されて前記
基板を下方から支持する搬送ローラと、前記基板の幅方
向に延びる状態で前記搬送ローラよりも上方の高さ位置
に上下動可能でかつ回転可能に設けられた押えローラ軸
と、この押えローラ軸に設けられ、前記基板の幅サイズ
に応じて径の異なるローラ部を大径のローラ部ほど外側
の位置に配設すると共に、最大径のローラ部の外側位置
に鍔部を配設して、前記ローラ部で前記基板を上方から
押えると共に基板幅方向両端面を各ローラ部側壁または
各鍔部で規制する鍔付押えローラ対とを備えたことを特
徴とする基板処理装置。
【請求項８】前記搬送ローラは、基板裏面全面の接触
ローラ外周に、前記鍔付押えローラを逃がす空間部が設
けられていることを特徴とする請求項６または７に記載
の基板処理装置。
【請求項９】前記鍔付押えローラのローラ部に、弾性
体よりなるＯリングおよび、基板表面を押える複数の凸
部の何れかが配設されていることを特徴とする請求項１
〜８の何れかに記載の基板処理装置。