JP2000286320A

JP2000286320A - 基板搬送装置

Info

Publication number: JP2000286320A
Application number: JP9337299A
Authority: JP
Inventors: Norio Toyoshima; 範夫豊島; Tetsumasa Hori; 徹真堀; Chiaki Saito; 千昭齊藤; Shizuo Kabaya; 静雄蒲谷
Original assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Current assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Priority date: 1999-03-31
Filing date: 1999-03-31
Publication date: 2000-10-13

Abstract

(57)【要約】【課題】異なる幅の基板への対応を容易且つ速やかに
行うことができ、安定した搬送を実現可能な基板搬送装
置を提供する。【解決手段】洗剤ブラシ室１０、純水シャワー室２０
及び乾燥室３０を連続して形成し、内部に基板搬送用の
複数の搬送ローラ４０を平行に配設する。搬送ローラ４
０をシャフト４１の左右に２つ設ける。搬送ローラ４０
に、その径がシャフト４１の中間に向かって徐々に小さ
くなる複数の段差部４０ａを形成する。洗剤ブラシ室１
０内に、基板を上下から挟持した状態で洗浄する上下の
ブラシ１１ａ，１１ｂを設ける。上下のブラシ１１ａ，
１１ｂをそれぞれ個別に上下動させるブラシ昇降機構１
５を設ける。乾燥室３０内に、基板の上下に空気流を吹
き付ける上下のエアナイフ３１ａ，３１ｂを設ける。上
下のエアナイフ３１ａ，３１ｂをそれぞれ個別に上下動
させるエアナイフ昇降機構３５を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、搬送ローラによっ
て基板を搬送する基板搬送装置に係り、特に、基板を洗
浄液によって洗浄する洗浄装置と、基板から洗浄液を除
去する乾燥装置を備えた基板搬送装置の改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示器、フォトマスク等のガラス基
板や、プリント配線基板、半導体ウエハ等の基板の製造
工程においては、基板の表面に所定の処理液を供給した
後に、これを基板から除去する工程が必要となる。例え
ば、基板の洗浄を行う工程では、洗浄装置において、純
水等の液体を基板の表面に浴びせかけて洗浄した後、乾
燥装置において、基板の表面に気体を吹き付けて、基板
表面に付着した液体を除去している。このような基板の
洗浄及び液体の除去は、基板を搬送装置によって搬送し
ながら連続的に行うため、基板搬送装置には、洗浄装置
及び乾燥装置が一体的に構成されている。

【０００３】かかる基板搬送装置においては、平行配置
された複数の搬送ローラ上に、基板を載置して、駆動源
によって搬送ローラを回転させることにより、基板の搬
送を行っている。そして、図１２に示すように、通常の
搬送ローラ１はシャフト２を軸として回転可能に設けら
れ、１本のシャフト２につき、基板Ｂの左右端に対応す
る位置に２つ設けられている。この搬送ローラ１は、内
側が基板Ｂが載置される小径部１ａ、外側が大径部１ｂ
となっていて、小径部１ａと大径部１ｂとの間に、基板
Ｂの両端をガイドする斜面部１ｃが設けられている。

【０００４】そして、複数種の幅の基板Ｂに対応できる
ように、搬送ローラ１は、シャフト２に沿ってスライド
移動可能に設けられ、使用時には、シャフト２に対して
ネジ等によって締め付け固定される構成となっている。
従って、前回搬送した基板Ｂと異なる幅の基板Ｂを搬送
する場合には、ユーザがネジを緩めて搬送ローラ１を基
板Ｂの幅に合う位置にスライド移動させ、再びネジで締
め付け固定する作業が必要となっていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な従来の基板搬送装置においては、異なる幅の基板Ｂを
搬送する度に、ユーザが搬送ローラ１の間隔を調節しな
ければならないので、基板変更の対応に、手間と時間が
かかる。これに対処するため、図１３に示すように、搬
送ローラ１の形状を、長いフラット状のものとして、幅
の異なる基板Ｂであっても、搬送ローラ１の位置を変え
ずに載置できるものも提案されている。

【０００６】しかし、かかるフラットな搬送ローラ１に
は、基板Ｂの両端をガイドする斜面部１ｃが存在しない
ため、洗浄中の液圧や乾燥中の空気圧が加わった場合の
安定性が低い。このため、シャフト２の長手方向に延長
して、安定性を確保する必要がある。ところが、例え
ば、液晶基板のように、基板Ｂの上面のみならす、下面
の汚れの除去が重要となる場合には、基板Ｂと搬送ロー
ラとの接触部分は極力少なくして、基板Ｂの下面にも洗
浄液及び空気流が十分に供給される必要がある。従っ
て、上記のフラットな搬送ローラ１の場合には、基板Ｂ
の下面との接触領域が大きくなるので、下面側の洗浄を
十分に行うことができない。

【０００７】本発明は、上記のような従来技術の問題点
を解決するために提案されたものであり、その目的は、
異なる幅の基板への対応を容易且つ速やかに行うことが
でき、安定した搬送を実現可能な基板搬送装置を提供す
ることにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、基板を水平状態で搬送する搬送手段を
複数備え、前記搬送手段は、駆動部によって回動可能に
設けられたシャフトと、前記シャフトを軸とする搬送ロ
ーラとによって構成された基板搬送装置において、以下
のような技術的特徴を有する。

【０００９】すなわち、請求項１記載の発明では、各シ
ャフトにおける前記搬送ローラは、前記基板の幅方向の
両端部に対応する位置に分離して設けられ、前記搬送ロ
ーラには、複数種の基板の幅に対応する複数の段差が設
けられていることを特徴とする。以上のような請求項１
記載の発明では、搬送ローラに段差が設けられているの
で、基板の幅に応じて乗せる段を変更することにより、
搬送ローラの位置を変えなくても、複数種類の幅の基板
を搬送することができる。

【００１０】請求項２記載の発明は、請求項１記載の基
板搬送装置において、前記基板の搬送路に、前記搬送手
段によって搬送中の基板を洗浄するブラシが設けられ、
前記ブラシには、前記基板の高さに応じて前記ブラシを
上下動させるブラシ昇降機構が設けられていることを特
徴とする。以上のような請求項２記載の発明では、搬送
する基板の幅を変更すると、基板が載置される搬送ロー
ラの段が異なるため、搬送時の基板の高さが変わること
になるが、この高さの変化に応じて、ブラシ昇降機構に
よって、ブラシを自動的に最適な位置にすることができ
る。

【００１１】請求項３記載の発明は、請求項２記載の基
板搬送装置において、前記ブラシは、前記基板の上下の
面に対応する位置に配置され、上下の前記ブラシには、
前記ブラシ昇降機構がそれぞれ独立して設けられている
ことを特徴とする。以上のような請求項３記載の発明で
は、上下のブラシをそれぞれ独立して上下動させること
ができるので、異なる厚さの基板に応じて、上下のブラ
シを自動的に適切な間隔にすることができる。

【００１２】請求項４記載の発明は、請求項１〜３のい
ずれか１項に記載の基板搬送装置において、前記基板の
搬送路に、前記搬送手段によって搬送中の基板に付着し
た液体を除去するエアナイフが設けられ、前記エアナイ
フには、前記基板の高さに応じて前記エアナイフを上下
動させるエアナイフ昇降機構が設けられていることを特
徴とする。以上のような請求項４記載の発明では、基板
の幅が異なると、基板が載置される搬送ローラの段が異
なり、搬送時の基板の高さが異なることになるが、この
高さの変化に応じて、エアナイフ昇降機構によって、エ
アナイフを自動的に最適な位置にすることができる。

【００１３】請求項５記載の発明は、請求項４記載の基
板搬送装置において、前記エアナイフは、前記基板の上
下の面に対応する位置に設けられ、上下の前記エアナイ
フには、前記エアナイフ昇降機構がそれぞれ独立して設
けられていることを特徴とする。以上のような請求項５
記載の発明では、上下のエアナイフをそれぞれ独立して
上下動させることができるので、異なる厚さの基板に応
じて、上下のエアナイフを自動的に適切な間隔にするこ
とができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】（１）実施の形態の構成請求項１〜５記載の発明に対応する実施の形態を、図１
〜１１を参照して以下に説明する。なお、図１〜１１に
おいて、搬送ローラ４０の長手方向を幅方向（左右方
向）とし、搬送ローラ４０に直交する方向を基板の搬送
方向とする。

【００１５】１−１．全体構成本実施の形態は、図１及び図４に示すように、洗剤ブラ
シ室１０、純水シャワー室２０及び乾燥室３０が連続し
て形成され、内部に基板搬送用の複数の搬送ローラ４０
が配設されている。そして、図２及び図５に示すよう
に、洗剤ブラシ室１０、純水シャワー室２０及び乾燥室
３０には、それぞれの底面に集液部５０が設けられ、こ
の集液部５０には、排液を外部に排出するための排液管
（図示せず）の一端部が接続されている。集液部５０の
内底には、落下した排液が排液管へ流入するように傾斜
が設けられている。

【００１６】１−２．搬送ローラの構成搬送ローラ４０は、図５に示すように、軸となるシャフ
ト４１の左右に２つ設けられている。この搬送ローラ４
０には、その径がシャフト４１の中間に向かって徐々に
小さくなる複数の段差部４０ａが形成されている。対向
する搬送ローラ４０における段差部４０ａは、基板が常
に水平方向に載置されるように、高さの同じ段が対にな
っている。なお、段差部４０ａにおける各段の間は、基
板の両端面をガイドする傾斜面４０ｂが設けられてい
る。

【００１７】このような搬送ローラ４０を備えたシャフ
ト４１の両端は、軸受け４２によって回動可能に支持さ
れている。このシャフト４１の一端には、第１のはすば
歯車４１ａが取り付けられている。そして、洗剤ブラシ
室１０、純水シャワー室２０及び乾燥室３０において
は、シャフト４１おける第１のはすば歯車４１ａ側の側
面近傍に、基板の搬送方向の駆動シャフト４３が設けら
れている。この駆動シャフト４３には、各々のシャフト
４１の第１のはすば歯車に係合する第２のはすば歯車４
３ａが設けられている。

【００１８】そして、図１に示すように、シャフト４３
の近傍における純水シャワー室２０外部には、モータ４
４が設置され、このモータ４４を駆動源としてチェーン
ドライブによって駆動シャフト４３が回転する構成とな
っている。

【００１９】さらに、洗剤ブラシ室１０、純水シャワー
室２０及び乾燥室３０の内部には、搬送ローラ４０の軸
受け４２、第１のはすば歯車４１ａ、駆動シャフト４３
等の駆動部を覆う駆動部カバー４５が、基板の移動方向
の全域に亘って、各室１０，２０，３０の内壁と平行に
設けられている。

【００２０】１−３．洗剤ブラシ室の構成洗剤ブラシ室１０には、図１及び図２に示すように、搬
送ローラ４０と平行に配置された２組の洗剤ブラシ１１
が設けられ、この洗剤ブラシ１１の上方には、洗剤を供
給する複数の洗剤供給管１０ａと、前記洗剤供給管１０
ａの端部に取り付けられたシャワーノズル１０ｂが設け
られている。そして、各組の洗剤ブラシ１１は、図６に
示すように、それぞれ互いに平行に配置された上ブラシ
１１ａと下ブラシ１１ｂとによって、基板を上下から挟
持した状態で洗浄可能に設けられている。かかる上ブラ
シ１１ａ及び下ブラシ１１ｂは、シャフト１２を軸とし
て回動可能に設けられている。これらのシャフト１２の
一端部には、それぞれ別個にモータ１３が接続されてい
るので、上ブラシ１１ａ及び下ブラシ１１ｂは、モータ
１３を駆動源として回動する構成となっている。さら
に、それぞれのシャフト１２の両端は、垂直方向の支柱
１４の上端に支持されている。

【００２１】このように、支柱１４によって支持された
上ブラシ１１ａ及び下ブラシ１１ｂは、ブラシ昇降機構
１５によって、それぞれ独立に上下動可能に構成されて
いる。このブラシ昇降機構１５の構成を、以下に説明す
る。すなわち、洗剤ブラシ室１０における洗剤ブラシ１
１の下部には、洗剤ブラシ室１０の内幅に亘る長さの固
定プレート１６が設けられている。この固定プレート１
６の一方の面の左右には、垂直方向のガイドレール１６
ａが設けられ、このガイドレール１６ａに、昇降プレー
ト１７が上下にスライド移動可能に設けられている。昇
降プレート１７は、下ブラシ１１ｂと同等の長さのプレ
ートであり、その両端に、下ブラシ１１ｂを支持する支
柱１４の下端が支持固定されている。そして、昇降プレ
ート１７の表面には、円柱形状の小突起１７ａが２つ設
けられている。

【００２２】さらに、固定プレート１６の近傍には、モ
ータ１８と、モータ１８のシャフトに連結されることに
よって回動可能に構成されたボールネジ１８ａが、洗剤
ブラシ室１１の幅方向に設けられている。そして、ボー
ルネジ１８ａには、ボールネジ１８ａの回動に従って、
ガイドレール１６ｂに沿って左右方向にスライド移動す
るホルダ１８ｂが設けられている。このホルダ１８ｂに
は、カムプレート１９が固定されている。カムプレート
１９は、固定プレート１６に設けられた左右方向のガイ
ドレール１６ｂに左右にスライド移動可能に設けられて
いる。そして、カムプレート１９には、２本の斜めの直
線状のカム孔１９ａが、互いに平行に形成され、このカ
ム孔１９ａには、小突起１７ａが挿通されている。

【００２３】また、固定プレート１６の他方の面には、
図７及び図８に示すように、上ブラシ１１ａのブラシ昇
降機構１５が設けられているが、その構成は、上述の下
ブラシ１１ｂのブラシ昇降機構１５と同様であり、各部
材は、固定プレート１６を挟んで表裏対称に配置されて
いる。

【００２４】１−４．純水シャワー室の構成純水シャワー室２０の内部における搬送ローラ４０の上
下には、図２に示すように、純水を供給する純水供給管
２１と、前記純水供給管２１の端部に取り付けられたシ
ャワーノズル２２が設けられている。シャワーノズル２
２は、基板の上下の面に対して、純水が均等に吹き付け
られるように、均等な間隔で複数設けられている。

【００２５】１−５．乾燥室の構成乾燥室３０には、図３に示すように、水平方向に、且つ
搬送ローラ４０に対して斜めに配置されたエアナイフ３
１が設けられている。エアナイフ３１は、図９に示すよ
うに、互いに平行に配置された上エアナイフ３１ａと下
エアナイフ３１ｂとが、その吹き出し口が基板の上下に
対向するように配設されている。そして、上エアナイフ
３１ａと下エアナイフ３１ｂの両端は、それぞれ垂直方
向の支柱３４の上端に固定されている。

【００２６】このように、支柱３４に支持された上エア
ナイフ３１ａ及び下エアナイフ３１ｂは、エアナイフ昇
降機構３５によって、それぞれ独立に上下動可能に構成
されている。このエアナイフ昇降機構３５の構成を、以
下に説明する。すなわち、乾燥室３０におけるエアナイ
フ３１の下部には、エアナイフ３１と同様の角度で乾燥
室３０の左右に亘る長さの固定プレート３６が設けられ
ている。

【００２７】この固定プレート３６の一方の面の左右に
は、垂直方向のガイドレール３６ａが設けられ、このガ
イドレール３６ａに、昇降プレート３７が上下にスライ
ド移動可能に設けられている。昇降プレート３７の両端
には、下エアナイフ３１ｂが固定された支柱３４の下端
が、支持固定されている。そして、昇降プレート３７の
表面には、円柱形状の小突起３７ａが２つ設けられてい
る。

【００２８】さらに、固定プレート３６の近傍には、モ
ータ３８と、モータ３８のシャフトに連結されることに
よって回動可能に構成されたボールネジ３８ａが、固定
プレート３６と平行な方向に設けられている。そして、
ボールネジ３８ａには、ボールネジ３８ａの回動に従っ
て、ガイドレール３６ｂに沿ってスライド移動するホル
ダ３８ｂが設けられている。このホルダ３８ｂには、カ
ムプレート３９が固定されている。カムプレート３９
は、固定プレート３６に設けられたガイドレール３６ｂ
にスライド移動可能に設けられている。そして、カムプ
レート３９には、２本の斜めの直線状のカム孔３９ａ
が、互いに平行に形成され、このカム孔３９ａには、小
突起３７ａが挿通されている。

【００２９】なお、固定プレート３６の他方の面には、
図１０及び図１１に示すように、上エアナイフ３１ａの
エアナイフ昇降機構３５が設けられているが、その構成
は、上述の下エアナイフ３１ｂのエアナイフ昇降機構３
５と同様であり、各部材は、固定プレート３６を挟んで
表裏対称に配置されている。

【００３０】１−６．制御回路の構成さらに、ブラシ昇降機構１５及びエアナイフ昇降機構３
５の作動を制御する制御回路（図示せず）を説明する。
すなわち、制御回路には、入力手段が接続され、搬送ロ
ーラ４０上に載置された基板のサイズを、ユーザが入力
可能に構成されている。そして、制御回路は、入力手段
によって入力された基板のサイズの数値データに基づい
て、ブラシ昇降機構１５及びエアナイフ昇降機構３５の
作動を制御して、洗剤ブラシ１１の高さ、上下の洗剤ブ
ラシ１１ａ，１１ｂの間隔、エアナイフ３１の高さ、上
下のエアナイフ３１ａ，３１ｂの間隔を調整するように
設定されている。

【００３１】（２）本実施の形態の作用以上のような構成を有する本実施の形態の作用効果は、
以下の通りである。まず、図１及び図５に示すように、
基板Ｂは洗剤ブラシ室１０に導入され、搬送ローラ４０
の段差部４０ａのうち、基板Ｂの幅に応じた段に載置さ
れる。そして、ユーザによって入力された基板Ｂのサイ
ズに応じて、制御回路がモータ１８の作動を制御する。

【００３２】ここで、下ブラシ１１ｂを上昇させる場合
の動作を説明する。すなわち、図６に示すように、モー
タ１８が作動すると、ボールネジ１８ａが回動して、ホ
ルダ１８ｂがボールネジ１８ａに沿って移動する。する
と、ホルダ１８ｂとともにカムプレート１９が移動する
ので、カムプレート１９のカム孔１９ａによって小突起
１７ａが付勢され、昇降プレート１７が上昇する。従っ
て、支柱１４を介して昇降プレート１７に固定された下
ブラシ１１ｂが上昇する。

【００３３】なお、下ブラシ１１ｂの下降動作は、モー
タ１８のシャフトが、上昇時と逆回転することによって
行われる。上ブラシ１１ａの昇降動作も、上記の下ブラ
シ１１ｂと同様である。また、上エアナイフ３１ａ及び
下エアナイフ３１ｂも、基板のサイズに応じて昇降させ
るが、その場合におけるエアナイフ昇降機構３５の動作
は、上記の上ブラシ１１ａと同様である。

【００３４】そして、搬送ローラ４０上の基板Ｂは、洗
剤供給管１０ａのシャワーノズル１０ｂから供給される
洗剤がかけられるとともに、モータ１３によって回転す
る上ブラシ１１ａと下ブラシ１１ｂとの間を通過するこ
とによって洗浄される。次に、基板Ｂは、搬送ローラ４
０によって搬送されて、純水シャワー室２０に送られ
る。純水シャワー室２０においては、シャワーノズル２
２からの純水が基板の上下の面に吹き付けられて、洗剤
が洗い落とされる。

【００３５】さらに、基板は搬送ローラ４０によって搬
送されて、乾燥室３０に送られる。乾燥室３０において
は、エアナイフ３１から吹き付けられる空気流によっ
て、基板の上下に付着した純水が吹き飛ばされる。な
お、洗剤ブラシ室１０、純水シャワー室及び乾燥室３０
において、底部に落下した洗浄液、純水は、集液部１２
に回収され、排液管へ流入して外部へ排出される。

【００３６】（３）実施の形態の効果以上のような本実施の形態によれば、幅の異なる基板Ｂ
であっても、搬送ローラ４０の取り付け位置を変えるこ
となく、直ぐに搬送することができるので、少ない人手
で効率良く速やかに作業することができる。

【００３７】また、基板の下面における搬送ローラ４０
との接触面積は、フラットなローラの場合よりも遥かに
小さいので、洗浄液、純水及び空気流の吹き付けを十分
に行うことができ、むらのない洗浄が可能となる。ま
た、搬送中の基板Ｂの両端面は、搬送ローラ４０におけ
る傾斜面４０ｂによってガイドされるので、搬送時のず
れが防止され、安定した搬送、洗浄及び乾燥が可能とな
る。

【００３８】また、異なる幅の基板Ｂを用いると、基板
Ｂが支持される高さが異なることになるが、かかる基板
Ｂの高さの変化に応じて、ブラシ昇降機構１５及びエア
ナイフ昇降機構３５によって、洗剤ブラシ１１やエアナ
イフ３１の高さを、手動によらず自動的に最適な位置に
変更することができる。

【００３９】また、上下の洗剤ブラシ１１ａ，１１ｂ、
上下のエアナイフ３１ａ，３１ｂは、それぞれ独立に上
下動可能に設けられているので、異なる厚さの基板Ｂを
用いた場合にも、これに応じて上下の洗剤ブラシ１１
ａ，１１ｂやエアナイフ３１ａ，３１ｂを最適な間隔に
自動的に変更することができる。

【００４０】（４）その他の実施の形態本発明は、上記のような実施の形態に限定されるもので
はなく、各部材の数、形状、大きさ等は適宜変更可能で
ある。例えば、洗剤ブラシ１１やエアナイフ３１の数、
搬送ローラ４０の数、搬送ローラ４０の段差の数等は、
設計の段階で自由に増減変更可能である。また、搬送ロ
ーラ４０を回動させる駆動部も、どのような構成であっ
てもよい。

【００４１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
異なる幅の基板への対応を容易且つ速やかに行うことが
でき、安定した搬送を実現可能な基板搬送装置を提供す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の基板搬送装置の一つの実施の形態にお
ける洗剤ブラシ室及び純水シャワー室の内部構成を示す
平面図である。

【図２】図１の透視側面図である。

【図３】本発明の基板搬送装置の一つの実施の形態にお
ける乾燥室の内部構成を示す平面図である。

【図４】図３の透視側面図である。

【図５】本発明の基板搬送装置の一つの実施の形態にお
ける搬送ローラを示す正面図である。

【図６】図１の洗剤ブラシ室における洗剤ブラシの昇降
機構を示す正面図である。

【図７】図６の平面図である。

【図８】図６の側面図である。

【図９】図３の乾燥室におけるエアナイフの昇降機構を
示す正面図である。

【図１０】図９の平面図である。

【図１１】図９の側面図である。

【図１２】従来の搬送ローラの一例を示す平面図であ
る。

【図１３】従来の搬送ローラの他の一例を示す平面図で
ある。

【符号の説明】

１…搬送ローラ１ａ…小径部１ｂ…大径部１ｃ…斜面部２…シャフト１０…洗剤ブラシ室１０ａ…洗剤供給管１０ｂ，２２…シャワーノズル１１…洗剤ブラシ１１ａ…上ブラシ１１ｂ…下ブラシ１２…シャフト１３，１８…モータ１４…支柱１５…ブラシ昇降機構１６，３６…固定プレート１６ａ，３６ａ…ガイドレール１７，３７…昇降プレート１７ａ，３７ａ…小突起１８ａ，３８ａ…ボールネジ１８ｂ，３８ｂ…ホルダ１９，３９…カムプレート１９ａ，３９ａ…カム孔２０…純水エア室２１…純水供給管３０…乾燥室３１…エアナイフ３１ａ…上エアナイフ３１ｂ…下エアナイフ３５…エアナイフ昇降機構４０…搬送ローラ４０ａ…段差部４１…シャフト４１ａ…第１のはすば歯車４２…軸受け４３…駆動シャフト４３ａ…第２のはすば歯車４４…モータ４５…駆動部カバー５０…集液部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者齊藤千昭神奈川県横浜市栄区笠間町1000番地１芝浦メカトロニクス株式会社内 (72)発明者蒲谷静雄神奈川県横浜市栄区笠間町1000番地１芝浦メカトロニクス株式会社内Ｆターム(参考） 5F031 CA05 FA02 FA07 GA53 MA23 PA16 PA30

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を水平状態で搬送する搬送手段を複
数備え、前記搬送手段は、駆動部によって回動可能に設
けられたシャフトと、前記シャフトを軸とする搬送ロー
ラとによって構成された基板搬送装置において、各シャフトにおける前記搬送ローラは、前記基板の幅方
向の両端部に対応する位置に分離して設けられ、前記搬送ローラには、複数種の基板の幅に対応する複数
の段差が設けられていることを特徴とする基板搬送装
置。
【請求項２】前記基板の搬送路に、前記搬送手段によ
って搬送中の基板を洗浄するブラシが設けられ、前記ブラシには、前記基板の高さに応じて前記ブラシを
上下動させるブラシ昇降機構が設けられていることを特
徴とする請求項１記載の基板搬送装置。
【請求項３】前記ブラシは、前記基板の上下の面に対
応する位置に配置され、上下の前記ブラシには、前記ブラシ昇降機構がそれぞれ
独立して設けられていることを特徴とする請求項２記載
の基板搬送装置。
【請求項４】前記基板の搬送路に、前記搬送手段によ
って搬送中の基板に付着した液体を除去するエアナイフ
が設けられ、前記エアナイフには、前記基板の高さに応じて前記エア
ナイフを上下動させるエアナイフ昇降機構が設けられて
いることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記
載の基板搬送装置。
【請求項５】前記エアナイフは、前記基板の上下の面
に対応する位置に設けられ、上下の前記エアナイフには、前記エアナイフ昇降機構が
それぞれ独立して設けられていることを特徴とする請求
項４記載の基板搬送装置。