WO2011148633A1 - トラバース装置及び基板処理装置 - Google Patents

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WO2011148633A1
WO2011148633A1 PCT/JP2011/002918 JP2011002918W WO2011148633A1 WO 2011148633 A1 WO2011148633 A1 WO 2011148633A1 JP 2011002918 W JP2011002918 W JP 2011002918W WO 2011148633 A1 WO2011148633 A1 WO 2011148633A1
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tray
holding base
traverse device
holding
traverse
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PCT/JP2011/002918
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大介 吉田
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株式会社アルバック
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    • H01L21/67748—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber horizontal transfer of a single workpiece
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G2249/00—Aspects relating to conveying systems for the manufacture of fragile sheets
    • B65G2249/02—Controlled or contamination-free environments or clean space conditions

Definitions

  • the present invention relates to a device that moves a substrate held in a vertical shape, and relates to a traverse device that transfers a substrate in one transport path to another transport path, and a substrate processing apparatus equipped with the traverse device.
  • the transfer device mounted on the vacuum processing apparatus described in Patent Document 1 transfers a transfer tray that holds the substrate to be processed vertically.
  • the traverse device provided in the transfer device holds both sides of the tray along the tray transfer direction, and holds the substrate to be processed between two transfer paths laid in parallel to the bottom of each processing chamber.
  • the transport tray is moved.
  • This traverse device has a tray stage on which the transport tray is placed, a lift mechanism for raising and lowering the tray stage, and a slide mechanism for moving the lift mechanism in the horizontal direction.
  • a drive source (motors M1 and M2) is provided in each of the lift mechanism and the slide mechanism (see, for example, paragraphs [0032] and [0033] of FIGS. 2 and 3 in Patent Document 1).
  • this traverse device moves the transport tray by a biaxial mechanism of a lift mechanism and a slide mechanism, and each of them has a drive source, which makes the mechanisms complicated. As the mechanism becomes complicated, the number of parts increases and the cost also increases.
  • this traverse device has a problem that the operation time is long because the transport tray is moved by three operations, that is, the lift by the lift mechanism, the horizontal movement by the slide mechanism, and the lowering by the lift mechanism.
  • an object of the present invention is to reduce the number of parts by simplifying the configuration and to reduce the time required for moving the substrate, and a vacuum processing equipped with the same. To provide an apparatus.
  • a traverse apparatus includes a tray transfer mechanism and a drive unit.
  • the tray transfer mechanism has a holding base that holds a tray for holding a substrate in an upright state.
  • the holding base is provided to rotate while maintaining the posture of the tray held by the holding base.
  • the drive unit is configured to form the tray transfer mechanism so that a movement path of the tray held by the holding base is formed between a first conveyance path and a second conveyance path for conveying the tray. Drive.
  • the tray transfer mechanism when the holding base for holding the tray is rotated by the tray transfer mechanism, the tray moves between the first and second transport paths. Therefore, the conventional two-axis movement mechanism of the lift mechanism and the slide mechanism is not required, and the movement of the tray can be realized by one drive unit that drives the tray transfer mechanism. That is, the configuration of the traverse device can be simplified and the number of parts can be reduced. Moreover, the movement time of the holding base by the rotation of the tray transfer mechanism can be shortened as compared with the conventional traverse apparatus.
  • the traverse device may further include an engaging member that is provided on the holding base and engages with an engaging portion of the tray to support the tray. Thereby, the attitude
  • the traverse device may further include a power transmission mechanism that transmits power from the tray transfer mechanism to the engagement member.
  • a power transmission mechanism that transmits power from the tray transfer mechanism to the engagement member.
  • a cam mechanism may be used as the power transmission mechanism.
  • the engagement member has an engagement end portion that is a portion that engages with the engagement portion of the tray, and the engagement end portion is located above the upper end portion of the holding base.
  • a member may be connected to a position near the upper end of the holding base. That is, the size of the holding base can be reduced (or the height can be reduced), so that the traverse device can be reduced in size and weight.
  • the holding base may have a vertically long part and a protruding part.
  • the vertically long portion is connected to the engagement member in a rotatable manner.
  • the protruding portion includes a support portion on which the tray is placed and supports the tray from below, and is provided so as to protrude in the horizontal direction from the lower portion of the vertically long portion.
  • the holding base is arranged on the support portion of the holding base on a center line at an equal distance from the first and second conveying paths in the direction in which the first and second conveying paths are aligned. It is driven so that the center of rotation is arranged.
  • the present invention is particularly effective when the height positions of the first and second transport paths are substantially the same.
  • the traverse device can be placed closest to the first and second transport paths when viewed in the transport direction of the first and second transport paths of the tray. As a result, it is possible to form a movement path for the rotation of the tray without hindering the conveyance of the tray while miniaturizing the entire configuration including the first and second conveyance paths and the traverse device.
  • the tray transfer mechanism may include a fixed base and a crankshaft driven by the drive unit and connected between the fixed base and the holding base.
  • a substrate processing apparatus includes a processing chamber, first and second transfer paths, and the traverse apparatus.
  • the processing chamber is for processing a substrate.
  • the first and second transport paths are transported in a state where a tray for holding a substrate is raised, and is provided in the processing chamber.
  • the tray transfer mechanism when the holding base for holding the tray is rotated by the tray transfer mechanism, the tray moves between the first and second transport paths provided in the processing chamber. Therefore, the conventional two-axis movement mechanism of the lift mechanism and the slide mechanism is not required, and the movement of the tray can be realized by one drive unit that drives the tray transfer mechanism. That is, the configuration of the traverse device can be simplified and the number of parts can be reduced. Moreover, the movement time can be shortened by the movement by rotation of the tray transfer mechanism.
  • the processing chamber can maintain a vacuum state in the processing chamber
  • the driving unit of the traverse apparatus may include a motor disposed outside the processing chamber.
  • a bellows has been required to maintain the vacuum in the processing chamber.
  • the motor of the lift mechanism is disposed outside the processing chamber as in the prior art
  • a mechanism for sealing around the rotation shaft of the motor is required.
  • the present invention does not require a linear drive mechanism such as a slide mechanism. Therefore, even if the motor of the drive unit is located outside the processing chamber, no bellows is required.
  • the seal mechanism around the rotation axis of the motor is used. Only enough.
  • the number of parts can be reduced by simplifying the configuration, the cost can be suppressed and the moving time of the substrate can be shortened.
  • FIG. 1 is a perspective view schematically showing a vacuum processing apparatus as a substrate processing apparatus provided with a traverse apparatus.
  • FIG. 2 is a perspective view showing one traverse device of the pair of traverse devices.
  • FIG. 3 is an enlarged view of the traverse device showing the vicinity of the upper crankshaft, as viewed in the Y-axis direction.
  • FIG. 4 is a front view of the power transmission mechanism.
  • FIG. 5 is a schematic diagram for explaining the operation of the traverse device, as viewed in the X-axis direction.
  • FIG. 6 is a diagram for explaining the rotation trajectory of the support portion of the holding base.
  • FIG. 1 is a perspective view schematically showing a vacuum processing apparatus 10 as a substrate processing apparatus provided with a traverse apparatus 30.
  • the vacuum processing apparatus 10 includes a plurality of processing chambers 11 to 15.
  • a vacuum processing apparatus 10 includes a detachable chamber 11, a load lock chamber (hereinafter simply referred to as an LL chamber 12), a first processing chamber 13, a second processing chamber 14, and a transfer chamber 15. It is connected through.
  • the vacuum processing apparatus 10 includes a first transfer path extending from the attachment / detachment chamber 11 toward the transfer chamber 15 (hereinafter simply referred to as an outward path R ⁇ b> 1), and a second transfer extending from the transfer chamber 15 toward the attachment / detachment chamber 11.
  • a route (hereinafter simply referred to as a return route R2) is provided.
  • the forward path R1 and the return path R2 are parallel to each other.
  • a plurality of transport trays 17 are transported by roller transport.
  • the transport path 19 is transported along the forward path R1 and the return path R2.
  • Each transport tray 17 is formed in a rectangular frame shape surrounding an outer edge of a substrate to be processed (hereinafter simply referred to as a substrate) S.
  • the transport tray 17 may be transported by a rack and pinion mechanism.
  • a rack is provided below the transport tray 17, and a plurality of pinions that mesh with the rack may be provided along the transport paths R1 and R2.
  • a guide roller (not shown) that is driven to rotate about the Z-axis direction as a rotation axis may be provided along each of the conveyance paths R1 and R2.
  • a convex portion 17a as an engaging portion is provided on each of the left and right sides (front side and rear side in the transport direction) of each transport tray 17.
  • Each convex portion 17a is used in the transporting process of the transport tray 17 to lock the transport tray 17 by the traverse device 30 as described later.
  • a tray magnet 21 is disposed above each transport tray 17.
  • Each of the first processing chamber 13, the second processing chamber 14, and the transfer chamber 15 is provided with a holding device 22 that magnetically acts on the tray magnet 21 of the transfer tray 17.
  • the tray magnet 21 of the transport tray 17 acts on the holding magnet 23 of each holding device 22 in the process of transporting the transport tray 17, thereby restraining the transport tray 17 in a non-contact manner above each transport path.
  • the holding device 22 has a holding magnet 23 provided in the lower portion, and the holding magnet 23 can be raised and lowered by the raising and lowering drive unit.
  • Two holding magnets 23 are provided in the Y-axis direction at a pitch that matches the pitch of the forward path R1 and the backward path R2.
  • the transport direction of the transport tray 17 in the forward path R1 is referred to as the X-axis direction.
  • a direction perpendicular to the horizontal plane is defined as a Z-axis direction, and a direction perpendicular to the X-axis direction and the Z-axis direction and in which the forward path R1 and the return path R2 are arranged is referred to as a Y-axis direction.
  • the detachable chamber 11 attaches and holds the unprocessed substrate S, which is input from the outside, to the transfer tray 17, and carries the substrate S upright to the LL chamber 12.
  • the detachable chamber 11 removes the processed substrate S held on the transport tray 17 from the transport tray 17 and carries it out of the vacuum processing apparatus 10.
  • the attachment / detachment chamber 11 performs attachment / detachment of the substrate S under atmospheric pressure.
  • the LL chamber 12 is set to atmospheric pressure, the transport tray 17 is carried from the detachable chamber 11 along the forward path R1, and then the interior is decompressed, whereby the transport tray 17 is first processed along the forward path R1. Carry out to chamber 13.
  • the LL chamber 12 decompresses the room, carries the transport tray 17 from the first processing chamber 13 along the return path R2, and then releases the room to the atmosphere, thereby returning the transport tray 17 to the return path. It is carried out to the detachable chamber 11 along R2.
  • the first processing chamber 13 carries the transport tray 17 from the LL chamber 12 along the forward path R1, and restrains the transport tray 17 on the forward path R1 by a magnetic action by the holding device 22.
  • the first processing chamber 13 performs a process such as a film forming process or a heating process on the substrate S held on the transport tray 17, and then releases the restraint by the holding device 22, and moves the transport tray 17 along the forward path R1.
  • a process such as a film forming process or a heating process
  • the first processing chamber 13 carries the transport tray 17 from the second processing chamber 14 along the return path R2, and restrains the transport tray 17 on the return path R2 by a magnetic action by the holding device 22.
  • the first processing chamber 13 performs a process such as a film forming process or a heating process on the substrate S held on the transfer tray 17, and then releases the restraint by the holding device 22, and moves the transfer tray 17 along the return path R2.
  • the first processing chamber 13 carries in and out the transfer tray 17 under reduced pressure.
  • the second processing chamber 14 also performs processing such as film formation processing and heat processing on the substrate S.
  • the operation using the holding device 22, the method of loading and unloading the transport tray 17, and the like are the same as those in the first processing chamber 13.
  • the second processing chamber 14 carries the substrate S from the first processing chamber 13 and carries the substrate S out to the transfer chamber 15 along the forward path R1.
  • the second processing chamber 14 carries the substrate S from the transfer chamber 15 along the return path R ⁇ b> 2 and carries the substrate S to the first processing chamber 15.
  • a pair of traverse devices 30 are mounted on both sides of the transfer chamber 15 in the X-axis direction (front side and rear side in the transfer direction).
  • the transfer chamber 15 carries the transfer tray 17 from the second processing chamber 14 along the forward path R1 and temporarily restrains the transfer tray 17 on the forward path R1 by a magnetic action by the holding device 22.
  • the transfer chamber 15 uses the traverse device 30 to transfer the transfer tray 17 from the forward path R1 to the return path R2 while releasing the magnetic restraint of the transfer tray on the forward path R1.
  • the transfer chamber 15 carries the transfer tray 17 moved to the return path R2 to the second processing chamber 14 along the return path R2.
  • the transfer chamber 15 transfers the transfer tray 17 from the forward path R1 to the return path R2 under reduced pressure. Further, the transfer chamber 15 locks the transfer tray 17 by the lock function of the traverse device 30 while the transfer tray 17 is transferred from the forward path R1 to the return path R2.
  • FIG. 2 is a perspective view showing one traverse device of the pair of traverse devices 30.
  • the pair of traverse devices 30 respectively hold both sides of the transport tray 17 using a holding base that will be described in detail later. Both traverse devices 30 have the same function and structure (the shape is symmetrical in the X-axis direction, for example).
  • the traverse device 30 includes a drive unit 50 and a parallel link mechanism 40 as a tray transfer mechanism including a holding base 32 capable of holding the transport tray 17 holding the substrate S. .
  • the parallel link mechanism 40 is driven by driving of the driving unit 50.
  • the parallel link mechanism 40 includes a fixed base 31 that is formed vertically and is erected vertically, crankshafts 36 and 37 that are rotatably connected between the fixed base 31 and the holding base 32, and cranks thereof. And a vertically long holding base 32 connected to the shafts 36 and 37.
  • the drive unit 50 includes a motor 33 and a gear box 35 connected to the output shaft 34 of the motor 33 via a coupling (not shown). In the middle of the output shaft 34 of the motor 33, a partition wall of the transfer chamber that separates the atmosphere from the vacuum is disposed. That is, the motor 33 is disposed on the atmosphere side.
  • the gear box 35 is installed, for example, on the fixed base 31, decelerates the driving force of the motor 33 to a predetermined rotational speed and transmits it to the lower crankshaft 37, and the rotational power around the Y axis of the motor 33 is Convert to rotational power around the X axis.
  • an auxiliary link 44 that connects the two crankshafts 36 and 37 is provided on one side of the holding base 32.
  • the auxiliary link 44 is rotatably connected to shaft portions 36a and 37a provided integrally with the crankshafts 36 and 37, respectively.
  • the auxiliary link 44 may be rotatably connected to the ends of the crankshafts 36 and 37 on the side close to the fixed base 31.
  • the holding base 32 holds the transfer tray 17 in an upright state.
  • the holding base 32 is formed in a vertically long L-shape, and is a vertically long portion 32a and a tip end portion of a protruding portion 32b provided so as to protrude in the horizontal direction (Y-axis direction) from the lower portion of the vertically long portion 32a.
  • the transport tray 17 is placed on the support portion 32c.
  • a hook member 38 as an engaging member engages with the convex portion 17a of the transport tray 17 described above. In this way, the lower portion of the transport tray 17 is supported by the support portion 32c, and the hook member 38 is engaged with the convex portion 17a, thereby stabilizing the posture of the transport tray 17 when the holding base 32 is rotated. Can do.
  • the support portion 32c of the holding base 32 is provided on each of the road surfaces of the forward path R1 and the return path R2 (lower end portion of the transport tray 17). It is arranged on the lower side.
  • a hook member 38 is connected to the upper end portion of the holding base 32 so as to be rotatable about a rotation shaft 39.
  • the hook member 38 has a notch provided in the upper engaging end 38a, and the notch engages with the convex portion 17a.
  • the hook member 38 operates using the power of the parallel link mechanism 40 as described below.
  • FIG. 3 is an enlarged view of the traverse device 30 showing the vicinity of the upper crankshaft 36, as seen in the Y-axis direction.
  • a power transmission mechanism 45 that transmits the power of the parallel link mechanism 40 to the hook member 38 is provided on the fixed base 31 side of the holding base 32. In FIG. 2, the power transmission mechanism 45 is not shown.
  • FIG. 4 is a front view of the power transmission mechanism 45.
  • the power transmission mechanism 45 is mainly composed of a cam mechanism.
  • the cam mechanism includes a cam 41 fixed to the crankshaft 36 and a cam follower 42 that is operated by the cam 41.
  • One end of a link lever 43 is connected to the cam follower 42, and the other end of the link lever 43 is connected to a connection shaft 48 connected to the hook member 38.
  • the connecting shaft 48 is connected to the end opposite to the engaging end 38 a of the hook member 38, and is inserted through a long hole (not shown) provided in the holding base 32.
  • the connection shaft 48 is connected to the link lever 43 on the back side of the holding base 32 (the side on which the power transmission mechanism 45 is disposed).
  • a spring 46 is connected between the lower portion of the hook member 38 and a spring receiver 47 provided on the holding base 32.
  • the spring 46 and the spring receiver 47 are omitted.
  • the timing when the cam follower 42 runs on the recess 41a of the cam 41 is the timing when the traverse device 30 is in the standby state (that is, when the holding base 32 is in the standby position (the state shown in FIGS. 5A and 5E)).
  • the movement of the power transmission mechanism 45 (the timing of the cam 41) is designed so as to coincide with the timing of the cam 41.
  • FIG. 5 is a schematic diagram for explaining the operation, and is a view seen in the X-axis direction.
  • FIG. 6 is a diagram for explaining the rotation trajectory of the support portion 32 c of the holding base 32. 5 and 6, illustration of the auxiliary link 44 is omitted.
  • the traverse device 30 is in the standby state, and the holding base 32 is in the standby position.
  • the hook member 38 is not on the transport paths R1 and R2, but is retracted.
  • the rotation angle position of the support portion 32c of the holding base 32 in the standby position is set to 0 ° as shown in FIG.
  • the holding magnet 23 of the holding device 22 has already been lowered, the upper portion of the transport tray 17 is held in a non-contact manner, and the posture is stable.
  • the holding base 32 rotates clockwise, and the support portion 32c of the holding base 32 passes through a 180 ° rotation position (see FIG. 6). Then, as shown in FIG. 5D, the non-contact holding by the holding device 22 is started until the support portion 32c reaches the rotational position of 270 °. When the support portion 32c reaches the rotational position of 270 °, the transport tray 17 is placed on the return path R2. After the support portion 32c passes through the rotational position of 270 °, the hook member 38 starts to rotate by the action of the power transmission mechanism 45, and the locked state by the hook member 38 is released.
  • the traverse device 30 maintains the posture of the transport tray 17 held by the holding base 32, and moves the transport tray 17 from the forward path R1 to the return path R2 by the rotation of the holding base 32 due to the action of the parallel link mechanism 40. Move. That is, a movement path of the transport tray 17 is formed between the forward path R1 and the return path R2.
  • the holding base 32 that holds the transport tray 17 is rotated by the parallel link mechanism 40, so that the transport tray 17 moves between the forward path R1 and the return path R2. Therefore, the conventional two-axis movement operation of the lift mechanism and the slide mechanism becomes unnecessary, and the movement of the transport tray 17 can be realized by one drive unit 50 that drives the parallel link mechanism 40. That is, the configuration of the traverse device 30 can be simplified, and the number of parts can be reduced. Thereby, cost can be reduced and maintenance frequency can also be reduced. Moreover, the movement time by rotation of the parallel link mechanism 40 can shorten the movement time compared with the conventional traverse apparatus.
  • the power transmission mechanism 45 is used to operate the hook member 38. That is, since a separate drive source for driving the hook member 38 is not required, the configuration of the traverse device 30 can be simplified.
  • the structure of the holding device 22 is configured to be able to rotate, dust generated from the holding device 22 may increase. If the generated dust falls due to gravity, the processing of the substrate S underneath is adversely affected. Effect. Therefore, it is preferable that the structure above the transport tray 17 is as simple as possible, and the hook member 38 is provided to stabilize the posture of the transport tray 17.
  • the hook member 38 is connected to a position near the upper end portion of the holding base 32 so that the engaging end portion 38a of the hook member 38 is located above the upper end portion of the holding base 32.
  • the size of the holding base 32 can be reduced (or reduced in height) as compared with the conventional traverse device, so that the traverse device 30 can be reduced in size and weight.
  • the rotation center axis O of the support portion 32c of the holding base 32 is arranged on the center line C that is at an equal distance from the forward path R1 and the backward path R2 in the Y-axis direction.
  • the parallel link mechanism 40 rotates the holding base 32.
  • this makes it possible to make the arrangement of the traverse device 30 closest to the transport paths R1 and R2 when viewed in the X-axis direction.
  • it is possible to form a rotational movement path of the transport tray 17 without hindering the transport of the transport tray 17 while reducing the overall configuration including the transport paths R1 and R2 and the traverse device 30.
  • the rotation center axis O of the support portion 32c of the holding base 32 is parallel to the forward path R1 and the backward path R2.
  • the volume of the solid formed by the trajectory drawn by the substrate S held by the holding base 32 becomes the smallest, so that the entire configuration including the transport paths R1 and R2 and the traverse device 30 is configured.
  • the effect of downsizing is the highest.
  • the motor 33 is disposed outside the transfer chamber.
  • a mechanism for sealing around the rotation shaft 39 of the motor 33 such as a magnetic seal, is necessary.
  • a linear drive mechanism such as a slide mechanism is not required, a bellows is not required even if the motor 33 is positioned outside the transfer chamber, and only a seal mechanism around the rotation shaft of the lift motor is sufficient. .
  • the arrangement and configuration of the drive unit 50, the gear box 35, the crankshaft 36, the power transmission mechanism 45, the cam mechanism, the hook member 38, and the like can be appropriately changed.
  • the following changes are possible.
  • the upper crankshaft 36 may be a drive shaft and the lower crankshaft 37 may be a driven shaft.
  • two drive units 50 may be provided, and these drive units 50 may drive the crankshafts 36 and 37 in synchronization with each other.
  • the auxiliary link 44 is not necessary.
  • the hook member 38 may be configured such that the height position of the rotation shaft 39 of the hook member 38 is located above the engagement end portion 38 a of the hook member 38.
  • the parallel link mechanism is exemplified as the tray transfer mechanism, but other mechanisms may be used.
  • a guide member for guiding the rotational movement of the holding base 32 may be provided instead of the crankshaft 36 shown in FIG. 2, a guide member for guiding the rotational movement of the holding base 32 may be provided.
  • a rotating body such as a roller is connected to the holding base 32, and the roller is rotatably connected to the guide member such as a rail member (a curved member along the moving path of the holding base).
  • the guide member such as a rail member (a curved member along the moving path of the holding base).
  • a support member that supports the movement of the cam follower 42 of the cam mechanism may be provided, and the support member may be elastically provided on the holding base 32.
  • the cam follower 42 is rotatably connected to a part of the support member, and the rotating shaft 39 connected to the holding base 32 is connected to another part of the support member.
  • the support member can be rotated (rotated) about its rotation axis, and the link lever 43 and the bar member are connected to the support member. With this configuration, the support member can run the cam follower 42 along the shape of the cam 41 by its elastic force, and the hook member 38 can be operated.
  • the power transmission mechanism 45 is not limited to the mode in which the hook member 38 is operated, and the drive unit that drives the hook member 38 as shown in FIGS. 5A to 5E is a drive unit. 50 may be provided separately.
  • the shape of the fixed base 31, the holding base 32, the hook member 38, and the like can be appropriately changed.
  • the hook member 38 is provided.
  • the holding base 32 has a structure that can also hold the side surface of the transport tray 17, for example, the hook member 38 may not be provided.
  • the height positions at which the forward path R1 and the return path R2 are arranged may be different.
  • the center of rotation of the support portion 32c of the holding base 32 may not be on the center line C in FIG.

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Abstract

【課題】構成を簡易化することで部品点数を減らすことができ、また、基板の移動時間を短縮することができるトラバース装置及びこれを搭載した真空処理装置を提供すること。 【解決手段】搬送トレー１７を保持する保持ベース３２が平行リンク機構４０によって回転させられことにより、搬送トレー１７が往路Ｒ１及び復路Ｒ２間で移動する。したがって、従来のようなリフト機構及びスライド機構の２軸での移動動作が不要になり、平行リンク機構４０を駆動する１つの駆動部５０により搬送トレー１７の移動を実現することができる。すなわち、トラバース装置３０の構成を簡易化することができ、部品点数を減らすことができる。これにより、コストを低減することができ、メンテナンス頻度も減らすことができる。また、保持ベース３２の回転による移動により、従来のトラバース装置に比べその移動時間を短縮することができる。

Description

トラバース装置及び基板処理装置
　本発明は、縦型に保持された状態の基板を移動させる装置であって、一の搬送路にある基板を別の搬送路に移し変えるトラバース装置及びこれを搭載した基板処理装置に関する。
　特許文献１に記載の真空処理装置に搭載された搬送装置は、被処理基板を縦型保持する搬送トレーを搬送する。この搬送装置に設けられたトラバース装置は、トレーの搬送方向に沿ったトレーの両側を保持して、各処理室の底部に平行に敷設された２つの搬送路間で、被処理基板を保持した搬送トレーを移動させるものである。
　このトラバース装置は、搬送トレーが載置されるトレーステージと、トレーステージを昇降させるためのリフト機構と、そのリフト機構を水平方向に移動させるためのスライド機構とを有している。それらリフト機構及びスライド機構のそれぞれに駆動源（モータＭ１及びＭ２）が設けられている（例えば、特許文献１の明細書段落[００３２]、[００３３]、図２及び３参照）。
国際公開第２００９／１０７７２８号パンフレット
　しかしながら、このトラバース装置は、リフト機構及びスライド機構の２軸の機構により搬送トレーを移動させるものであり、また、それぞれに駆動源が設けられるため、それらの機構が複雑となる。機構が複雑になると部品点数も増え、コストも高くなる。
　また、このトラバース装置は、リフト機構による上昇、スライド機構による水平移動及びリフト機構による下降、という３つの動作によって搬送トレーを移動させるため、動作時間が長いという問題もある。
　以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、構成を簡易化することで部品点数を減らすことができ、また、基板の移動時間を短縮することができるトラバース装置及びこれを搭載した真空処理装置を提供することにある。
　上記目的を達成するため、本発明の一形態に係るトラバース装置は、トレー移載機構と、駆動部とを具備する。　
　前記トレー移載機構は、基板を保持するトレーを立てた状態で保持する保持ベースを有する。前記保持ベースに保持された前記トレーの姿勢を維持した状態で前記保持ベースが回転するように設けられている。　
　前記駆動部は、前記トレーを搬送するための第１の搬送路及び第２の搬送路間で、前記保持ベースに保持された前記トレーの移動経路が形成されるように、前記トレー移載機構を駆動する。
　本発明では、トレー移載機構によってトレーを保持する保持ベースが回転することにより、そのトレーが第１及び第２の搬送路間で移動する。したがって、従来のようなリフト機構及びスライド機構の２軸での移動動作が不要になり、トレー移載機構を駆動する１つの駆動部によりトレーの移動を実現することができる。すなわち、トラバース装置の構成を簡易化することができ、部品点数を減らすことができる。また、トレー移載機構の回転による保持ベースの移動により、従来のトラバース装置に比べその移動時間を短縮することができる。
　前記トラバース装置は、前記保持ベースに設けられ、前記トレーの係合部に係合して前記トレーを支持するための係合部材をさらに具備してもよい。これにより、トレーの移動時にトレーの姿勢を安定させることができる。
　前記トラバース装置は、前記トレー移載機構による動力を前記係合部材に伝達する動力伝達機構をさらに具備してもよい。本発明では、係合部材を駆動させるための駆動源が必要ないのでトラバース装置の構成を簡易化することができる。動力伝達機構として、例えばカム機構が用いられてもよい。
　前記係合部材は、前記トレーの係合部に係合する部分である係合端部を有し、前記保持ベースの上端部より前記係合端部が上方に位置するように、前記係合部材が前記保持ベースの前記上端部寄りの位置に接続されていてもよい。すなわち、保持ベースの大きさを小さく（あるいは、高さを低く）抑えることができるので、トラバース装置の小型化、軽量化を実現することができる。
　前記保持ベースは、縦長部と、突出部とを有してもよい。縦長部は、前記係合部材が回転可能に接続されている。突出部は、前記トレーが載置されて前記トレーを下から支持する支持部を含み、前記縦長部の下部から水平方向に突出するように設けられている。その場合、前記保持ベースは、前記第１及び前記第２の搬送路が並ぶ方向において、前記第１及び前記第２の搬送路から等しい距離にある中心線上に、前記保持ベースの前記支持部における回転中心が配置されるように駆動される。
　例えば、第１及び第２の搬送路の高さ位置が実質的に同じである場合に、本発明は特に効果的である。つまり本発明では、トレーの第１及び第２の搬送路による搬送方向で見て、トラバース装置の配置を第１及び第２の搬送路に最も近づけることができる。その結果、第１、第２の搬送路及びトラバース装置を含む全体の構成を小型化しつつ、トレーの搬送を妨げることなくトレーの回転の移動経路を形成することができる。
　前記トレー移載機構は、固定ベースと、前記駆動部により駆動され、前記固定ベースと前記保持ベースとの間に接続されたクランクシャフトとを有してもよい。
　本発明に係る基板処理装置は、処理室と、第１及び第２の搬送路と、上記トラバース装置とを具備する。　
　前記処理室は、基板を処理するためのものである。　
　前記第１及び第２の搬送路は、基板を保持するトレーを立てた状態で搬送し、前記処理室内に設けられている。
　本発明では、トレー移載機構によってトレーを保持する保持ベースが回転することにより、そのトレーが処理室内に設けられた第１及び第２の搬送路間で移動する。したがって、従来のようなリフト機構及びスライド機構の２軸での移動動作が不要になり、トレー移載機構を駆動する１つの駆動部によりトレーの移動を実現することができる。すなわち、トラバース装置の構成を簡易化することができ、部品点数を減らすことができる。また、トレー移載機構の回転による移動により、その移動時間を短縮することができる。
　前記処理室は、前記処理室内で真空状態を維持することが可能であり、前記トラバース装置の前記駆動部は、前記処理室外に配置されるモータを有してもよい。従来では、スライド機構のモータをその真空の処理室外に配置させるためには、処理室内の真空を維持するためにベローズが必要であった。その上、従来のようにリフト機構のモータを処理室外に配置させる場合、そのモータの回転軸周りをシールする機構が必要であった。これに対し、本発明ではスライド機構のようなリニア駆動機構を必要としないので、駆動部のモータを処理室外に位置させても、ベローズが必要なく、本発明ではモータの回転軸周りのシール機構のみで足りる。
　以上、本発明によれば、構成を簡易化することで部品点数を減らすことができるので、コストを抑えることができ、また、基板の移動時間を短縮することができる。
図１は、トラバース装置を備えた基板処理装置としての真空処理装置を模式的に示す斜視図である。 図２は、一対のトラバース装置のうち、１つのトラバース装置を示す斜視図である。 図３は、上部のクランクシャフト付近を拡大して示すトラバース装置の図であり、Ｙ軸方向で見た図である。 図４は、動力伝達機構の正面図である。 図５は、トラバース装置の動作を説明するための模式的な図であり、Ｘ軸方向で見た図である。 図６は、保持ベースの支持部の回転軌跡を説明するための図である。
　以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。
　図１は、トラバース装置３０を備えた基板処理装置としての真空処理装置１０を模式的に示す斜視図である。真空処理装置１０は、複数の処理室１１～１５を備えている。図１において、真空処理装置１０は、着脱室１１、ロードロック室（以下単に、ＬＬ室１２と言う。）、第一処理室１３、第二処理室１４、及び搬送室１５がそれぞれゲートバルブ１６を介して連結されている。
　真空処理装置１０には、着脱室１１から搬送室１５へ向かって延びる第１の搬送路（以下単に、往路Ｒ１と言う。）と、搬送室１５から着脱室１１へ向かって延びる第２の搬送路（以下単に、復路Ｒ２と言う。）とが設けられている。本実施形態における往路Ｒ１と復路Ｒ２とは互いに平行である。
　往路Ｒ１及び復路Ｒ２においては、それぞれ複数の搬送トレー１７が、ローラ搬送によって搬送される。例えば、Ｙ軸方向を回転軸として回転駆動する搬送ローラ１９によって搬送トレー１７の下面が支持されながら、往路Ｒ１及び復路Ｒ２に沿って搬送される。各搬送トレー１７は、被処理基板（以下、単に基板と言う。）Ｓの外縁を囲う四角枠体状に形成されている。なお、搬送ローラ１９に代えて、ラックアンドピニオン機構により搬送トレー１７が搬送されてもよい。この場合、搬送トレー１７の下部にラックが設けられ、このラックに噛み合うピニオンが各搬送路Ｒ１及びＲ２に沿って複数設けられていればよい。また、ローラ搬送、ラックアンドピニオン機構による搬送のいずれにおいても、Ｚ軸方向を回転軸として回転駆動する不図示のガイドローラが、各搬送路Ｒ１及びＲ２に沿って設けられていてもよい。
　各搬送トレー１７の左右両側（搬送方向における前側及び後側）には、それぞれ係合部としての凸部１７ａが設けられている。各凸部１７ａは、搬送トレー１７の搬送工程において、後述するようにトラバース装置３０により該搬送トレー１７をロックするために利用される。また、各搬送トレー１７の上側には、トレー磁石２１が配設されている。第一処理室１３、第二処理室１４、及び搬送室１５の各々には、搬送トレー１７のトレー磁石２１と磁気的に作用する保持装置２２が配設されている。搬送トレー１７のトレー磁石２１は、該搬送トレー１７の搬送過程において、各保持装置２２の保持磁石２３と作用することにより、該搬送トレー１７を各搬送路の上方で非接触的に拘束する。
　保持装置２２は、図５（Ａ）～（Ｅ）に示すように、下部に設けられた保持磁石２３を有し、昇降駆動部により、この保持磁石２３が昇降可能となっている。保持磁石２３は、往路Ｒ１及び復路Ｒ２のピッチに一致するようなピッチでＹ軸方向において２つ設けられている。
　本案施形態においては、往路Ｒ１における搬送トレー１７の搬送方向をＸ軸方向と言う。また、水平面に対して垂直の方向をＺ軸方向とし、Ｘ軸方向及びＺ軸方向と直交する方向であって、往路Ｒ１及び復路Ｒ２が並ぶ方向をＹ軸方向と言う。
　着脱室１１は、外部から投入される処理前の基板Ｓを搬送トレー１７に取り付けて保持させ、該基板Ｓを立てた状態でＬＬ室１２へ搬出する。また、着脱室１１は、搬送トレー１７に保持された処理後の基板Ｓを搬送トレー１７から取り外して、真空処理装置１０の外部へ搬出する。着脱室１１は、上記基板Ｓの着脱を大気圧の下で行う。
　ＬＬ室１２は、室内を大気圧にして、着脱室１１から搬送トレー１７を往路Ｒ１に沿って搬入し、その後、室内を減圧することにより、該搬送トレー１７を往路Ｒ１に沿って第一処理室１３へ搬出する。また、ＬＬ室１２は、室内を減圧して、第一処理室１３から搬送トレー１７を復路Ｒ２に沿って室内へ搬入し、その後、室内を大気に解放することにより、該搬送トレー１７を復路Ｒ２に沿って着脱室１１へ搬出する。
　第一処理室１３は、ＬＬ室１２から搬送トレー１７を往路Ｒ１に沿って搬入して、保持装置２２による磁気的な作用によって、該搬送トレー１７を往路Ｒ１上に拘束する。第一処理室１３は、搬送トレー１７に保持された基板Ｓに成膜処理や加熱処理等の処理を施した後、保持装置２２による拘束を解除して、該搬送トレー１７を往路Ｒ１に沿って第二処理室１４へ搬出する。
　また、第一処理室１３は、第二処理室１４から搬送トレー１７を復路Ｒ２に沿って搬入して、保持装置２２による磁気的な作用によって、該搬送トレー１７を復路Ｒ２上に拘束する。第一処理室１３は、搬送トレー１７に保持された基板Ｓに成膜処理や加熱処理等の処理を施した後、保持装置２２による拘束を解除して、該搬送トレー１７を復路Ｒ２に沿ってＬＬ室１２へ搬出する。第一処理室１３は、上記搬送トレー１７の搬入及び搬出を減圧下で行う。
　第二処理室１４も、成膜処理や加熱処理等の処理を基板Ｓに施す。第二処理室１４において、保持装置２２を利用する動作及び搬送トレー１７の搬入及び搬出の手法等は、第一処理室１３におけるものと同様である。第二処理室１４は、往路Ｒ１に沿って、第一処理室１３から基板Ｓを搬入し、及び搬送室１５へ基板Ｓを搬出する。また、第二処理室１４は、復路Ｒ２に沿って、搬送室１５から基板Ｓを搬入し、及び第一処理室１５へ基板Ｓを搬出する。
　搬送室１５におけるＸ軸方向の両側（搬送方向における前側及び後側）には、一対のトラバース装置３０が搭載されている。搬送室１５は、第二処理室１４から搬送トレー１７を往路Ｒ１に沿って搬入して、保持装置２２による磁気的な作用によって、該搬送トレー１７を一旦往路Ｒ１上に拘束する。搬送室１５は、往路Ｒ１上における搬送トレーの磁気的な拘束を解きながら、トラバース装置３０を用いて、該搬送トレー１７を往路Ｒ１から復路Ｒ２上へ搬送する。搬送室１５は、復路Ｒ２へ移動させた搬送トレー１７を復路Ｒ２に沿って第二処理室１４へ搬出する。
　搬送室１５は、往路Ｒ１から復路Ｒ２への搬送トレー１７の搬送を減圧下で行う。また、搬送室１５は、搬送トレー１７を往路Ｒ１から復路Ｒ２へ搬送する間、トラバース装置３０のロック機能によって、該搬送トレー１７をロックする。
　図２は、一対のトラバース装置３０のうち、１つのトラバース装置を示す斜視図である。一対のトラバース装置３０は、後に詳述する保持ベースを用いて搬送トレー１７の両側をそれぞれ保持する。両トラバース装置３０は同じ機能及び構造（形状は例えばＸ軸方向で対称）を有している。
　図２に示すように、トラバース装置３０は、駆動部５０と、基板Ｓを保持した搬送トレー１７を保持することが可能な保持ベース３２を含むトレー移載機構としての平行リンク機構４０とを備える。
　平行リンク機構４０は、駆動部５０の駆動によって駆動される。例えば、平行リンク機構４０は、縦長に形成され垂直に立設された固定ベース３１と、この固定ベース３１及び保持ベース３２の間に回転可能に接続されたクランクシャフト３６及び３７と、これらのクランクシャフト３６及び３７に接続された、縦長形状の保持ベース３２とを有する。駆動部５０は、モータ３３と、モータ３３の出力軸３４に図示しないカップリングを介して接続されたギアボックス３５とを有する。モータ３３の出力軸３４の途中において、大気と真空を隔てる搬送室の隔壁が配置される。すなわち、モータ３３は大気側に配置される。
　ギアボックス３５は、例えば固定ベース３１に設置されており、モータ３３の駆動力を所定の回転速度に減速して下部側のクランクシャフト３７に伝達し、モータ３３のＹ軸周りの回転動力を、Ｘ軸周りの回転動力に変換する。
　平行リンク機構４０の動作を安定にするために、２つのクランクシャフト３６及び３７を接続する補助リンク４４が、保持ベース３２の一方の側に設けられている。補助リンク４４は、クランクシャフト３６及び３７にそれぞれ一体的に設けられた軸部３６ａ及び３７ａに回転可能に接続されている。補助リンク４４は、クランクシャフト３６及び３７の、固定ベース３１に近い側の端部に回転可能に接続されていてもよい。
　保持ベース３２は、搬送トレー１７を立てた状態で保持する。保持ベース３２は縦長のＬ字状に形成されており、縦長部３２ａと、その縦長部３２ａの下部から水平方向（Ｙ軸方向）に突出するように設けられた突出部３２ｂの先端部である支持部３２ｃに搬送トレー１７が載置される。そして、後述するように係合部材としてのフック部材３８が、上述した搬送トレー１７の凸部１７ａに係合する。このように、支持部３２ｃにより搬送トレー１７の下方が支持され、かつ、フック部材３８が凸部１７ａに係合することによって、保持ベース３２の回転移動時に、搬送トレー１７の姿勢を安定させることができる。
　トラバース装置３０が待機状態（図５（Ａ）及び（Ｅ）に示す状態）にある時は、保持ベース３２の支持部３２ｃは、往路Ｒ１及び復路Ｒ２の各路面（搬送トレー１７の下端部）より下部側に配置される。
　保持ベース３２の上端部には、フック部材３８が回転軸３９を中心として回転可能に接続されている。フック部材３８は、その上部の係合端部３８ａに設けられた切り欠きを有し、この切り欠きが凸部１７ａに係合するようになっている。フック部材３８は、次に説明するように、平行リンク機構４０の動力を利用して動作する。
　図３は、上部のクランクシャフト３６付近を拡大して示すトラバース装置３０の図であり、Ｙ軸方向で見た図である。上記平行リンク機構４０の動力をフック部材３８に伝達する動力伝達機構４５が、保持ベース３２の固定ベース３１側に設けられている。図２では動力伝達機構４５の図示を省略している。図４は、動力伝達機構４５の正面図である。
　動力伝達機構４５は、主にカム機構により構成される。カム機構は、クランクシャフト３６に固定されたカム４１と、このカム４１により動作するカムフォロア４２とを有する。カムフォロア４２にはリンクレバー４３の一端部が接続され、このリンクレバー４３の他端部は、フック部材３８に接続された接続軸４８に接続されている。接続軸４８は、フック部材３８の係合端部３８ａとは逆側の端部に接続されており、保持ベース３２に設けられた図示しない長穴に挿通されている。そして、接続軸４８は、保持ベース３２の裏側（動力伝達機構４５が配置される側）でリンクレバー４３と接続されている。
　図４に示すように、フック部材３８の下部と、保持ベース３２に設けられたバネ受け４７との間にはバネ４６が接続されている。図２では、これらのバネ４６及びバネ受け４７を省略している。このバネ４６には、フック部材３８が搬送トレー１７の凸部１７ａに係合しようとして動作する時（図５（Ｂ）～（Ｄ）に示す状態の時）には、あるいは常に、張力（例えばバネ４６が縮む方向の力）が働くように設置されている。
　このようなバネ４６の張力により、カムフォロア４２が例えばカム４１の凹部４１ａ上を走る時、リンクレバー４３が下降し、フック部材３８が矢印Ａの方向に回転することにより、フック部材３８と搬送トレー１７の凸部１７ａとの係合が解除される。つまり、カムフォロア４２がカム４１の凹部４１ａ上を走るタイミングが、トラバース装置３０が待機状態にあるタイミング（つまり保持ベース３２が待機位置にある時（図５（Ａ）及び（Ｅ）に示す状態）のタイミング）と一致するように、動力伝達機構４５の動き（カム４１のタイミング）が設計されている。
　以上のように構成されたトラバース装置３０の動作を説明する。図５はその動作を説明するための模式的な図であり、Ｘ軸方向で見た図である。図６は、保持ベース３２の支持部３２ｃの回転軌跡を説明するための図である。なお、図５及び６では、補助リンク４４の図示を省略している。
　図５（Ａ）では、上記したようにトラバース装置３０は待機状態にあり、保持ベース３２が待機位置にある。この状態では、上記したようにフック部材３８が搬送路Ｒ１及びＲ２上にはなく、退避している。待機位置にある保持ベース３２の支持部３２ｃの回転角度位置を、図６に示すように０°とする。この時、保持装置２２の保持磁石２３が既に下降しており、搬送トレー１７の上部が非接触で保持され、その姿勢が安定している。
　図５（Ｂ）に示すように、平行リンク機構４０の動作により、保持ベース３２が図５及び６における時計回りに回転し、その支持部３２ｃが図６に示す９０°の位置に来ると、搬送トレー１７が支持部３２ｃに接触して載置される。この時、動力伝達機構４５（図３及び４参照）の作用によりフック部材３８が回転し、フック部材３８の係合端部３８ａが搬送トレー１７の凸部１７ａの真下の位置に配置される。この後、さらに保持ベース３２が時計回りに回転し始めることにより、フック部材３８の係合端部３８ａの切り欠きが凸部１７ａに係合してロックされ、このようなロック状態で保持ベース３２が搬送トレー１７を保持しながら回転する。ロックされた後、保持装置２２の保持磁石２３が上昇することで非接触での保持が解除される。
　図５（Ｃ）に示すように、保持ベース３２が時計回りに回転し、保持ベース３２の支持部３２ｃが１８０°の回転位置（図６参照）を通過する。そして図５（Ｄ）に示すように、支持部３２ｃが２７０°の回転位置に達するまでに、保持装置２２による非接触の保持が開始される。そして支持部３２ｃが２７０°の回転位置に達すると、搬送トレー１７が復路Ｒ２に載置される。支持部３２ｃが２７０°の回転位置を通過した後、動力伝達機構４５の作用によりフック部材３８が回転し始め、フック部材３８によるロック状態が解除される。
　このようにして、トラバース装置３０は、保持ベース３２に保持された搬送トレー１７の姿勢を維持しながら、平行リンク機構４０の作用による保持ベース３２の回転によって搬送トレー１７を往路Ｒ１から復路Ｒ２へ移動させる。すなわち、往路Ｒ１及び復路Ｒ２間で搬送トレー１７の移動経路が形成される。
　図５（Ｅ）に示すように、図５（Ｄ）の状態の後も保持ベース３２が時計回りに回転することにより、保持ベース３２が待機位置に戻り、フック部材３８も退避する。
　以上のように、本実施形態では、搬送トレー１７を保持する保持ベース３２が平行リンク機構４０によって回転させられことにより、搬送トレー１７が往路Ｒ１及び復路Ｒ２間で移動する。したがって、従来のようなリフト機構及びスライド機構の２軸での移動動作が不要になり、平行リンク機構４０を駆動する１つの駆動部５０により搬送トレー１７の移動を実現することができる。すなわち、トラバース装置３０の構成を簡易化することができ、部品点数を減らすことができる。これにより、コストを低減することができ、メンテナンス頻度も減らすことができる。また、平行リンク機構４０の回転による移動により、従来のトラバース装置に比べその移動時間を短縮することができる。
　本実施形態では、フック部材３８を作用させるために動力伝達機構４５が用いられている。すなわち、フック部材３８を駆動させるための別途の駆動源が必要ないのでトラバース装置３０の構成を簡易化することができる。
　ここで、保持ベース３２の回転時に搬送トレー１７の姿勢を安定させるために、フック部材３８を用いずに、保持装置２２の動きを搬送トレー１７の回転の動きに追従させることも考えられる。しかし、保持装置２２の構造を回転動作が可能な構成とすると、その保持装置２２から発生する粉塵が多くなりおそれがあり、発生した粉塵が重力で落ちると下部にある基板Ｓの処理に悪影響を及ぼす。したがって、搬送トレー１７より上部にある構造は極力単純なものとされることが好ましく、搬送トレー１７の姿勢安定のためにフック部材３８が装備されている。
　本実施形態では、フック部材３８の係合端部３８ａが、保持ベース３２の上端部より上方に位置するように、フック部材３８が保持ベース３２の上端部寄りの位置に接続されている。これにより、例えば従来のトラバース装置に比べ保持ベース３２の大きさを小さく（あるいは、高さを低く）抑えることができるので、トラバース装置３０の小型化、軽量化を実現することができる。
　本実施形態では、図６に示したように、Ｙ軸方向において往路Ｒ１及び復路Ｒ２から等しい距離にある中心線Ｃ上に、保持ベース３２の支持部３２ｃの回転中心軸Ｏが配置されるように、平行リンク機構４０が保持ベース３２を回転させる。例えば、これにより、Ｘ軸方向で見てトラバース装置３０の配置を最も搬送路Ｒ１及びＲ２に近づけることができる。その結果、各搬送路Ｒ１、Ｒ２及びトラバース装置３０を含む全体の構成を小型化しつつ、搬送トレー１７の搬送を妨げることなく搬送トレー１７の回転の移動経路を形成することができる。
　さらに、保持ベース３２の支持部３２ｃの回転中心軸Ｏは往路Ｒ１及び復路Ｒ２に対して平行である。この場合、保持ベース３２が回転した際に、保持ベース３２が保持した基板Ｓが描く軌跡からなる立体の容積が最も小さくなるため、各搬送路Ｒ１、Ｒ２及びトラバース装置３０を含む全体の構成を小型化する効果が最も高くなる。
　本実施形態では、モータ３３が搬送室外に配置されている。従来では、スライド機構のスライドモータをその真空処理室外に配置させるためには、真空処理室内の真空を維持するために、そのスライドモータの出力軸にベローズを設ける必要があった。その上、従来のようにリフト機構のリフトモータを真空処理室外に配置させる場合、そのモータ３３の回転軸３９周りをシールする機構、例えば磁気シール等が必要であった。これに対し、本実施形態では、スライド機構のようなリニア駆動機構を必要としないので、モータ３３を搬送室外に位置させてもベローズが必要なく、リフトモータの回転軸周りのシール機構のみで足りる。
　[その他の実施形態]
　本発明に係る実施形態は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態が実現される。
　駆動部５０、ギアボックス３５、クランクシャフト３６、動力伝達機構４５、カム機構、フック部材３８等の配置や構成等は適宜変更可能である。例えば、以下に示すような変更が可能である。
　２つのクランクシャフト３６及び３７のうち上部のクランクシャフト３６が駆動軸とされ、下部のクランクシャフト３７が従動軸とされてもよい。
　あるいは、駆動部５０が２つ設けられ、それらの駆動部５０がクランクシャフト３６及び３７をそれぞれ同期して駆動するようにしてもよい。この場合、上記の補助リンク４４は不要になる。
　フック部材３８の回転軸３９の高さ位置がフック部材３８の係合端部３８ａより上方に位置するように、フック部材３８が構成されていてもよい。
　上記実施形態では、トレー移載機構として平行リンク機構を例に挙げたが、他の機構が用いられてもよい。例えば、図２に示したクランクシャフト３６に代えて、保持ベース３２の回転移動をガイドするガイド部材が設けられていてもよい。この場合、保持ベース３２にローラのような回転体が接続され、そのローラが例えばレール部材（保持ベースの移動経路に沿った曲線状のもの）のような上記ガイド部材に回転可能に接続されていればよい。この場合においても、上述のように、駆動部５０、ギアボックス３５等の配置や構成を適宜変更できる。
　カム機構のカムフォロア４２の動きを支持する支持部材が設けられ、その支持部材が弾性的に保持ベース３２に設けられていてもよい。例えばこの場合、支持部材の一部にカムフォロア４２が回転可能に接続され、支持部材の他の部位に保持ベース３２に接続された回転軸３９が接続される。支持部材が、その回転軸を中心に回転（回動）できるようになっており、その支持部材に上記リンクレバー４３やバー部材が接続される。このような構成により、支持部材がその弾性力によってカム４１の形状に沿ってカムフォロア４２を走らせることができ、フック部材３８を動作させることができる。
　上記実施形態のように、動力伝達機構４５がフック部材３８を動作させる形態に限られず、フック部材３８を、図５（Ａ）～（Ｅ）で示したように駆動する駆動部が、駆動部５０とは別に設けられていてもよい。
　固定ベース３１、保持ベース３２、フック部材３８等の形状等も適宜変更可能である。
　上記実施形態ではフック部材３８が設けられる構成であった。しかし、保持ベース３２が例えば搬送トレー１７の側面も保持できるような構造であれば、フック部材３８は設けられていなくてもよい。
　往路Ｒ１及び復路Ｒ２がそれぞれ配置される高さ位置が異なっていてもよい。この場合、保持ベース３２の支持部３２ｃの回転中心が、図６における上記中心線Ｃ上になくてもよい。
　Ｓ…基板
　Ｒ１…往路（搬送路）
　Ｒ２…復路（搬送路）
　Ｃ…中心線
　Ｏ…回転中心
　１７…搬送トレー
　３０…トラバース装置
　３１…固定ベース
　３２…保持ベース
　３２ａ…縦長部
　３２ｂ…突出部
　３２ｃ…支持部
　３６、３７…クランクシャフト
　３８…フック部材
　３８ａ…係合端部
　４０…平行リンク機構
　４５…動力伝達機構
　５０…駆動部

Claims (8)

  1. 　基板を保持するトレーを立てた状態で保持する保持ベースを有し、前記保持ベースに保持された前記トレーの姿勢を維持した状態で前記保持ベースが回転するように設けられたトレー移載機構と、
    　前記トレーを搬送するための第１の搬送路及び第２の搬送路間で、前記保持ベースに保持された前記トレーの移動経路が形成されるように、前記トレー移載機構を駆動する駆動部と
    　を具備するトラバース装置。
  2. 　請求項１に記載のトラバース装置であって、
    　前記保持ベースに設けられ、前記トレーの係合部に係合して前記トレーを支持するための係合部材をさらに具備する
    　トラバース装置。
  3. 　請求項２に記載のトラバース装置であって、
    　前記トレー移載機構による動力を前記係合部材に伝達する動力伝達機構をさらに具備する
    　トラバース装置。
  4. 　請求項２または３に記載のトラバース装置であって、
    　前記係合部材は、前記トレーの係合部に係合する部分である係合端部を有し、
    　前記保持ベースの上端部より前記係合端部が上方に位置するように、前記係合部材が前記保持ベースの前記上端部寄りの位置に接続されている
    　トラバース装置。
  5. 　請求項２から４のうちいずれか１項に記載のトラバース装置であって、
    　前記保持ベースは、
    　前記係合部材が回転可能に接続された縦長部と、
    　前記トレーが載置されて前記トレーを下から支持する支持部を含み、前記縦長部の下部から水平方向に突出するように設けられた突出部とを有し、
    　前記保持ベースは、前記第１及び前記第２の搬送路が並ぶ方向において、前記第１及び前記第２の搬送路から等しい距離にある中心線上に、前記保持ベースの前記支持部における回転中心が配置されるように駆動される
    　トラバース装置。
  6. 　請求項１から５のうちいずれか１項に記載のトラバース装置であって、
    　前記トレー移載機構は、
    　固定ベースと、
    　前記駆動部により駆動され、前記固定ベースと前記保持ベースとの間に接続されたクランクシャフトとをさらに有する
    　トラバース装置。
  7. 　基板を処理するための処理室と、
    　基板を保持するトレーを立てた状態で搬送する、前記処理室内に設けられた第１の搬送路及び第２の搬送路と、
    　前記トレーを立てた状態で保持する保持ベースを有し、前記保持ベースに保持された前記トレーの姿勢を維持した状態で前記保持ベースが回転するように設けられたトレー移載機構と、前記第１の搬送路及び前記第２の搬送路間で、前記保持ベースに保持された前記トレーの移動経路が形成されるように、前記トレー移載機構を駆動する駆動部とを有するトラバース装置と
    　を具備する基板処理装置。
  8. 　請求項７に記載の基板処理装置であって、
    　前記処理室は、前記処理室内で真空状態を維持することが可能であり、
    　前記トラバース装置の前記駆動部は、前記処理室外に配置されるモータを有する
    　基板処理装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019537236A (ja) * 2017-08-25 2019-12-19 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ キャリアを上げ又は下げるためのアセンブリ、真空チャンバ内でキャリアを搬送するための装置、及びキャリアを上げる又は下げるための方法
JP7425701B2 (ja) 2020-09-16 2024-01-31 芝浦メカトロニクス株式会社 基板搬送装置

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI514501B (zh) * 2013-09-17 2015-12-21 Hon Tech Inc Electronic component moving mechanism and its application of the picking methods and test equipment
KR101983895B1 (ko) * 2017-05-29 2019-05-29 한국알박(주) 회전 클램핑 장치
CN212517117U (zh) * 2017-11-20 2021-02-09 应用材料公司 磁悬浮系统、真空系统
JP7015182B2 (ja) 2018-02-09 2022-02-02 ナカ工業株式会社 天井点検口

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55161718A (en) * 1979-05-29 1980-12-16 Yooken:Kk Transfer unit for conveyor line
JPS6259616U (ja) * 1985-09-30 1987-04-13
JPH08139171A (ja) * 1994-09-16 1996-05-31 Toshiba Corp 基板処理方法および基板処理装置
JP2000286320A (ja) * 1999-03-31 2000-10-13 Shibaura Mechatronics Corp 基板搬送装置
WO2009107728A1 (ja) * 2008-02-28 2009-09-03 株式会社 アルバック 搬送装置、真空処理装置、及び搬送方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3517845B2 (ja) * 1992-10-07 2004-04-12 日本電気硝子株式会社 ガラス管の梱包装置
JPH06179504A (ja) * 1992-12-14 1994-06-28 Daifuku Co Ltd 荷搬送移載装置
JPH06338465A (ja) * 1993-05-31 1994-12-06 Mitsubishi Heavy Ind Ltd プラズマｃｖｄ装置
JP3068768B2 (ja) * 1995-06-30 2000-07-24 日立造船株式会社 連続鋳造−圧延ライン用シフトテーブル装置
JP2963683B2 (ja) * 1998-01-14 1999-10-18 共和機械株式会社 卵移載装置
JP4096404B2 (ja) * 1998-04-15 2008-06-04 神鋼電機株式会社 半導体製造装置における外部設置型ロードポート装置
JP2002203885A (ja) * 2000-12-27 2002-07-19 Anelva Corp インターバック型基板処理装置
JP4711770B2 (ja) * 2005-08-01 2011-06-29 株式会社アルバック 搬送装置、真空処理装置および搬送方法
DE102005061563A1 (de) * 2005-12-22 2007-07-19 Applied Materials Gmbh & Co. Kg Anlage zur Behandlung von Substraten und Verfahren

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55161718A (en) * 1979-05-29 1980-12-16 Yooken:Kk Transfer unit for conveyor line
JPS6259616U (ja) * 1985-09-30 1987-04-13
JPH08139171A (ja) * 1994-09-16 1996-05-31 Toshiba Corp 基板処理方法および基板処理装置
JP2000286320A (ja) * 1999-03-31 2000-10-13 Shibaura Mechatronics Corp 基板搬送装置
WO2009107728A1 (ja) * 2008-02-28 2009-09-03 株式会社 アルバック 搬送装置、真空処理装置、及び搬送方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019537236A (ja) * 2017-08-25 2019-12-19 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ キャリアを上げ又は下げるためのアセンブリ、真空チャンバ内でキャリアを搬送するための装置、及びキャリアを上げる又は下げるための方法
JP7425701B2 (ja) 2020-09-16 2024-01-31 芝浦メカトロニクス株式会社 基板搬送装置

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