JP2012238833A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 処理槽11にエッチング液を貯留するエッチング液供給工程と、ガラス基板100を搬送ローラ21により搬送してエッチング液が貯留された処理槽11内に進入させる基板搬入工程と、ガラス基板100の下面からエッチング液を吐出することによりガラス基板100を搬送ローラ21より上方で、かつ、処理槽11に貯留されたエッチング液の液面より下方の位置まで浮上させるエッチング液吐出工程と、エッチング液の吐出を停止してガラス基板100を搬送ローラ21と当接する位置まで下降させる基板下降工程と、処理槽21に貯留されたエッチング液を排出するエッチング液排出工程と、ガラス基板100を搬送ローラ21により搬送して処理槽11より退出させる基板搬出工程とを備える。
【選択図】 図1
Description
12 回収槽
13 貯留槽
14 シャッター
15 シャッター
16 供給管
17 排出管
18 回収管
21 搬送ローラ
22 スプレーノズル
23 エアナイフ
24 ポンプ
25 流量可変ポンプ
26 開閉弁
27 開閉弁
28 モータ
31 管路
32 管路
33 管路
43 搬入口
44 搬出口
50 当接部
51 コロ状部材
52 コロ状部材
53 コロ状部材
54 連結軸
55 当接部
57 コロ状部材
61 浮上防止部材
63 ガイドローラ
64 フランジ部
65 ガイドローラ
71 スプレーノズル
72 シャッター
80 制御部
100 ガラス基板
Claims (14)
- 角形の基板を処理液中に浸漬して処理する基板処理装置において、
前記基板を処理する処理槽と、
前記処理槽内に配設され、前記基板を水平方向に搬送する搬送ローラと、
処理液を貯留した貯留タンクから前記処理槽内に処理液を供給する供給手段と、処理液を前記処理槽から前記貯留タンクに排出する排出手段とを備え、前記処理槽における処理液の液位を、前記搬送ローラにより搬送される基板の上面よりも上方の位置と、前記搬送ローラにより搬送される基板の下面より下方の位置との間で変更する液位調整機構と、
前記基板が処理槽内に貯留された処理液中に配置された状態で、前記搬送ローラの下方から処理液を吐出することにより、前記基板を前記搬送ローラより上方の位置まで浮上させる処理液吐出手段と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記基板が前記処理槽内に貯留された処理液の液面まで浮上することを防止する浮上防止部材を備える基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置において、
前記浮上防止部材は、前記処理液吐出手段により前記基板が前記搬送ローラより上方の位置に浮上したときに、当該基板における前記搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁と当接可能な位置に配設され、前記基板の主面に対して傾斜する傾斜面を備える基板処理装置。 - 請求項3に記載の基板処理装置において、
前記浮上防止部材は、外径が上方に向かうにつれて大きくなり、軸芯が鉛直方向を向く方向に配設された円錐台形状を有し、前記処理液吐出手段により前記搬送ローラより上方の位置に浮上した基板の端縁に当接可能な位置に配設される基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記搬送ローラは、当該搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁にのみ当接する一対の当接部を備える基板処理装置。 - 請求項5に記載の基板処理装置において、
前記当接部は、前記搬送ローラによる前記基板の搬送方向と直交し、かつ、水平方向を向く軸を中心に互いに同軸上に配設された、前記基板の中央部側が直径が小さく、前記基板の端縁部側が直径が大きい複数のコロ状部材から構成される基板処理装置。 - 請求項5に記載の基板処理装置において、
前記当接部は、前記搬送ローラによる前記基板の搬送方向と直交し、かつ、水平方向を向く軸を中心に配設された、前記基板の中央部側が直径が小さく、前記基板の端縁部側が直径が大きい円錐台形状を有する基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記基板における前記搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁間の距離と同一の距離だけ互いに離隔するとともに、鉛直方向を向く軸を中心に回転可能な複数のガイドローラを備える基板処理装置。 - 請求項8に記載の基板処理装置において、
前記ガイドローラは、前記基板の搬送速度と同期して回転する基板処理装置。 - 請求項9に記載の基板処理装置において、
前記ガイドローラは、前記搬送ローラの上端より上方で、かつ、前記処理槽内に貯留される処理液の液面より下方の位置に、フランジ部を備える基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記基板における前記搬送ローラによる基板の搬送方向を向く一対の端縁間の距離よりも大きな距離だけ互いに離隔する位置に配設され、前記一対の端縁に当接可能なガイド部材を備えるとともに、
前記搬送ローラによる基板の搬送方向と交差する方向に前記処理液を噴出することにより、前記処理液吐出手段により前記基板が前記搬送ローラより上方の位置に浮上したときに、当該基板を、一方の端縁が前記ガイド部材と当接する方向に移動させる処理液噴出部を備える基板処理装置。 - 請求項1から請求項11のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記処理液は、基板をエッチング処理するためのエッチング液である基板処理装置。 - 角形の基板を処理液中に浸漬して処理する基板処理方法において、
処理槽に処理液を供給して処理槽内に処理液を貯留する処理液供給工程と、
基板を搬送ローラにより搬送して、前記処理液が貯留された処理槽内に進入させる基板搬入工程と、
前記基板の下面から処理液を吐出することにより、前記基板を前記搬送ローラより上方で、かつ、前記処理槽に貯留された処理液の液面より下方の位置まで浮上させる処理液吐出工程と、
処理液の吐出を停止して、前記基板を前記搬送ローラと当接する位置まで下降させる基板下降工程と、
前記基板を前記搬送ローラにより搬送して、処理槽より退出させる基板搬出工程と、
を備えたことを特徴とする基板処理方法。 - 請求項13に記載の基板処理方法において、
前記基板下降工程と前記基板搬出工程の間に、
前記処理槽に貯留された処理液を排出する処理液排出工程を備える基板処理方法。
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