JPH05277456A - 液処理装置 - Google Patents
液処理装置Info
- Publication number
- JPH05277456A JPH05277456A JP7654792A JP7654792A JPH05277456A JP H05277456 A JPH05277456 A JP H05277456A JP 7654792 A JP7654792 A JP 7654792A JP 7654792 A JP7654792 A JP 7654792A JP H05277456 A JPH05277456 A JP H05277456A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processed
- processing apparatus
- liquid
- liquid processing
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、液晶表示素子用ガラス基板の液処理
装置、特に洗浄工程，現像工程，エッチング工程，剥離
工程に用いる液処理装置において、搬送幅の異なるガラ
ス基板を１枚毎に１台の処理装置で処理可能な構造とす
る事にある。 【構成】被処理物の移動方向を規制して搬送し、液処理
を行う装置において、被処理物の移動方向を規制する部
分を移動させる機能を設けることにより達成される。 【効果】異なる搬送幅の基板を１枚毎に１台の液処理装
置、一例として洗浄装置で処理する事が出来るため、各
基板毎に均一な処理が行え、異なる基板寸法の液晶表示
素子を効率よく生産出来るという効果がある。
装置、特に洗浄工程，現像工程，エッチング工程，剥離
工程に用いる液処理装置において、搬送幅の異なるガラ
ス基板を１枚毎に１台の処理装置で処理可能な構造とす
る事にある。 【構成】被処理物の移動方向を規制して搬送し、液処理
を行う装置において、被処理物の移動方向を規制する部
分を移動させる機能を設けることにより達成される。 【効果】異なる搬送幅の基板を１枚毎に１台の液処理装
置、一例として洗浄装置で処理する事が出来るため、各
基板毎に均一な処理が行え、異なる基板寸法の液晶表示
素子を効率よく生産出来るという効果がある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子用ガラス
基板の液処理装置に係わり、特に搬送幅の異なるガラス
基板の洗浄工程，現像工程，エッチング工程，剥離工程
に用いる液処理装置に関する。
基板の液処理装置に係わり、特に搬送幅の異なるガラス
基板の洗浄工程，現像工程，エッチング工程，剥離工程
に用いる液処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来技術では、実開平3−61330号記載の
様に、つば付の搬送ローラにて基板を搬送していた。そ
の例を図２に示す。つば付搬送ローラ９は図に示されて
いない駆動系によって回転されている。その回転により
ガラス基板１を基板搬送方向４に搬送する。その時ガラ
ス基板１の移動方向はローラのつばの部分で規制を受け
る。このような搬送によりガラス基板１は１枚毎に処理
されていた。
様に、つば付の搬送ローラにて基板を搬送していた。そ
の例を図２に示す。つば付搬送ローラ９は図に示されて
いない駆動系によって回転されている。その回転により
ガラス基板１を基板搬送方向４に搬送する。その時ガラ
ス基板１の移動方向はローラのつばの部分で規制を受け
る。このような搬送によりガラス基板１は１枚毎に処理
されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】同一搬送幅の被処理物
のガラス基板１を搬送する場合は従来技術で問題は無
い。しかし、異なる搬送幅の基板を同一装置で処理を行
う場合、各々の基板の幅につば付ローラ９の位置を変更
する必要が生ずる。この変更は各々のつば付ローラを移
動させる為、その作業に著しい時間を必要とした。その
為、液晶表示用素子製造工程において、１台の洗浄装置
で異なる搬送幅のガラス基板を処理することは困難であ
った。その為、これらのガラス基板の処理では、各々の
ガラス基板の寸法に適した処理治具に複数枚のガラス基
板を収納し、その処理治具を処理槽内で処理する方法が
とられていた。しかし、この処理方法では１枚毎に均一
に処理を行う事が出来ない為、処理性能例えば洗浄性能
を向上させる事が困難であった。
のガラス基板１を搬送する場合は従来技術で問題は無
い。しかし、異なる搬送幅の基板を同一装置で処理を行
う場合、各々の基板の幅につば付ローラ９の位置を変更
する必要が生ずる。この変更は各々のつば付ローラを移
動させる為、その作業に著しい時間を必要とした。その
為、液晶表示用素子製造工程において、１台の洗浄装置
で異なる搬送幅のガラス基板を処理することは困難であ
った。その為、これらのガラス基板の処理では、各々の
ガラス基板の寸法に適した処理治具に複数枚のガラス基
板を収納し、その処理治具を処理槽内で処理する方法が
とられていた。しかし、この処理方法では１枚毎に均一
に処理を行う事が出来ない為、処理性能例えば洗浄性能
を向上させる事が困難であった。
【０００４】本発明の目的は、異なる搬送幅のガラス基
板を１枚毎に１台の液処理装置で処理可能な構造とする
事にある。
板を１枚毎に１台の液処理装置で処理可能な構造とする
事にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、被処理物の移動方向を規制する部分を移動させる機
能を、液処理装置に設けたものである。
め、被処理物の移動方向を規制する部分を移動させる機
能を、液処理装置に設けたものである。
【０００６】
【作用】被処理物の移動方向を規制する部分を移動させ
ることにより、その規制により決められる搬送幅は異な
った幅となる。これにより幅の異なる被処理物を同一装
置で洗浄処理を行う事が可能となる。
ることにより、その規制により決められる搬送幅は異な
った幅となる。これにより幅の異なる被処理物を同一装
置で洗浄処理を行う事が可能となる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の実施例を図１より図１０によ
り説明する。
り説明する。
【０００８】図３，図４において、洗浄装置１０は基板
搬送方向１１の方向に流れるガラス基板１に洗浄を行う
装置である。洗浄装置に投入されたガラス基板１は、純
水および洗剤液を洗浄媒体としたスプレー１２の洗浄、
および洗浄ブラシ１３による基板を擦る事により洗浄を
行うブラシ洗浄を受ける。さらに、超音波励振させた純
水を基板に吐出することにより洗浄を行う超音波スプレ
ー１４の洗浄を受けた後、エアナイフ１５により乾燥さ
れる。本発明においてこの洗浄工程は一例であり、これ
に限定するものではない。
搬送方向１１の方向に流れるガラス基板１に洗浄を行う
装置である。洗浄装置に投入されたガラス基板１は、純
水および洗剤液を洗浄媒体としたスプレー１２の洗浄、
および洗浄ブラシ１３による基板を擦る事により洗浄を
行うブラシ洗浄を受ける。さらに、超音波励振させた純
水を基板に吐出することにより洗浄を行う超音波スプレ
ー１４の洗浄を受けた後、エアナイフ１５により乾燥さ
れる。本発明においてこの洗浄工程は一例であり、これ
に限定するものではない。
【０００９】図１は洗浄装置１０の搬送機構部分の拡大
図である。ガラス基板１は搬送ローラ２の上に搭載され
る。搬送ローラ２は図に示されていない回転機構により
回転され、それによりガラス基板１は基板搬送方向４の
方向に搬送される。ガラス基板１の進行方向側面にはそ
の進行方向の幅を規制する為に、サイドガイドローラ３
が設けられている。サイドガイドローラ３の構造を図５
に示す。また、サイドガイドローラ３の代わりにサイド
ガイドピン１６を使用する事も可能である。サイドガイ
ドローラ３およびサイドガイドピン１６の材質は一例と
して、ポリプロピレン，ポリエチレン，ポリテトラフル
オロエチレンが用いられる。これらは被処理物より硬度
が低い材質である。サイドガイドローラ３はローラ保持
金具５およびローラ保持金具６に固定されている。ロー
ラ保持金具６には図に示されていない移動機構によりロ
ーラ保持金具７の位置へ移動する事が可能である。その
移動方向をローラ保持金具移動方向８に示す。
図である。ガラス基板１は搬送ローラ２の上に搭載され
る。搬送ローラ２は図に示されていない回転機構により
回転され、それによりガラス基板１は基板搬送方向４の
方向に搬送される。ガラス基板１の進行方向側面にはそ
の進行方向の幅を規制する為に、サイドガイドローラ３
が設けられている。サイドガイドローラ３の構造を図５
に示す。また、サイドガイドローラ３の代わりにサイド
ガイドピン１６を使用する事も可能である。サイドガイ
ドローラ３およびサイドガイドピン１６の材質は一例と
して、ポリプロピレン，ポリエチレン，ポリテトラフル
オロエチレンが用いられる。これらは被処理物より硬度
が低い材質である。サイドガイドローラ３はローラ保持
金具５およびローラ保持金具６に固定されている。ロー
ラ保持金具６には図に示されていない移動機構によりロ
ーラ保持金具７の位置へ移動する事が可能である。その
移動方向をローラ保持金具移動方向８に示す。
【００１０】ローラ保持金具６を移動させる機構とその
動作状態を図７に示す。ローラ保持金具６はガイドシャ
フト２０に接続されている。そのガイドシャフト２０は
ガイドレール１９を経由してシャフト保持金具２１と接
続している。シャフト保持金具２１にはエアシリンダ１
７およびエアシリンダ１８が接続されている。エアシリ
ンダ１７およびエアシリンダ１８はその内部にエアを送
る事により、内部のピストンを移動させ、シリンダシャ
フトの長さを長い状態、または短い状態に変化させるこ
とが可能である。このエアシリンダシャフトの長さが変
わる事により、シャフト保持金具２１およびガイドシャ
フト２０は移動され、それに伴い、ローラ保持金具６も
移動する。
動作状態を図７に示す。ローラ保持金具６はガイドシャ
フト２０に接続されている。そのガイドシャフト２０は
ガイドレール１９を経由してシャフト保持金具２１と接
続している。シャフト保持金具２１にはエアシリンダ１
７およびエアシリンダ１８が接続されている。エアシリ
ンダ１７およびエアシリンダ１８はその内部にエアを送
る事により、内部のピストンを移動させ、シリンダシャ
フトの長さを長い状態、または短い状態に変化させるこ
とが可能である。このエアシリンダシャフトの長さが変
わる事により、シャフト保持金具２１およびガイドシャ
フト２０は移動され、それに伴い、ローラ保持金具６も
移動する。
【００１１】図７（ａ）においてエアシリンダ１７およ
びエアシリンダ１８は長い状態である。この時、サイド
ガイドローラ３により規制される搬送幅は一例として４
００mmである。図７（ｂ）においてエアシリンダ１７は
短い状態であり、エアシリンダ１８は長い状態である。
この時、サイドガイドローラ３により規制される搬送幅
は一例として３４０mmである。図７（ｃ）においてエア
シリンダ１７およびエアシリンダ１８は短い状態であ
る。この時、サイドガイドローラ３により規制される搬
送幅は一例として３００mmである。このように異なるシ
リンダシャフト長さのエアシリンダを用いる事で、数種
の搬送幅を与える事ができ、異なる搬送幅のガラス基板
を搬送する事が可能となる。本例における搬送幅は一例
であり、その搬送幅はシリンダシャフト長さの選択によ
り任意に設定される。
びエアシリンダ１８は長い状態である。この時、サイド
ガイドローラ３により規制される搬送幅は一例として４
００mmである。図７（ｂ）においてエアシリンダ１７は
短い状態であり、エアシリンダ１８は長い状態である。
この時、サイドガイドローラ３により規制される搬送幅
は一例として３４０mmである。図７（ｃ）においてエア
シリンダ１７およびエアシリンダ１８は短い状態であ
る。この時、サイドガイドローラ３により規制される搬
送幅は一例として３００mmである。このように異なるシ
リンダシャフト長さのエアシリンダを用いる事で、数種
の搬送幅を与える事ができ、異なる搬送幅のガラス基板
を搬送する事が可能となる。本例における搬送幅は一例
であり、その搬送幅はシリンダシャフト長さの選択によ
り任意に設定される。
【００１２】ローラ保持金具６を移動させる機能の異な
る例を図８および図９に示す。
る例を図８および図９に示す。
【００１３】図８においてモータ２３にはスパイラルシ
ャフト２２が接続されている。スパイラルシャフト２２
とシャフト保持金具２１は、スパイラル状の溝にはめあ
い、軸の回転力により軸方向に移動する機能を有する部
品を介して接続されている。モータ２３の回転軸を回転
させることにより、シャフト保持金具２１はスパイラル
シャフト２２の軸方向に移動する。それに伴い、ガイド
シャフト２０およびローラ保持金具６も移動し、その結
果、サイドガイドローラ３により規制される搬送幅を変
化させる事ができる。
ャフト２２が接続されている。スパイラルシャフト２２
とシャフト保持金具２１は、スパイラル状の溝にはめあ
い、軸の回転力により軸方向に移動する機能を有する部
品を介して接続されている。モータ２３の回転軸を回転
させることにより、シャフト保持金具２１はスパイラル
シャフト２２の軸方向に移動する。それに伴い、ガイド
シャフト２０およびローラ保持金具６も移動し、その結
果、サイドガイドローラ３により規制される搬送幅を変
化させる事ができる。
【００１４】図９においてモータ２５はラックアンドピ
ニオン２４の機構と接続している。ラックアンドピニオ
ン２４はモータ２５の回転をラックアンドピニオン２４
の軸方向に直進運動に変換する機能を有している。ラッ
クアンドピニオン２４はその端部においてシャフト保持
金具２１と接続している。モータ２５の回転軸を回転さ
せることにより、シャフト保持金具２１はラックアンド
ピニオン２４の軸方向に移動する。それに伴い、ガイド
シャフト２０およびローラ保持金具６も移動し、その結
果、サイドガイドローラ３により規制される搬送幅を変
化させる事ができる。
ニオン２４の機構と接続している。ラックアンドピニオ
ン２４はモータ２５の回転をラックアンドピニオン２４
の軸方向に直進運動に変換する機能を有している。ラッ
クアンドピニオン２４はその端部においてシャフト保持
金具２１と接続している。モータ２５の回転軸を回転さ
せることにより、シャフト保持金具２１はラックアンド
ピニオン２４の軸方向に移動する。それに伴い、ガイド
シャフト２０およびローラ保持金具６も移動し、その結
果、サイドガイドローラ３により規制される搬送幅を変
化させる事ができる。
【００１５】図４におけるエアナイフ部１５の拡大図と
その機能を示す図を図１０に示す。図１０において搬送
幅を変化させる機構は図７記載の機構と同一である。し
かし、洗浄処理の性能上、エアナイフ２６は基板の進行
方向に対して傾けられた状態で配置される。その為、サ
イドガイドローラ３を固定するローラ保持金具はローラ
保持金具５ａ，ローラ保持金具５ｂ，ローラ保持金具６
ａ，ローラ保持金具６ｂに分割され、エアナイフ２６と
干渉を起こさない位置に配置される。エアシリンダ１７
およびエアシリンダ１８の動作により、ローラ保持金具
６ａおよびローラ保持金具６ｂが移動するとき、サイド
ガイドローラがエアナイフ２６と接触することを防止す
るため、エアナイフ２６の近傍はサイドガイドローラ３
ａの様に他のサイドガイドローラ３より小形のものが用
いられる。さらに、エアナイフ２６とサイドガイドロー
ラ３およびサイドガイドローラ３ａが干渉する場合は、
サイドガイドローラ３およびサイドガイドローラ３ａの
位置を手作業にて変更可能な構造とする場合もある。
その機能を示す図を図１０に示す。図１０において搬送
幅を変化させる機構は図７記載の機構と同一である。し
かし、洗浄処理の性能上、エアナイフ２６は基板の進行
方向に対して傾けられた状態で配置される。その為、サ
イドガイドローラ３を固定するローラ保持金具はローラ
保持金具５ａ，ローラ保持金具５ｂ，ローラ保持金具６
ａ，ローラ保持金具６ｂに分割され、エアナイフ２６と
干渉を起こさない位置に配置される。エアシリンダ１７
およびエアシリンダ１８の動作により、ローラ保持金具
６ａおよびローラ保持金具６ｂが移動するとき、サイド
ガイドローラがエアナイフ２６と接触することを防止す
るため、エアナイフ２６の近傍はサイドガイドローラ３
ａの様に他のサイドガイドローラ３より小形のものが用
いられる。さらに、エアナイフ２６とサイドガイドロー
ラ３およびサイドガイドローラ３ａが干渉する場合は、
サイドガイドローラ３およびサイドガイドローラ３ａの
位置を手作業にて変更可能な構造とする場合もある。
【００１６】
【発明の効果】本発明によれば、異なる搬送幅の基板を
１枚毎に１台の液処理装置、一例として洗浄装置で処理
する事が出来るため、各基板毎に均一な処理が行え、異
なる基板寸法の液晶表示素子を効率よく生産出来るとい
う効果がある。
１枚毎に１台の液処理装置、一例として洗浄装置で処理
する事が出来るため、各基板毎に均一な処理が行え、異
なる基板寸法の液晶表示素子を効率よく生産出来るとい
う効果がある。
【図１】本発明の一実施例の洗浄装置の搬送機構部の斜
視図である。
視図である。
【図２】従来技術による洗浄装置の搬送機構部の斜視図
である。
である。
【図３】本発明の一実施例の洗浄装置の正面断面図であ
る。
る。
【図４】本発明の一実施例の洗浄装置の平面図である。
【図５】本発明の一実施例の円筒状ローラの平面図およ
び側面断面図である。
び側面断面図である。
【図６】本発明の一実施例の円筒状ピンの平面図および
側面図である。
側面図である。
【図７】本発明の一実施例による被処理物の移動方向を
規制する部分を移動させる機能を示す図である。
規制する部分を移動させる機能を示す図である。
【図８】本発明における被処理物の移動方向を規制する
部分を移動させる機構の一実施例を示す図である。
部分を移動させる機構の一実施例を示す図である。
【図９】本発明における被処理物の移動方向を規制する
部分を移動させる機構の一実施例を示す図である。
部分を移動させる機構の一実施例を示す図である。
【図１０】本発明の一実施例による被処理物の移動方向
を規制する部分を移動させる機能を示す図である。
を規制する部分を移動させる機能を示す図である。
１…ガラス基板、２，２ａ…搬送ローラ、３，３ａ…サ
イドガイドローラ、４…基板搬送方向、５，５ａ，５ｂ
…ローラ保持金具、６，６ａ，６ｂ…ローラ保持金具、
７…ローラ保持金具、８…ローラ保持金具移動方向、９
…つば付搬送ローラ、１０…洗浄装置、１１…基板搬送
方向、１２…スプレー、１３…洗浄ブラシ、１４…超音
波スプレー、１５…エアナイフ、１６…サイドガイドピ
ン、１７…エアシリンダ、１８…エアシリンダ、１９…
ガイドレール、２０…ガイドシャフト、２１…シャフト
保持金具、２２…スパイラルシャフト、２３…モータ、
２４…ラックアンドピニオン、２５…モータ、２６…エ
アナイフ。
イドガイドローラ、４…基板搬送方向、５，５ａ，５ｂ
…ローラ保持金具、６，６ａ，６ｂ…ローラ保持金具、
７…ローラ保持金具、８…ローラ保持金具移動方向、９
…つば付搬送ローラ、１０…洗浄装置、１１…基板搬送
方向、１２…スプレー、１３…洗浄ブラシ、１４…超音
波スプレー、１５…エアナイフ、１６…サイドガイドピ
ン、１７…エアシリンダ、１８…エアシリンダ、１９…
ガイドレール、２０…ガイドシャフト、２１…シャフト
保持金具、２２…スパイラルシャフト、２３…モータ、
２４…ラックアンドピニオン、２５…モータ、２６…エ
アナイフ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/306 Ｊ 9278−4Ｍ 21/68 Ａ 8418−4Ｍ
Claims (24)
- 【請求項１】被処理物の移動方向を規制して搬送し、処
理を行う装置において、被処理物の移動方向を規制する
部分を移動させ、幅の異なる被処理物を同一装置で処理
を行う機能を有することを特徴とする液処理装置。 - 【請求項２】被処理物の移動方向を規制する部分とし
て、被処理物の側面に接する部品を被処理物の搬送方向
に沿って、被処理物の側面に配置することを特徴とする
請求項１記載の液処理装置。 - 【請求項３】被処理物の側面に接する部品として円筒状
のピンを用いる事を特徴とする請求項２記載の液処理装
置。 - 【請求項４】被処理物の側面に接する部品として円筒状
のローラを用いる事を特徴とする請求項２記載の液処理
装置。 - 【請求項５】被処理物の側面に接する部品の材質が被処
理物より硬度が低い材質である事を特徴とする請求項３
から請求項４のいずれか１項に記載の液処理装置。 - 【請求項６】被処理物の移動方向を規制する部分を移動
させる駆動力として、エア圧を用いる機構を使用する事
を特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記
載の液処理装置。 - 【請求項７】駆動力としてエア圧を用いる機構として、
エアの圧力を受けて延びる機能を有するシリンダ軸に被
処理物の移動方向を規制する部分を結合させた機構を使
用する事を特徴とする請求項６記載の液処理装置。 - 【請求項８】被処理物の移動方向を規制する部分を移動
させる駆動力として、電気エネルギーを駆動力に変換す
るモータを用いる機構を使用する事を特徴とする請求項
１から請求項５のいずれか１項に記載の液処理装置。 - 【請求項９】モータの駆動力を被処理物の移動方向を規
制する手段に伝達させる機構として、スパイラル状の溝
が刻まれた回転軸をモータの回転軸に結合し、そのスパ
イラル状の溝にはめあい、軸の回転力により軸方向に移
動する機能を有する部品を、被処理物の移動方向を規制
する部分に結合させた機構を使用する事を特徴とする請
求項８記載の液処理装置。 - 【請求項１０】モータの駆動力を被処理物の移動方向を
規制する手段に伝達させる機構として、モータ回転軸に
結合しモータの回転運動を直線運動に変換するラックア
ンドピニオン機構を、被処理物の移動方向を規制する部
分に結合させた機構を使用する事を特徴とする請求項８
記載の液処理装置。 - 【請求項１１】被処理物が板状であることを特徴とする
請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の液処理
装置。 - 【請求項１２】板状の被処理物がガラス製である事を特
徴とする請求項１１記載の液処理装置。 - 【請求項１３】板状ガラスの被処理物が液晶表示素子用
の基板である事を特徴とする請求項１２記載の液処理装
置。 - 【請求項１４】板状の被処理物が合成樹脂製である事を
特徴とする請求項１１記載の液処理装置。 - 【請求項１５】板状合成樹脂製の被処理物がプリント基
板である事を特徴とする請求項１４記載の液処理装置。 - 【請求項１６】液処理として液体を用いた洗浄処理を行
う事を特徴とする請求項１から請求項１５のいずれか１
項に記載の液処理装置。 - 【請求項１７】液処理として液体を用いた洗浄処理を行
う事と用いた液体を除去する乾燥処理を行う事を特徴と
する請求項１から請求項１５のいずれか１項に記載の液
処理装置。 - 【請求項１８】洗浄作用として、液体を被処理物に吐出
するスプレー洗浄と、回転するブラシを被処理物に接触
させるブラシスクラブ洗浄と、超音波で励振させた洗浄
液を被処理物に吐出する超音波スプレー洗浄と、超音波
で励振した洗浄液を溜めた洗浄槽に被処理物を浸漬させ
る超音波洗浄のうち少なくとも１種類の洗浄作用を用い
る事を特徴とする請求項１から請求項１７のいずれか１
項に記載の液処理装置。 - 【請求項１９】乾燥作用として、被処理物に気体を吐出
して被処理物上の液体を除去するエアナイフ乾燥と、被
処理物を回転させて回転により発生する遠心力により被
処理物上の液体を除去するスピン乾燥と、被処理物上の
液体と相溶性があり被処理物上の液体より蒸発速度の速
い液体で被処理物上の液体を置換することで乾燥を行う
蒸気乾燥のうち少なくとも１種類の乾燥作用を用いる事
を特徴とする請求項１から請求項１７のいずれか１項に
記載の液処理装置。 - 【請求項２０】液処理装置を構成する洗浄乾燥要素とし
て、ブラシスクラブ洗浄とスプレー洗浄と超音波スプレ
ー洗浄とエアナイフ乾燥を含む事を特徴とする請求項１
から請求項１９のいずれか１項に記載の液処理装置。 - 【請求項２１】液処理装置を構成する洗浄乾燥要素とし
て、超音波スプレー洗浄とエアナイフ乾燥を含む事を特
徴とする請求項１から請求項１９のいずれか１項に記載
の液処理装置。 - 【請求項２２】被処理物の移動方向を規制する部分を構
成する部品の配置が、液処理を行う機構と干渉を起こさ
ない位置で有ることを特徴とする請求項１から請求項２
１のいずれか１項に記載の液処理装置。 - 【請求項２３】被処理物の移動方向を規制する部分を構
成する部品の配置が、液処理を行う機構と干渉を起こさ
ない位置で有る為に、被処理物の移動方向を規制する部
分を構成する部品の大きさが部分的に異なることを特徴
とする請求項１から請求項２２のいずれか１項に記載の
液処理装置。 - 【請求項２４】被処理物の移動方向を規制する部分を構
成する部品の配置が、液処理を行う機構と干渉を起こす
位置で有る場合、その位置を変更することが可能な事を
特徴とする請求項１から請求項２３のいずれか１項に記
載の液処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7654792A JPH05277456A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 液処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7654792A JPH05277456A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 液処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05277456A true JPH05277456A (ja) | 1993-10-26 |
Family
ID=13608295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7654792A Pending JPH05277456A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 液処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05277456A (ja) |
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002167039A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-11 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 基板移載装置 |
| WO2003050601A1 (fr) * | 2001-12-13 | 2003-06-19 | Sumitomo Precision Products Co., Ltd | Systeme de traitement de substrat et dispositif de sechage de substrat |
| WO2003050600A1 (fr) * | 2001-12-13 | 2003-06-19 | Sumitomo Precision Products Co., Ltd | Systeme de traitement de substrat et dispositif de sechage de substrat |
| KR100592931B1 (ko) * | 2004-07-02 | 2006-06-26 | 주식회사 파이컴 | 글라스 이송용 컨베이어 시스템 |
| JP2007014846A (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-25 | Hugle Electronics Inc | 基板用搬送除塵装置の使用方法および基板用搬送除塵装置 |
| KR100795904B1 (ko) * | 2007-02-07 | 2008-01-21 | 세메스 주식회사 | 기판 이송 장치 |
| KR100821181B1 (ko) * | 2006-06-22 | 2008-04-11 | 주식회사 에스에프에이 | 기판 반송장치 |
| KR100897750B1 (ko) * | 2008-08-18 | 2009-05-15 | 배경원 | 가이드롤러 위치 자동 조절 기능을 구비하는 유리 양각면기 |
| KR100902615B1 (ko) * | 2007-09-27 | 2009-06-11 | 세메스 주식회사 | 기판 지지유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치 |
| CN102785936A (zh) * | 2012-07-31 | 2012-11-21 | 芜湖耀华玻璃园艺有限公司 | 宽度可调的玻璃运输装置 |
| JP2012238833A (ja) * | 2011-04-27 | 2012-12-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
| CN103028644A (zh) * | 2012-12-14 | 2013-04-10 | 浙江天齐电气有限公司 | 用于配电箱的精密移动制造装置 |
| CN103043364A (zh) * | 2012-12-28 | 2013-04-17 | 江阴大地装备股份有限公司 | 输送辊道 |
| CN107275265A (zh) * | 2017-07-06 | 2017-10-20 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 蚀刻设备 |
| CN111069152A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-04-28 | 深圳市泰利创斯科技有限公司 | 进料传送方法和装置、宽度调节装置、抑制碎屑的装置 |
| CN112875232A (zh) * | 2021-01-12 | 2021-06-01 | 广东鑫光智能系统有限公司 | 一种板材生产用的左右居中机构 |
| CN116000043A (zh) * | 2023-03-23 | 2023-04-25 | 潍坊旭辉玻璃有限公司 | 玻璃清洗烘干机 |
-
1992
- 1992-03-31 JP JP7654792A patent/JPH05277456A/ja active Pending
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002167039A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-11 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 基板移載装置 |
| WO2003050601A1 (fr) * | 2001-12-13 | 2003-06-19 | Sumitomo Precision Products Co., Ltd | Systeme de traitement de substrat et dispositif de sechage de substrat |
| WO2003050600A1 (fr) * | 2001-12-13 | 2003-06-19 | Sumitomo Precision Products Co., Ltd | Systeme de traitement de substrat et dispositif de sechage de substrat |
| KR100592931B1 (ko) * | 2004-07-02 | 2006-06-26 | 주식회사 파이컴 | 글라스 이송용 컨베이어 시스템 |
| JP2007014846A (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-25 | Hugle Electronics Inc | 基板用搬送除塵装置の使用方法および基板用搬送除塵装置 |
| JP4579071B2 (ja) * | 2005-07-06 | 2010-11-10 | ヒューグルエレクトロニクス株式会社 | 基板用搬送除塵装置 |
| KR100821181B1 (ko) * | 2006-06-22 | 2008-04-11 | 주식회사 에스에프에이 | 기판 반송장치 |
| KR100795904B1 (ko) * | 2007-02-07 | 2008-01-21 | 세메스 주식회사 | 기판 이송 장치 |
| KR100902615B1 (ko) * | 2007-09-27 | 2009-06-11 | 세메스 주식회사 | 기판 지지유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치 |
| KR100897750B1 (ko) * | 2008-08-18 | 2009-05-15 | 배경원 | 가이드롤러 위치 자동 조절 기능을 구비하는 유리 양각면기 |
| JP2012238833A (ja) * | 2011-04-27 | 2012-12-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
| CN102785936A (zh) * | 2012-07-31 | 2012-11-21 | 芜湖耀华玻璃园艺有限公司 | 宽度可调的玻璃运输装置 |
| CN103028644A (zh) * | 2012-12-14 | 2013-04-10 | 浙江天齐电气有限公司 | 用于配电箱的精密移动制造装置 |
| CN103043364A (zh) * | 2012-12-28 | 2013-04-17 | 江阴大地装备股份有限公司 | 输送辊道 |
| CN107275265A (zh) * | 2017-07-06 | 2017-10-20 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 蚀刻设备 |
| CN111069152A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-04-28 | 深圳市泰利创斯科技有限公司 | 进料传送方法和装置、宽度调节装置、抑制碎屑的装置 |
| CN111069152B (zh) * | 2019-12-30 | 2022-04-19 | 深圳市泰利创斯科技有限公司 | 进料传送方法和装置、宽度调节装置、抑制碎屑的装置 |
| CN112875232A (zh) * | 2021-01-12 | 2021-06-01 | 广东鑫光智能系统有限公司 | 一种板材生产用的左右居中机构 |
| CN116000043A (zh) * | 2023-03-23 | 2023-04-25 | 潍坊旭辉玻璃有限公司 | 玻璃清洗烘干机 |
| CN116000043B (zh) * | 2023-03-23 | 2023-05-30 | 潍坊旭辉玻璃有限公司 | 玻璃清洗烘干机 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH05277456A (ja) | 液処理装置 | |
| US11963306B2 (en) | Apparatus for manufacturing printed circuit boards | |
| EP0691675A1 (en) | Brush cleaning apparatus and cleaning system for disk-shaped objects using same | |
| KR950015626A (ko) | 기판양면 세정장치 및 이것을 사용하는 세정방법 | |
| JP2005294835A (ja) | 基板とメニスカスとの境界面およびその取り扱い方法 | |
| JPH0645302A (ja) | 処理装置 | |
| US6367490B1 (en) | Processing apparatus and processing method | |
| JPH11509822A (ja) | 回路基板の処理のための方法及び装置 | |
| KR20080093376A (ko) | 기판 처리 장치 | |
| JP2001232250A (ja) | 膜形成装置 | |
| JP2003104544A (ja) | 方形基板の湿式処理装置 | |
| JP3478075B2 (ja) | レーザ加工用クリーナ | |
| JP2005199196A (ja) | 洗浄方法及び装置 | |
| KR101656351B1 (ko) | 슬릿코터 | |
| JPH05301084A (ja) | 液処理装置 | |
| JP4946823B2 (ja) | 基板洗浄装置 | |
| JP3513378B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2001102289A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP2016093801A (ja) | 乾式指紋洗浄装置 | |
| KR102423000B1 (ko) | 청소용 점착테이프 제조 설비의 롤러 세척장치 | |
| JP2001009396A (ja) | 液晶表示パネル用洗浄装置および液晶表示パネル洗浄方法 | |
| KR100825310B1 (ko) | 기판 세정장비의 브러싱장치 | |
| JPH10337543A (ja) | 洗浄処理装置 | |
| JP2001267279A (ja) | 湿式化学現象を利用して、個々のウエハを洗浄かつエッチングする方法と装置 | |
| JP3100108B2 (ja) | 回転処理装置 |