JPH05301084A - 液処理装置 - Google Patents

液処理装置

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JPH05301084A
JPH05301084A JP10426692A JP10426692A JPH05301084A JP H05301084 A JPH05301084 A JP H05301084A JP 10426692 A JP10426692 A JP 10426692A JP 10426692 A JP10426692 A JP 10426692A JP H05301084 A JPH05301084 A JP H05301084A
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JP
Japan
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processed
liquid
processing apparatus
cleaning
liquid processing
Prior art date
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Application number
JP10426692A
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English (en)
Inventor
Yoshiharu Takizawa
芳治 滝沢
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH05301084A publication Critical patent/JPH05301084A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、液晶表示素子用ガラス基板の液処理
装置、特に洗浄工程,現像工程,エッチング工程,剥離
工程に用いる液処理装置ににおいて、搬送幅の異なるガ
ラス基板を1枚毎に1台の処理装置で処理可能な構造と
する事にある。 【構成】被処理物の移動方向を規制して搬送し、処理を
行う装置において、被処理物の移動方向を規制する部分
と、被処理物を搬送する機構に被処理物を押し付ける部
分を移動させることにより達成される。 【効果】異なる搬送幅の基板を1枚毎に1台の液処理装
置、一例として洗浄装置で処理する事が出来るため、各
基板毎に均一な処理が行え、異なる基板寸法の液晶表示
素子を効率よく生産出来るという効果がある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子用ガラス
基板の液処理装置に係わり、特に搬送幅の異なるガラス
基板の洗浄工程,現像工程,エッチング工程,剥離工程
に用いる液処理装置に係わる。
【0002】
【従来の技術】従来技術では、実開平3−61330号記載の
様に、つば付の搬送ローラにて基板を搬送していた。そ
の例を図5に示す。つば付搬送ローラ9は図に示されて
いない駆動系によって搬送軸24が回転されることによ
り回転されている。その回転によりガラス基板1を基板
搬送方向4に搬送する。その時ガラス基板1の移動方向
はローラのつばの部分で規制を受ける。また、ブラシス
クラブ等の機械力を用いる洗浄の場合、その搬送力を補
助する目的で搬送軸24を回転させながら上乗ローラ1
6を押しつけ、その上乗ローラ16のゴムリング17で
ガラス基板1をつば付搬送ローラ9に押しつけていた。
洗浄処理の目的のため、ガラス基板1の上面端部のみ押
しつける方法が取られている。このような搬送によりガ
ラス基板1は1枚毎に処理されていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】同一搬送幅の被処理物
のガラス基板1を搬送する場合は従来技術で問題は無
い。しかし、異なる搬送幅の基板を同一装置で処理を行
う場合、各々の基板の幅につば付ローラ9の位置を変更
する必要が生ずる。この変更は各々のつば付ローラを移
動させる為、その作業に著しい時間を必要とした。特
に、ブラシスクラブ洗浄などの機械力による洗浄を行う
場合、被洗浄物の搬送力を補助する目的で、搬送する機
構に被洗浄物を押し付ける部品として 被洗浄物の上面
を押える上乗ローラ16を用いるため、そのローラの移
動作業にも著しい時間を必要とした。その為、液晶表示
用素子製造工程において、1台の洗浄装置で異なる搬送
幅のガラス基板を処理することは困難であった。その
為、これらのガラス基板の処理では、各々のガラス基板
の寸法に適した処理治具に複数枚のガラス基板を収納
し、その処理治具を処理槽内で処理する方法がとられて
いた。しかし、この処理方法では1枚毎に均一に処理を
行う事が出来ない為、処理性能例えば洗浄性能を向上さ
せる事が困難であった。
【0004】本発明の目的は、異なる搬送幅のガラス基
板を1枚毎に1台の液処理装置で処理可能な構造とする
事にある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的は、被処理物の
移動方向を規制して搬送し、処理を行う装置において、
被処理物の移動方向を規制する部分と、被処理物を搬送
する機構に被処理物を押し付ける部分を移動させること
により達成される。
【0006】
【作用】被処理物の移動方向を規制する部分を移動させ
ることにより、その規制により決められる搬送幅は異な
った幅となる。さらにこの被処理物の移動方向を規制す
る部分の移動とともに、被処理物を搬送する機構に被処
理物を押し付ける部分が移動することにより、幅の異な
る被処理物を同一装置で洗浄処理を行う事が可能とな
る。
【0007】
【実施例】以下、本発明の実施例を図1より図5により
説明する。
【0008】図3,図4において、洗浄装置10は基板
搬送方向11の方向に流れるガラス基板に洗浄を行う装
置である。洗浄装置に投入された基板は、純水および洗
剤液を洗浄媒体としたスプレー12の洗浄、および洗浄
ブラシ13による基板を擦る事により洗浄を行うブラシ
洗浄を受ける。さらに、超音波励振させた純水を基板に
吐出することにより洗浄を行う超音波スプレー14の洗
浄を受けた後、エアナイフ15により乾燥される。本発
明においてこの洗浄工程は一例であり、これに限定する
ものではない。
【0009】図1は洗浄装置10の搬送機構部分の拡大
図である。ガラス基板1は搬送ローラ2の上に搭載され
る。搬送ローラ2は図に示されていない回転機構により
搬送軸18を経由して回転され、それによりガラス基板
1は基板搬送方向4の方向に搬送される。ガラス基板1
の進行方向側面にはその進行方向の幅を規制する為に、
サイドガイドローラ3が設けられている。また、サイド
ガイドローラ3の代わりにサイドガイドピンを使用する
事も可能である。サイドガイドローラ3はローラ保持金
具5およびローラ保持金具6に固定されている。ローラ
保持金具6には図に示されていない移動機構によりロー
ラ保持金具7の位置へ移動する事が可能である。その移
動方向をローラ保持金具移動方向8に示す。
【0010】ローラ保持金具6にはスライド金具21が
接続されている。スライド金具21は軸受23を経由し
てスライドローラ20と接続している。スライド金具2
1を移動させる事により、スライドローラ20は搬送軸
19の長軸方向に移動する。尚、スライド金具21はス
ライドローラ20の回転を阻害する構造ではない。ま
た、搬送軸19を回転させる事によりスライドローラ2
0も回転される構造とすることも可能である。一例とし
て本例では搬送軸19の断面構形状が六角形の軸を示し
たが、これに限定されるものではない。スライドローラ
20にはゴムリング17が取り付けられており、ガラス
基板1を搬送ローラ2に押しつけることがができる。押
しつける力を補助する目的で搬送軸19に重りを取り付
けることもある。
【0011】図1において図に示されていない駆動系に
よりローラ保持金具6はこの位置に保たれている。駆動
系の一例として、エアシリンダによるストローク運動,
モータによるボールねじの旋回運動が挙げられる。この
時、サイドガイドローラ3により規制される搬送幅は一
例として300mmである。駆動系を作動させることによ
りローラ保持金具6はローラ保持金具7に位置に移動す
るこの時、サイドガイドローラ3により規制される搬送
幅は一例として400mmである。この移動によりローラ
保持金具6に接続されたスライド金具21も移動する。
それ故、このスライド金具21の移動に伴い、軸受23
を経由してスライドローラ20もその位置を移動する。
その結果、ガラス基板1に接触するゴムリング17の位
置も搬送幅が変更されてもガラス基板1の端部に移動す
ることとなる。
【0012】このように搬送幅を変更する機構の移動と
上乗ローラ16の移動を連動させることにより、異なる
搬送幅のガラス基板を処理する事が可能となる。本例に
おける搬送幅は一例であり、その搬送幅はシリンダシャ
フト長さやボールねじの選択により任意に設定される。
【0013】
【発明の効果】本発明によれば、異なる搬送幅の基板を
1枚毎に1台の液処理装置、一例として洗浄装置で処理
する事が出来るため、各基板毎に均一な処理が行え、異
なる基板寸法の液晶表示素子を効率よく生産出来るとい
う効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の液処理装置の搬送機構部の
斜視図である。
【図2】本発明の一実施例の液処理装置の搬送機構部を
示す図である。
【図3】本発明の一実施例の液処理装置である洗浄装置
の正面断面図である。
【図4】本発明の一実施例の液処理装置である洗浄装置
の平面図である。
【図5】従来技術による液処理装置の搬送機構部の斜視
図である。
【符号の説明】 1…ガラス基板、2…搬送ローラ、3…サイドガイドロ
ーラ、4…基板搬送方向、5…ローラ保持金具、6…ロ
ーラ保持金具、7…ローラ保持金具、8…ローラ保持金
具移動方向、9…つば付搬送ローラ、10…洗浄装置、
11…基板搬送方向、12…スプレー、13…洗浄ブラ
シ、14…超音波スプレー、15…エアナイフ、16…
上乗ローラ、17…ゴムリング、18,19…搬送軸、
20…スライドローラ、21…スライド金具、22…ゴ
ムリング、23…軸受、24,25…搬送軸。

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被処理物の移動方向を規制して搬送し、処
    理を行う装置において、被処理物の移動方向を規制する
    部分と、被処理物を搬送する機構に被処理物を押し付け
    る部分を移動させ、幅の異なる被処理物を同一装置で処
    理を行う機能を有することを特徴とする液処理装置。
  2. 【請求項2】被処理物の移動方向を規制する部分を移動
    させることにより、被処理物を搬送する機構に被処理物
    を押し付ける部分が移動することを特徴とする請求項1
    記載の液処理装置。
  3. 【請求項3】被処理物の移動方向を規制するため被処理
    物の側面に接する部品として、円筒状のピンを用いる事
    を特徴とする請求項2記載の液処理装置。
  4. 【請求項4】被処理物の移動方向を規制するため被処理
    物の側面に接する部品として、円筒状のローラを用いる
    事を特徴とする請求項2記載の液処理装置。
  5. 【請求項5】被処理物の側面に接する部品の材質が被処
    理物より硬度が低い材質である事を特徴とする請求項3
    又は4記載の液処理装置。
  6. 【請求項6】被処理物を搬送する機構に被処理物を押し
    付ける部品がローラであることを特徴とする請求項1な
    いし5のいずれか1項に記載の液処理装置。
  7. 【請求項7】被処理物が板状であることを特徴とする請
    求項1ないし6のいずれか1項に記載の液処理装置。
  8. 【請求項8】板状の被処理物がガラス製である事を特徴
    とする請求項7記載の液処理装置。
  9. 【請求項9】板状ガラスの被処理物が液晶表示素子用の
    基板である事を特徴とする請求項8記載の液処理装置。
  10. 【請求項10】板状の被処理物が合成樹脂製である事を
    特徴とする請求項7記載の液処理装置。
  11. 【請求項11】板状合成樹脂製の被処理物がプリント基
    板である事を特徴とする請求項10記載の液処理装置。
  12. 【請求項12】液処理として液体を用いた洗浄処理を行
    う事を特徴とする請求項1ないし11のいずれか1項に
    記載の液処理装置。
  13. 【請求項13】液処理として液体を用いた洗浄処理を行
    う事と用いた液体を除去する乾燥処理を行う事を特徴と
    する請求項1ないし12のいずれか1項に記載の液処理
    装置。
  14. 【請求項14】洗浄作用として、液体を被処理物に吐出
    するスプレー洗浄と、回転するブラシを被処理物に接触
    させるブラシスクラブ洗浄と、超音波で励振させた洗浄
    液を被処理物に吐出する超音波スプレー洗浄と、超音波
    で励振した洗浄液を溜めた洗浄槽に被処理物を浸漬させ
    る超音波洗浄のうち少なくとも1種類の洗浄作用を用い
    る事を特徴とする請求項1ないし13のいずれか1項に
    記載の液処理装置。
  15. 【請求項15】乾燥作用として、被処理物に気体を吐出
    して被処理物上の液体を除去するエアナイフ乾燥と、被
    処理物を回転させて回転により発生する遠心力により被
    処理物上の液体を除去するスピン乾燥と、被処理物上の
    液体と相溶性があり被処理物上の液体より蒸発速度の速
    い液体で被処理物上の液体を置換することで乾燥を行う
    蒸気乾燥のうち少なくとも1種類の乾燥作用を用いる事
    を特徴とする請求項1ないし14のいずれか1項に記載
    の液処理装置。
  16. 【請求項16】液処理装置を構成する洗浄乾燥要素とし
    て、ブラシスクラブ洗浄とスプレー洗浄と超音波スプレ
    ー洗浄とエアナイフ乾燥を含む事を特徴とする請求項1
    ないし15のいずれか1項に記載の液処理装置。
  17. 【請求項17】液処理装置を構成する洗浄乾燥要素とし
    て、超音波スプレー洗浄とエアナイフ乾燥を含む事を特
    徴とする請求項1ないし16のいずれか1項に記載の液
    処理装置。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030074543A (ko) * 2003-08-25 2003-09-19 이봉두 엘씨디 패널 반송 샤프트장치
JP2005272061A (ja) * 2004-03-24 2005-10-06 Shibaura Mechatronics Corp 基板の搬送装置及び搬送方法
KR100552595B1 (ko) * 2000-11-22 2006-02-20 마테 쿠오 직립형 pc보드 에칭 머신용 보드 전달 장치
JP2008086940A (ja) * 2006-10-03 2008-04-17 Reyoon Kogyo:Kk 表面洗浄装置
KR100875181B1 (ko) * 2002-03-23 2008-12-22 엘지디스플레이 주식회사 반송장치
CN103084366A (zh) * 2013-01-18 2013-05-08 深圳市易天自动化设备有限公司 一种玻璃清洗设备
CN107971261A (zh) * 2017-11-23 2018-05-01 深圳市华星光电技术有限公司 清洁装置

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100552595B1 (ko) * 2000-11-22 2006-02-20 마테 쿠오 직립형 pc보드 에칭 머신용 보드 전달 장치
KR100875181B1 (ko) * 2002-03-23 2008-12-22 엘지디스플레이 주식회사 반송장치
KR20030074543A (ko) * 2003-08-25 2003-09-19 이봉두 엘씨디 패널 반송 샤프트장치
JP2005272061A (ja) * 2004-03-24 2005-10-06 Shibaura Mechatronics Corp 基板の搬送装置及び搬送方法
JP4490148B2 (ja) * 2004-03-24 2010-06-23 芝浦メカトロニクス株式会社 基板の搬送装置
JP2008086940A (ja) * 2006-10-03 2008-04-17 Reyoon Kogyo:Kk 表面洗浄装置
CN103084366A (zh) * 2013-01-18 2013-05-08 深圳市易天自动化设备有限公司 一种玻璃清洗设备
CN107971261A (zh) * 2017-11-23 2018-05-01 深圳市华星光电技术有限公司 清洁装置
CN107971261B (zh) * 2017-11-23 2021-03-02 Tcl华星光电技术有限公司 清洁装置

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