JPH1012582A - 基板洗浄装置および基板洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の主面や基板の主面上の被膜面を傷つけ
ることなく基板の主面や基板の主面上の被膜面を均一に
良好に洗浄する。 【解決手段】 基板２の主面から外周面が僅かに離間し
た位置に回転軸が基板２の主面と平行に配設された洗浄
ロール１５，１６を高速に回転駆動させた状態で、基板
２の主面に沿った方向で回転軸と直交する方向に洗浄ロ
ール１５，１６と基板２とを相対的に移動させると共
に、洗浄ロール１５，１６と基板２の主面の間隙に洗浄
液を供給してハイドロプレーン現象を起こさせて基板２
の主面を非接触で洗浄液の高速流だけで洗浄するため、
基板２の主面や基板２の主面上の樹脂膜などの柔らかい
被膜面を傷つけることなく、洗浄ロール幅、即ち基板２
の幅に亘って均一にムラなく洗浄できて、基板２の主面
やその上の被膜面を良好に洗浄できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体製造
装置および液晶表示基板製造装置などに用いられ、液晶
表示用ガラス角形基板、半導体ウエハ、カラーフィルタ
用ガラス基板、フォトマスク用基板、サーマルヘッド用
セラミック基板およびプリント基板などの基板の主面を
洗浄する基板洗浄装置および基板洗浄方法に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】従来の基板洗浄装置には、図７に示すよ
うに、基板５１の搬入側に前側コンベア部５２が配設さ
れ、ブラシ洗浄処理後の基板５１の搬出側に後側コンベ
ア部５３が配設され、これらの前側コンベア部５２と後
側コンベア部５３との間にブラシ洗浄部５４が配設され
ている。

【０００３】これらの前側コンベア部５２および後側コ
ンベア部５３では、複数の搬送ローラ５５が互いに平行
に搬送方向に並設されている。これらの各搬送ローラ５
５はそれぞれ基板５１の両端縁をそれぞれ支持してい
る。また、これらの各搬送ローラ５５は、図示しないが
駆動部と連結されており、駆動部からの駆動力によって
一定方向に回転して基板５１を搬送方向Ａに搬送するよ
うになっている。

【０００４】また、ブラシ洗浄部５４は、前側コンベア
部５２と後側コンベア部５３との間の基板洗浄搬送経路
に配設されている。この搬送経路上流側に、基板５１の
表面を洗浄するロールブラシ５６が基板５１の幅に亘っ
て配設しており、このロールブラシ５６の真下をブラシ
が当接するように基板５１が搬送されるようになってい
る。また同様に、搬送経路の下流側に、基板５１の表面
を洗浄するロールブラシ５７が基板５１の幅に亘って配
設しており、このロールブラシ５７の真下をブラシが当
接するように基板５１が搬送されるようになっている。

【０００５】さらに、これらのロールブラシ５６，５７
の前後にはそれぞれ、基板５１の両端縁部を支持して搬
送する搬送ローラ５８がそれぞれ配設されていると共
に、基板５１の端縁部を押圧する上乗せローラ５９がそ
れぞれ配設されている。これらの各搬送ローラ５８も、
図示しないが駆動部と連結されており、駆動部からの駆
動力によって一定方向に回転して基板５１を搬送方向Ａ
に搬送するようになっている。

【０００６】この構成により、搬送ローラ５５，５８な
どの搬送手段によって搬送されて来る基板５１の面に、
洗浄液を供給しつつ、駆動部によって回転するロールブ
ラシ５６，５７をそれぞれ当接摺動させて基板５１の主
面を洗浄している。

【０００７】また、図７のロールブラシ５６，５７で
は、ロールブラシ５６，５７を基板５１の主面にそれぞ
れ当接摺動させて洗浄するようにしたが、このようなロ
ールブラシ５６，５７の他に、図８に示すようなジェッ
トスプレー洗浄がある。このジェットスプレー洗浄は、
ジェットスプレー装置６１のノズル部から基板５１の主
面に対して洗浄液を噴出させ、その噴出圧力にて基板５
１の主面に付着する塵などを取り除いて洗浄するもので
ある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上記従来の構成では、
洗浄液を供給しつつ、ロールブラシ５６，５７が基板５
１の主面にそれぞれ当接摺動して洗浄しているため、基
板５１の主面に傷をつけてしまうという問題があった。
特に、基板５１の主面上には種々の被膜、例えばＩＴＯ
やＣｒなどの金属膜や、カラーフィルタ用の有機膜など
の比較的柔らかい膜が形成されている場合が多く、この
ような柔らかい被膜面をブラシ洗浄しようとすると容易
に傷が付きやすいという問題があった。

【０００９】また、図８のようなジェットスプレー洗浄
では、噴出する洗浄液の基板５１の主面に対する当たり
ムラが生じて均一で良好な洗浄ができないという問題が
あった。

【００１０】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
で、基板の主面や基板の主面上の被膜面を傷つけること
なく基板の主面や基板の主面上の被膜面を均一で良好に
洗浄することができる基板洗浄装置および基板洗浄方法
を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の基板洗浄装置
は、基板の主面を洗浄する基板洗浄装置において、相対
移動される基板の主面から外周面が僅かに離間した位置
に回転軸が基板の主面と平行に配設された洗浄ロール
と、この洗浄ロールを高速回転制御するロール回転駆動
手段と、洗浄ロールと基板の主面との間に洗浄液を供給
する洗浄液供給手段とを有することを特徴とするもので
ある。

【００１２】この構成により、ハイドロプレーン現象が
起きる程度の高速に洗浄ロールを回転制御すれば、基板
の主面と洗浄ロールとの間隙を、洗浄液が、基板側へ圧
力を加えながら高速流となって通過するので、基板の主
面や基板の主面上の被膜面に付着した塵などを均一に良
好に排除して洗浄することが可能となる。また、洗浄ロ
ールの外周面は基板の主面に接触していないことから、
洗浄に際して洗浄液も基板の主面や基板の主面上の被膜
面を傷つけることはない。

【００１３】また、好ましくは、本発明の基板洗浄装置
における洗浄液供給手段は、洗浄ロールの接線方向に向
けて洗浄ロールの回転方向に沿った方向に洗浄液を吐出
することを特徴とする。

【００１４】この構成により、基板の主面と洗浄ロール
との間隙を通過する洗浄液の流速は、洗浄ロールの回転
速度に洗浄液の吐出速度が加えられ、より流速が速くな
ることで、より洗浄効果が向上する。

【００１５】さらに、本発明の基板洗浄装置は、基板の
主面を洗浄する基板洗浄装置において、相対移動される
基板の主面から外周面が僅かに離間した位置に回転軸が
基板の主面と平行にそれぞれ配設された一対の洗浄ロー
ルと、この一対の洗浄ロールの互いに対向する対向部が
それぞれ基板の主面に向かう方向に一対の洗浄ロールを
それぞれ高速回転制御するロール回転駆動手段と、一対
の洗浄ロールのそれぞれの対向部の間に洗浄液を供給す
る洗浄液供給手段とを有することを特徴とするものであ
る。

【００１６】この構成により、一対の洗浄ロールを用い
て、洗浄液の互いに逆方向の高速流をつくって洗浄する
ので、より洗浄効果は向上する。

【００１７】また、本発明の基板洗浄方法は、基板の主
面から外周面が僅かに離間した位置に回転軸が前記基板
の主面と平行に配設された洗浄ロールを高速回転駆動さ
せた状態で、基板の主面に沿った方向で回転軸と直交す
る方向に洗浄ロールと基板とを相対的に移動させると共
に、洗浄ロールと基板の主面との間に洗浄液を供給して
基板の主面を洗浄することを特徴とする。

【００１８】この構成により、洗浄ロールと基板の主面
は非接触であるので、洗浄ロールが基板を傷つけること
はなく、また、高速に回転した洗浄ロールと基板の主面
との間隙に洗浄液を供給するので、洗浄液は基板の主面
側に圧力を加えながら高速流となって通過することで、
基板の主面や基板の主面上の被膜面に付着した塵などが
均一に良好に排除されて洗浄される。

【００１９】また、好ましくは、本発明の基板洗浄方法
における洗浄ロールと基板の主面間の洗浄液の供給は、
洗浄ロールの接線方向でかつ洗浄ロールの回転方向に沿
った方向に洗浄液を吐出させて行うことを特徴とする。

【００２０】この構成により、基板の主面上を通過する
洗浄液の流速が、洗浄ロールの回転速度に洗浄液の吐出
速度が加えられ、より速い流速で洗浄するので洗浄効果
が向上する。

【００２１】さらに、本発明の基板洗浄方法は、基板の
主面から外周面が僅かに離間した位置に回転軸が前記基
板の主面と平行にそれぞれ配設された一対の洗浄ロール
を、この一対の洗浄ロールの互いに対向する対向部がそ
れぞれ前記基板の主面に向かう方向にそれぞれ高速回転
駆動させた状態で、基板の主面に沿った方向で前記回転
軸と直交する方向に前記一対の洗浄ロールと基板とを相
対的に移動させると共に、前記一対の洗浄ロールのそれ
ぞれの対向部の間に洗浄液を供給して基板の主面を洗浄
することを特徴とするものである。

【００２２】この構成により、一対の洗浄ロールを用い
て、洗浄液の互いに逆方向の高速流をつくって洗浄する
ので、より洗浄効果は向上する。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る基板洗浄装置
の実施形態について図面を参照して説明する。

【００２４】（実施形態１）図１は本発明の実施形態１
における基板洗浄装置を含む基板洗浄システムの構成を
示す平面図である。

【００２５】図１において、この基板洗浄システムは、
主に、基板供給部または基板排出部として機能するイン
デクサ装置１と、板状部材としてのガラス基板などの基
板２の表面および裏面をそれぞれ洗浄部材で洗浄する基
板洗浄装置３と、インデクサ装置１と基板洗浄装置３の
間で基板２を搬出入を行うロボット装置４とで構成され
ている。

【００２６】このインデクサ装置１には、角形の基板２
を複数枚収納可能なカセット５，６を載置する載置台７
が設けられている。これらのカセット５，６は、例えば
自動搬送ロボット（図示せず）により載置台７上の所定
の位置に搬送されてくる。カセット５，６が載置台７上
に設置された状態で、ロボット装置４によるカセット５
からの基板２の取り出し、およびカセット６への洗浄処
理後の基板２の収納が可能となる。

【００２７】このように、ロボット装置４は、カセット
５と基板洗浄装置３の搬入側との間および、カセット６
と基板洗浄装置３の搬出側との間に移動自在であり、図
示しない旋回、進退および上下移動可能なハンド（図示
せず）によって基板２を支持した状態で、制御部からの
指令に応じてハンドを基板２と共に移動させて、カセッ
ト５から基板洗浄装置３の搬入側に基板２の搬入を行う
ことができ、また、基板洗浄装置３の搬出側からカセッ
ト６に基板２の搬出を行うことができる。

【００２８】図２は図１の基板洗浄装置３の構成を示す
側面図である。図１および図２において、この基板洗浄
装置３は、基板２の搬入側に前側コンベア部１１が配設
され、洗浄処理後の基板２の搬出側に後側コンベア部１
２が配設され、これらの前側コンベア部１１と後側コン
ベア部１２との間にロール洗浄部１３が配設されてい
る。これらの前側コンベア部１１および後側コンベア部
１２では、複数の搬送ローラ１４が互いに平行に搬送方
向に並設されている。これらの各搬送ローラ１４はそれ
ぞれ基板２の両端縁をそれぞれ支持している。また、こ
れらの各搬送ローラ１４は、図示しないが駆動部と連結
されており、駆動部からの駆動力によって一定方向に回
転して基板２を搬送方向Ａに搬送するようになってい
る。

【００２９】また、このロール洗浄部１３は、前側コン
ベア部１１と後側コンベア部１２との間の基板洗浄搬送
経路に配設されている。この搬送経路上流側に基板２の
表面洗浄用の上側洗浄ロール１５が配設され、また、搬
送経路下流側に基板２の裏面洗浄用の下側洗浄ロール１
６がそれぞれ、搬送される基板２の幅に亘って配設され
ている。これらの上側洗浄ロール１５および下側洗浄ロ
ール１６は外周面が鏡面仕上げされたドラム状に構成さ
れ、搬送される基板２の主面から外周面が僅かに離間し
た位置に回転軸が基板２の主面と平行に配設されてい
る。これらの上側洗浄ロール１５および下側洗浄ロール
１６の回転軸の上下位置は、これらの外周面と基板２の
主面とが所定の間隙となるように可変できて調整自在で
ある。また、これらの上側洗浄ロール１５と下側洗浄ロ
ール１６の前後にはそれぞれ、基板２の端縁部を支持し
て搬送する搬送ローラ１７がそれぞれ配設されると共
に、これらの搬送ローラ１７の上方にそれぞれ、基板２
の端縁部を押圧する上乗せローラ１８がそれぞれ配設さ
れており、上側洗浄ロール１５の下方を基板２が搬送さ
れ、さらに下側洗浄ロール１６の上方を基板２が搬送さ
れるように構成されている。さらに、上側洗浄ロール１
５の真下には基板２をその幅方向に亘って均一に支持す
る全面支持ロール１９が配設されており、また、下側洗
浄ロール１６の真上には基板２の浮き防止用の端縁押え
ロール２０が配設されている。

【００３０】さらに、上側洗浄ロール１５および下側洗
浄ロール１６の上流側にそれぞれ、洗浄液供給手段とし
てのジェットスプレー装置２１が配設されている。この
ジェットスプレー装置２１は、上側洗浄ロール１５およ
び下側洗浄ロール１６のロール外周面への接線方向に向
けてロール回転方向に沿った方向に洗浄液を噴出させ
て、上側洗浄ロール１５と基板２の表面との間および、
下側洗浄ロール１６と基板２の裏面との間にそれぞれ洗
浄液を直接供給するように構成している。このように、
洗浄ロール１５，１６と基板の主面との間にそれぞれ洗
浄液を直接供給する方が、洗浄ロール１５，１６の回転
速度に洗浄液の噴射速度が加えられ、基板の主面と洗浄
ロールとの間隙を通過する洗浄液の流速がより速くなる
ことで、ハイドロプレーン現象が生じやすくなり、より
洗浄効果が向上することになる。また、このジェットス
プレー装置２１は、洗浄ロール１５，１６と基板の主面
との間隙が洗浄液不足とならないように常に供給してい
る必要がある。

【００３１】さらに、これらの上側洗浄ロール１５およ
び下側洗浄ロール１６をそれぞれ、ハイドロプレーン現
象が生じる程度の高速に回転制御すると共に、それらと
基板２の主面との間に向けて洗浄液を噴射させて供給す
ることにより、図３に示すように例えば上側洗浄ロール
１５と基板２の主面との間で、その主面に圧力を与えつ
つ高速で流れる洗浄液の薄い膜２２を形成するハイドロ
プレーン現象を利用して、基板２の主面に付着した塵を
排除して洗浄するように構成している。このとき、ジェ
ットスプレー装置２１のノズル部は上側洗浄ロール１５
の断面円に対する接線に沿って洗浄液を噴射させる構成
である。このような上側洗浄ロール１５および下側洗浄
ロール１６の高速回転制御機構についてその一例を図４
に示している。

【００３２】図４は本発明の洗浄ロールとモータとの連
結関係を模式的に示す構成図である。

【００３３】図４において、平行に配設されたフレーム
２３，２３の互いに対向する部分に軸受２４，２４が配
設されている。これらの軸受２４，２４に上下の洗浄ロ
ール１５，１６の回転軸２５の両端部がそれぞれ軸支さ
れている。この回転軸２５の両端部のうち一方端部がギ
ャーヘッド２６を介して三相インダクションモータ２７
の回転軸に連結されている。この三相インダクションモ
ータ２７にはインバータ制御回路２８の出力端が接続さ
れ、インバータ制御回路２８により出力の周波数を変え
ることでモータ回転数を制御することができる。これら
のギャーヘッド２６、三相インダクションモータ２７お
よびインバータ制御回路２８によりロール回転駆動手段
が構成されており、このロール回転駆動手段からの駆動
力によって、ハイドロプレーン現象が生じる程度の高速
に一定方向に回転制御することができる。

【００３４】この構成により、搬送ローラ１４，１７な
どの搬送手段によって搬送されて来る基板２の上側主面
と上側洗浄ロール１５との間、および基板２の下側主面
と下側洗浄ロール１６との間に洗浄液をジェットスプレ
ー装置２１のノズル部から噴射させて供給しつつ、ロー
ル回転駆動手段によって高速に回転制御することで、洗
浄ロール１５，１６と基板２の主面との間に高速流が形
成されるハイドロプレーン現象を利用して基板２の上下
主面に付着した塵などを取り除いてそれぞれ洗浄する。
このとき、基板の主面には洗浄ロール１５，１６との間
隙が拡がる方向に圧力が加わるが、洗浄ロール１５の真
下は全面支持ロール１９によって均一に支持されてお
り、また、下側洗浄ロール１６の真上は端縁押えロール
２０によって基板２の両端縁が押えられており、基板２
の変形が少なくより均一に洗浄することができる。

【００３５】このように、基板２の主面から外周面が僅
かに離間した位置に回転軸２５が基板２の主面と平行に
配設された洗浄ロール１５，１６を高速に回転駆動させ
た状態で、基板２の主面に沿った方向で回転軸２５と直
交する方向に洗浄ロール１５，１６と基板２とを相対的
に移動させると共に、洗浄ロール１５と基板２の対向面
との間（洗浄ロール１５の対向外周面または基板２の対
向面を含む）、および洗浄ロール１６と基板２の対向面
との間（洗浄ロール１６の対向外周面または基板２の対
向面を含む）に洗浄液をそれぞれ供給してハイドロプレ
ーン現象を起こさせて基板２の主面を非接触で洗浄液の
高速流だけで洗浄するため、基板２の主面や基板２の主
面上の金属膜や有機膜などの柔らかい被膜面を傷つける
ことなく、洗浄ロール幅、即ち基板２の幅に亘って均一
にムラなく洗浄できて、基板２の主面やその上の被膜面
を良好に均一に洗浄することができる。

【００３６】なお、本実施形態１では、基板２の搬送方
向と洗浄ロール１５，１６の回転方向が基板の搬送方向
に沿った方向の場合について説明したが、基板２の搬送
方向と洗浄ロール１５，１６の回転方向が逆方向（基板
の搬送方向と逆方向に沿った方向）の場合であってもよ
い。この場合には、ジェットスプレー装置２１の配置は
洗浄ロール１５，１６の基板搬送下流側にそれぞれ設け
られ、洗浄ロール１５，１６と基板２の対向面の間に洗
浄液を供給してハイドロプレーン現象を起こさせて基板
２の主面を非接触で洗浄液の高速流だけで洗浄すること
になる。このとき、除いた塵が基板搬送方向の上流側に
飛散するので、洗浄処理後の基板下流側に再付着するよ
うなことはなく、洗浄効率は向上する。

【００３７】（実施形態２）上記実施形態１では、洗浄
ロールを高速に回転駆動させた状態で、基板の主面に沿
った方向で回転軸と直交する方向に洗浄ロールと基板と
を相対的に移動させると共に、洗浄ロールと基板の主面
の間に洗浄液を供給して基板の主面を洗浄するように構
成したが、本実施形態２では、一対の洗浄ロールの対向
部から基板の主面側の方向で互いに異なる方向に高速に
回転駆動させた状態で、基板の主面に沿った方向で回転
軸と直交する方向に一対の洗浄ロールと基板とを相対的
に移動させると共に、一対の洗浄ロールと基板の主面の
間に洗浄液を供給して基板の主面を洗浄するように構成
した場合である。

【００３８】図５は本発明の実施形態２における基板洗
浄装置の要部構成を模式的に示す一部側面図である。

【００３９】図５において、一対の洗浄ロール３１，３
２が、所定間隙開けて平行に配設されていると共に、搬
送される基板２の主面から外周面が僅かに離間した位置
に回転軸が基板２の主面と平行にそれぞれ配設されてい
る。また、ロール回転駆動手段は、この一対の洗浄ロー
ル３１，３２の対向部から基板の主面側の方向で互いに
異なる方向に一対の洗浄ロール３１，３２を回転駆動さ
せるように構成されている。さらに、洗浄液供給手段と
してのジェットスプレー装置３３は、一対の洗浄ロール
３１，３２の間の基板２の主面に向けて洗浄液を噴射さ
せて供給する構成である。

【００４０】このように、一対の洗浄ロール３１，３２
を用い、これらの一対の洗浄ロール３１，３２の間に洗
浄液を巻き込むように供給すれば、供給された洗浄液は
互いに逆方向の２方向の高速流をつくって、基板の主面
と一対の洗浄ロール３１，３２の間隙を基板の主面に圧
力を与えつつ流れて基板の主面を洗浄するので、より洗
浄効果は向上する。

【００４１】以上のように上記実施形態１，２によれ
ば、洗浄ロール１５，１６または３１，３２と基板２と
は非接触であるため、基板２の主面への傷は発生しな
い。また、洗浄ロール１５，１６または３１，３２は、
均一なドラム状であるため、洗浄ロール１５，１６また
は３１，３２と基板２の主面の間に洗浄液が均一に供給
されて基板２の幅方向に亘って均一にムラなく洗浄でき
て、基板２の主面やその上の被膜面を良好に洗浄するこ
とができる。さらに、洗浄ロール１５，１６または３
１，３２は、ロールブラシと異なってブラシ毛の摩耗や
脱落はなく、発塵の問題は発生しない。また、パーティ
クル対策として、ロールブラシの場合にはブラシ内部の
清掃が必要でありブラシ内部にパーティクル汚れがある
場合には基板２への再付着の問題が生じることになる。
さらに、基板２の主面との間にハイドロプレーン現象を
起こさせるように洗浄ロール１５，１６または３１，３
２を高速回転させるが、このような回転数変化によって
発生する洗浄力は回転数制御によって生じるものであっ
て上記図４のごとく装置化することができる。

【００４２】なお、本実施形態２では、図５に示すよう
に横方向洗浄について説明したが、図６に示すように縦
方向洗浄についても適応することができる。

【００４３】また、本実施形態１，２では、基板２の主
面を純水などの洗浄液で洗浄する洗浄処理について説明
したが、アルカリ洗浄処理などの薬液処理の場合にも上
記実施形態１，２を適応させることができて、傷のない
良好な洗浄効果を得ることができる。

【００４４】さらに、実施形態１，２では、洗浄ロール
１５，１６または３１，３２のロール外周表面は鏡面仕
上げとしたが、洗浄液に洗浄用の振動を与えたり洗浄用
の渦流をつくるような溝や突部（スパイラル状、格子状
などの加工などによる各種形状を含む）を設けるように
してもよい。また、このロール外周表面を粗したり、ロ
ール外周表面が親水性の材質で構成するようにしてもよ
いし、疎水性の材質で構成するようにしてもよい。

【００４５】さらに、実施形態１，２では、回転駆動可
能な洗浄ロール１５，１６または３１，３２やジェット
スプレー装置２１または３３を固定して基板２を一方向
（搬送方向Ａ）に移動させるように構成したが、本発明
においては、基板２を固定して洗浄ロール１５，１６ま
たは３１，３２やジェットスプレー装置２１または３３
を一方向に移動させるように構成してもよく、要は、洗
浄ロール１５，１６または３１，３２やジェットスプレ
ー装置２１または３３と基板２とを相対的に一方向に移
動させるように構成すればよい。また同様に、洗浄ロー
ル１５，１６または３１，３２やジェットスプレー装置
２１または３３と基板２とを相対的に往復移動させるよ
うに構成してもよいし、洗浄ロール１５，１６または３
１，３２やジェットスプレー装置２１または３３と基板
２とを相対的に揺動させるように構成してもよい。

【００４６】さらに、本発明においては、ジェットスプ
レー装置２１または３３により噴射された洗浄液の進行
方向に逆らう方向に洗浄ロール１５，１６または３１，
３２を回転させるようにしてもよい。この場合、洗浄ロ
ール１５，１６または３１，３２と基板２の主面との間
の洗浄液に泡（キャビテーション）を発生させて洗浄能
力を向上させることもできる。

【００４７】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、洗浄ロー
ルと基板の主面との間に洗浄液によるハイドロプレーン
現象を起こさせて基板の主面を非接触で洗浄液の高速流
だけで洗浄するようにしたため、基板の主面や基板の主
面上の樹脂膜などの柔らかい被膜面を傷つけることな
く、基板幅に亘って均一にムラなく洗浄することができ
て、基板の主面やその上の被膜面を良好に均一に洗浄す
ることができる。

【００４８】また、基板の主面と洗浄ロールとの間隙を
通過する洗浄液の流速は、洗浄ロールの回転速度に洗浄
液の吐出速度が加えられてより流速が速くなることで、
より洗浄効果を向上させることができる。

【００４９】さらに、一対の洗浄ロールを用いて、洗浄
液の逆方向の高速流をつくって洗浄するため、より洗浄
効果を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態１における基板洗浄装置を含
む基板洗浄システムの構成を示す平面図である。

【図２】図１の基板洗浄装置３の構成を示す側面図であ
る。

【図３】図２の要部拡大図である。

【図４】本発明の洗浄ロールとモータとの連結関係を模
式的に示す構成図である。

【図５】本発明の実施形態２における基板洗浄装置の要
部構成を模式的に示す部分側面図である。

【図６】図５の基板洗浄装置の変形例を示す部分側面図
である。

【図７】従来の基板洗浄装置の要部を模式的に示す部分
側面図である。

【図８】従来のジェットスプレー洗浄装置の要部を模式
的に示す部分側面図である。

【符号の説明】

２ 基板 ３ 基板洗浄装置 １３ ロール洗浄部 １５ 上側洗浄ロール １６ 下側洗浄ロール １７ 搬送ローラ １９ 全面支持ロール ２０ 端縁押えロール ２１，３３ ジェットスプレー装置 ２２ 薄い膜 ２５ 回転軸 ２７ 三相インダクションモータ ２８ インバータ制御回路 ３１，３２ 洗浄ロール

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板の主面を洗浄する基板洗浄装置にお
   いて、相対移動される前記基板の主面から外周面が僅か
   に離間した位置に回転軸が前記基板の主面と平行に配設
   された洗浄ロールと、この洗浄ロールを高速回転制御す
   るロール回転駆動手段と、前記洗浄ロールと基板の主面
   との間に洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを有するこ
   とを特徴とする基板洗浄装置。
2. 【請求項２】 前記洗浄液供給手段は、前記洗浄ロール
   の接線方向に向けて前記洗浄ロールの回転方向に沿った
   方向に洗浄液を吐出することを特徴とする請求項１記載
   の基板洗浄装置。
3. 【請求項３】 基板の主面を洗浄する基板洗浄装置にお
   いて、相対移動される前記基板の主面から外周面が僅か
   に離間した位置に回転軸が前記基板の主面と平行にそれ
   ぞれ配設された一対の洗浄ロールと、この一対の洗浄ロ
   ールの互いに対向する対向部がそれぞれ前記基板の主面
   に向かう方向に前記一対の洗浄ロールをそれぞれ高速回
   転制御するロール回転駆動手段と、前記一対の洗浄ロー
   ルのそれぞれの対向部の間に洗浄液を供給する洗浄液供
   給手段とを有することを特徴とする基板洗浄装置。
4. 【請求項４】 基板の主面から外周面が僅かに離間した
   位置に回転軸が前記基板の主面と平行に配設された洗浄
   ロールを高速回転駆動させた状態で、基板の主面に沿っ
   た方向で前記回転軸と直交する方向に前記洗浄ロールと
   基板とを相対的に移動させると共に、前記洗浄ロールと
   基板の主面との間に洗浄液を供給して基板の主面を洗浄
   することを特徴とする基板洗浄方法。
5. 【請求項５】 前記洗浄ロールと基板の主面間の洗浄液
   の供給は、前記洗浄ロールの接線方向でかつ前記洗浄ロ
   ールの回転方向に沿った方向に洗浄液を噴射させて行う
   ことを特徴とする請求項４記載の基板洗浄方法。
6. 【請求項６】 基板の主面から外周面が僅かに離間した
   位置に回転軸が前記基板の主面と平行にそれぞれ配設さ
   れた一対の洗浄ロールを、この一対の洗浄ロールの互い
   に対向する対向部がそれぞれ前記基板の主面に向かう方
   向にそれぞれ高速回転駆動させた状態で、基板の主面に
   沿った方向で前記回転軸と直交する方向に前記一対の洗
   浄ロールと基板とを相対的に移動させると共に、前記一
   対の洗浄ロールのそれぞれの対向部の間に洗浄液を供給
   して基板の主面を洗浄することを特徴とする基板洗浄方
   法。